JP2017219833A - リソグラフィ方法、決定方法、情報処理装置、プログラム及び物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図2(a)は、第1層における複数の第1ショット領域SR1の配列の一例を示す図である。図2(a)には、第1ショット領域SR1のそれぞれを走査露光する際の走査方向が矢印で示されている。図2(b)は、第2層における複数の第2ショット領域SR2の配列の一例を示す図である。図2(a)及び図2(b)を参照するに、第1ショット領域SR1のサイズと第2ショット領域SR2のサイズとは異なり、ここでは、第2ショット領域SR2は、4つの第1ショット領域SR1を含むサイズに対応するサイズを有する。
図5(a)は、第1層における複数の第1ショット領域SR1の配列の一例を示す図である。図5(a)には、第1ショット領域SR1のそれぞれを走査露光する際の走査方向が矢印で示されている。図5(b)は、第2層における複数の第2ショット領域SR2の配列の一例を示す図である。図5(a)及び図5(b)を参照するに、第1ショット領域SR1のサイズと第2ショット領域SR2のサイズとは異なり、ここでは、第2ショット領域SR2は、2つの第1ショット領域SR1を含むサイズに対応するサイズを有する。
第1処理において第1ショット領域SR1を走査露光する際には、ショット領域の走査方向に依存する露光誤差を補正する補正テーブル(RSP)を、本実施形態で決定された走査方向に応じて選択するとよい。そして、第1処理では、選択された補正テーブルを用いて第1ショット領域SR1を走査露光する。
ショットレイアウトにおいては、図10に示すように、第2ショット領域SR2の位置によって、第2ショット領域SR2に含まれる第1ショット領域SR1の数が異なる場合がある。例えば、基板の中央部の第2ショット領域SR2aには4つの第1ショット領域SR1が含まれているが、基板の周辺部の第2ショット領域SR2bには2つの第1ショット領域SR1しか含まれていない。また、基板の周辺部の第2ショット領域SR2cには1つの第1ショット領域SR1しか含まれていない。第2ショット領域SR2b及びSR2c(パーシャルショット領域)にインプリント処理を行う場合には、第2ショット領域SR2a(コンプリートショット領域)にインプリント処理を行う場合と異なり、特有の歪みが発生する。このような特有の歪みに対応するために、第1ショット領域SR1のそれぞれを走査露光する際には、本実施形態で決定された走査方向に加えて、第2ショット領域SR2に含まれている第1ショット領域SR1の数に応じて、補正テーブルを選択するとよい。換言すれば、第1ショット領域SR1を走査露光する際の走査方向が同じであっても、第2ショット領域SR2に含まれている第1ショット領域SR1の数に応じて、第2処理で用いる補正テーブルを変更するとよい。これにより、第1ショット領域SR1を走査露光する際の走査方向に依存する露光誤差をより高精度に補正することができる。
また、ショットレイアウトにおいては、図11(a)及び図11(b)に示すように、第2ショット領域SR2の位置によって、第2ショット領域SR2に含まれる第1ショット領域SR1の数が異なる場合がある。例えば、基板の周辺部の第2ショット領域SR2d(パーシャルショット領域)には、図11(b)に示すように、1乃至3つの第1ショット領域SR1しか含まれていない。通常は、図11(a)に示すように、第2ショット領域SR2dに対しても、第2ショット領域SR2aと同様のショットレイアウト(図10参照)となるように、走査方向を合わせて走査露光を行う。但し、第2ショット領域SR2dについては、第2サイズの第2ショット領域SR2にインプリント処理を行う際の特性を考慮して、他のショット領域と走査方向を変えることも可能である。例えば、第2ショット領域SR2dにおけるインプリント材へのモールドの押印では、インプリント材のはみ出しを考慮して、他のショット領域と異なる力のかけ方や、異なる硬化のさせ方を行う場合がある。従って、図11(b)に示すように、特定のショット領域、即ち、第2ショット領域SR2dでは、あえて走査方向を、他のショット領域と変えて走査露光を行ってもよい。
Claims (13)
- 第1サイズを有する複数の第1ショット領域の配列を有する第1層を走査露光を含む工程によって形成する第1処理と、少なくとも2つの前記第1ショット領域を含むサイズに対応する第2サイズを有する複数の第2ショット領域の配列を有する第2層を形成する第2処理とにより、前記第1層と前記第2層とを重ね合わせて基板上に形成するリソグラフィ方法であって、
