JP2017530206A - 3‐d ic用途用レーザー離型材料としてのポリイミド - Google Patents
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Abstract
Description
(関連出願)
本願は、2014年7月22日提出の、POLYIMIDES AS LASER RELEASE MATERIALS FOR 3‐D IC APPLICATIONS(3‐D IC用途用レーザー離型材料としてのポリイミド)と題した出願番号第62/027,758号の優先権の利益を主張するものであり、参照して本明細書に援用する。
本発明は、一時ウェーハ接着用のレーザー離型材料分野に関する。
一時ウェーハ接着(TWB)は、通常、重合性接着材料によってデバイスウェーハまたはマイクロエレクトロニクス基板をキャリアウェーハまたは基板に取り付けるプロセスを意味している。接着後、デバイスウェーハは、一般的には50μm未満まで薄膜化され、次にその裏側上にシリコン貫通電極(TSV)、再配線層、接着パッド、およびその他の回路形態を作製する処理が行われる。キャリアウェーハは、周囲温度と高温(>250℃)の間で繰り返されるサイクル、ウェーハ取扱いおよび搬送工程による機械的衝撃、およびデバイスウェーハを薄膜化するために用いられるウェーハ裏面研磨処理の際に押し付けられるような強い機械力を必然的に伴い得る裏面処理の間、脆弱なデバイスウェーハを支持する。この処理の全てが完了した際、デバイスウェーハはたいていフィルムフレームに取り付けられ、続いてキャリアウェーハから分離されるか剥離され、その後の操作が行われる前に洗浄される。
<発明の方法>
図1(a)(ノンスケール)を参照すると、前駆体構造10が概略的な断面図で表されている。構造10は、第1基板12を含む。基板12は、前面またはデバイス面14、背面16、および最外端18を有する。基板12は、どんな形状にもなることができるが、通常は円形状となる。好ましい第1基板12としては、デバイス面が集積回路と、MEMSと、マイクロセンサと、電力半導体と、発光ダイオードと、フォトニック回路と、インターポーザーと、埋め込み型受動デバイスと、シリコンや、シリコン‐ゲルマニウム、ヒ化ガリウム、窒化ガリウム、ヒ化アルミニウムガリウム、リン化アルミニウムインジウムガリウム、およびリン化インジウムガリウム等のその他半導体材料上に、またはそれらから製作されるその他マイクロデバイスとからなる群から選択されるデバイスの配列(図示せず)を含むようなデバイスウェーハが挙げられる。これらデバイスの表面は一般に1以上の以下の材料、シリコン、ポリシリコン、二酸化シリコン、(酸)窒化シリコン、金属(例えば、銅、アルミニウム、金、タングステン、タンタル)、低kの誘電体、ポリマー誘電体、ならびに種々の金属窒化物と金属珪化物から形成される構造(これも図示せず)を含む。デバイス面14は、はんだバンプと、金属ポストと、金属ピラーと、シリコン、ポリシリコン、二酸化シリコン、(酸)窒化シリコン、金属、低kの誘電体、ポリマー誘電体、金属窒化物、および金属珪化物からなる群から選択される材料から形成される構造とからなる群から選択される少なくとも1つの構造を含むこともできる。
%剥離率=(剥離量/初期の平均フィルム厚)×100
接着層20を形成する際に使用される組成物は、熱および/または溶剤によって除去可能であると同時に、上記付着性能を有する層に形成可能である市販の接着組成物から選択することができる。これらの材料は、第1および第2基板12および24それぞれと強い接着接合を形成することが可能であるべきである。ASTM D4541/D7234で測定される付着強度が、約50psig超、好ましくは約80psig〜約250psig、より好ましくは約100psig〜約150psigであるものはいずれも、接着層20としての使用に望ましいだろう。
離型層材料は広く、溶剤系に溶解または分散されるポリマーを含む。一つの実施形態において、ポリマーはポリアミック酸である。別の実施形態において、ポリマーはポリイミドである。
<レーザー剥離用ポリアミック酸>
この手順では、21.12gの9,9´‐ビス(4‐アミノフェニル)フルオレン(FDA、シグマアルドリッチ社)を、250mlの三口丸底フラスコ中の113.16gのγ‐ブチロラクトン(GBL、シグマアルドリッチ社)に溶解させた。次に、24.79gの2,2´‐ビス‐(ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物(6FDA、シンクエストラボラトリーズ社)を固体として反応混合物に添加し、その後56.58gのGBLを添加した。反応は室温で30分間、撹拌しながら行った。続いて、反応物を60℃まで加熱し、1時間反応させた。その後、1.24gのフタル酸無水物(PTA、シグマアルドリッチ社)および18.86gのGBLを添加した。反応は60℃で24時間継続させた。
