JP2017513711A - 溶剤蒸気相脱脂及びフラックス除去組成物、方法、装置、及びシステム - Google Patents

溶剤蒸気相脱脂及びフラックス除去組成物、方法、装置、及びシステム Download PDF

Info

Publication number
JP2017513711A
JP2017513711A JP2017505061A JP2017505061A JP2017513711A JP 2017513711 A JP2017513711 A JP 2017513711A JP 2017505061 A JP2017505061 A JP 2017505061A JP 2017505061 A JP2017505061 A JP 2017505061A JP 2017513711 A JP2017513711 A JP 2017513711A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
component
composition
group
azeotrope
weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2017505061A
Other languages
English (en)
Inventor
バス,ラジャト・エス
ハルス,ライアン
ビアード,ジェフリー
セデノ,カルロス・ロベルト
リッティンジャー,ハネロア
ボーグステット,エリック
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Honeywell International Inc
Original Assignee
Honeywell International Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US14/678,322 external-priority patent/US20150290686A1/en
Application filed by Honeywell International Inc filed Critical Honeywell International Inc
Publication of JP2017513711A publication Critical patent/JP2017513711A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50Solvents
    • C11D7/5004Organic solvents
    • C11D7/5022Organic solvents containing oxygen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50Solvents
    • C11D7/5004Organic solvents
    • C11D7/5018Halogenated solvents
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/08Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50Solvents
    • C11D7/5004Organic solvents
    • C11D7/5027Hydrocarbons
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50Solvents
    • C11D7/5036Azeotropic mixtures containing halogenated solvents
    • C11D7/5068Mixtures of halogenated and non-halogenated solvents
    • C11D7/5077Mixtures of only oxygen-containing solvents
    • C11D7/5081Mixtures of only oxygen-containing solvents the oxygen-containing solvents being alcohols only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G5/00Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G5/00Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
    • C23G5/02Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
    • C23G5/028Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
    • C23G5/02809Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine
    • C23G5/02812Perhalogenated hydrocarbons
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/26Cleaning or polishing of the conductive pattern
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D2111/00Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
    • C11D2111/10Objects to be cleaned
    • C11D2111/14Hard surfaces
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D2111/00Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
    • C11D2111/40Specific cleaning or washing processes
    • C11D2111/46Specific cleaning or washing processes applying energy, e.g. irradiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22Organic compounds
    • C11D7/24Hydrocarbons
    • C11D7/248Terpenes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22Organic compounds
    • C11D7/26Organic compounds containing oxygen
    • C11D7/261Alcohols; Phenols
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22Organic compounds
    • C11D7/26Organic compounds containing oxygen
    • C11D7/263Ethers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22Organic compounds
    • C11D7/28Organic compounds containing halogen
    • C11D7/30Halogenated hydrocarbons
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3489Composition of fluxes; Methods of application thereof; Other methods of activating the contact surfaces

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Emergency Medicine (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Toxicology (AREA)

Abstract

本発明は、部分的に、(1)アルコールを含む第1成分、(b)グリコールエーテル、テルペン、ハロゲン化炭化水素、及びこれらの組合せからなる群から選択される第2成分、(c)ヒドロハロエーテル、デカハロペンタン、及びこれらの組合せからなる群から選択される第3成分を含む組成物に関する。【選択図】 図1

