JP2017507025A - 部品を基板に実装する方法 - Google Patents
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Abstract
本発明は、有機ジカルボン酸の混合物を含むはんだペーストの使用によって電子部品を基板に実装する方法であって、はんだ堆積物の厚さは25〜200μmである方法に関する。【選択図】図2
Description
本発明は、有機ジカルボン酸の混合物を含むはんだペーストの使用によって電子部品を基板に実装する方法であって、はんだ堆積物の厚さは25〜200μmである方法に関する。
はんだペースト、特に、軟質はんだペーストの主な用途は、例えば半導体産業等における電子回路の製造における用途である。本文脈中、電子部品は、例えば、プリント回路基板等の基板に塗布され、はんだペーストを用いて機械的、電子的、および熱的に基板に接続される。したがって、特に自動化プロセスを考慮した場合、この種の方法および当該方法に使用するはんだペーストの既存の要件は多種多様である。通常、基板の表面ははんだペーストを備え、はんだペーストによって部品への接触が確立される。はんだペーストの加熱により機械的接触がより強固なものとなる。機械的結合以外にも、はんだペーストは、部品と基板との電気的接触を確立させ、かつ/または部品の動作中に生じる熱を放散させる役割を果たすこともできる。
特許文献1は、融解温度が異なる高融点金属およびはんだ金属から作製された少なくとも部分的に金属被覆されたグレインの混合物を含む、拡散はんだ付けプロセスにおいて使用するためのはんだ剤について記述している。
特許文献2は、高エネルギー照射、特にレーザ照射を用いたはんだハンプ(hump)を塗布する方法およびデバイスについて記述している。
特許文献3は、互いから最大400μmの距離を有するはんだボールを用いた導電性物質を基板に塗布する方法およびプロセスに関する。
前記方法特有の難題は、電気的接続箇所とは別に、下側に熱的接続箇所も備えた、例えば、QFP(クオッドフラットパッケージ)等の電子部品である。QFPは、部品の側部に設置されているいわゆる脚の形態の電気的接続箇所を備え、これを用いて部品と基板との電気的接触が確立され、その動作中に生じる部品の熱を放散させる役割を果たす熱的接続箇所を下側に備える。接続箇所の基板への接触は、1つは熱的接続のため、1つは電気的接続のためにそれぞれ異なるはんだペーストを用いて行われる。このプロセスの途中で、熱的接続箇所に導入されるはんだ堆積物は、加熱するとすぐに広がりうる。本文脈中、はんだ粉末粒子は、通常いわゆるはんだボールの形態で電気的接触箇所の方向に外れ、これらの箇所で短絡を引き起こしうる。このことは、特に部品と基板との、例えば電気的接続箇所を介した所定の距離が、相互に接触するためにそれに対応する大量のはんだペーストの使用を必要とする場合に問題となりうる。
したがって、本発明の目的は、部品、特に電気的接続箇所および熱的接続箇所を有する部品を基板に実装する方法であって、部品の基板に対する熱的接続および機械的接続に悪影響を及ぼすことなく短絡の発生を防止するかまたは少なくとも最小限にするように、はんだペーストの広がりおよび望ましくないはんだボールの生成が防止される方法を提供することである。
本発明の範囲において、用語「広がり」とは、加工条件下ではんだペーストが加熱されたときの、部品および/または基板の熱的接続箇所の限界を超えた部品および基板の熱的接続に対するはんだペーストの広がりと、望ましくないはんだボールの生成とを意味すると理解すべきであり、これによりはんだペーストが部品の電気的接続箇所に接触したために短絡が発生する。
本目的は、本発明の独立請求項の主題により達成される。
驚くべきことに、はんだおよびフラックス、特に2種の異なるジカルボン酸の混合物を含むフラックスを含むはんだペーストの使用によって、はんだペーストの広がり、および望ましくないはんだボールの生成、したがって部品の電気的接続箇所における短絡が防止されることが明らかになっている。さらに、部品と基板の間のはんだ堆積物の厚さは広がりを制御するために非常に重要であることもまた明らかになっている。