<レーザー剥離用ポリアミック酸>
この実施例では、21.12gのFDAを、250mlの三口丸底フラスコ中の98.62gのGBLに溶解させた。次に、18.73gの3.3´,4.4´‐ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA、シグマアルドリッチ社)を固体として反応混合物に添加し、その後49.31gのGBLを添加した。反応は室温で30分間行った。続いて、反応物を60℃まで加熱し、1時間反応させた。その後、1.24gのPTAおよび16.44gのGBLを添加した。反応は60℃で24時間継続させた。
<レーザー剥離用ポリアミック酸>
この調製では、実施例1で調製した母液30gを、70gのシクロヘキサノンと混合して、6wt%溶液を作製した。
<レーザー剥離用ポリアミック酸>
この手順では、実施例2で調製した母液30gを、70gのシクロヘキサノンと混合して、6wt%溶液を作製した。
<レーザー剥離用ポリイミド>
この実施例では、3gの市販のポリイミドであるハンツマン製Matrimid5218を、97gのシクロペンタノンに溶解させて、3wt%溶液を作製した。
<実施例1および2の組成物のHPLC試験>
実施例1および2のポリアミック酸組成物に対して、高速液体クロマトグラフィ(HPLC)試験を行った。両サンプルとも低いモノマー残渣を示した(表1参照)。ジアミンモノマーおよびBDLの含有量は、40ppmの検出限界よりも下だった。二無水物モノマーの含有量はおよそ650ppmだった。PTAの含有量は150ppmより低かった。
<実施例1、2および5の組成物の光学試験>
実施例1、2および5の組成物から形成された各ポリイミド離型層の光学定数(nおよびk)を、多入射角分光エリプソメーター(VASE)を用いて測定した。表2に各サンプルの光学定数nおよびkを示す。
<実施例1、2および5の組成物から形成されたポリイミドフィルムの熱的試験>
熱安定性試験用のポリマーフィルムは、実施例1、2および5で作製した材料を4インチのシリコンウェーハ上に勾配(ramp)3,000rpm/sの800rpmで10秒間スピンコーティングすることによって用意した。次に、各サンプルを350℃で5分間ベークして硬化させ、ポリアミック酸をポリイミドに転化させ、溶剤を除去し(実施例1および2)、もしくはポリマーが既にイミド化されていた場合には溶剤の除去のみを行った(実施例5)。次に、各ポリイミドサンプルの分解温度を大気中、速度10℃/minで700℃までの熱重量分析(TGA)を用いて測定した。表3に各サンプルのTdを示す。さらに、各サンプルに350℃、1時間の加熱処理を行ったが、どちらのサンプルでも分解の兆候は検出されなかった。
<ブルーワーBOND(R)305材料と合わせた、実施例3組成物からのポリイミド離型材料のレーザー剥離性能>
実施例3のポリアミック酸組成物を加熱およびイミド化することで形成したポリイミドフィルムのレーザー剥離性能を、接着組成物としてのブルーワーBOND(R)305材料と接着した後に、308nmおよび355nmの両レーザーを用いて試験した。この実施例では、200mmのコーニングのEAGLE XGガラスウェーハを、加速度が5,000rpm/sの2,500rpmで60秒間、実施例3のポリアミック酸組成物でコーティングし、コーティング厚150nmを得た。次に、そのウェーハを300℃で5分間ベークしてポリイミド離型層を得た。ブルーワーBOND(R)305材料の50μmコートを、加速度が3,000rpm/sの1,000rpmで30秒間スピンコーティングすることによって200mmシリコンウェーハ上にコーティングした。次に、ウェーハを60℃で3分間、160℃で2分間、および200℃で2分間ベークした。次に、ウェーハ対を、EVGモデル510ボンダーを用いて、真空下(<5mbar)200℃、1800Nで2分間接着した。続いて接着した対を260℃のホットプレート上に30分間置いた。加熱処理後に空隙も欠陥も観察されなかった。加熱処理後、ウェーハ対は、ズース社製308nmレーザー剥離機を用いて、レーザー線量230mJ/cm2でうまく剥離した。トップのガラスキャリアウェーハは、吸盤によって簡単に持ち上げられた。走査時間は40秒未満であった。同様のウェーハ対も、Kingyoup社製355nmレーザー剥離機を用いて、45秒以内に4W超の強度を使用して剥離された。