Description

本出願は、共に係属している仮特許出願の2014年4月11日出願の61/978,278及び2015年1月30日出願の62/110,037(これらのそれぞれは参照として本明細書中に包含する)の利益を主張する。
本発明は、概して基材材料を蒸気相脱脂及びフラックス除去するための組成物、特に溶剤又は洗浄組成物、並びに溶剤洗浄方法、装置、及びシステムに関する。
溶剤蒸気相脱脂及びフラックス除去は、汚染された基材(例えば、印刷回路基板、或いは製造された金属、ガラス、セラミック、プラスチック、又はエラストマー部品若しくは複合体)を、特定のクロロカーボン又はクロロフルオロカーボン流体又は混合剤のような沸騰している液体中に浸漬し、次に第2のタンク又は洗浄区域において、最初の洗浄区域において用いたものと同じクロロカーボン又はクロロフルオロカーボンである洗浄溶剤で浸漬又は蒸留噴霧することによって部品をすすぐ方法である。次に、冷却された部品を温度が平衡に達するまで凝縮蒸気中に保持することによって、部品を乾燥する。
種々のタイプの部品の溶剤洗浄は、一般に、バッチ、巻揚げ機補助バッチ、コンベヤーバッチ、又はインラインタイプのコンベヤー脱脂装置及びフラックス除去装置内で行われる。かかるインラインコンベヤー脱脂装置及びフラックス除去装置は、本発明の譲受人に共に譲渡された米国特許5,007,179(「低温エアロック蒸気シール」という表題)において開示されている。また、部品は、これも同じ出願人に譲渡された1990年9月25日出願の米国特許出願07/587,893(現在は米国特許5,075,982)において開示されているもののようなオープントップ型フラックス除去又は脱脂装置内で洗浄することもできる。いずれのタイプの装置においても、装置の入口及び/又は出口端は、一般に周囲雰囲気及び装置内の溶剤の両方と自由連絡している。対流又は拡散のいずれかによる装置からの溶剤の損失を最小にするために、当該技術における一般的な方法は、Randの米国特許4,261,111(参照として本明細書中に包含する)において開示されているように、脱脂装置/フラックス除去装置タンク内において高温又は周囲温度区域の領域上に蒸気ブランケット層を生成する水冷又は冷媒冷却コイルを用いることである。
したがって、上述の溶剤蒸気相脱脂プロセスにおいては、洗浄、すすぎ、及び乾燥工程を行うために単一の有機クロロカーボン又はクロロフルオロカーボン(CFC)流体を用いることが一般的に知られている。過去においては、CFC−113及びフレオンタイプの溶剤を用いることが特に一般的であった。しかしながら、これらの環境中への蒸気拡散は、成層圏オゾンの望ましくない地球的な減少に対する多くの考えられる原因の一つに関係がある。
環境上の懸念に応えて、CFCベースの蒸気相脱脂及びフラックス除去プロセスに対するより環境的に受容可能な代替法を提供するために、幾つかのヒドロクロロフルオロカーボン(HCFC)ベースの溶剤が開発された。これらの材料は種々の洗浄用途において従来用いられているCFC材料に対する優れた置換物であることが示されているが、これらはこれらのCFCに対する暫定的な代替物に過ぎないと考えられている。これは主として、提案されている材料がなお、それらが置き換わるCFCのものよりも遙かに小さいが測定可能なオゾン層破壊係数を有するという事実のためである。したがって、これらの幾つかのHCFC溶剤はまた、近い将来において地球的に徐々に廃止することも提案されている。塩素、臭素、又はヨウ素原子を含まない有機溶剤は、成層圏オゾン減少に寄与しない傾向を有すると一般的に考えられている。しかしながら、炭化水素、アルコール、エステル、エーテル、ケトン等のような上記のハロゲン原子を含まない多くの有機化合物は、時には、望ましくない燃焼性又は反応性の特性を有する。更に、幾つかのペルフッ素化飽和炭化水素及びヒドロフルオロカーボンは、ゼロのオゾン層破壊係数;プラスチックとの安定性、非反応性、高い適合性;良好な水置換ポテンシャル;概して非毒性及び不活性で、蒸気相溶剤洗浄装置に理想的に適していること;のような多くの望ましい溶剤特性を有することが知られている。しかしながら、かかるペルフルオロカーボンの多くは、多くの一般的な有機及び無機汚染物、例えばフラックスに対して非常に貧溶媒であることが分かっている。幾つかのヒドロフルオロカーボンはペルフルオロカーボンを凌ぐ向上しているが未だ限定された洗浄能力を与えることができるが、かかる材料はこれらの炭化水素類縁体に匹敵する望ましくない燃焼特性を示すということが懸念されている。
1991年6月12日に公開のヨーロッパ特許公開0431458においては、洗浄組成物として有用な式:C2n+2−m(式中、4≦n≦6、及び6≦m≦12)の脂肪族ヒドロフルオロカーボンが教示されている。この参照文献においては、この脂肪族ヒドロフルオロカーボンは、汚染された部品からフラックス、油脂、及びダストを除去する際の活性成分であることが教示されている。この参照文献においては、フラックスを溶解するために溶解性を増加させるために、炭化水素、アルコール、エステル、及びケトンから選択される有機溶剤を種々の量で脂肪族ヒドロフルオロカーボンに加えることができることが教示されている。
水性洗浄のような他のタイプの洗浄プロセスが存在する。水性洗浄は、一般に、基材又は部品を洗浄剤又は界面活性剤の水溶液中で洗浄し、次に精製水で複数回のすすぎ工程を行うことを含む。次に、空気中における長時間の蒸発によるか、又は多量のエネルギーを消費する熱乾燥機によって部品を乾燥させる。このプロセスは、乾燥のための高いエネルギーコスト、及び地下水に排水する前に国及び地方当局によって求められる水性排水浄化を与えるための運転コスト負荷のために必ずしも望ましいとは限らない。
他の洗浄プロセスである半水性洗浄は、界面活性剤を用いるか又は用いないで、部品から洗浄される油、ワックス、及びグリースに対して高い親和性を有する、例えばテルペン、エステル、又は石油蒸留物をベースとする炭化水素溶剤中で基材を洗浄することから構成される。洗浄した基材は、精製水を用いる複数回のすすぎ工程によって、高沸点炭化水素溶剤中ですすぐ。炭化水素溶剤は相分離して洗浄排水に戻され、一方水性流出液は地下水に排水する前に処理しなければならない。したがって、上述の水性洗浄プロセスと同様に、乾燥エネルギー及び廃棄流出物の処理に関係する高いコストが明らかである。更なる欠点は、炭化水素溶剤は通常は引火点を有しており、これは注意深く取り扱うか、又は爆発を回避するために窒素のような非燃焼性圧縮ガスで覆わなければならないことである。窒素ガスは、凝縮区域内に含まれるフルオロカーボンの高密度の蒸気よりも遙かに消散しやすい。更に、数多くの用途においては、洗浄する基材は炭化水素溶剤と適合性である可能性があるが、幾つかのプラスチック又は金属は水性すすぎ溶剤と非適合性であって、これにより基材の水分吸収及び発錆が引き起こされる可能性がある。
米国特許5,007,179 米国特許5,075,982 米国特許4,261,111 ヨーロッパ特許公開0431458
本発明の第1の形態においては、(a)メタノール、エタノール、及びイソプロパノールからなる群から選択されるアルコールを含む第1成分、(b)グリコールエーテル、テルペン、ハロゲン化炭化水素、及びこれらの組合せからなる群から選択される第2成分、並びに(c)(ハロゲン化炭化水素の第2成分以外の)ヒドロフルオロカーボン、ヒドロハロエーテル、デカハロペンタン、及びこれらの組合せからなる群から選択される第3成分を含み、第2及び第3成分は同一ではない溶剤洗浄組成物が提供される。更なる形態においては、第3成分は、第1成分の少なくとも1種類のアルコールと共沸混合物又は共沸混合物様の組成物を形成するのに有効な量で与える。
本発明のこの第1の形態の幾つかの態様においては、第2成分(b)はハロゲン化炭化水素を含み、これは好ましくはここに記載する相対量で与える。好ましくは、ハロゲン化炭化水素は、F、Cl、Br、又はIから選択される少なくとも1つのハロゲンで置換されている、好ましくはC〜Cアルキル基、C〜Cアルケニル基、C〜Cアルコール基、C〜C10エーテル、及びC〜C環式アルケニル基を含み、又は幾つかの態様においてはこれから構成される、1〜10個の炭素原子を含む化合物を含む。幾つかの態様においては、ハロゲン化炭化水素は少なくとも1つのClで置換されている。幾つかの好ましい態様においては、ハロゲン化炭化水素は、トランス−1,2−ジクロロエチレン、ペルクロロエチレン、トリクロロエチレン、及びこれらの組合せを含み、これから実質的に構成され、又はこれから構成される。
本発明の第1の形態の幾つかの態様においては、第2成分(b)はグリコールエーテルを含み、これは好ましくはここに記載する量で与える。好ましい態様におけるグリコールエーテルは、構造:R’O−R−OR’(式中、Rは、C〜Cアルキル基、C〜Cアルケニル基、C〜Cアルコール基、C〜C10エーテル基、C〜C環式アルキル基、C〜C環式アルケニル基、C〜C複素環式アルキル基、及びC〜C複素環式アルケニル基から選択され、それぞれのR’は、独立して、H、C〜Cアルキル基、C〜Cアルケニル基、C〜Cアルコール基、又はC〜C10エーテル基、C〜C環式アルキル基、C〜C環式アルケニル基、C〜C複素環式アルキル基、及びC〜C複素環式アルケニル基から選択される)を含む。幾つかの態様においては、RはC〜Cアルキル基である。更なる態様においては、グリコールエーテルは、構造:R’−O−(CH−O−R’(式中、少なくとも1つのR’はHであり、他のR’は、C〜Cアルキル基、C〜Cアルケニル基、C〜Cアルコール基、C〜C10エーテル、及びC〜C環式アルケニル基からなる群から選択される)にしたがう化合物である。更なる態様においては、グリコールエーテルは、エチレングリコールモノブチルエーテル、2−エトキシエタノール、2−メトキシエタノール、2−プロポキシエタノール、2−フェノキシエタノール、2−ベンゾキシエタノール、メチルカルビトール、カルビトールセロソルブ、ジエトキシエタン、ジメトキシエタン、ジブトキシブタン、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノn−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、及び/又はプロピレングリコールフェニルエーテルからなる群から選択される。
本発明の第1の形態の幾つかの態様においては、第2成分はテルペンを含み、これは好ましくはここに開示する量で与える。テルペンはここに与えるテルペンのいずれか又は組合せであってよいが、幾つかの形態においては、テルペンは、d−リモネン及び/又はピネンを含み、これから実質的に構成され、又はこれから構成される。
本発明の第1の形態の幾つかの態様においては、第3成分は好ましくはヒドロハロエーテルを含む。幾つかの形態においては、ヒドロハロエーテルは、構造:R−O−R’(式中、R及びR’は、それぞれ独立して、C〜C20アルキル基、C〜C20アルケニル基、C〜C20アルコール基、C〜C20エーテル基、C〜C環式アルキル基、C〜C環式アルケニル基、C〜C複素環式アルキル基、及びC〜C複素環式アルケニル基からなる群から選択され、R及び/又はR’の少なくとも1つは1以上の位置においてハロゲン原子で置換されている)を有する。幾つかの好ましい態様においては、ヒドロハロエーテルはヒドロフルオロエーテルであり、これは幾つかの態様においては構造:CHOCFCFCFCFを有するか又は含む。好ましくは、ヒドロハロエーテル成分を含むか又はそれである第3成分は、組成物の成分(a)、(b)、及び(c)の合計を基準として約25重量%〜約99重量%の量、幾つかの態様においては約50重量%〜約99重量%の量、幾つかの態様においては約75重量%〜約99重量%の量、幾つかの態様においては約90重量%〜約99重量%の量、幾つかの態様においては約92重量%〜約96重量%の量で組成物中に存在する。
本発明の第1の形態の幾つかの態様においては、第3成分は好ましくはデカハロペンタンを含み、これは幾つかの好ましい態様においてはデカフルオロペンタンである。好ましい態様におけるデカフルオロペンタンは、1,1,1,2,3,4,4,5,5,5−デカフルオロペンタン、1,1,1,2,2,3,4,5,5,5−デカフルオロペンタン、及び/又は1,1,1,2,3,3,4,5,5,5−デカフルオロペンタンを含み、これから実質的に構成され、又はこれらからなる群から選択される。デカハロペンタンは、好ましくは、組成物の成分(a)、(b)、及び(c)の合計を基準として約30重量%〜約99重量%の量、幾つかの態様においては約50重量%〜約99重量%の量、幾つかの態様においては約70重量%〜約99重量%の量、幾つかの態様においては約90重量%〜約99重量%の量、幾つかの態様においては約92重量%〜約96重量%の量で与える。
本発明の第2の形態においては、(i)1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン、及び(ii)第1の形態の第2成分と同じであり、第1の形態に関して記載したものと同じ濃度で存在する少なくとも1種類の第2成分を含む溶剤洗浄組成物が提供される。
この第2の形態の幾つかの態様においては、成分(i)は、1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン、並びにメタノール、エタノール、及びイソプロパノールからなる群から選択されるアルコールから実質的に構成される共沸混合物又は共沸混合物様の組成物を含み、かかる態様においては、成分(i)と(ii)は別の共沸混合物を形成しないことが好ましい。