したがって、本発明の主題の1つは、
i)第1の表面を有し、熱的接続箇所および電気的接続箇所を備えた部品を準備するステップと、
ii)はんだ堆積物を備えた第2の表面を有する基板を準備するステップと、
iii)厚さが25〜200μmのはんだ堆積物を用いて部品の第1の表面を基板の第2の表面に機械的に接触させるステップと、
iv)はんだ堆積物をはんだの液相線温度超まで加熱するステップと
を含む部品を基板に実装する方法であり、はんだ堆積物は、はんだおよびフラックスを含むはんだペーストにより形成され、このフラックスは互いに異なるジカルボン酸Aおよびジカルボン酸Bを含む。以下でより詳細に説明されるであろうはんだ堆積物は、本方法の必須要素である。
i)第1の表面を有し、熱的接続箇所および電気的接続箇所を備えた部品を準備するステップと、
ii)はんだ堆積物を備えた第2の表面を有する基板を準備するステップと、
iii)厚さが25〜200μmのはんだ堆積物を用いて部品の第1の表面を基板の第2の表面に機械的に接触させるステップと、
iv)はんだ堆積物をはんだの液相線温度超まで加熱するステップと
を含む部品を基板に実装する方法であり、はんだ堆積物は、はんだおよびフラックスを含むはんだペーストにより形成され、このフラックスは互いに異なるジカルボン酸Aおよびジカルボン酸Bを含む。以下でより詳細に説明されるであろうはんだ堆積物は、本方法の必須要素である。
a)はんだ堆積物
はんだ堆積物は、はんだおよびフラックスを含むはんだペーストにより形成される。はんだペーストの個々の成分は以下でより詳細に指定される。
はんだ堆積物は、はんだおよびフラックスを含むはんだペーストにより形成される。はんだペーストの個々の成分は以下でより詳細に指定される。
フラックス
フラックスは、はんだペーストの重要な成分であり、主にその流動学的性質を決定付ける。驚くべきことに、部品の基板への実装中の短絡は、2種の異なるジカルボン酸の混合物を含むフラックスが使用されれば防止可能であることが明らかになっている。前記フラックスを含むはんだペーストの使用によって、短絡を起こさずに部品と基板との安定した機械的および熱的接続が確立されることが明らかになっており、またはんだペーストはさらに、良好な加工性および良好な濡れ特性を備えていることが明らかになっている。より詳細には、25〜200μmの範囲の所定の堆積物厚さを有するはんだペーストに関しては優れた特性が明白である。
フラックスは、はんだペーストの重要な成分であり、主にその流動学的性質を決定付ける。驚くべきことに、部品の基板への実装中の短絡は、2種の異なるジカルボン酸の混合物を含むフラックスが使用されれば防止可能であることが明らかになっている。前記フラックスを含むはんだペーストの使用によって、短絡を起こさずに部品と基板との安定した機械的および熱的接続が確立されることが明らかになっており、またはんだペーストはさらに、良好な加工性および良好な濡れ特性を備えていることが明らかになっている。より詳細には、25〜200μmの範囲の所定の堆積物厚さを有するはんだペーストに関しては優れた特性が明白である。
特に良好な結果は、特定の数の炭素原子を含むジカルボン酸を用いて得られた。
したがって、本発明の方法のジカルボン酸Aが5個以上の炭素原子、好ましくは6〜8個の炭素原子、特に6個の炭素原子を含む実施形態が好ましい。特に好ましい実施形態では、ジカルボン酸Aはアジピン酸である。
さらに、さらなる成分として、ジカルボン酸Aよりも少ない数の炭素原子を含むジカルボン酸Bを使用することが有利であると分かっている。
したがって、ジカルボン酸Bは4個以下の炭素原子、特に2個の炭素原子を含む実施形態が好ましい。ジカルボン酸Bがシュウ酸である実施形態が特に好ましい。
驚くべきことに、有利な効果が、特にジカルボン酸Aおよびジカルボン酸Bが互いに対して特定の重量比で存在する場合に生じることもわかっている。
したがって、好ましい実施形態では、ジカルボン酸A対ジカルボン酸Bの重量比は、30:1〜5:1、好ましくは25:1〜7:1、特に20:1〜10:1である。