<ブルーワーBOND(R)305材料と合わせた、実施例4組成物から形成されたポリイミド離型層のレーザー剥離性能>
実施例3のポリアミック酸組成物の代わりに実施例4のポリアミック酸組成物を用いただけで、実施例9と同じパラメータを用いて2つの接着したスタックを用意した。より優れたレーザー剥離性能が観察された。260℃30分間の加熱処理後、308nmレーザーによってうまく剥離するには、レーザー線量170mJ/cm2を必要とし、実施例9のレーザー線量よりもはるかに少ない量であった。さらに、同様のウェーハ対について355nmレーザー剥離機を用いる場合、うまく剥離するには4Wのレーザー強度が求められる。
<ブルーワーBOND(R)305材料と合わせた、実施例5の組成物から形成されたポリイミド離型層のレーザー剥離性能>
実施例3のポリアミック酸組成物の代わりに実施例5のポリイミド組成物を用いただけで、実施例9と同じパラメータを用いて2つの接着したスタックを用意した。実施例5の組成物から形成されたポリイミド離型層は、分子構造中のBTDAの存在により、実施例4の組成物から形成されたポリイミド離型層ほどの、比較に値するレーザー剥離性能を示した。レーザーエネルギー180mJ/cm2および4Wが308nmおよび355nmの両レーザー剥離機を用いてうまく剥離するために使用された。
<実験的ポリエーテルスルホン接着材料と合わせた、実施例4および5の組成物から形成されたポリイミド離型層のレーザー剥離性能>
実施例4および5の組成物から形成されたポリイミド離型層のレーザー剥離性能も、300℃〜350℃等のより高い温度用途について、実験的ポリエーテルスルホン接着材料(ブルーワーサイエンス社、ミズーリ州ローラ)を用いて調査した。実験的接着材料の20μmコートを、加速度が3,000rmp/sの1,000rpmで30秒間スピンコーティングすることによって、200mmのシリコンウェーハ上にコーティングした。次にウェーハを50℃で5分間、120℃で2分間、および200℃で2分間ベークした。続いてウェーハ対を、EVGモデル510ボンダーを用いて、真空下(<5mbar)380℃、8,000Nで10分間接着した。次に、接着した対を350℃のホットプレート上に1時間置いた。加熱処理後に空隙や欠陥は観察されなかった。再び、両レーザー離型材料は、この試験でも比較に値する性能を示した。ズース社の308nmレーザー剥離機を用いる場合、実施例4および5からのポリイミド離型層についてうまく剥離するには、それぞれ、レーザー線量が200mJ/cm2および220mJ/cm2が最小値であった。
<実施例4の組成物から形成されるポリイミド離型層の化学的耐性>
実施例4の組成物から形成されたポリイミド離型層は、下流のプロセス中に使用される種々の化学物質に対する優れた化学的耐性を示した。表4にこのポリイミド離型層の化学的耐性の結果を示す。
Claims (31)
- 背面および前面を有する第1基板と、前記前面に隣接した接着層と、第1面を有する第2基板とを含むスタックを用意することであり、
前記第1面が前記接着層に隣接したポリイミド離型層を含み、
前記ポリイミド離型層が溶剤系に溶解または分散されたポリマーを含む組成物から形成され、
前記ポリマーがフッ素化二無水物、感光性二無水物、感光性ジアミン、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される繰り返しモノマーを含む、スタックを用意することと、
前記第1および第2基板の分離を容易にするために、前記ポリイミド離型層をレーザーエネルギーに露出することとを含む、一時接着方法。 - 前記離型層の平均厚さが約50μm未満である、請求項1に記載の方法。
- 前記露出することが、約100mJ/cm2〜約400mJ/cm2の線量で行われる、請求項1に記載の方法。
- 前記ポリマーが、2,2´‐ビス‐(ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物、3,3´,4,4´‐ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、9,9´‐ビス(4‐アミノフェニル)フルオリン、5(6)‐アミノ‐1‐(4´アミノフェニル)‐1,3,‐トリメチルインダン、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される繰り返しモノマーを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記溶剤系が、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、γ‐ブチロラクトン、3‐エトキシプロピオン酸エチル、プロポキシプロパノール、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、およびそれらの混合物からなる群から選択される溶剤を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記組成物を前記第1面に塗布することによって前記離型層を形成することをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記組成物を、約250℃〜約350℃の温度で約10分未満の間加熱することをさらに含む、請求項6に記載の方法。
