JP2017209827A - ガイド光機能付き刻印機およびガイド光機能付き刻印機による打刻方法 - Google Patents
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Description
このマーキング装置を用いて機械部品に印字を行うには、圧縮性流体を利用してピストンおよびスタイラスを振動させてワーク表面の規定位置に打刻し、このスタイラスを振動ペンごと移動させながら必要な位置毎に打刻を繰り返す。この操作により、機械部品の被刻印面の必要な位置に文字、数字、記号などをマーキングすることができる。また、スタイラスを一ヵ所で振動させるとその部分にドットが形成されるので、そのドットを所定のパターンになるように複数形成することにより、いわゆる二次元コードを形成することができる。
図4では一例として打刻動作により形成したドット103の集合体により、ワークの被刻印面102にアルファベット文字Aを描こうとしている状態を示している。
このような背景から、従来、下記の特許文献2に示すようにワークを撮像する画像処理カメラを備え、画像処理カメラで得られた画像処理情報に基づいて刻印機のスタイラス先端位置を調整する刻印機が提案されている。
しかし、特許文献2に記載の技術によれば、ワーク画像の撮影とその画像の解析、並びにワークの厚み測定とワーク厚みに合わせたワーク上下位置の調節に時間がかかり、大量のワークに刻印する場合に迅速な処理が難しい問題があった。このため、より簡単な処理で迅速にスタイラスの上下位置決めが可能な刻印機の提供が望まれている。
本発明のガイド光機能付き刻印機は、ワーク被刻印面の面方向に沿って移動自在かつワーク被刻印面に対し接近離間する方向に移動自在に加工ヘッドが設けられ、前記加工ヘッドの先端部に前記ワーク被刻印面に打刻するためのスタイラスが設けられ、前記加工ヘッドが互いに直交するX軸方向とY軸方向に移動自在に、かつ、前記X軸方向とY軸方向に直交するZ軸方向に移動自在に設けられ、前記スタイラスの軸線方向が前記Z軸方向に一致され、前記ワーク被刻印面が前記Z軸と交差する向きに配置される刻印機であって、前記加工ヘッドの周囲において前記X軸方向の一側と前記Y軸方向の一側に、それぞれ前記スタイラス先端前方の標準打刻位置に向けて前記加工ヘッドの側方から前記スタイラスの延長軸線に対し所定の傾斜角度で斜め向きに検査光を照射し、前記加工ヘッドとともに移動する2つ以上の光源が取り付けられ、前記複数の光源のうち、1つの光源からの検査光と前記他の光源からの検査光が、前記ワーク被刻印面上にそれぞれの検査光による投影図形を描く検査光であり、かつ、前記検査光の前記延長軸線に対する照射角度が等しくされるとともに、前記1つの光源と前記他の光源のうち、少なくとも1つの光源から前記ワーク被刻印面に照射される投射図形に前記X軸に平行な長さと前記Y軸に平行な幅を有する図形が含まれ、他の光源から前記ワーク被刻印面に照射される投射図形に前記Y軸に平行な長さと前記X軸に平行な幅を有する図形が含まれ、前記標準打刻位置に前記ワーク被刻印面を位置合わせさせた場合に前記複数の投射図形がそれらの長さ方向中央部で重ねられる検査光とされたことを特徴とする。
スタイラスの打刻位置は、スタイラスの真上から見るのが正確であるがスタイラスの真上にはヘッドや装置自体があってスタイラスの真上から打刻位置を見ることができないため、斜めから覗くこととなる。斜めから覗いた場合、スタイラス先端側の打刻位置を正確に把握するのは難しい。この点において、2つ以上の光源からの投影図形が重なった位置の中央が打刻位置となるのでワーク被刻印面上の打刻点の正確な位置確認ができ、打刻位置の正確な位置決めができる。
このため、ワーク被刻印面に対し望ましい距離に配置したスタイラスを用いて正確な位置にワーク被刻印面に対し高品質の打刻ができる。即ち、本発明の刻印機により鮮明な文字やバーコードなど、表示品質の良好な打刻を目的の位置に正確に形成できる。