本発明に係る方法の特に好ましい実施形態では、はんだペーストは、以下の構成成分、すなわち、
a)5〜15重量%のフラックスと、
b)85〜95重量%のはんだと
を含み、重量指定はそれぞれ、はんだペーストの全重量に関し、フラックスは、
i)7〜13重量%のジカルボン酸A、好ましくはアジピン酸、
ii)0.3〜2.0重量%のジカルボン酸B、好ましくはシュウ酸、ならびに
iii)アミン、好ましくは第3級アミノ基を有するジアミンであるアミン成分X、および少なくとも2個のアミノ基が少なくとも3個の炭素原子によって互いに離れており、少なくとも4個の炭素原子を含むジアミンまたはポリアミンであるアミン成分Yから選択されるアミン
を含み、ジカルボン酸の重量指定はそれぞれ、フラックスの全重量に関する。
a)5〜15重量%のフラックスと、
b)85〜95重量%のはんだと
を含み、重量指定はそれぞれ、はんだペーストの全重量に関し、フラックスは、
i)7〜13重量%のジカルボン酸A、好ましくはアジピン酸、
ii)0.3〜2.0重量%のジカルボン酸B、好ましくはシュウ酸、ならびに
iii)アミン、好ましくは第3級アミノ基を有するジアミンであるアミン成分X、および少なくとも2個のアミノ基が少なくとも3個の炭素原子によって互いに離れており、少なくとも4個の炭素原子を含むジアミンまたはポリアミンであるアミン成分Yから選択されるアミン
を含み、ジカルボン酸の重量指定はそれぞれ、フラックスの全重量に関する。
フラックスが、それぞれフラックスの全重量に対して、7〜13重量%、好ましくは8〜12重量%の量のジカルボン酸Aを含む実施形態が特に好ましい。
フラックスが、それぞれフラックスの全重量に対して、0.3〜2.0重量%、好ましくは0.4〜1.5重量%、より好ましくは0.45〜1.0重量%の量のジカルボン酸Bを含有する実施形態もまた好ましい。
アミン成分XおよびYは以下でより詳細に説明される。
アミン成分X
アミン成分Xは、少なくとも1個の第3級アミノ基、好ましくは2個の第3級アミノ基を含むジアミンである。
アミン成分Xは、少なくとも1個の第3級アミノ基、好ましくは2個の第3級アミノ基を含むジアミンである。
好ましい実施形態は、1,2−テトラメチルエチレンジアミン、1,2−テトラエチルエチレンジアミン、および1,2−テトラプロピルエチレンジアミン、例えば、1,2−テトラ−n−プロピルエチレンジアミンおよび1,2−テトラ−イソ−プロピルエチレンジアミンからなる群から選択されるアミン成分Xを有する。第3級アミノ基がそれぞれ2個の同一の置換基を含むジアミンが特に好ましい。
本発明の範囲において、第3級アミンは、その窒素原子が3個の炭素含有置換基を有するアミンであると理解すべきである。
アミン成分Y
アミン成分Yは、アミノ基のうち少なくとも2個が少なくとも3個の炭素原子によって互いに離れており、少なくとも4個の炭素原子を含むジアミンまたはポリアミンである。
アミン成分Yは、アミノ基のうち少なくとも2個が少なくとも3個の炭素原子によって互いに離れており、少なくとも4個の炭素原子を含むジアミンまたはポリアミンである。
アミン成分Yは、2個のアミノ基が少なくとも3個の炭素原子によって互いに離れており、少なくとも4個の炭素原子を含むジアミンである。あるいは、アミン成分Yは、アミノ基のうち少なくとも2個が少なくとも3個の炭素原子によって互いに離れており、少なくとも4個の炭素原子を含むポリアミンである。
さらに、驚くべきことに、アミン成分Yが第1級アミノ基を含む場合、はんだペーストの有利な流動学的性質はよりいっそう改善できることが明らかになっている。
したがって、本発明の好ましい実施形態では、アミン成分Yは少なくとも1個の第1級アミノ基を含む。
好適な実施形態では、アミン成分Yは、N−coco−1,3−ジアミノプロパン、1,6−ジアミノヘキサン、1,7−ジアミノヘプタン、1,8−ジアミノオクタン、1,9−ジアミノノナン、および1,10−ジアミノデカンからなる群から選択される。
さらなる好ましい実施形態では、使用されるアミン、すなわち、アミン成分Xまたはアミン成分Yは第3級および/または第4級炭素原子を一切有しない。