本発明の組成物は、噴霧可能な組成物、溶剤、又はエアゾールにおいて用いることができる。幾つかの非限定的な態様においては、かかる組成物は、部品から残留汚染物又は表面汚染物質を除去する方法において用いることができる。かかる方法には、本発明の溶剤組成物中に部品を浸漬することを含ませることができる。幾つかの態様においては、本発明の溶剤組成物を与え、次に組成物を加熱して、成分(a)又は(i)を含み、第2成分(b)が実質的に存在しない、燃焼性が抑制されたブランケット層を形成することが好ましい。次に好ましくは、この燃焼性が抑制されたブランケット層内で部品を乾燥する。
本明細書において用いる燃焼性が抑制されたブランケット層という用語は、ASTM−E−681−09(参照として本明細書中に包含する)にしたがって測定して燃焼限界を有しない気体を含む蒸気空間を意味する。
蒸気ブランケット層の形成を促進するために、第2成分は、(1)第1の形態の場合には、第1及び第3成分(a)及び(c)、及び/又はこれらの間で形成される任意の共沸混合物又は共沸混合物様の組成物;並びに(2)第2の形態の場合には、成分(i)、即ち1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン、及び/又は1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンと存在する場合にはアルコール(好ましくは、メタノール、エタノール、及びイソプロパノール)の間で形成される任意の共沸混合物又は共沸混合物様の組成物よりも少なくとも10℃高く、幾つかの形態においては少なくとも25℃高く、更なる形態においては少なくとも50℃高い沸点を有していてよい。
本発明に関する更なる態様及び有利性は、与えられている開示事項に基づいて容易に明らかになるであろう。
図1は、本発明の一態様において用いることができる脱脂又はフラックス除去装置の部分概要図を示す。
本発明の第1の形態の幾つかの態様によれば、好ましい組成物、特に溶剤又は洗浄組成物は、(a)1種類以上のアルコールから実質的に構成されるか又はこれから構成される第1成分、(b)グリコールエーテル、テルペン、及び/又は(デカハロペンタン以外の)ハロゲン化炭化水素からなる群から選択される第2成分、並びに(c)ヒドロフルオロカーボン、ハロゲン化エーテル、及び/又はデカハロペンタンからなる群から選択される第3成分を含み、第2成分(b)と第3成分(b)は同一ではない。幾つかの形態においては、1種類又は複数の第2成分(b)は、第1成分(a)又は第3成分(c)のいずれかのものよりも高い沸点を有する溶剤である。更なる形態においては、第2成分(b)は、第1成分(a)及び第3成分(c)のいずれか又は両方と共沸混合物又は共沸混合物様の組成物を形成しない(或いは共沸混合物又は共沸混合物様の組成物を形成しない量で与えられる)。
本発明の第2の形態の幾つかの形態においては、組成物、特に溶剤又は洗浄組成物は、好ましくは、単独か或いはアルコールとの共沸混合物又は共沸混合物様の組成物としての1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1233zd)の第1成分、及び第1の形態に関してここに記載した第2成分(b)を含む。かかる態様においては、第2成分(b)は、組成物中に含まれるHCFO−1233zd(シス又はトランス異性体或いはその組合せ)、或いはHCFO−1233zdとここに記載する1種類又は複数のアルコールとの間で形成される任意の共沸混合物又は共沸混合物様の組成物のものよりも高い沸点を有する溶剤である。更なる形態においては、第2成分(b)は、HCFO−1233zd及び/又はアルコールと共沸混合物又は共沸混合物様の組成物を形成しない(或いは共沸混合物又は共沸混合物様の組成物を形成しない量で与えられる)。
本発明の組成物は、とりわけ、印刷回路基板からのハンダフラックス又は他の残渣の除去、或いは金属又は非金属部品からの石油系、合成、又は半合成ベースのオイル若しくはグリースの除去のように、基材から不要のデブリスを除去するための溶剤として有利である。特に、かかる組成物は、蒸気脱脂機(特に多重サンプ機)において、又は低温洗浄剤として、或いは噴霧剤、例えばエアゾール噴霧剤として用いるのに有利である。
成分:
成分(a)及び成分(i):
「HCFO−1233zd」という用語は、それがシス形態であるか又はトランス形態であるかに関係なく、1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンの化合物を指す。「シス−HCFO−1233zd」及び「トランス−HCFO−1233zd」という用語は、それぞれ1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンのシス−及びトランス−形態を示すように用いる。したがって、「HCFO−1233zd」という用語は、シス−HCFO−1233zd、トランス−HCFO−1233zd、並びにこれらの全ての組み合わせ及び混合物をその範囲内に包含する。
「シス−HCFO−1233zd」という用語は、HCFO−1233zdの全異性体に対するシス−HCFO−1233zdの量が、少なくとも約95%、より好ましくは少なくとも約98%、更により好ましくは少なくとも約99%、更により好ましくは少なくとも約99.9%であることを意味する。幾つかの好ましい態様においては、シス−HCFO−1233zd成分は実質的に純粋なシス−HCFO−1233zdである。
「トランス−HCFO−1233zd」という用語は、HCFO−1233zdの全異性体に対するトランス−HCFO−1233zdの量が、少なくとも約95%、より好ましくは少なくとも約98%、更により好ましくは少なくとも約99%、更により好ましくは少なくとも約99.9%であることを意味する。幾つかの好ましい態様においては、トランス−HCFO−1233zd成分は実質的に純粋なトランス−HCFO−1233zdである。
アルコールとは、それに結合しているアルコール基を有する任意の成分を指すことができる。幾つかの非限定的な態様においては、アルコールとしてはC〜Cアルコールが挙げられ、幾つかの好ましい態様においては、アルコールは、メタノール、エタノール、又はイソプロパノールの少なくとも1つを含む。
成分(b):
本明細書において用いる「グリコールエーテル」という用語は、アルキレングリコールのアルキルエーテルをベースとする種類の溶剤である化合物を指す。幾つかの非限定的な態様においては、これは、構造:R’O−R−OR’(式中、Rは、C〜Cアルキル基、C〜Cアルケニル基、C〜Cアルコール基、C〜C10エーテル基、C〜C環式アルキル基、C〜C環式アルケニル基、C〜C複素環式アルキル基、又はC〜C複素環式アルケニル基から選択され、上記はいずれも(妥当な場合には)直鎖又は分岐鎖であってよく、場合によっては1以上の位置において置換されていてもよい)を有する式Iによって表すことができる。それぞれのR’は、独立して、H、C〜Cアルキル基、C〜Cアルケニル基、C〜Cアルコール基、又はC〜C10エーテル基、C〜C環式アルキル基、C〜C環式アルケニル基、C〜C複素環式アルキル基、又はC〜C複素環式アルケニル基から選択され、上記はいずれも(妥当な場合には)直鎖又は分岐鎖であってよく、場合によっては1以上の位置において置換されていてもよい。幾つかの形態においては、少なくとも1つのR’はHではない。
上記の幾つかの態様においては、RはC〜C直鎖又は分岐鎖アルキル基であり、アルキルエーテルのアルキレングリコールを形成する。幾つかの形態においては、RはC〜C直鎖又は分岐鎖アルキル基である。上記の更なる態様においては、Rはエチル基であり、構造R’−O−(CH−O−R’を有するエチレンエーテルのアルキレングリコールを形成する。それぞれのR’は上記に示したように定義することができる。幾つかの形態においては、これは少なくとも1つのC〜Cアルキル基、C〜Cアルケニル基、C〜Cアルコール基、又はC〜C10エーテル、又はC〜C環式アルケニル基を含み、これらはいずれも(妥当な場合には)直鎖又は分岐鎖であってよく、及び/又は場合によっては1以上の位置において置換されていてもよい。更なる態様においては、少なくとも1つのR’はHであり、第2のR’は、少なくとも1つのC〜Cアルキル基、C〜Cアルケニル基、C〜Cアルコール基、又はC〜C10エーテル、又はC〜C環式アルケニル基を含み、これらはいずれも直鎖又は分岐鎖であってよく、或いは場合によっては1以上の位置において置換されていてもよい。幾つかの好ましい態様においては、グリコールエーテルは、次:エチレングリコールモノブチルエーテル(「ブチルセロソルブ」とも呼ばれる)、2−エトキシエタノール(「エチルセロソルブ」としても知られる)、2−メトキシエタノール、2−プロポキシエタノール、2−フェノキシエタノール、2−ベンゾキシエタノール、メチルカルビトール、2−(2-エトキシエトキシ)エタノール(「カルビトールセロソルブ」としても知られる)、ジエトキシエタン、ジメトキシエタン、ジブトキシブタン、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノn−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、及び/又はプロピレングリコールフェニルエーテル;の1つ又は組合せから選択される。
本明細書において用いる「テルペン」という用語は、少なくとも10個の炭素原子を含み、少なくとも1つ、好ましくは少なくとも2つのイソプレン基を含む化合物を意味する。多くの好ましい態様においては、本発明のテルペン化合物は、少なくとも2つのイソプレンC単位(CH=C(CH)−CH=CH)(それぞれの単位は置換又は非置換である)の反応から形成され、したがって本発明のテルペン化合物の多くは、好ましくは少なくとも10個の炭素原子を有し、少なくとも1つのイソプレン基を含む。本明細書において用いる「イソプレン基」という用語は、置換又は非置換イソプレンから形成することができる基を含む分子の任意の部分を指す。幾つかの好ましい態様においては、非置換テルペンが好ましい。
多くの好ましい態様においては、本発明のテルペン化合物は、変性又は非変性イソプレン分子の少なくとも1種類の頭−尾縮合生成物を含む。任意の1種類以上のテルペン化合物を本発明にしたがって用いるように適合させることができ、当業者であれば、本明細書に含まれる教示事項を考慮して、過度の実験を行うことなく任意の特定の用途のための1種類又は複数のテルペン化合物の数及びタイプを選択することができるであろうと意図される。本発明の好ましいテルペンは、環式又は非環式、飽和又は不飽和、置換又は非置換構造の、分子式:(C(ここで、nは好ましくは2〜約6、更により好ましくは2〜4である)を有する炭化水素である。式:C1016を有する本発明によるテルペン(置換形態を含む)は、本発明において時にはモノテルペンと呼び、一方、式:C1524を有するテルペン(置換形態を含む)は、本発明において時にはセスキテルペンと呼ぶ。式:C2032を有する本発明によるテルペン(置換形態を含む)は、本発明において時にはジテルペンと呼び、一方、式:C3024を有するテルペン(置換形態を含む)は、時にはトリテルペンと呼び、以下同様である。30個以上の炭素を含むテルペンは、通常は2つのテルペン前駆体を規則的なパターンで融合させることによって形成される。全てのかかるテルペンを本発明にしたがって用いるように適合させることができると意図されるが、モノテルペンを用いることが一般的に好ましい。
幾つかの好ましい態様においては、本組成物の1種類又は複数のテルペン化合物は、1種類以上の非環式テルペン化合物を好ましくは主要割合で含み、更により好ましくはこれから実質的に構成される。非環式テルペンの中で、かかる化合物は、頭−尾結合イソプレノイドとして分類される種類の化合物、或いはそのように結合していない種類の化合物の範囲内であってよいと意図される。本発明の幾つかの形態にしたがって用いるのに好ましい非環式テルペンとしては、ミルセン(2−メチル−6−メチレンオクタ−1,7-ジエン)、アロシメン、β−オシメンが挙げられる。
幾つかの態様においては、本発明のテルペン化合物は環式テルペン化合物を含んでいてよい。環式テルペンの中で、種々の不飽和度を有する単、二、三、又は四環式化合物が、本発明にしたがって用いるように意図される。幾つかの好ましい態様においては、テルペンは、次の構造:
Figure 2017513711
を有する式:1−メチル−4−イソプロペニル−1−シクロヘキセンを有する環式テルペン化合物(d−リモネンとも呼ばれる)である。幾つかの好ましい態様においては、テルペンは、次の化学構造:
Figure 2017513711
を有していてよいピネンを含む環式テルペン化合物である。
本発明の種々の形態に関連して用いるように適合させることができるテルペン化合物の例としては、テレベン、ミルセン、リモネン、レチナール、ピネン、メントール、ゲラニオール、ファルネソール、フィトール、テルピネン、δ−3カレン、テルピノレン、テルピネオール、リナレオール、カンフェン、フェランドレン、フェンチェンなど、及びこれらのブレンド、並びに全てのこれらの異性体が挙げられる。
本発明によるテルペン誘導体の他の例としては、ヒドロキシル基又はカルボニル基を含むアルコール、アルデヒド、又はケトンのようなテルペンの酸素含有誘導体、並びに水素化誘導体が挙げられる。テルペンの酸素含有誘導体は、本発明においては時にはテルペノイドと呼ぶ。幾つかの態様においては、本発明のジエンベースの化合物はテルペノイドのカルノシン酸を含む。カルノシン酸は、実験式:C2028に対応するフェノール系ジテルペンである。これはシソ科の植物中に天然に存在する。例えば、カルノシン酸は、Salvia officinalis(セージ)及びRosmarinus officinalis(ローズマリー)種の構成成分であり、主として葉の中に見られる。カルノシン酸はまた、タイム及びマージョラム中(Linde, Salvia officinalis [Helv. Chim. Acta. 47, 1234 (1962)]、及びWenkertら, Rosmarinus officinalis [J. Org. Chem. 30, 2931 (1965)を参照)、並びにセージの種々の他の種の中(Salvia canariensis [Savona及びBruno, J. Nat. Prod. 46, 594 (1983)]、及びSalvia willeana [de la Torreら, Phytochemistry, 29, 668 (1990)]を参照)においても見られる。これはまた、Salvia triloba及びSalvia scalarea中にも存在する。他の考えられるテルペノイドを下記に示す。