- 前記接着層が、溶剤系に溶解または分散されたポリマーまたはオリゴマーを含む組成物から形成され、前記ポリマーまたはオリゴマーは、環状オレフィン、エポキシ、アクリル、スチレン、ビニルハライド、ビニルエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、環状オレフィン、ポリオレフィンゴム、ポリウレタン、エチレン‐プロピレンゴム、ポリアミドエステル、ポリイミドエステル、ポリアセタール、およびポリビニルブテロールの、ポリマーおよびオリゴマーからなる群から選択される、請求項1に記載の方法。
- 前記前面が、集積回路と、MEMSと、マイクロセンサと、電力半導体と、発光ダイオードと、フォトニック回路と、インターポーザーと、埋め込み型受動デバイスと、シリコン、シリコン‐ゲルマニウム、ヒ化ガリウム、および窒化ガリウム上に、またはそれらから製作されるマイクロデバイスとからなる群から選択されるデバイスの配列を含むデバイス面である、請求項1に記載の方法。
- 前記第1面が、集積回路と、MEMSと、マイクロセンサと、電力半導体と、発光ダイオードと、フォトニック回路と、インターポーザーと、埋め込み型受動デバイスと、シリコン、シリコン‐ゲルマニウム、ヒ化ガリウム、および窒化ガリウム上に、またはそれらから製作されるマイクロデバイスとからなる群から選択されるデバイスの配列を含むデバイス面である、請求項1に記載の方法。
- 前記第2基板がガラスまたは他の透明材料を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第1基板がガラスまたは他の透明材料を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記前面は、はんだバンプと、金属ポストと、金属ピラーと、シリコン、ポリシリコン、二酸化シリコン、(酸)窒化シリコン、金属、低kの誘電体、ポリマー誘電体、金属窒化物、および金属珪化物からなる群から選択される材料から形成される構造とからなる群から選択される少なくとも1つの構造を含むデバイス面である、請求項1に記載の方法。
- 前記第1面は、はんだバンプと、金属ポストと、金属ピラーと、シリコン、ポリシリコン、二酸化シリコン、(酸)窒化シリコン、金属、低kの誘電体、ポリマー誘電体、金属窒化物、および金属珪化物からなる群から選択される材料から形成される構造とからなる群から選択される少なくとも1つの構造を含むデバイス面である、請求項1に記載の方法。
- 前記第1および第2基板を分離する前に、前記スタックに、裏面研削、化学機械研磨、エッチング、メタライジング、誘電堆積、パターニング、不動態化、アニーリング、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される処理を施すことをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 背面および前面を有する第1基板と、
前記前面に隣接した接着層と、
第1面を有する第2基板とを含み、前記第1面はポリイミド離型層を含み、前記離型層は前記接着層に隣接しており、前記ポリイミド離型層は溶剤系に溶解または分散されたポリマーを含む組成物から形成され、前記ポリマーはフッ素化二無水物、感光性二無水物、感光性ジアミンおよびそれらの組み合わせからなる群から選択される繰り返しモノマーを含む、物品。 - 厚さが約50μm未満である、請求項16に記載の物品。