さらなる好ましい実施形態では、アミンは少なくとも6個の炭素原子を含む。本文脈中、炭素原子は、2個のアミノ基の間を繋ぐ鎖として存在することができ、または窒素原子の置換基としてアミノ基に結合できる。
好ましい実施形態では、フラックス中のアミン、すなわち、アミン成分Aおよび/またはアミン成分Bの総量は、それぞれフラックスの全重量に対して、2重量%以下、好ましくは1重量%以下、例えば、0.1重量%〜2.0重量%である。
フラックス中のアミンの量は、好ましくは、はんだペーストの良好な加工性および実装される部品および基板の表面の良好な濡れ性が確保されるように適切に選択される。
したがって、好ましい実施形態では、フラックスは、それぞれフラックスの全重量に対して、0.1〜2.0重量%、好ましくは0.4〜1.0重量%の量のアミン成分Xおよび/またはアミン成分Yを含む。
さらなる好ましい実施形態では、フラックスは、モノアミンをさらに含む。モノアミンは、アミン成Xおよび/またはアミン成分Yに加えて存在する。
モノアミンが第2級および/または第3級モノアミンである場合、特にはんだペーストの加工性および広がり挙動に関して特に良い結果を得ることができる。したがって、好ましい実施形態は、第2級モノアミン、第3級モノアミン、およびこれらの混合物からなる群から選択されるモノアミンを有する。特に好ましくは、モノアミンは第3級モノアミンである。好ましくは、フラックスは、それぞれフラックスの全重量に対して、0.5〜5.5重量%、好ましくは1.0〜5.0重量%の量のモノアミンを含有する。
フラックスが、ジカルボン酸AおよびBとは別に、ジカルボン酸AおよびBと異なるさらなるジカルボン酸を含有する場合、特に有利であると分かっている。
したがって、フラックスが、ジカルボン酸Aおよびジカルボン酸B以外に、それぞれフラックスの全重量に対して、0〜2重量%、好ましくは0.01〜1.0重量%の量のジカルボン酸をさらに含む実施形態が好ましい。
したがって、フラックス中のすべてのジカルボン酸の総量が、それぞれフラックスの全重量に対して、最大15重量%、好ましくは7〜13重量%、特に8〜12重量%である実施形態もまた好ましい。
はんだペーストの濡れ特性および加工性、ならびに他の特性はさらなる添加剤を用いて改善できることが明らかになっている。
したがって、本発明の方法に用いるはんだペーストのフラックスは、それぞれフラックスの全重量に対して、好ましくは0.05〜3.0重量%の量のさらなる添加剤を含む。好ましくは、前記添加剤は、例えば、エトキシ化アミン樹脂、アミン樹脂、樹脂のメチルエステル、n−オレイルサルコシン、オレイルイミダゾリン、およびこれらの混合物等のはんだペーストの濡れ特性を改善する化合物である。
フラックスが、溶媒、特に、以下の、25℃で可溶性のジオール、アルコール、エーテルアルコール、およびケトン、特に、トリメチルプロパノール、1,2−オクタンジオール、1,8−オクタンジオール、2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール、イソ−ボルニルシクロヘキサノン、グリコールエーテル、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、n−デシルアルコール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、テルピネオール、イソプロパノール、およびこれらの混合物からなる群から選択される溶媒をさらに含む実施形態が好ましい。さらなる好ましい実施形態では、グリコールエーテルは、モノ−、ジ−、トリ−プロピレングリコールメチルエーテル、モノ−、ジ−、トリ−プロピレングリコール−n−ブチルエーテル、モノ−、ジ−、トリ−エチレングリコール−n−ブチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、トリエチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコール−ジブチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール−モノヘキシルエーテル、およびこれらの混合物からなる群から選択される。