Figure 2017513711
本明細書において用いる「ハロゲン化炭化水素」という用語は、少なくとも1つの位置がハロゲン原子で置換されている炭化水素鎖又は環を指す。炭化水素鎖としては、C〜C20アルキル基、C〜C20アルケニル基、C〜C20アルコール基、C〜C20エーテル、C〜C環式アルケニル基、C〜C複素環式アルキル基、又はC〜C複素環式アルケニル基を挙げることができ、これらはいずれも(妥当な場合には)直鎖又は分岐鎖であってよく、及び/又は場合によっては1以上の位置において置換されていてもよい。幾つかの形態においては、これとしては、C〜Cアルキル基、C〜Cアルケニル基、C〜Cアルコール基、C〜C10エーテル、又はC〜C環式アルケニル基が挙げられ、これらはいずれも(妥当な場合には)直鎖又は分岐鎖であってよく、及び/又は場合によっては1以上の位置において置換されていてもよい。上記の態様のいずれにおいても、炭化水素は、好ましくは、F、Cl、Br、又はIから選択される少なくとも1つのハロゲンで置換されている。
幾つかの態様においては、ハロゲン化炭化水素はC〜Cアルキル基又はC〜Cアルケニル基である。更なる態様においては、これは少なくとも1つの塩素原子を含むCアルケニル基である。かかる溶剤の非限定的な例としては、トランス−1,2−ジクロロエチレン、ペルクロロエチレン、トリクロロエチレン、及びこれらの組合せが挙げられる。幾つかの形態においては、第2成分として用いるハロゲン化炭化水素は、デカハロペンタン、特にデカフルオロペンタンを包含しない。
成分(c):
ハロゲン化炭化水素に関する上記の記載は、成分(c)のヒドロフルオロオレフィンに同じように適用することができるが、但し化合物中に少なくとも1つのF置換基が存在する。
本明細書において用いるヒドロハロエーテルとは、構造:R−O−R’を有する種類の溶剤を指す。R及びR’は、独立して、C〜C20アルキル基、C〜C20アルケニル基、C〜C20アルコール基、C〜C20エーテル基、C〜C環式アルキル基、C〜C環式アルケニル基、C〜C複素環式アルキル基、又はC〜C複素環式アルケニル基から選択され、上記のいずれも(妥当な場合には)直鎖又は分岐鎖であってよく、少なくとも1つの基は1以上の位置においてハロゲン原子で置換されている。
幾つかの好ましい態様においては、ヒドロハロエーテルはヒドロフルオロエーテルであり、これは上記にしたがうモノマー又はポリマー構造を含んでいてよく、R及びR’置換基の1以上はフッ素原子で置換されている。幾つかの非限定的な態様においては、ヒドロフルオロエーテルとしては少なくとも1種類のノナフルオロアルキルエーテルが挙げられ、ここでアルキルは1〜10個の炭素原子を含んでいてよい。幾つかの非限定的な態様においては、ノナフルオロアルキルエーテルとしては、ノナフルオロブチルエーテル及びノナフルオロイソブチルエーテル、例えばNOVEC(登録商標)、特に(排他的ではないが)NOVEC(登録商標)7200の商品名で商業的に入手できるもの(3Mから入手できる)(しかしながらこれに限定されない)が挙げられる。幾つかの非限定的な態様においては、ヒドロハロエーテルは、次の構造:CHOCFCFCFCF−、(CFCFCFOCH、CHOCFCFCF、又はこれらとトランス−1,2−ジクロロエチレンの任意の組合せを有するか、又は他の形態で含む。
本明細書において用いる「デカハロペンタン」とは、F、Cl、Br、又はIから選択することができる10個のハロゲン原子で置換されている5炭素のアルキル鎖を意味する。幾つかの好ましい態様においては、デカハロペンタンはデカフルオロペンタンである。かかる化合物の非限定的な例としては、1,1,1,2,3,4,4,5,5,5−デカフルオロペンタン、1,1,1,2,2,3,4,5,5,5−デカフルオロペンタン、及び/又は1,1,1,2,3,3,4,5,5,5−デカフルオロペンタンが挙げられる。幾つかの態様においては、デカハロペンタン又はデカフルオロペンタンとしては、VERTREL SFR及び/又はVERTREL XFなど(しかしながらこれらに限定されない)のVERTREL(登録商標)の商品名で商業的に入手できる少なくとも1種類の化合物(DuPontから入手できる)が挙げられる。
成分の量:
本出願人らは、当業者であれば、本明細書に含まれる教示事項及び例に基づいて、本発明の第1の形態又は第2の形態のいずれにおいても、特定の用途の必要性にしたがって本組成物の成分の種々の相対量を選択することができると考える。しかしながら、本出願人らは、下記に記載する種々の成分の相対量が多くの用途において好ましいと考える。
第1成分(a)又は成分(i)の一部として与えられる1種類又は複数のアルコールは、好ましくは合計で、組成物の全重量を基準として約0重量%より多く約15重量%までの量で与える。幾つかの形態においては、1種類又は複数のアルコールは、組成物の全重量を基準として約0.01重量%〜約10重量%の量で与える。幾つかの好ましい態様においては、1種類又は複数のアルコールは、組成物の全重量を基準として約1重量%〜約5重量%の量で与える。
第2成分(b)中において用いる場合には特にグリコールエーテルを含む第2成分(b)は、好ましくは、組成物の全重量を基準として約0重量%より多く約30重量%までの量で与える。幾つかの好ましい態様においては、特にグリコールエーテルを含む第2成分は、組成物の全重量を基準として約0.01重量%〜約25重量%の量で与える。幾つかの好ましい態様においては、用いる第3成分に応じて、特にグリコールエーテルを含む第2成分は、組成物の全重量を基準として約1重量%〜約20重量%の量で与える。
成分(i)を伴う本発明の第2の形態に関しては、存在させる場合にはグリコールエーテルは、好ましくは、組成物の全重量を基準として約0.01重量%〜約30重量%、より好ましくは約0.05重量%〜約10重量%、更により好ましくは約1重量%〜約5重量%の量で与える。かかる態様においては、成分(i)は、好ましくは、組成物の全重量を基準として約70重量%〜約99.99重量%、より好ましくは約90重量%〜約99.95重量%、更により好ましくは約95重量%〜約99重量%の量で与える。
第2成分(b)がテルペンを含む場合には、これは、好ましくは、組成物の全重量を基準として約0重量%より多く約30重量%までの量で与える。幾つかの好ましい態様においては、テルペンは、組成物の全重量を基準として約0.01重量%〜約25重量%の量で与える。幾つかの好ましい態様においては、テルペンは、組成物の全重量を基準として約1重量%〜約20重量%の量で与える。
成分(i)を伴う本発明の第2の形態に関しては、存在させる場合には1種類又は複数のテルペンは、好ましくは、組成物の全重量を基準として約0.01重量%〜約30重量%、より好ましくは約0.05重量%〜約10重量%、更により好ましくは約1重量%〜約5重量%の量で与える。かかる態様においては、成分(i)は、好ましくは、組成物の全重量を基準として約70重量%〜約99.99重量%、より好ましくは約90重量%〜約99.95重量%、更により好ましくは約95重量%〜約99重量%の量で与える。
第2成分(b)がハロゲン化炭化水素を含む場合には、これは、組成物の全重量を基準として約0重量%より多く約50重量%まで、約0.01重量%〜約40重量%、又は約1重量%〜約30重量%の量で与えることができる。
成分(i)を伴う本発明の第2の形態に関しては、存在させる場合にはハロゲン化炭化水素は、好ましくは、組成物の全重量を基準として約0.01重量%〜約95重量%、より好ましくは約0.01重量%〜約80重量%、更により好ましくは約1重量%〜約50重量%、幾つかの態様においては約1重量%〜約30重量%の量で与える。かかる態様においては、成分(i)は、好ましくは、組成物の全重量を基準として約5重量%〜約99.99重量%、より好ましくは約20重量%〜約99.99重量%、更により好ましくは約50重量%〜約99重量%の量で与える。
第2成分(b)がトランス−1,2−ジクロロエチレンである場合には、これは好ましくは、組成物の全重量を基準として約1〜約99%、約5重量%〜約50重量%、約6重量%〜約30重量%、幾つかの態様においては約6重量%〜約20重量%の任意の量で与える。幾つかの好ましい態様においては、トランス−1,2−ジクロロエチレンは、組成物の全重量を基準として約6重量%〜約35重量%の量で与える。
成分(i)を伴う本発明の第2の形態に関しては、存在させる場合には、トランス−1,2−ジクロロエチレンは、好ましくは、組成物の全重量を基準として約5重量%〜約95重量%、より好ましくは約6重量%〜約95重量%、更により好ましくは約6重量%〜約80重量%、更により好ましくは幾つかの態様においては約6重量%〜約50重量%、幾つかの態様においては約6重量%〜約25重量%の量で与える。かかる態様においては、成分(i)は、好ましくは、組成物の全重量を基準として約5重量%〜約95重量%、より好ましくは約5重量%〜約94重量%、更により好ましくは約20重量%〜約94重量%、幾つかの態様においては約50重量%〜約94重量%の量で与える。
幾つかの形態においては、かかる第3成分(c)は、組成物の全重量を基準として0.01重量%より多く約99重量%までの量で与える。幾つかの形態においては、第3成分は、組成物の全重量を基準として約25重量%〜約99重量%、又は幾つかの態様においては約20重量%〜約99重量%の量で与える。幾つかの好ましい態様においては、第3成分(c)は、組成物の全重量を基準として約50重量%〜約99重量%の量で与える。幾つかの好ましい態様においては、組成物の全重量を基準として、第3成分は約70重量%〜約99重量%の量で与え、或いは第3成分は約75重量%〜約99重量%の量で与える。更なる態様においては、組成物の全重量を基準として、第3成分は約90重量%〜約99重量%の量で与え、幾つかの態様においては第3成分は約92重量%〜約96重量%の量で与える。
共沸混合物及び共沸混合物様の組成物:
幾つかの態様においては、第1成分(a)と第3成分(c)は共沸混合物様の組成物を形成し、或いは第1成分(i)は共沸混合物又は共沸混合物様の組成物を含む。本明細書において用いる「共沸混合物様」という用語は、厳密に共沸性であるか、又は概して共沸性混合物のように挙動する組成物を指す。共沸性混合物は、液体の組成と蒸気の組成が規定の圧力及び温度において等しい2以上の成分の系である。実際面では、これは、共沸性混合物の成分が一定の沸点を有するか又は実質的に一定の沸点を有し、一般に相変化中に熱力学的に分離することができないことを意味する。共沸性混合物の沸騰又は蒸発によって形成される蒸気の組成は、元の液体の組成と同一であるか又は実質的に同一である。而して、共沸混合物様の組成物の液相及び蒸気相中の成分の濃度は、組成物を沸騰させるか又は他の形態で蒸発させるにつれて、あったとしても最小にしか変化しない。これに対して、非共沸性混合物を沸騰又は蒸発させると、液相中の成分濃度が相当な程度まで変化する。
共沸混合物様の組成物の成分に関して本明細書において用いる「実質的に構成される」という用語は、組成物が、示される成分を共沸混合物様の比で含み、更なる成分が新しい共沸混合物様の系を形成しないならば更なる成分を含んでいてもよいことを意味する。例えば、2種類の化合物から実質的に構成される共沸混合物様の混合物は、更なる成分が混合物を非共沸性にせず且つ化合物のいずれか又は両方と共沸混合物を形成しないならば場合によっては1以上の更なる成分を含んでいてもよい2元の共沸混合物を形成するものである。
共沸性組成物に関して本明細書において用いる「有効量」という用語は、他の成分と組み合わせることによって本発明の共沸混合物又は共沸混合物様の組成物を形成するそれぞれの成分の量を意味する。
沸点データに関して本明細書において用いる「周囲圧力」という用語は、関連する媒体を取り囲む雰囲気の圧力を意味する。一般に、周囲圧力は14.7psiaであるが、±0.5psi変動してよい。
本発明の共沸混合物様の組成物は、有効量のHFO−1233zdを、好ましくは流体形態の1種類以上のアルコールと混合することによって製造することができる。2以上の成分を混合して組成物を形成するための当該技術において公知の任意の広範囲の方法を、本方法において用いるように適合させることができる。例えば、HFO−1233zd及びアルコールを、手作業及び/又は機械によって、バッチ又は連続反応及び/又はプロセスの一部として、或いは2以上のかかる工程の組合せによって、混合、ブレンド、又は他の形態で配合することができる。本明細書における開示事項を考慮すれば、当業者は、過度の実験を行うことなく本発明による共沸混合物様の組成物を容易に製造することができるであろう。
好ましい態様においては、共沸混合物様の組成物は、有効量のHFO−1233zd及びC〜Cアルコールを含む。好ましくは、C〜Cアルコールは、メタノール、エタノール、及びイソプロパノールからなる群から選択される。かかる共沸混合物の非限定的な例は、米国特許8,163,196(その内容はその全部を参照として本明細書中に包含する)において与えられている。幾つかの好ましい態様においては、HFO−1233zdはトランス異性体である。