1つの光源と他の光源で検査光の入射角度を等しくしておくと、被刻印面に対するスタイラス先端の距離を調節する際、スタイラスの移動に合わせて被刻印面上を投影図形が均等距離移動するので、投影図形どうしの位置合わせを行ってスタイラスの位置調節を行うことが容易にできる。
スタイラスの移動により−形状の投影図形どうしの位置合わせを行ってX軸方向の−印とY軸方向の−印を含む図形にすることで被刻印面に対するスタイラス先端の位置決めができる。また、−形状の投影図形の傾き状態により被刻印面に対するスタイラスの傾き不良、X軸とY軸の向きの不良なども把握できる。
更に、ワークとの距離が変わった場合、合成投影図形の+印のバランスが崩れたり、合成投影図形がL型になるが、−形状の投影図形と−形状の投影図形の交点が常にスタイラスの打刻点を示す。このため、打刻点を確実に把握できる。
また、−形状の長さを適宜選択することで、−形状の投影図形と−形状の投影図形が重なっている範囲を被刻印面に対するスタイラス先端の位置決め許容範囲に調整することができる。
図1〜図3は第一実施形態のガイド光機能付き刻印機を示すもので、この実施形態の刻印機Aは、図示略の3軸ステージ機構などの駆動機構により加工ヘッド1を水平方向のX軸方向とY軸方向に移動自在に、かつ、鉛直方向のZ軸方向に沿って移動自在に支持されている。なお、この実施形態ではX軸方向とY軸方向を水平面に沿う方向、Z軸方向を鉛直方向として説明するが、これらの方向に限定するものではなく、例えば、Z軸を水平横向き方向として、X軸かY軸を鉛直方向としても良い。
3軸ステージ機構はX軸とY軸とZ軸のそれぞれの軸に沿って移動自在にステージが設けられ、それらの各軸のステージを支持する支柱や支持体、アクチュエーターなどを備えて構成される公知の駆動機構である。各軸をスクリュウ軸としてスクリュウ軸に沿ってステージが移動される機構、各軸に取り付けられたリニアアクチュエーターによってステージが移動される機構など公知の種々の機構があるが、本実施形態では加工ヘッド1をX軸方向とY軸方向とZ軸方向に3軸移動できる構造であれば、公知の範囲でいずれの構造の3軸ステージ機構を用いても良い。XYZ軸に沿う方向に加工ヘッド1を移動するステージ機構は、XYZ軸に沿う方向それぞれ設けられた案内レールに加工ヘッドを支持するステージ(架台)を備え、各ステージを案内レールに沿って移動自在に支持した一般的な3軸ステージ機構を広く採用することができる。
駆動部2の一般的な構造は、シリンダーと、該シリンダーに往復移動自在に取り付けられたピストンと、該ピストンの先端側に取り付けられたスタイラス装着部と、前記ピストンの基端側に備えられて前記ピストンをその長手方向に振動させる振動手段とを具備してなる。スタイラス3は前記ピストンに接続されるスタイラス本体と、スタイラス本体の先端側に取り付けられて被加工体に打ち付けられる超硬、多結晶ダイヤモンド焼結体または立方晶窒化ホウ素などの硬質材料からなる打刻体からなる。
ここでは駆動部2の構造について詳述はしないが、シリンダーの往復移動に応じてスタイラスをその軸方向に振動させて打刻を行うことができる構造が一例として適用される。駆動部2の具体例として、特許文献1に記載されている構造を適用することができる。また、ピストンを往復駆動する機構は空気圧を利用した往復駆動機構を用いることができるが、電磁力を利用したスタイラスの往復駆動機構を適用しても良い。
スタイラス3の先端部3aをその下方に設置されるワークの被刻印面5に打ち付けることによりドット形状をワークに打刻することができ、3軸ステージ機構によってワークの被刻印面7に対するドット形状の打刻位置を順次変更することで文字やバーコードなどの刻印ができるようになっている。文字やバーコードなどの刻印ができる点については図4を基に説明した従来のマーキング装置Mと同等であり、一例として図4に示すように打刻したドット103の集合体としてアルファベット文字を刻印することができる。
図1に示す刻印機Aにおいて、スタイラス3の中心軸線が鉛直向きに設置され、スタイラス3の中心軸線はZ軸と一致されている。また、Z軸と直角な軸としてX軸とY軸が規定され、X軸とY軸は水平面に沿って加工ヘッド1の中心部で互いに直角に交わる軸として規定される。