さらに、フラックスは、対応する用途に必要とされる稠度をはんだペーストに与えるために樹脂を含むことができる。好ましい実施形態では、フラックスは、加えて、樹脂、好ましくは、ロジン、トール油、水素添加ロジン、二量体化ロジン、部分二量体化ロジン、およびこれらの混合物からなる群から選択される樹脂を含有する。
好ましい実施形態では、樹脂は、それぞれフラックスの全重量に対して、35〜50重量%、好ましくは40〜48重量%の量で存在する。本発明の方法の結果は、フラックスが、活性化剤、例えば、接続されるはんだ粉末、部品、および基板の表面を活性化し、したがって部品間のより良好な接続を提供するハロゲン含有化合物を含む場合、よりいっそう改善できる。
したがって、フラックスが、アニリンヒドロクロリド、グルタミン酸ヒドロクロリド、ジエタノールアミンヒドロクロリド、トリエタノールアミンヒドロブロミド、トリエタノールアミンヒドロクロリド、トリエタノールアミンヒドロブロミド、トランス−2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール、およびこれらの混合物からなる群から選択されるハロゲン含有化合物をさらに含有する実施形態が好ましい。
フラックス中のハロゲン含有化合物の量が、フラックスの全重量に対して、5重量%を超えないことが特に有利であると分かっている。したがって、フラックスが、それぞれフラックスの全重量に対して、0.1〜3.0重量%、好ましくは0.5〜2.0重量%の量のハロゲン含有化合物を含有する本発明によるはんだペーストの実施形態が好ましい。
代替的な好ましい実施形態では、本発明の方法で使用されるはんだペーストはハロゲン含有化合物を本質的に含まない。本発明の範囲において、ペーストが、それぞれフラックスの全重量に対して、0.1重量%未満、好ましくは0〜0.09重量%、特に0.01重量%未満または0.005重量%未満の量のハロゲン含有化合物を含むペーストである場合、ペーストはハロゲン含有化合物を本質的に含まないと考えるものとする。
フラックスは、はんだペーストの流動学的性質および濡れ性を改善するために、例えば、増粘剤を含有することができる。好ましい実施形態では、フラックスは、好ましくはエチルセルロース、硬化ヒマシ油、グリセロール−トリス−12−ヒドロキシステアリン、および変性グリセロール−トリス−12−ヒドロキシステアリンからなる群から選択される1種以上の増粘剤をさらに含む。好ましくは、フラックスは、それぞれフラックスの全重量に対して、1.0〜4.0重量%、好ましくは1.7〜3.0重量%の量の増粘剤を含有する。
以下でより詳細に説明されるはんだは、本発明の方法に使用されるはんだペーストのもう1つの重要な成分である。
はんだ
はんだおよびフラックスは、はんだ堆積物を一緒に形成し、このはんだ堆積物により部品の基板への熱的結合が生じる。部品の動作中に生じる熱は前記接続により放散されるため、はんだは、可能であれば限られた電導率と併せて、良好な熱伝導率を有することが望ましい。これらの特性は、その主成分としてスズを含むはんだで特にはっきりとしている。
はんだおよびフラックスは、はんだ堆積物を一緒に形成し、このはんだ堆積物により部品の基板への熱的結合が生じる。部品の動作中に生じる熱は前記接続により放散されるため、はんだは、可能であれば限られた電導率と併せて、良好な熱伝導率を有することが望ましい。これらの特性は、その主成分としてスズを含むはんだで特にはっきりとしている。
したがって、はんだがスズ系はんだである実施形態が好ましい。
本発明の範囲において、スズ系はんだは、少なくとも80重量%、好ましくは少なくとも83重量%、特に85〜90重量%(重量指定はそれぞれ、はんだの全重量に関する)のスズを含むはんだである。
好ましい実施形態では、はんだは、例えば、はんだの液相線温度をそれぞれの用途に有利な範囲に調整するためにスズ以外にさらなる金属を含むことができる。