幾つかの態様においては、共沸混合物様の組成物は、有効量のトランス−HFO−1233zd及びメタノールを含む。これらの2元の共沸混合物様の組成物は、約70〜約99.95重量%のトランス−HFO−1233zd及び約0.05〜約30重量%のメタノール、より好ましくは約90〜約99.95重量%のトランス−HFO−1233zd及び約0.05〜約10重量%のメタノール、更により好ましくは約95〜約99.95重量%のトランス−HFO−1233zd及び約0.05〜約5重量%のメタノールから実質的に構成することができる。幾つかの形態においては、かかるトランス−HFO−1233zd/メタノール組成物は、全て周囲圧力において測定して約17℃〜約19℃、より好ましくは約17℃〜約18℃、更により好ましくは約17℃〜約17.5℃、最も好ましくは約17.15℃±1℃の沸点を有する。
幾つかの態様においては、共沸混合物様の組成物は、有効量のシス−HFO−1233zd及びメタノールを含む。これらの2元の共沸混合物様の組成物は、約78〜約99.9重量%のシス−HFO−1233zd及び約0.1〜約22重量%のメタノール、より好ましくは約85〜約99.9重量%のシス−HFO−1233zd及び約0.1〜約15重量%のメタノール、更により好ましくは約88〜約99.5重量%のシス−HFO−1233zd及び約0.5〜約12重量%のメタノールから実質的に構成される。幾つかの形態においては、かかるシス−HFO−1233zd/メタノール組成物は、周囲圧力において約35.2±1℃の沸点を有する。
更なる態様においては、共沸混合物様の組成物は、有効量のトランス−HFO−1233zd及びエタノールを含む。これらの2元の共沸混合物様の組成物は、約85〜約99.9重量%のトランス−HFO−1233zd及び約0.1〜約15重量%のエタノール、より好ましくは約92〜約99.9重量%のトランス−HFO−1233zd及び約0.1〜約8重量%のエタノール、更により好ましくは約96〜約99.9重量%のトランス−HFO−1233zd及び約0.1〜約4重量%のエタノールから実質的に構成することができる。幾つかの形態においては、かかるトランス−HFO−1233zd/エタノール組成物は、周囲圧力において約18.1℃±1℃の標準沸点を有する。
更なる態様においては、共沸混合物様の組成物は、有効量のシス−HFO−1233zd及びエタノールを含む。これらの2元の共沸混合物様の組成物は、約65〜約99.9重量%のシス−HFO−1233zd及び約0.1〜約35重量%のエタノール、より好ましくは約79〜約99.9重量%のシス−HFO−1233zd及び約0.1〜約21重量%のエタノール、更により好ましくは約88〜約99.5重量%のシス−HFO−1233zd及び約0.5〜約12重量%のエタノールから実質的に構成することができる。幾つかの形態においては、かかるシス−HFO−1233zd/エタノール組成物は、周囲圧力において約37.4℃±1℃の標準沸点を有する。
更なる態様においては、共沸混合物様の組成物は、有効量のトランス−HFO−1233zd及びイソプロパノールを含む。これらの2元の共沸混合物様の組成物は、約90〜約99.9重量%のトランス−HFO−1233zd及び約0.1〜約10重量%のイソプロパノール、より好ましくは約94〜約99.9重量%のトランス−HFO−1233zd及び約0.1〜約6重量%のイソプロパノール、更により好ましくは約95〜約99.9重量%のトランス−HFO−1233zd及び約0.1〜約5重量%のイソプロパノールから実質的に構成することができる。幾つかの形態においては、かかるトランス−HFO−1233zd/イソプロパノール組成物は、周囲圧力において約17.9℃±1℃の標準沸点を有する。
更なる態様においては、共沸混合物様の組成物は、有効量のシス−HFO−1233zd及びイソプロパノールを含む。これらの2元の共沸混合物様の組成物は、約85〜約99.9重量%のシス−HFO−1233zd及び約0.1〜約15重量%のイソプロパノール、更により好ましくは約90〜約99.9重量%のシス−HFO−1233zd及び約0.1〜約10重量%のイソプロパノールから実質的に構成される。幾つかの形態においては、かかるシス−HFO−1233zd/イソプロパノール組成物は、周囲圧力において約38.4±1℃、更により好ましくは38.4±0.1の沸点を有する。
他の情報:
任意の上記の態様においては、第2成分(b)は、好ましくは本発明の組成物を形成する。幾つかの好ましいが非限定的な形態においては、第2成分は溶剤、特にここで議論する方法及び有利性にしたがって機能することができる溶剤である。幾つかの非限定的な形態においては、この溶剤は、少なくとも部分的に、印刷回路基板の製造に関連するハンダフラックス及び他の残渣を可溶化すること、或いは金属若しくは非金属基材から残渣(例えばオイル及びグリース)を除去することができる。更なる態様においては、第2成分は高沸点の溶剤化合物である。
本明細書において用いる「高沸点溶剤」という用語は、第1の形態に関して上記で議論した少なくとも第1及び第3の成分、及び/又はかかる成分によって形成される任意の共沸混合物又は共沸混合物様の組成物、或いは第2の形態に関しては、存在するHCFO−1233zd(シス又はトランス)、及び/又はHCFO−1233zdと存在するアルコール(特に、メタノール、エタノール、及び/又はイソプロパノール)によって形成される任意の共沸混合物又は共沸混合物様の組成物の沸点よりも高い沸点を有する溶剤化合物を指す。幾つかの好ましい態様においては、「高沸点」化合物は、第1の形態に関しては、少なくとも、第1及び第3の成分、及び/又はこれらによって形成される任意の共沸混合物又は共沸混合物様の組成物、或いは第2の形態に関しては、HCFO−1233zd(シス又はトランス異性体)、及び/又はHCFO−1233zdとアルコール(特に、メタノール、エタノール、及び/又はイソプロパノール)によって形成される任意の共沸混合物又は共沸混合物様の組成物の沸点よりも少なくとも25℃高く、幾つかの好ましい態様においては少なくとも50℃以上高い沸点を有する。
界面活性剤、潤滑剤、安定化剤、金属不動態化剤、腐食抑制剤、燃焼性抑制剤、及び組成物の特定の特性(例えばコスト又は燃焼性など)を調節する他の化合物及び/又は成分などの多くの更なる化合物又は成分を、本組成物中に含ませることができる。この目的のために、全てのかかる化合物及び成分を存在させることは本発明の広範な範囲内である。1種類又は複数のこれらの成分は、好ましくは、ここで議論する有利性、方法、及び使用を達成する任意の有効量で与える。幾つかの非限定的な態様においては、第2成分(b)は、存在させる場合には、組成物中に存在する第1(a)又は第3(c)成分のいずれとも非共沸性であるか、或いはかかる成分に対して非共沸性である量で与える。
本出願人らは、驚くべきことに且つ予期しなかったことに、本発明の好ましい組成物は、数多くの洗浄及び他の用途における溶剤としてなどの数多くの用途のために、特にハンダフラックスを洗浄するために、並びにエアゾール及び他の噴霧可能な組成物としてこれらを特に望ましくする特性を示すことを見出した。特に、本出願人らは、これらの組成物は、好ましくは約1000未満、より好ましくは約500未満、更により好ましくは約150未満で10未満により近い、比較的低い地球温暖化係数(GWP)を示す傾向があることを認めた。
幾つかの態様においては、本発明は、ここに記載する組成物、活性成分、並びに場合によっては不活性成分及び/又は溶剤及び/又はエアゾール噴射剤を含む噴霧可能な組成物を包含する。好ましい態様においては、本発明の組成物は、単独か又は他の公知の噴射剤と組み合わせて噴霧可能な組成物において溶剤として用いることができる。この溶剤組成物は、本発明の組成物を含み、より好ましくはこれから実質的に構成され、更により好ましくはこれから構成される。幾つかの態様においては、噴霧可能な組成物はエアゾールである。
噴霧する好適な活性材料としては、限定なしに、脱臭剤、香水、ヘアスプレーのような化粧材料、洗浄溶剤、潤滑剤、殺虫剤、及び抗ぜんそく薬のような医薬材料が挙げられる。医薬材料という用語は、本発明においてはその最も広い意味において、治療、診断、鎮痛、及び同様の処置に関して有効であるか、又は少なくとも有効であると考えられるありとあらゆる材料を包含するように用いられ、これは例えば薬物及び生物活性物質を包含する。
本発明の幾つかの好ましい態様においては、ここに記載する組成物は、鉱油、ロジンベースのフラックス、シリコンオイル、潤滑剤等のような種々の汚れを、拭取、蒸気脱脂、又は他の手段によって種々の基材から洗浄する際の溶剤として用いることができる。他の態様においては、本発明の組成物は、蒸気脱脂機において、特に印刷回路基板からハンダフラックス及び他の残渣、及び/又は金属若しくは非金属表面からオイル又はグリースベースの残渣を除去するために用いられる。図1に、かかるプロセスにおいて用いることができる1つのタイプの装置の部分概要図を与える。ここでは、容器5は3つのサンプ10、20、及び30に分割されており、少なくとも当初はここに記載する組成物は全てのサンプ中に与えられる。それぞれのサンプは、異なる寸法のサンプ壁35A及び35Bによって分離されている。示されているように、幾つかの形態においては、壁35A及び35Bによって、サンプ30から溢流する流体がサンプ20中に流入し、サンプ20から溢流する流体がサンプ10中に流入するように配置されている異なる寸法の3つのサンプが形成されている。少なくともサンプ10はヒーター部材40を更に含む。
当初は、サンプ10、20、及び30のそれぞれは全て、ここに記載する組成物と同じ比のそれぞれの成分を含む。しかしながら、時間経過と共に、サンプ10内のヒーター40によって、組成物が、第1の形態の場合には第1及び第3成分の沸点よりも高く、或いは第2の形態の場合には成分(i)よりも高いが、第2成分の沸点よりも低い温度に加熱される。これによって、第1及び第3成分(個々か又は共沸混合物様の組成物として)、或いは第2の形態の場合には成分(i)がサンプ10から沸騰して除去される。これらの蒸気は、最終的にはコイル50上で凝縮し、サンプの少なくとも1つに戻る。幾つかの形態においては、コイルには、上部コイル50Aの群及び下部コイル50Bの群を含ませることができる。サンプ30は、サンプ20に、そして最終的にサンプ10にカスケード状に流入し続ける。このようにすることで、サンプ中の濃度は、サンプ20及び30が、第1の形態の場合にはより多くの第1及び第3成分、第2の形態の場合にはより多くの成分(i)を含み、サンプ10がより多くの第2成分を含むように変化する。
かかる態様においては、サンプ10は、本発明の流体組成物中に浸漬するか、及び/又は本発明の組成物の噴霧流18中で置換し、それによって汚染された液を下方のサンプ10中に落下させることによって、汚染物及び有機洗浄剤を基材(例えば、ロジンベースのフラックス又は他の残渣で覆われた印刷回路基板、或いは石油、合成、又は半合成ベースのオイル又はグリースで覆われた金属又は非金属部品)から洗浄することができる領域を与える。次に、基材をサンプ20及び30内ですすいで部品を洗浄し、不要なデブリスを除去する。部品は、サンプの1つ、特にサンプ20又は30の上方に保持することによるか、及び/又は公知の手段の蒸発を用いて乾燥させることができる。
洗浄する部品又は基材は、公知のコンベヤ又は巻揚げ手段を用いて、サンプ10に、並びにサンプ10、20、及び30の間で移送することができる。タンクは、従来又は公知のインラインコンベヤ使用脱脂/フラックス除去装置、別のオープントップ型フラックス除去タンク、又は洗浄及びすすぎ用のタンク又はサンプを含むように改造されているオープントップ型フラックス除去タンクの一部であってよい。
本発明の幾つかの好ましい形態においては、第1の形態においては(少なくとも部分的に)第1及び第3成分の部分(単独か又は共沸混合物様の組成物として)から形成され、又は第2の形態の場合にはサンプ10から沸騰気化する蒸気ブランケット層下又は蒸気区域45内で部品を乾燥する。幾つかの形態においては、この蒸気区域は第2成分を含まないか、又は実質的に含まない。本明細書において用いる「実質的に含まない」とは、蒸気区域内の第2成分の含量に関する場合には、存在する第2成分の量が、蒸気組成物を非燃焼性にするか、或いはそうでなければ、第2成分が存在しない場合の蒸気区域における燃焼性と比べて蒸気区域の燃焼性が実質的に増加しないか、或いは更により好ましくは容易に測定できない増加を示すのに十分に低いことを意味する。
この蒸気ブランケット層は、第3成分の燃焼性を低下又は減少させ、及び/又は爆発の可能性を最小にするので有利である。しかしながら幾つかの形態においては、これにはまた1種類以上の更なる不活性材料を含ませることもできる。かかる材料としては、窒素、二酸化炭素、ペルフルオロカーボン、ヒドロフルオロカーボン、又はヒドロクロロカーボンの1以上を挙げることができるが、これらに限定されない。
示されているように、蒸気区域45は、それぞれのサンプ10、20、及び30の上方に形成される。場合によっては(例えば米国特許4,261,111(その内容はその全部を参照として本明細書中に包含する)において開示されているような)当該技術において公知のタイプの冷却コイル50によって、蒸気を凝縮して凝縮物をサンプ10、20、又は30、好ましくはサンプ10又は30、最も好ましくはサンプ30に戻す蒸気区域45の最上部の範囲が画定される。蒸気区域45内における第1及び第3成分(単独か又は共沸性の組成物として)又は第2の形態の場合には成分(i)の濃度は、蒸気凝縮物を1つ又は複数のサンプに戻すことか、及び/又は体積若しくはレベル感知変換器(図示せず)を有する制御装置によって流体をサンプ10からサンプ20及び/又は30にポンプ移送することのいずれかによって、容器5内で比較的一定の濃度に維持することができる。