図1はスタイラス3の下方の適切な位置にワーク被刻印面7が配置されている場合において、光源5、6からワーク被刻印面7に対し検知光8、9を照射した状態が示されている。
この実施形態の光源5は、内部に発光源を有し、斜め下向きに配置された端面側に光を細長い帯状に絞って通過させるスリッターと窓部が発光源の下方に位置するように設けられ、光源5の下向きの端面から横断面−型の細長いビーム形状の検査光8を斜め下向きに照射できるように構成されている。また、光源6も光源5と同様に内部に発光源を有し、斜め下向きに配置された端面側に光を細長い帯状に絞って通過させるスリッターと窓部が設けられ、下向きの端面から横断面−型の細長いビーム形状の検査光9を斜め下方向きに照射できるように構成されている。
なお、この実施形態の光源5、6は、内部に必ずしも発光源を備えている必要は無く、必要な検知光8、9を出射できればよい。このため、発光源を別の位置、例えば加工ヘッド1の一部や内部に備えて光ファイバ等の導光部材を支持軸5a、6aに沿って設けて検知光を案内し、検知光8、9を光源5、6の先端部から目的の方向に出射できるように構成しても良い。
図1に示す場合、光源6から照射される検知光9の中心の光軸9aとZ軸とのなす角度(入射角)θは一例として45゜前後の角度とされ、ワーク被刻印面7とZ軸とが交差する点に対し検知光9を投影して生成する投影図形11はY軸に沿う−形状とされる。図1に示す状態において投影図形11の長さ方向中心位置がZ軸と一致されている。
以上説明のように光源5と光源6は、加工ヘッド1の周回りに90゜間隔で配置され、光源5、6からそれぞれ斜め下方向きに−形状の検知光8、9を照射できるように構成されている。
また、図1に示す状態において検知光8が被刻印面7上に形成する−型の投影図形10の長さは5mm〜10mm程度、投影図形10の幅は0.5mm〜1.0mm程度、検知光9が形成する−型の投影図形11の長さは5mm〜10mm程度、投影図形11の幅は0.5mm〜1.0mm程度に形成されることが好ましい。−型の投影図形の長さはZ軸方向のマーキング範囲と同等程度であることが望ましい。これらの図形が交差する範囲をZ軸方向のマーキング範囲と同等にしておけば、交差していない位置にワークが存在していた場合、マーキングができない位置にワークがあることを一目で認識できる。十字型を認識容易な寸法として考慮すると、幅の5倍以上の長さを有することが好ましい。
図1に示すようにスタイラス3の先端とワーク被刻印面7との間隔(距離)が適正距離aになっている場合、投影図形10、11の中心がZ軸方向の刻印範囲の中心となるように光源5、6が配置されている。一例として、スタイラス3のZ軸方向の刻印可能範囲を5mmと設定し、投影図形10(あるいは投影図形11)の長さを5mm、検知光8、9の入射角θを45゜とするならば、ワーク被刻印面7を±2.5mmZ軸方向(上下方向)に移動させた範囲内において、投影図形10、11が交差した状態が保持される。
即ち、スタイラス3の先端とワーク被刻印面7との間隔(距離)が適正距離aにある場合、光源5の検知光8による−印と光源6の検知光9による−印がそれぞれの長さ方向中央部で交わって+印となる。
しかし、スタイラス3の先端とワーク被刻印面7との間隔(距離)が接近し過ぎた場合、例えば図2に示す如く間隔(距離)bとなった場合、検知光8が描く−印はX軸の矢印方向(正方向)に移動して原点(被刻印面7上のX軸とY軸とZ軸の交点)から外れ、検知光9が描く−印はY軸の矢印方向(正方向)に移動して原点から外れる。また、スタイラス3の先端とワーク被刻印面7との間隔(距離)が離間し過ぎた場合、例えば図3に示す如く間隔cとなった場合、検知光8が描く−印はX軸の反矢印方向(負方向)に移動して原点から外れ、検知光9が描く−印はY軸の反矢印方向(負方向)に移動して原点から外れる。