したがって、はんだが、それぞれはんだの全重量に対して、0.1〜8重量%、好ましくは0.2〜6重量%の量の銀を含む実施形態が好ましい。
さらなる好ましい実施形態では、はんだは、それぞれはんだの全重量に対して、0.1〜1.5重量%、好ましくは0.2〜1.0重量%の量の銅を含む。
はんだが鉛を含まない実施形態もまた好ましい。
はんだペーストは、本発明の方法において使用するのに特に適しており、はんだはその液相線温度超まで加熱され、したがって、部品と基板との間の最適な接続をもたらす。したがって、はんだの液相線温度は、エネルギー技術の理由により、また取り扱いに注意を要する部品および基板を考慮すると高くなりすぎないようにすべきである。
したがって、はんだが200〜250℃の範囲、好ましくは200〜230℃の範囲の液相線温度を有する実施形態が好ましい。
好ましい実施形態では、はんだは、好ましくはIPC−TM−650 2.2.14〜2.2.14.2に従って測定される、15〜50μm、好ましくは20〜45μmの重量平均粒径を有する粉末として存在する。好ましい実施形態では、粉末中の粒子の80〜90%は、15〜50μm、好ましくは20〜45μmのサイズを有する。本発明の範囲において、粒径は、粒子の直線的に延びた最大範囲を指すと理解するものとする。
さらなる好ましい実施形態では、はんだペーストは、それぞれはんだペーストの全重量に対して、80〜97重量%、好ましくは83〜95重量%、特に85〜93重量%の量のはんだを含む。
B)方法
以下で、本発明の方法の個々のステップをより詳細に説明する。
以下で、本発明の方法の個々のステップをより詳細に説明する。
部品は、部品を基板に実装する本発明の方法の第1のステップで準備される。本発明の方法は、熱的接続箇所および電気的接続箇所を備えた部品を基板に実装するのに特に適しており、この接触は、はんだ堆積物を用いて部品の第1の表面と基板の第2の表面により行われる。好ましくは、部品の第1の表面は、銅、銀、金、ニッケル、アルミニウム、スズ、パラジウム、および前記金属の2種以上の合金からなる群から選択される少なくとも1種の金属を含む。
好ましくは、部品は正方形の底面面積を備える。前記底面面積のサイズは好ましくは、3×3〜100×100mm、好ましくは5×5〜80×80mmの範囲である。
さらなる好ましい実施形態では、部品は、クオッドフラットパッケージ(QFP)、例えば、熱分配器を有するバンパー付きクオッドフラットパッケージ(BQFPH)およびヒートシンク付きクオッドフラットパッケージ(HQFP)からなる群から選択される。
はんだ堆積物を備えた基板を第2のステップで準備する。本発明の方法を用いて部品が実装される基板は、第2の表面を備え、これを用いて部品への接触が行われる。好ましくは、基板の第2の表面は、ニッケル、銅、金、銀、アルミニウム、スズ、パラジウム、および前記金属の2種以上の合金からなる群から選択される少なくとも1種の金属を含む。
好ましくは、基板は、金属被覆された基板、すなわち、少なくとも1つの金属表面を備える基板である。本文脈中、基板の基材本体は、セラミック、紙、エポキシ樹脂、または純銅からなることができる。
本発明の方法は特に、はんだ堆積物の塗布および部品のはんだ堆積物に対する機械的接触が自動で行われるプロセスによく適している。迅速かつ正確な作業技術を可能にするために、はんだ堆積物の塗布は、追加の作業ステップなしで迅速に行われることが望ましい。したがって、はんだ堆積物の塗布が、スクリーン印刷、ドクターコーティング、ステンシル印刷、分配または噴射を用いて行われる本方法の実施形態が好ましい。このことにより塗布が正確になり、それにより小型集積回路の製造も可能になる。本文脈中、はんだ堆積物は25〜200μm、好ましくは30〜150μm、例えば、50〜150μmまたは80〜150μmの厚さである。あるいは、はんだ堆積物は、好都合には25〜130μm、特に30〜120μm、または30〜100μmの厚さであってもよい。結果として、部品の基板への最適な熱的結合、したがって部品の最適な冷却が確実に行われる。同様に、この厚さの範囲における選択されたはんだペーストの広がりを少なくし、かつ/または防止できる。