本発明は、上記で議論し、図1に示す3サンプ構成には限定されない。むしろ、2サンプ構成、4サンプ構成も意図される。この目的のために、本発明における教示事項、目的、及び有利性にしたがって、任意の数のサンプを用いることができる。
図1の容器5は、オープントップタイプのフラックス除去装置又は脱脂装置として示されている。しかしながら、容器5は、その概略形態においては、コンベヤ手段(図示せず)を用いて部品をサンプ10からサンプ20及び30へ連続して移送することができる、インラインタイプの脱脂装置又はフラックス除去装置の特徴を有することもできることを理解すべきである。
更なる特徴及び有利性は、本明細書に与えられている開示事項に基づいて当業者に容易に明らかになるであろう。以下の実施例は本発明の幾つかの態様を示すために与える。これらは必ずしも発明を限定するものではない。この目的のために、かかる態様の修正は、少なくとも与えられている開示事項に基づいて当業者に容易に明らかになるであろう。
実施例−第1の形態:
実施例1:
3重量%のメタノール、92〜96重量%のデカフルオロペンタン(Vertrel(登録商標)として商業的に入手できる)、並びに2−エトキシエタノール、2−メトキシエタノール、2−プロポキシエタノール、2−フェノキシエタノール、2−ベンゾキシエタノール、メチルカルビトール、カルビトールセロソルブ、ジエトキシエタン、ジメトキシエタン、及びジブトキシブタンから選択される1〜5重量%のグリコールエーテルを含む混合物を調製した。Kester 44、Alpha reliacore 15、Alpha Energized Plusのような複数の市販の糸ハンダを用いて印刷回路基板をハンダ付けし、次に沸騰している溶剤中で10分間洗浄し、取り出して乾燥した。これらの洗浄した基板は清浄であることが分かった。
実施例2:
3重量%のメタノール、92〜96重量%のヒドロフルオロエーテル(HFE)(Novec(登録商標)7200として商業的に入手できる)、並びに2−エトキシエタノール、2−メトキシエタノール、2−プロポキシエタノール、2−フェノキシエタノール、2−ベンゾキシエタノール、メチルカルビトール、カルビトールセロソルブ、ジエトキシエタン、ジメトキシエタン、及びジブトキシブタンから選択される1〜5重量%のグリコールエーテルを含む混合物を調製した。Kester 44、Alpha reliacore 15、Alpha Energized Plusのような複数の市販の糸ハンダを用いて印刷回路基板をハンダ付けし、次に沸騰している溶剤中で10分間洗浄し、取り出して乾燥した。これらの洗浄した基板は清浄であることが分かった。
実施例3:
3重量%のメタノール及び97重量%のデカフルオロペンタン(VERTREL(登録商標)SFRとして商業的に入手できる)を含む混合物を調製した。次にこの混合物を、このブレンドが80%として、グリコールエーテルの2−ブトキシエタノールが20%として与えられるようにグリコールエーテルの2−ブトキシエタノールと混合した。ハンダペーストのAlpha OM-338PTを用いて印刷回路基板をハンダ付けし、次に沸騰している溶剤中で10分間洗浄し、取り出して乾燥した。これらの基板は清浄であることが分かった。
実施例4:
3重量%のメタノール及び97重量%のヒドロフルオロエーテル(HFE)(Novec(登録商標)7200DAとして商業的に入手できる)を含む混合物を調製した。次にこの混合物を、このブレンドが80%として、グリコールエーテルの2−ブトキシエタノールが20%として与えられるようにグリコールエーテルの2−ブトキシエタノールと混合した。ハンダペーストのAlpha OM-338PTを用いて印刷回路基板をハンダ付けし、次に沸騰している溶剤中で10分間洗浄し、取り出して乾燥した。これらの基板は清浄であることが分かった。
実施例−第2の形態:
実施例1:
3重量%のメタノール、6〜25重量%のトランス−1,2−ジクロロエチレン、及び72〜92重量%のトランス−1233zdを含む混合物を調製した。Kester 44、Alpha reliacore 15、Alpha Energized Plusのような複数の市販の糸ハンダを用いて印刷回路基板をハンダ付けし、次に沸騰している溶剤中で10分間洗浄し、取り出して乾燥した。これらの洗浄した基板を清浄性に関して視認観察した。これらの基板は清浄であることが分かった。
実施例2:
3重量%のメタノール、1〜5重量%のブチルセロソルブ、及び92〜96重量%のトランス−1233zdを含む混合物を調製した。Kester 44、Alpha reliacore 15、Alpha Energized Plusのような複数の市販の糸ハンダを用いて印刷回路基板をハンダ付けし、次に沸騰している溶剤中で10分間洗浄し、取り出して乾燥した。これらの洗浄した基板を清浄性に関して視認観察した。これらの基板は清浄であることが分かった。
実施例3:
3重量%のメタノール、1〜5重量%のd−リモネン、及び92〜96重量%のトランス−1233zdを含む混合物を調製した。Kester 44、Alpha reliacore 15、Alpha Energized Plusのような複数の市販の糸ハンダを用いて印刷回路基板をハンダ付けし、次に沸騰している溶剤中で10分間洗浄し、取り出して乾燥した。これらの洗浄した基板を清浄性に関して視認観察した。これらの基板は清浄であることが分かった。
実施例4:
3重量%のメタノール、6〜25重量%のトランス−1,2−ジクロロエチレン、及び72〜92重量%のトランス−1233zdを含む混合物を調製した。Kester 1544、Kester 197、Kester 186、及びHygrade 209のような複数の市販のハンダフラックスを用いて印刷回路基板をハンダ付けし、次に沸騰している溶剤中で10分間洗浄し、取り出して乾燥した。これらの洗浄した基板を清浄性に関して視認観察した。これらの基板は清浄であることが分かった。
実施例5:
3重量%のメタノール、70〜90重量%のトランス−1,2−ジクロロエチレン、及び10〜30重量%のトランス−1233zdを含む混合物を調製した。Kester 1544、Kester 197、Kester 186、及びHygrade 209のような複数の市販のハンダフラックスを用いて印刷回路基板をハンダ付けし、次に沸騰している溶剤中で10分間洗浄し、取り出して乾燥した。これらの洗浄した基板を清浄性に関して視認観察した。これらの基板は清浄であることが分かった。
実施例6:
3重量%のメタノール、1〜5重量%のブチルセロソルブ、及び92〜96重量%のトランス−1233zdを含む混合物を調製した。Kester 1544、Kester 197、Kester 186、及びHygrade 209のような複数の市販のハンダフラックスを用いて印刷回路基板をハンダ付けし、次に沸騰している溶剤中で10分間洗浄し、取り出して乾燥した。これらの洗浄した基板を清浄性に関して視認観察した。これらの基板は清浄であることが分かった。
実施例7:
3重量%のメタノール、1〜5重量%のd−リモネン、及び92〜96重量%のトランス−1233zdを含む混合物を調製した。Kester 1544、Kester 197、Kester 186、及びHygrade 209のような複数の市販のハンダフラックスを用いて印刷回路基板をハンダ付けし、次に沸騰している溶剤中で10分間洗浄し、取り出して乾燥した。これらの洗浄した基板を清浄性に関して視認観察した。これらの基板は清浄であることが分かった。
実施例8:
3重量%のメタノール、5〜25重量%のトランス−1,2−ジクロロエチレン、及び72〜92重量%のトランス−1233zdを含む混合物を調製した。Indium SMQ51AC、Alpha 390、Indium NC-SMQ92Jような複数の市販のハンダペーストを用いて印刷回路基板をハンダ付けした。この場合には、スクイジーを用いてステンシルを通してハンダペーストを基板上に施し、次に高温エアナイフ中で450°Fに加熱した。次に、これらを沸騰している溶剤中で10分間洗浄し、取り出して乾燥した。これらの洗浄した基板を清浄性に関して視認観察した。これらの基板は清浄であることが分かった。
実施例9:
次の組成物のそれぞれに関して、エアゾールバルブを所定の位置に圧接し、バルブを通してHFC−134aを加えて、約20psigの容器内の圧力を達成した。Kester 1544フラックス、Kester 44、Alpha Reliacore 15、及びAlpha Energized Plus糸ハンダを用いて印刷回路基板をハンダ付けした。次に、混合物を表面上に噴霧して、この混合物がエアゾールとして有用であるかどうかを実証した。場合によっては、エアゾールは異なる共エアゾール剤を有するか、又は共エアゾール剤を有さず、場合によっては、脱臭剤、香料、ヘアスプレー、洗浄溶剤、潤滑剤、殺虫剤、及び医薬材料からなる群から選択される少なくとも1種類の活性成分を有していた。
Figure 2017513711
実施例10:
3重量%のメタノール、エタノール、又はイソプロパノールの1つ、92〜96重量%のトランス−1233zd、並びに2−エトキシエタノール、2−メトキシエタノール、2−プロポキシエタノール、2−フェノキシエタノール、2−ベンゾキシエタノール、メチルカルビトール、カルビトールセロソルブ、ジエトキシエタン、ジメトキシエタン、及びジブトキシブタンから選択される1〜5重量%のグリコールエーテルを含む混合物を調製した。Kester 44、Alpha reliacore 15、Alpha Energized Plusのような複数の市販の糸ハンダを用いて印刷回路基板をハンダ付けし、次に沸騰している溶剤中で10分間洗浄し、取り出して乾燥した。これらの洗浄した基板は清浄であることが分かった。
実施例11:
6〜25重量%のトランス−1,2−ジクロロエチレン及び75〜94重量%のトランス−1233zdを含む混合物を調製した。Kester 44、Alpha reliacore 15、Alpha Energized Plusのような複数の市販の糸ハンダを用いて印刷回路基板をハンダ付けし、次に沸騰している溶剤中で10分間洗浄し、取り出して乾燥した。これらの洗浄した基板は清浄であることが分かった。
実施例12:
1〜5重量%のブチルセロソルブ及び95〜99重量%のトランス−1233zdを含む混合物を調製した。Kester 44、Alpha reliacore 15、Alpha Energized Plusのような複数の市販の糸ハンダを用いて印刷回路基板をハンダ付けし、次に沸騰している溶剤中で10分間洗浄し、取り出して乾燥した。これらの洗浄した基板は清浄であることが分かった。
実施例13:
1〜5重量%のd−リモネン及び95〜99重量%のトランス−1233zdを含む混合物を調製した。Kester 44、Alpha reliacore 15、Alpha Energized Plusのような複数の市販の糸ハンダを用いて印刷回路基板をハンダ付けし、次に沸騰している溶剤中で10分間洗浄し、取り出して乾燥した。これらの洗浄した基板は清浄であることが分かった。
実施例14:
3重量%のメタノール、1〜5重量%のピネン、及び92〜96重量%のトランス−1233zdを含む混合物を調製した。Kester 44、Alpha reliacore 15、Alpha Energized Plusのような複数の市販の糸ハンダを用いて印刷回路基板をハンダ付けし、次に沸騰している溶剤中で10分間洗浄し、取り出して乾燥した。これらの洗浄した基板は清浄であることが分かった。
実施例15:
1〜5重量%のピネン及び95〜99重量%のトランス−1233zdを含む混合物を調製した。Kester 44、Alpha reliacore 15、Alpha Energized Plusのような複数の市販の糸ハンダを用いて印刷回路基板をハンダ付けし、次に沸騰している溶剤中で10分間洗浄し、取り出して乾燥した。これらの洗浄した基板は清浄であることが分かった。
実施例16:
95〜99重量%のトランス−1233zd、並びに2−エトキシエタノール、2−メトキシエタノール、2−プロポキシエタノール、2−フェノキシエタノール、2−ベンゾキシエタノール、メチルカルビトール、カルビトールセロソルブ、ジエトキシエタン、ジメトキシエタン、及びジブトキシブタンから選択される1〜5重量%のグリコールエーテルを含む混合物を調製した。Kester 44、Alpha reliacore 15、Alpha Energized Plusのような複数の市販の糸ハンダを用いて印刷回路基板をハンダ付けし、次に沸騰している溶剤中で10分間洗浄し、取り出して乾燥した。これらの洗浄した基板は清浄であることが分かった。
実施例17:
次の組成物に関して、エアゾールバルブを所定の位置に圧接し、バルブを通してHFO−1234zeを加えて、約20psigの容器内の圧力を達成した。Kester 1544フラックス、Kester 44、Alpha Reliacore 15、及びAlpha Energized Plus糸ハンダを用いて印刷回路基板をハンダ付けした。次に、混合物を表面上に噴霧して、この混合物がエアゾールとして有用であるかどうかを実証した。場合によっては、エアゾールは異なる共エアゾール剤を有するか、又は共エアゾール剤を有さず、場合によっては、脱臭剤、香料、ヘアスプレー、洗浄溶剤、潤滑剤、殺虫剤、及び医薬材料からなる群から選択される少なくとも1種類の活性成分を有していた。
Figure 2017513711
かくして本発明の小数の特定の態様を記載したが、種々の変更、修正、及び改良は当業者が容易に想到できるであろう。かかる変更、修正、及び改良は、本開示によって明らかになるので、本明細書において明確に言及されてはいないが本記載の一部であると意図され、本発明の精神及び範囲内であると意図される。したがって、上記の記載は例のみの目的であり、限定ではない。本発明は、以下の特許請求の範囲及びそれに対する均等範囲において規定されているようにのみ限定される。