前記第1ショット領域の配列を示す第1レイアウト情報と、前記第2ショット領域の配列を示す第2レイアウト情報とを取得する第1工程と、
前記第1レイアウト情報及び前記第2レイアウト情報に基づいて、前記第1ショット領域のそれぞれについて、前記第1処理において当該第1ショット領域を走査露光する際の走査方向を決定する第2工程と、を有し、
前記第2工程では、前記第1処理における前記第2ショット領域に含まれる少なくとも2つの前記第1ショット領域のそれぞれと前記走査方向との組み合わせが、前記第2ショット領域のうちの少なくとも一部において同じになるように、前記走査方向を決定することを特徴とするリソグラフィ方法。 - 前記第2工程では、前記第1処理における前記組み合わせが、前記第2ショット領域の全てにおいて同じになるように、前記走査方向を決定することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ方法。
- 前記第1層を形成するためのレシピに含まれる前記第1ショット領域のそれぞれを走査露光する際の走査方向を、前記第2工程で決定された前記走査方向に変更する工程を更に有することを特徴とする請求項1又は2に記載のリソグラフィ方法。
- 前記第1ショット領域のそれぞれを走査露光する際の走査方向が前記第2工程で決定された前記走査方向となるように、前記第1層を形成するためのレシピに含まれる前記第1ショット領域を走査露光する露光順番を変更する工程を更に有することを特徴とする請求項1又は2に記載のリソグラフィ方法。
- 前記第1ショット領域のそれぞれを走査露光する際の走査方向が前記第2工程で決定された前記走査方向となるように、前記第1層を形成するためのレシピに含まれる前記第1ショット領域の間の前記基板の移動経路を変更する工程を更に有することを特徴とする請求項1又は2に記載のリソグラフィ方法。
- 前記第1ショット領域を走査露光する際の走査方向に依存する露光誤差を補正するための補正テーブルを、前記第1ショット領域のそれぞれについて、前記第2工程で決定された前記走査方向に応じて選択する工程を更に有し、
前記第1処理では、前記工程で選択された補正テーブルを用いて前記第1ショット領域を走査露光することを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ方法。 - 前記補正テーブルを選択する工程では、前記第2工程で決定された前記走査方向に加えて、前記第2ショット領域に含まれている前記第1ショット領域の数に応じて、前記補正テーブルを選択することを特徴とする請求項6に記載のリソグラフィ方法。
- 前記第1処理と前記第2処理とでは、異なるリソグラフィ装置を用いることを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ方法。
- 前記第2処理では、基板上のインプリント材にモールドを接触させてパターンを形成するインプリント装置により前記第2層を形成することを特徴とする請求項8に記載のリソグラフィ方法。
- 第1サイズを有する複数の第1ショット領域の配列を有する第1層を走査露光を含む工程によって形成する第1処理と、少なくとも2つの前記第1ショット領域を含むサイズに対応する第2サイズを有する複数の第2ショット領域の配列を有する第2層を形成する第2処理とにより、前記第1層と前記第2層とを重ね合わせて基板上に形成する際の前記第1ショット領域のそれぞれを走査露光する際の走査方向を決定する決定方法であって、
前記第1ショット領域の配列を示す第1レイアウト情報と、前記第2ショット領域の配列を示す第2レイアウト情報とを取得する第1工程と、
前記第1レイアウト情報及び前記第2レイアウト情報に基づいて、前記第1ショット領域のそれぞれについて、前記第1処理において当該第1ショット領域を走査露光する際の走査方向を決定する第2工程と、を有し、
前記第2工程では、前記第1処理における前記第2ショット領域に含まれる少なくとも2つの前記第1ショット領域のそれぞれと前記走査方向との組み合わせが、前記第2ショット領域のうちの少なくとも一部において同じになるように、前記走査方向を決定することを特徴とする決定方法。 - 請求項10に記載の決定方法を実行することを特徴とする情報処理装置。
- 請求項10に記載の決定方法を情報処理装置に実行させるためのプログラム。
- 請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ方法を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
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