即ち、図1に示す構造を採用した場合、ワーク被刻印面7を±2.5mmZ軸方向に移動させた範囲内において、検知光8による投影図形10(−印)と検知光9による投影図形(−印)が交わる交点が常にZ軸と一致するので、ワーク被刻印面7がZ軸方向に±2.5mm移動する範囲内であれば検知光8による投影図形10(−印)と検知光9による投影図形11(−印)の交点がスタイラス3による打刻位置を正確に示すこととなる。
光源5、6を加工ヘッド1の周回りに90゜間隔で配置し、検知光8、9の入射角θを同一にしているので、上述の関係が成立する。したがって、本実施形態の刻印機Aを用いることで被刻印面7上の打刻位置を投影図形10と投影図形11の交点位置として正確に把握することができる。
スタイラス3の打刻位置は、スタイラス3の真上から見るのが正確であるがスタイラス3の真上には加工ヘッド1aや装置自体があってスタイラス3の真上から打刻位置を見ることができないため、斜めから覗くこととなる。斜めから覗いた場合、ワーク被刻印面7においてスタイラス先端側の打刻位置を正確に把握するのは難しい。この点において、2つの光源5、6からの投影図形10、11が重なった位置の中央が打刻位置となるのでワーク被刻印面上の打刻点の正確な位置確認ができ、打刻位置の正確な位置決めができる。
このため、ワーク被刻印面に対し望ましい距離に配置し、望ましい位置と方向に配置したスタイラス3を用いて正確な位置にワーク被刻印面に対し高品質の打刻ができる。即ち、本発明の刻印機Aにより鮮明な文字やバーコードなど、表示品質の良好な打刻を目的の位置に正確に形成できる。
なお、検知光8、9の入射角θを45゜前後以外の入射角度に設定するとスタイラス3のZ軸方向の移動距離=投影図形10、11の移動距離の関係とはならなくなるが、スタイラス3のZ軸方向の移動距離:投影図形10(あるいは投影図形11)の移動距離=1:2の関係などに調整することも可能となる。
刻印機Aによってワーク被刻印面7に対し正確で綺麗な質の高い刻印を行うためには刻印機Aのスタイラス3の先端とワーク被刻印面7との間隔(距離)を目的の範囲内に調整する必要がある。これは、刻印機Aのスタイラス3が上下方向(スタイラス3の軸方向前後)に振動し、この振動の有効範囲内にワーク被刻印面7の高さ位置を揃えて位置決めする必要があることによる。
スタイラス3の先端とワーク被刻印面7との距離(間隔)が目的の値より遠い(広い)場合、図3に示すように、検知光8がワーク被刻印面7上に生成する投影図形10はX軸に沿って光源5から遠い側に位置し、ワーク被刻印面7をZ軸が通過する点から外れる。また、検知光9がワーク被刻印面7上に生成する投影図形11もY軸に沿って光源6から遠い側に位置し、ワーク被刻印面7をZ軸が通過する点から外れる。
例えば、ワーク被刻印面7上の2つの投影図形10、11の交差する位置を打刻点として把握し、2つの投影図形の重なり状態におけるワーク上のX軸とY軸に対する傾きを把握して該傾きを無くするようにワークの位置を修正してワークの被刻印面7に対する位置決めを完了した後、スタイラス3でワーク被刻印面7に打刻することができる。例えば、ワーク上の刻印対象範囲が機銘板となっている場合、機銘板には矩形枠が形成されているので、この矩形枠がX軸およびY軸と合致するようにワークの向きを調整することで矩形枠に沿って打刻方向を正確に調整できる。
次に、−印と−印の投影図形であれば、決まった幅、高さの平行光がガイド光となっているので、投影画像の形の変化でワークとの距離調整ができる利点を有する。
例えば、投影図形10、11は、+印、○印、△印、□印などの図形でも良く、一方が+印で他方が○印の組み合わせでも良い。また、投影図形10、11の大きさは同じである必要は無く、一方が大きく、他方が小さい形状でも良い。例えば、投影図形10を大きな○印、他方を小さな○印あるいは+印として大きな○印の範囲内に小さな○印あるいは+印が入っている範囲をスタイラス3と被刻印面7との適正距離範囲と設定できる構造としても良い。
Claims (4)