Claims (10)

  1. (A)(a)メタノール、エタノール、及びイソプロパノールからなる群から選択されるアルコールを含む第1成分、(b)グリコールエーテル、テルペン、ハロゲン化炭化水素、及びこれらの組合せからなる群から選択される第2成分、並びに(c)ヒドロハロエーテル、デカハロペンタン、及びこれらの組合せからなる群から選択される第3成分を含む液体溶剤組成物中に部品を浸漬し;
    (B)液体溶剤組成物の一部を気化させて、成分(a)及び(c)の気化部分、並びに燃焼性が抑制されたブランケット層が蒸気空間中に存在するのに十分に低い量の成分(b)を含む蒸気空間を形成し;そして
    (C)燃焼性が抑制されたブランケット層内で部品を乾燥する;
    ことを含む、部品から残留汚染物又は表面汚染物質を除去する方法。
  2. 成分(c)が、成分(a)及び(b)、又は成分(a)と(b)の間で形成される共沸混合物又は共沸混合物様の組成物よりも少なくとも10℃高い沸点を有する、請求項1に記載の方法。
  3. 成分(c)が、成分(a)及び(b)、又は成分(a)と(b)の間で形成される共沸混合物又は共沸混合物様の組成物よりも少なくとも25℃高い沸点を有する、請求項1に記載の方法。
  4. 成分(c)が、成分(a)及び(b)、又は成分(a)と(b)の間で形成される共沸混合物又は共沸混合物様の組成物よりも少なくとも50℃高い沸点を有する、請求項1に記載の方法。
  5. (A)(i)1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを含む第1成分、(iii)グリコールエーテル、テルペン、ハロゲン化炭化水素、及びこれらの組合せからなる群から選択される第2成分、並びに場合によっては(iii)ヒドロハロエーテル、デカハロペンタン、及びこれらの組合せからなる群から選択される第3成分を含む液体溶剤組成物中に部品を浸漬し;
    (B)液体溶剤組成物の一部を気化させて、成分(i)及び成分(iii)、並びに存在する場合には燃焼性が抑制されたブランケット層が蒸気空間中に存在するのに十分に低い量の成分(ii)を含む蒸気空間を形成し;そして
    (C)燃焼性が抑制されたブランケット層内で部品を乾燥する;
    ことを含む、部品から残留汚染物又は表面汚染物質を除去する方法。
  6. 成分(ii)が、成分(i)及び存在する場合には成分(iii)の沸点よりも少なくとも10℃高い沸点を有する、請求項5に記載の方法。
  7. 成分(ii)が、成分(i)及び存在する場合には成分(iii)の沸点よりも少なくとも25℃高い沸点を有する、請求項5に記載の方法。
  8. 成分(ii)が、成分(i)及び存在する場合には成分(iii)の沸点よりも少なくとも50℃高い沸点を有する、請求項5に記載の方法。
  9. (a)メタノール、エタノール、及びイソプロパノールからなる群から選択されるアルコールを含む第1成分;
    (b)グリコールエーテル、テルペン、ハロゲン化炭化水素、及びこれらの組合せからなる群から選択される第2成分;
    (c)ヒドロハロエーテル、デカハロペンタン、及びこれらの組合せからなる群から選択される第3成分;
    を含み、第2及び第3成分は同一ではない溶剤組成物。
  10. 噴射剤を用いて噴霧する材料、及び請求項1に記載の組成物を含む溶剤を含む噴霧可能な組成物。
JP2017505061A 2014-04-11 2015-04-07 溶剤蒸気相脱脂及びフラックス除去組成物、方法、装置、及びシステム Pending JP2017513711A (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201461978271P 2014-04-11 2014-04-11
US61/978,271 2014-04-11
US14/678,322 US20150290686A1 (en) 2014-04-11 2015-04-03 Solvent vapor phase degreasing and defluxing compositions, methods, devices and systems
US14/678,322 2015-04-03
PCT/US2015/024652 WO2015157240A1 (en) 2014-04-11 2015-04-07 Solvent vapor phase degreasing and defluxing compositions, methods, devices and systems