本発明の方法の次のステップでは、部品の第1の表面を、はんだ堆積物を用いて基板の第2の表面に機械的に接触させる。
その後、はんだペーストは、はんだペーストを用いた部品と基板との接続が形成されるように、はんだの液相線温度を超えて加熱される。本文脈中、はんだペーストは好ましくは、はんだペースト、部品、および/または基板が損傷を受けることなく、はんだが液相へと変化するように適切に加熱される。好ましくは、はんだは、はんだの液相線温度よりも5〜60℃、好ましくは10〜50℃高い温度まで加熱される。加熱は、好ましくは加熱プレートを用いて行われる。基板の第2の表面とは反対側の表面が加熱プレートに接触するように、基板が加熱プレートに置かれる。あるいは、はんだは、加熱された成形部品、ブラケット、スタンプ、赤外線ラジエータ、レーザビーム、または蒸気を用いて加熱されることが好都合でありうる。
本発明の方法による基板に実装された部品は、著しく低下した短絡発生率を示す。
したがって、本発明のさらなる主題は、基板に実装され、本発明の方法に従って得ることができるか、または得られる部品である。
本発明は、以下の実施例によってより詳細に説明されるが、以下の実施例は、決して本発明の概念を限定するものとして理解されるべきではない。
本発明の方法を用いて製造される部品を、反毛細管(anti−capillary)試験(AC試験)を使用してさまざまなはんだ堆積物の厚さで評価した。この目的のために、はんだペーストを、QFP部品(例えば、ドイツのInfineon Technologies AG社製)の熱的接続箇所に塗布し、ガラスプレートで覆った。ペーストの挙動が評価できるように、QFP部品の反対の面を200℃の温度の加熱プレートに置いた。実験セットアップを図1に示す。
得られた結果はスコアを用いて評価された。スコア1は非常に良好な結果を表し、スコア2は良好な結果を表した。スコア1および2では、はんだペーストと部品の電気的接触箇所との望ましくない接触による短絡が生じなかった。スコア3は、はんだペーストが部品の電気的接続箇所に接触する程度まで広がった試験に割り当てられた。結果を表2にまとめているが、各試験は、本発明に従って使用されたはんだペースト1と、従来の参考はんだペースト2とを用いて行われた。
表1は、AC試験に使用されるはんだペーストの配合を示しており、はんだペースト1は、本発明に従って使用されたはんだペーストを表し、はんだペースト2は、1種のみのジカルボン酸を含むはんだペーストを表す。
表2から明らかであるように、本発明のはんだペーストは、AC試験で非常に良好な結果および良好な結果を示しているのに対し、従来の参考はんだペースト2の使用は、はんだペーストの過剰な広がりが伴い、したがってAC試験では不十分な結果であった。
図2〜図5は、本発明に従って使用されるはんだペースト1についてのAC試験の結果を示し、表2に示すように、はんだ堆積物はさまざまな厚さで塗布された。図から明らかなように、はんだ堆積物の厚さが100〜160μmの範囲の実験の結果は、非常に良好な試験結果および良好な試験結果をはっきりと示した(図2:100μmのはんだペースト1に対する測定、図3:120μmのはんだペースト1に対する測定、図4:160μmのはんだペースト1に対する測定)。はんだペーストは160μmのはんだ堆積物厚さでは比較的広範囲に広がった(図4)が、部品の電気的接続箇所との望ましくない接触はないため、短絡を防止するのが可能であった。対照的に、25〜200μmの本発明の範囲外の層厚さでは、はんだペーストと部品の電気的接続箇所との接触が生じ、確実に短絡が生じる(図5)。
Claims (15)
- i)第1の表面を有し、熱的接続箇所および電気的接続箇所を備えた部品を準備するステップと、
ii)はんだ堆積物を備えた第2の表面を有する基板を準備するステップと、
iii)厚さが25〜200μmの前記はんだ堆積物を用いて前記部品の前記第1の表面を前記基板の前記第2の表面に機械的に接触させるステップと、
iv)はんだおよびフラックスを含むはんだペーストにより形成され、前記フラックスは互いに異なるジカルボン酸Aおよびジカルボン酸Bを含む前記はんだ堆積物を前記はんだの液相線温度超まで加熱するステップと