- 前記ポリマーが、2,2´‐ビス‐(ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物、3,3´,4,4´‐ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、9,9´‐ビス(4‐アミノフェニル)フルオリン、5(6)‐アミノ‐1‐(4´アミノフェニル)‐1,3,‐トリメチルインダン、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される繰り返しモノマーを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記接着層が、溶剤系に溶解または分散されたポリマーまたはオリゴマーを含む組成物から形成され、前記ポリマーまたはオリゴマーは、環状オレフィン、エポキシ、アクリル、スチレン、ビニルハライド、ビニルエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、環状オレフィン、ポリオレフィンゴム、ポリウレタン、エチレン‐プロピレンゴム、ポリアミドエステル、ポリイミドエステル、ポリアセタール、およびポリビニルブテロールの、ポリマーおよびオリゴマーからなる群から選択される、請求項16に記載の物品。
- 前記前面が、集積回路と、MEMSと、マイクロセンサと、電力半導体と、発光ダイオードと、フォトニック回路と、インターポーザーと、埋め込み型受動デバイスと、シリコン、シリコン‐ゲルマニウム、ヒ化ガリウム、および窒化ガリウム上に、またはそれらから製作されるマイクロデバイスとからなる群から選択されるデバイスの配列を含むデバイス面である、請求項16に記載の物品。
- 前記第1面が、集積回路と、MEMSと、マイクロセンサと、電力半導体と、発光ダイオードと、フォトニック回路と、インターポーザーと、埋め込み型受動デバイスと、シリコン、シリコン‐ゲルマニウム、ヒ化ガリウム、および窒化ガリウム上に、またはそれらから製作されるマイクロデバイスとからなる群から選択されるデバイスの配列を含むデバイス面である、請求項16に記載の物品。
- 前記第2基板がガラスまたは他の透明材料を含む、請求項16に記載の物品。
- 前記第1基板がガラスまたは他の透明材料を含む、請求項16に記載の物品。
- 前記前面は、はんだバンプと、金属ポストと、金属ピラーと、シリコン、ポリシリコン、二酸化シリコン、(酸)窒化シリコン、金属、低kの誘電体、ポリマー誘電体、金属窒化物、および金属珪化物からなる群から選択される材料から形成される構造とからなる群から選択される少なくとも1つの構造を含むデバイス面である、請求項16に記載の物品。
- 前記第1面は、はんだバンプと、金属ポストと、金属ピラーと、シリコン、ポリシリコン、二酸化シリコン、(酸)窒化シリコン、金属、低kの誘電体、ポリマー誘電体、金属窒化物、および金属珪化物からなる群から選択される材料から形成される構造とからなる群から選択される少なくとも1つの構造を含むデバイス面である、請求項16に記載の物品。
- ガラスまたは他の透明材料を含む基板表面に組成物を塗布することであり、前記組成物が溶剤系に溶解または分散されたポリマーを含み、前記ポリマーがポリアミック酸およびポリイミドからなる群から選択される、組成物を塗布することと、
前記組成物を約250℃〜約350℃の温度で約10分未満の間加熱してポリイミド離型層を形成することとを含む、ポリイミド離型層の形成方法。 - 前記ポリマーが、二無水物、ジアミン、イミドおよびそれらの組み合わせからなる群から選択される繰り返しモノマーを含む、請求項26に記載の方法。
- 前記ポリマーがフッ素化二無水物、感光性二無水物、感光性ジアミン、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される繰り返しモノマーを含む、請求項26に記載の方法。
- 前記ポリマーが、2,2´‐ビス‐(ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物、3,3´,4,4´‐ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、9,9´‐ビス(4‐アミノフェニル)フルオリン、5(6)‐アミノ‐1‐(4´アミノフェニル)‐1,3,‐トリメチルインダン、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される繰り返しモノマーを含む、請求項26に記載の方法。
- 前記溶剤系が、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、γ‐ブチロラクトン、3‐エトキシプロピオン酸エチル、プロポキシプロパノール、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、およびそれらの混合物からなる群から選択される溶剤を含む、請求項26に記載の方法。
- 前記ポリイミド離型層の厚さが約50μm未満である、請求項26に記載の方法。
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