JP2017525144A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. ２つの曲面ミラーと１つのビームシフタを含む光学キャビティを含むレーザパルス繰返し周波数逓倍器であって、レーザからの入力レーザパルスを受け取り、前記入力レーザパルスが前記光学キャビティへと案内され、前記光学キャビティから、入力レーザパルスのそれの少なくとも２倍の出力パルス繰返し周波数を有する出力レーザパルスとして出るように位置付けられるレーザパルス繰返し周波数逓倍器を含むフラットトップビーム生成器において、
   ビームシフタは、少なくとも１つの前記出力レーザパルスを他の前記出力レーザパルスに関して横方向に変位させるように構成され、それによって前記出力レーザパルスの時間平均出力強度が、横変位の方向に実質的にフラットなプロファイルを有することを特徴とするフラットトップビーム生成器。
2. 請求項１に記載のフラットトップビーム生成器において、
   ビームシフトは、二等辺三角形プリズム、ダブプリズム、およびビームスプリッタのうちの１つを含むことを特徴とするフラットトップビーム生成器。
3. 請求項１に記載のフラットトップビーム生成器において、
   ビームシフタは、横変位が入力レーザパルスのビームウエスト半径の０．５（半分）と略等しいように構成されることを特徴とするフラットトップビーム生成器。
4. 請求項３に記載のフラットトップビーム生成器において、
   ビームシフタは、光学キャビティが２つの別々の周回光路を含み、ビームシフトが各レーザパルスのエネルギーの一部を第一の経路から第二の経路へと逸らすように構成されることを特徴とするフラットトップビーム生成器。
5. 請求項４に記載のフラットトップビーム生成器において、
   ビームシフタは、ビームシフタが各レーザパルスのエネルギーの一部を第二の経路から第一の経路へとさらに逸らすように構成されることを特徴とするフラットトップビーム生成器。
6. 請求項１に記載のフラットトップビーム生成器において、
   レーザパルス繰返し周波数逓倍器は、出力レーザパルス繰返し周波数が入力レーザパルス繰返し周波数の少なくとも４倍となるように構成されることを特徴とするフラットトップビーム生成器。
7. 請求項６に記載のフラットトップビーム生成器において、
   ビームシフタは、出力レーザパルスが、入力レーザパルスのビームウエスト半径の約２〜２．５倍の幅を有する、実質的にフラットな出力プロファイルを有するように構成されることを特徴とするフラットトップビーム生成器。
8. 一連のレーザパルスを生成するＤＵＶまたはＶＵＶレーザと、
   レーザパルスの繰返し周波数を逓倍するレーザパルス繰返し周波数逓倍器と、
   レーザパルス繰返し周波数逓倍器の出力を試料に案内するための対物レンズを含む光学系、
   試料から反射され、または散乱した光を集光し、この光を検出器に案内するための光学系と、
   を含む試料を検査する検査システムにおいて、
   レーザパルス繰返し周波数逓倍器は、１つまたは複数のリングキャビティを形成する２つの球面ミラーと、各入力レーザパルスのエネルギーの第一の部分を１つまたは複数のリングキャビティ内に案内するビームスプリッタと、ビームシフタと、を含み、
   前記１つまたは複数のリングキャビティは、前記ＤＵＶまたはＶＵＶレーザからの入力レーザパルスのそれぞれが、前記２つの球面ミラーにより決定される複数の光路に沿って向けられるように構成され、前記複数の光路のそれぞれは、前記ビームシフタ及び前記ビームスプリッタを通過し、
   前記ビームシフタは、前記複数の光路の第１光路に沿うレーザパルスのそれぞれを、前記複数の光路の第２光路に横変位させるように構成され、
   レーザパルス繰返し周波数逓倍器は、前記第１光路及び第２光路に沿うレーザパルス部分を反射し、反射された部分は、横変位された第１及び第２出力パルスを形成し、かつ、相互に部分的に重複して、実質的にフラットトップを有する時間平均出力強度プロファイルを形成する出力パルスを生成するように構成される
   ことを特徴とする検査システム。
9. 請求項８に記載の検査システムにおいて、
   システムは、パターンなしウェハ検査システム、パターン付ウェハ検査システム、フォトマスク検査システム、および計測システムのうちの１つを実装することを特徴とする検査システム。
10. 請求項８に記載の検査システムにおいて、
    前記ビームシフタは、二等辺三角形プリズム、ダブプリズム、およびビームスプリッタのうちの１つを含むことを特徴とする検査システム。
11. 請求項８に記載の検査システムにおいて、
    前記ビームシフタは、前記横変位が前記入力レーザパルスのビームウエスト半径の０．５（半分）と略等しいように構成されることを特徴とする検査システム。
12. 請求項１１に記載の検査システムにおいて、
    前記ビームシフタは、光学キャビティが２つの別々の周回光路を含み、各レーザパルスのエネルギーの一部を第１の経路から第２の経路へと逸らすように構成されることを特徴とする検査システム。
13. 請求項１２に記載の検査システムにおいて、
    前記ビームシフタは、各レーザパルスのエネルギーの一部を第２の経路から第１の経路へとさらに逸らすように構成されることを特徴とする検査システム。
14. 請求項８，９のいずれかに記載の検査システムにおいて、さらに、
    前記第１及び第２出力パルスを前記試料の表面上のラインに合焦する光学系を備えることを特徴とする検査システム。
15. 請求項１４に記載の検査システムにおいて、さらに、
    前記試料の表面上のラインから散乱された光をセンサに向ける集光光学系を備え、前記集光光学系の光軸は、前記ラインの照射平面内にないことを特徴とする検査システム。