を含む、部品を基板に実装する方法。 - ジカルボン酸Aは、5個以上の炭素原子、好ましくは6〜8個の炭素原子、特に6個の炭素原子を含むことを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- ジカルボン酸Bは、4個以下の炭素原子、特に2個の炭素原子を含むことを特徴とする、請求項1〜2のいずれか一項に記載の方法。
- ジカルボン酸A対ジカルボン酸Bの重量比は、30:1〜5:1、好ましくは25:1〜7:1、特に20:1〜10:1であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記はんだペーストは、
a)5〜15重量%のフラックスと、
b)85〜95重量%のはんだと
を含み、重量指定はそれぞれ、前記はんだペーストの全重量に関し、
前記フラックスは、
i)7〜13重量%のジカルボン酸A、好ましくはアジピン酸、
ii)0.3〜2.0重量%のジカルボン酸B、好ましくはシュウ酸、ならびに
iii)アミンであって、好ましくは第3級アミノ基を有するジアミンであるアミン成分X、およびアミノ基のうち少なくとも2個が少なくとも3個の炭素原子によって互いに離れており、少なくとも4個の炭素原子を含むジアミンまたはポリアミンであるアミン成分Yから選択されたアミンであるアミン
を含み、前記ジカルボン酸の重量指定はそれぞれ、前記フラックスの全重量に関することを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。 - アミン成分Xは、1,2−テトラメチルエチレンジアミン、1,2−テトラエチルエチレンジアミン、1,2−テトラプロピルエチレンジアミン、および1,2−テトラ−イソプロピルエチレンジアミンからなる群から選択されることを特徴とする、請求項5に記載の方法。
- アミン成分Yは、N−coco−1,3−ジアミノプロパン、1,6−ジアミノヘキサン、1,7−ジアミノヘプタン、1,8−ジアミノオクタン、1,9−ジアミノノナン、および1,10−ジアミノデカンからなる群から選択されることを特徴とする、請求項5に記載の方法。
- 前記フラックス中のすべてのジカルボン酸の総量は、それぞれ前記フラックスの全重量に対して、最大15重量%、好ましくは7〜13重量%であることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記はんだはスズ系はんだであることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記はんだは、それぞれ前記はんだの全重量に対して、0.1〜8.0重量%、好ましくは0.2〜6重量%の量の銀を含むことを特徴とする、請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法。
- 前記はんだは、それぞれ前記はんだの全重量に対して、0.1〜1.5重量%、好ましくは0.2〜1.0重量%の量の銅を含むことを特徴とする、請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法。
- 前記はんだは、200〜250℃の範囲、好ましくは200〜230℃の範囲の液相線温度を有することを特徴とする、請求項1〜11のいずれか一項に記載の方法。
- 前記部品の表面は、銅、銀、金、ニッケル、アルミニウム、スズ、パラジウム、および前記金属の2種以上の合金からなる群から選択される少なくとも1種の金属を含むことを特徴とする、請求項1〜12のいずれか一項に記載の方法。
- 前記基板の表面は、ニッケル、金、銅、スズ、銀、アルミニウム、パラジウム、および前記金属の2種以上の合金からなる群から選択される少なくとも1種の金属を含むことを特徴とする、請求項1〜13のいずれか一項に記載の方法。
- 基板に実装され、請求項1〜14のいずれか一項に記載の方法に従って得ることができる部品。
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