JP2017207588A - 半導体光変調素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】SI−InP基板201上にn−InP下部クラッド層202、光を閉じ込め伝搬させるためのノンドープ半導体コア層203、p−InP上部クラッド層204で構成される層構造を持ち、メサ状の光導波路が形成されている。また、p−InP上部クラッド層204上には変調信号が印加されるシグナル電極206、n−InP下部クラッド層202上にはグランド電極207が配された高周波線路が形成されている。さらに、n−InP下部クラッド層202とグランド電極207との間の一部に絶縁膜205としてSiO2が挿入されている。
【選択図】図2
Description
図1に、本発明の一実施形態に係る偏波多重光I/Q変調器の上面から見た構成図を示す。ここで示す偏波多重光I/Q変調器100は、計4つのマッハ・ツェンダ型変調器で構成される。半導体基板101上に半導体光導波路102が形成されており、半導体光導波路102上およびその近傍にRF変調電極103と位相調整電極104とが形成されている。入力された光は、並列に接続された4つのマッハ・ツェンダ型変調器をそれぞれ通過する。4つのマッハ・ツェンダ型変調器の出力光を2つずつ合波し、半導体光導波路102から2つの出力光が出力される。出力光の一方は、ミラー110、偏波回転子120を介して偏波ビームコンバイナ(PBC:Polarization Beam Combiner)130に入射し、出力光の他方と偏波合波される。
図3に、本発明の実施形態2に係る図1のA−A’における断面図を示す。本実施形態2では、SI−InP基板301上にn−InP下部クラッド層302、光を閉じ込め伝搬させるための半導体コア層303、p−InP上部クラッド層304で構成される層構造を持ち、メサ状の光導波路が形成されている。
101 半導体基板
102 半導体光導波路
103 RF変調電極
104 位相調整電極
110 ミラー
120 偏波回転子
130 PBC
201、301 SI−InP基板
202、302 n−InP下部クラッド層
203、303 ノンドープ半導体コア層
204、304 p−InP上部クラッド層
205、305 絶縁膜
206、306 シグナル電極
207、307 グランド電極
Claims (3)
- 半導体基板と、前記半導体基板上に形成された半導体下部クラッド層と、前記半導体下部クラッド層上に形成された半導体コア層と、前記半導体コア層上に形成された半導体上部クラッド層とからなる層構造を持つメサ状の光半導体導波路と、
前記半導体上部クラッド層上部に形成された、変調信号が印加されるシグナル電極と、
前記メサ状の光半導体導波路の脇の前記半導体下部クラッド層上に形成されたグランド電極と、
前記グランド電極と前記半導体下部クラッド層との間の一部に挿入された前記半導体下部クラッド層より熱膨張係数が小さい材料層と、
を備えたことを特徴とする半導体光変調素子。 - 半導体基板と、前記半導体基板上に形成された半導体下部クラッド層と、前記半導体下部クラッド層上に形成された半導体コア層と、前記半導体コア層上に形成された半導体上部クラッド層とからなる層構造を持つメサ状の光半導体導波路と、
前記半導体上部クラッド層上部に形成された、変調信号が印加されるシグナル電極と、
前記メサ状の光半導体導波路の脇の前記半導体下部クラッド層上に形成されたグランド電極と、
前記メサ状の光半導体導波路の側面から前記メサ状の光半導体導波路の脇に形成された前記半導体下部クラッド層より熱膨張係数が小さい材料層であって、前記グランド電極と前記半導体下部クラッド層との間の一部に挿入された前記材料層と、
を備えたことを特徴とする半導体光変調素子。 - 前記材料層は、SiO2、SiN、SiO2とSiNとの積層膜、およびSiO2とSiNとの混晶膜のいずれかの絶縁膜であることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体光変調素子。
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2016
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