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2017513711A true JP2017513711A (ja) 2017-06-01

Family

ID=54288313

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017505061A Pending JP2017513711A (ja) 2014-04-11 2015-04-07 溶剤蒸気相脱脂及びフラックス除去組成物、方法、装置、及びシステム

Country Status (7)

Country Link
EP (1) EP3129165A4 (ja)
JP (1) JP2017513711A (ja)
KR (1) KR20160145620A (ja)
CN (1) CN106457320A (ja)
MX (1) MX2016013283A (ja)
TW (1) TW201604325A (ja)
WO (1) WO2015157240A1 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2017057669A1 (ja) * 2015-09-30 2018-07-26 旭硝子株式会社 洗浄方法、洗浄装置の使用方法および洗浄装置
WO2019208019A1 (ja) * 2018-04-27 2019-10-31 株式会社スリーボンド 洗浄剤組成物、洗浄用エアゾール、汚染部の洗浄方法
JP2020015703A (ja) * 2018-07-27 2020-01-30 株式会社ダイゾー 噴霧用組成物および噴霧製品
JP2021535158A (ja) * 2018-08-31 2021-12-16 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドHoneywell International Inc. トランス−1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを含むパーソナルケア噴霧組成物及び方法
JP2022546468A (ja) * 2019-08-28 2022-11-04 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド トランス-1233zd及びエタノールを含有する不燃性乾性パーソナルケア製品

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2018101324A1 (ja) * 2016-11-30 2019-10-24 Agc株式会社 溶剤組成物およびポリウレタン樹脂の除去方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08506615A (ja) * 1993-06-01 1996-07-16 アライドシグナル・インコーポレーテッド 多重溶剤クリーニング系
WO2001092456A1 (fr) * 2000-06-01 2001-12-06 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Agent, procede et appareil de nettoyage
US20030083220A1 (en) * 1997-07-30 2003-05-01 Kyzen Corporation Low ozone depleting brominated compound mixtures for use in solvent and cleaning applications
JP2003518144A (ja) * 1999-03-22 2003-06-03 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタンの共沸様組成物
WO2005033257A1 (ja) * 2003-10-03 2005-04-14 Asahi Kasei Chemicals Corporation 部分共沸組成物
JP2011520028A (ja) * 2008-05-12 2011-07-14 アーケマ・インコーポレイテッド ヒドロクロロフルオロオレフィン類の組成物
JP2012506944A (ja) * 2008-10-28 2012-03-22 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド 1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを含む共沸混合物様組成物

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5679175A (en) * 1991-06-14 1997-10-21 Petroferm Inc. Cleaning process including use of solvating and rinsing agents
US6355113B1 (en) * 1991-12-02 2002-03-12 3M Innovative Properties Company Multiple solvent cleaning system
JP3209450B2 (ja) * 1992-05-29 2001-09-17 旭硝子株式会社 洗浄用溶剤組成物
EP1491620A1 (en) * 2003-06-27 2004-12-29 S.C. Johnson & Son, Inc. Aerosol composition for spot dry cleaning of fabrics
US9150768B2 (en) * 2008-10-28 2015-10-06 Honeywell International Inc. Azeotrope-like compositions comprising 1-chloro-3,3,3-trifluoropropene
US10335623B2 (en) * 2011-05-19 2019-07-02 Arkema Inc. Non-flammable compositions of chloro-trifluoropropene
US20130090280A1 (en) * 2011-10-06 2013-04-11 Honeywell International Inc. Cleaning compositions and methods

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08506615A (ja) * 1993-06-01 1996-07-16 アライドシグナル・インコーポレーテッド 多重溶剤クリーニング系
US20030083220A1 (en) * 1997-07-30 2003-05-01 Kyzen Corporation Low ozone depleting brominated compound mixtures for use in solvent and cleaning applications
JP2003518144A (ja) * 1999-03-22 2003-06-03 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタンの共沸様組成物
WO2001092456A1 (fr) * 2000-06-01 2001-12-06 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Agent, procede et appareil de nettoyage
WO2005033257A1 (ja) * 2003-10-03 2005-04-14 Asahi Kasei Chemicals Corporation 部分共沸組成物
JP2011520028A (ja) * 2008-05-12 2011-07-14 アーケマ・インコーポレイテッド ヒドロクロロフルオロオレフィン類の組成物
JP2012506944A (ja) * 2008-10-28 2012-03-22 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド 1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを含む共沸混合物様組成物

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2017057669A1 (ja) * 2015-09-30 2018-07-26 旭硝子株式会社 洗浄方法、洗浄装置の使用方法および洗浄装置
JP7045854B2 (ja) 2015-09-30 2022-04-01 Agc株式会社 洗浄方法、洗浄装置の使用方法および洗浄装置
WO2019208019A1 (ja) * 2018-04-27 2019-10-31 株式会社スリーボンド 洗浄剤組成物、洗浄用エアゾール、汚染部の洗浄方法
JPWO2019208019A1 (ja) * 2018-04-27 2021-06-17 株式会社スリーボンド 洗浄剤組成物、洗浄用エアゾール、汚染部の洗浄方法
JP7216302B2 (ja) 2018-04-27 2023-02-01 株式会社スリーボンド 洗浄剤組成物、洗浄用エアゾール、汚染部の洗浄方法
US11898124B2 (en) 2018-04-27 2024-02-13 Threebond Co., Ltd. Cleaner composition, cleaning aerosol, and method for cleaning contaminated part
JP2020015703A (ja) * 2018-07-27 2020-01-30 株式会社ダイゾー 噴霧用組成物および噴霧製品
JP7215841B2 (ja) 2018-07-27 2023-01-31 株式会社ダイゾー 噴霧用組成物および噴霧製品
JP2021535158A (ja) * 2018-08-31 2021-12-16 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドHoneywell International Inc. トランス−1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを含むパーソナルケア噴霧組成物及び方法
JP7423606B2 (ja) 2018-08-31 2024-01-29 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド トランス-1-クロロ-3,3,3-トリフルオロプロペンを含むパーソナルケア噴霧組成物及び方法
JP2022546468A (ja) * 2019-08-28 2022-11-04 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド トランス-1233zd及びエタノールを含有する不燃性乾性パーソナルケア製品
JP7385744B2 (ja) 2019-08-28 2023-11-22 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド トランス-1233zd及びエタノールを含有する不燃性乾性パーソナルケア製品

Also Published As

Publication number Publication date
MX2016013283A (es) 2017-01-18
WO2015157240A1 (en) 2015-10-15
TW201604325A (zh) 2016-02-01
EP3129165A1 (en) 2017-02-15
EP3129165A4 (en) 2018-03-28
KR20160145620A (ko) 2016-12-20
CN106457320A (zh) 2017-02-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1511833B1 (en) Cleaning compositions containing dichloroethylene and six carbon alkoxy substituted perfluoro compounds
JP3396549B2 (ja) ペンタフルオロブタンを含有する組成物及びそれらの使用
JP2017513711A (ja) 溶剤蒸気相脱脂及びフラックス除去組成物、方法、装置、及びシステム
US20170283959A1 (en) Method for cleaning articles using nonflammable, azeotropic or azeotrope-like composition
TWI564284B (zh) 甲基全氟庚烯醚與反二氯乙烯之共沸及類共沸組成物及其用途
EP0739998B1 (en) Azeotropes of octamethyltrisiloxane and aliphatic or alicyclic alcohols
US20180185888A1 (en) Solvent vapor phase degreasing and defluxing compositions, methods, devices and systems
TWI279261B (en) Compositions and methods for cleaning contaminated articles
TW442561B (en) Compositions of 1,1,1,3,3-pentafluoropropane and chlorinated ethylenes
JP3323697B2 (ja) オクタメチルトリシロキサンの共沸混合物を含む及び共沸混合物様組成物を含む組成物並びにこの組成物の使用方法
EP0906408B1 (en) Azeotrope-like compositions of 1,1,1,3,3-pentafluoropropane and c1-c3 alcohols
JP2018529517A (ja) 揮発性化合物の精製及び脱脂を行うためのエネルギー効率のよい方法
EP0701634A1 (en) Multiple solvent cleaning system
JPH06136389A (ja) 共沸及び共沸様組成物と洗浄剤
US5352375A (en) Azeotrope-like compositions of 1,1,1,2,2,3,3,-heptafluoropentane, C1 -C3 alkanol and optionally nitromethane
KR100475415B1 (ko) 1,1,1,3,3-펜타플루오로프로판및c₁­c₃알코올의공비혼합물유사조성물
KR20000016150A (ko) 데카플루오로펜탄 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161012

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180330

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190204

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190208

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20190507

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20190930