- ワーク被刻印面の面方向に沿って移動自在かつワーク被刻印面に対し接近離間する方向に移動自在に加工ヘッドが設けられ、前記加工ヘッドの先端部に前記ワーク被刻印面に打刻するためのスタイラスが設けられ、前記加工ヘッドが互いに直交するX軸方向とY軸方向に移動自在に、かつ、前記X軸方向とY軸方向に直交するZ軸方向に移動自在に設けられ、前記スタイラスの軸線方向が前記Z軸方向に一致され、前記ワーク被刻印面が前記Z軸と交差する向きに配置される刻印機であって、
前記加工ヘッドの周囲において前記X軸方向の一側と前記Y軸方向の一側に、それぞれ前記スタイラス先端前方の標準打刻位置に向けて前記加工ヘッドの側方から前記スタイラスの延長軸線に対し所定の傾斜角度で斜め向きに検査光を照射し、前記加工ヘッドとともに移動する2つ以上の光源が取り付けられ、
前記複数の光源のうち、1つの光源からの検査光と前記他の光源からの検査光が、前記ワーク被刻印面上にそれぞれの検査光による投影図形を描く検査光であり、かつ、前記検査光の前記延長軸線に対する照射角度が等しくされるとともに、
前記1つの光源と前記他の光源のうち、少なくとも1つの光源から前記ワーク被刻印面に照射される投射図形に前記X軸に平行な長さと前記Y軸に平行な幅を有する図形が含まれ、他の光源から前記ワーク被刻印面に照射される投射図形に前記Y軸に平行な長さと前記X軸に平行な幅を有する図形が含まれ、前記標準打刻位置に前記ワーク被刻印面を位置合わせさせた場合に前記複数の投射図形がそれらの長さ方向中央部で重ねられる検査光とされたことを特徴とするガイド光機能付き刻印機。 - 前記1つの光源と前記他の光源から前記標準打刻位置に照射される検査光の前記スタイラスの延長軸線を基準とする入射角度が等しくされたことを特徴とする請求項1に記載のガイド光機能付き刻印機。
- 前記1つの光源から前記ワーク被刻印面に投射される検査光による投射図形がX軸に沿う−形状を含む図形であり、前記他の光源から前記ワーク被刻印面に投射される検査光による投射図形がY軸に沿う−形状を含む図形であり、前記位置合わせ時に前記複数の投射図形から形成される合成投射図形がX軸方向の−印とY軸方向の−印を含む図形であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のガイド光機能付き刻印機。
- ワーク被刻印面の面方向に沿って移動自在かつワーク被刻印面に対し接近離間する方向に移動自在に加工ヘッドが設けられ、前記加工ヘッドの先端部に前記ワーク被刻印面に打刻するためのスタイラスが設けられ、前記加工ヘッドが互いに直交するX軸方向とY軸方向に移動自在に、かつ、前記X軸方向とY軸方向に直交するZ軸方向に移動自在に設けられ、前記スタイラスの軸線方向が前記Z軸方向に一致され、前記ワーク被刻印面が前記Z軸と交差する向きに配置される刻印機であって、
前記加工ヘッドの周囲において前記X軸方向の一側と前記Y軸方向の一側に、それぞれ前記スタイラス先端前方の標準打刻位置に向けて前記加工ヘッドの側方から前記スタイラスの延長軸線に対し所定の傾斜角度で斜め向きに検査光を照射し、前記加工ヘッドとともに移動する2つ以上の光源が取り付けられた刻印機を用いて打刻を行う方法であって、
前記1つの光源から前記ワーク被刻印面に照射される投射図形に前記X軸に平行な長さと前記Y軸に平行な幅を有する図形を含む検査光を照射し、
前記他の光源から前記ワーク被刻印面に照射される投射図形に前記Y軸に平行な長さと前記X軸に平行な幅を有する図形を含む検査光を照射し、
前記標準打刻位置に前記ワーク被刻印面を位置合わせさせた場合に前記複数の投射図形を重ねる向きに前記検査光の照射角度を調節し、
前記ワーク被刻印面を前記スタイラスの延長軸線方向に沿って移動させて前記ワーク被刻印面上の複数の投射図形が重なる位置を調整し、前記複数の投影図形の交差する位置を打刻点として把握し、前記複数の投影図形の重なり状態における各投影図形の前記X軸とY軸に対する傾きを把握して該傾きを無くするように前記ワークの位置を修正して前記ワークの被刻印面に対する位置決めを完了した後、前記スタイラスで前記ワーク被刻印面に打刻することを特徴とするガイド光機能付き刻印機による打刻方法。
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