JP2017206731A5 - 水電解セル及び複極式水電解槽 - Google Patents
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Description
前記酸素発生時に酸素極室に蓄えられる正の保有電荷量は、次の方法で求められる。酸素極の電位を、電流密度0.4A/cm2における水素発生電位(単位:V vs. Ag/AgCl)に設定する。そして、酸素を発生させる場合と逆側に電流を流した場合に、酸素極の電位が0Vになるまでに流した電流を積分することにより求められる。
水素発生時に水素極室に蓄えられる負の保有電荷量は、水素極の電位を、電流密度0.4A/cm2における水素発生電位(単位:V vs. Ag/AgCl)に設定し、水素を発生させる場合と逆側に電流を流した場合に、水素極の電位が−0.8Vになるまでに流した電流を積分することにより求められる。前記水素発生時に水素極室に蓄えられる負の保有電荷量を水素極1m2あたり、0.001F〜9.9Fの範囲にすることで、再生可能エネルギー等の出力電力の変動が激しい電源に対して、高い耐久性を有する水素極となる。前記水素発生時に水素極室に蓄えられる負の保有電荷量を0.005F〜4.95Fにすることで、更に高い耐久性を有する水素極を得る事が出来る。
第一細孔の容積は3.3×10−4〜8.5×10−4ml/gであることが好ましい。第一細孔の容積は3.6×10−4ml/g〜7.9×10−4ml/gであってもよい。第一細孔の細孔容積の増加に伴い、比表面積が減少する傾向がある。第一細孔の細孔容積の減少に伴い、触媒層全体の比表面積が増加する傾向がある。
(酸素極サンプルの作製)
粒径が0.2〜2μmである酸化ニッケル粉末100重量部、アラビアゴム2.25重量部、カルボキシルメチルセルロース0.7重量部、ラウリル硫酸ナトリウム0.001重量部、及び水100重量部を混合・攪拌して、懸濁液を調製した。噴霧乾燥造粒機を用いて、懸濁液から、粒径が5〜50μmである造粒物を調製した。
粒径が0.2〜2μmである酸化ニッケル粉末100重量部、アラビアゴム2.25重量部、カルボキシルメチルセルロース0.7重量部、ラウリル硫酸ナトリウム0.001重量部、及び水100重量部を混合・攪拌して、懸濁液を調製した。噴霧乾燥造粒機を用いて、懸濁液から、粒径が5〜50μmである造粒物を調製した。
(酸素極サンプルA)
導電性基材としては、予めブラスト処理を施したニッケルエクスパンド基材を用いた。基材の厚みは1mmであった。プラズマ溶射法では、プラズマガスとして、アルゴンと窒素とを1:0.8の割合で混合したガスを用いた。導電性基材の表面を被覆する表面層の前駆体の厚みと、導電性基材の裏面を被覆する表面層の前駆体の厚みが、3:2の割合になるように調整した。導電性基材の表面層の前駆体の重量が、2.0kg/m2 となるように調整したものを、酸素極サンプルAの前駆体とした。
導電性基材としては、予めブラスト処理を施したニッケルエクスパンド基材を用いた。基材の厚みは1mmであった。プラズマ溶射法では、プラズマガスとして、アルゴンと窒素とを1:0.8の割合で混合したガスを用いた。導電性基材の表面を被覆する表面層の前駆体の厚みと、導電性基材の裏面を被覆する表面層の前駆体の厚みが、3:2の割合になるように調整した。導電性基材の表面層の前駆体の重量が、2.0kg/m2 となるように調整したものを、酸素極サンプルAの前駆体とした。
(還元補助材の作製)
粒径が0.2〜2μmである酸化ニッケル粉末100重量部、アラビアゴム2.25重量部、カルボキシルメチルセルロース0.7重量部、ラウリル硫酸ナトリウム0.001重量部、及び水100重量部を混合・攪拌して、懸濁液を調製した。噴霧乾燥造粒機を用いて、懸濁液から、粒径が5〜50μmである造粒物を調製した。
粒径が0.2〜2μmである酸化ニッケル粉末100重量部、アラビアゴム2.25重量部、カルボキシルメチルセルロース0.7重量部、ラウリル硫酸ナトリウム0.001重量部、及び水100重量部を混合・攪拌して、懸濁液を調製した。噴霧乾燥造粒機を用いて、懸濁液から、粒径が5〜50μmである造粒物を調製した。
(構造体A)
導電性基材としては、予めブラスト処理を施したニッケルエクスパンド基材を用いた。基材の厚みは1mmであった。プラズマ溶射法では、プラズマガスとして、アルゴンと窒素とを1:0.8の割合で混合したガスを用いた。導電性基材の表面を被覆する表面層の前駆体の厚みと、導電性基材の裏面を被覆する表面層の前駆体の厚みが、3:2の割合になるように調整した。導電性基材の表面層の前駆体の重量が、1.5kg/m2 となるように調整したものを構造体Aの前駆体とした。
導電性基材としては、予めブラスト処理を施したニッケルエクスパンド基材を用いた。基材の厚みは1mmであった。プラズマ溶射法では、プラズマガスとして、アルゴンと窒素とを1:0.8の割合で混合したガスを用いた。導電性基材の表面を被覆する表面層の前駆体の厚みと、導電性基材の裏面を被覆する表面層の前駆体の厚みが、3:2の割合になるように調整した。導電性基材の表面層の前駆体の重量が、1.5kg/m2 となるように調整したものを構造体Aの前駆体とした。
2 複極式エレメント
21 水素極室
22 水素極
23 酸素極室
24 酸素極
25 隔壁
26 ガスケット
27 気液分離室
28 膈膜
29 酸素極液入口
30 水素極液出口
31 水素極液入口
32 酸素極液出口
33 還元補助材
21 水素極室
22 水素極
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29 酸素極液入口
30 水素極液出口
31 水素極液入口
32 酸素極液出口
33 還元補助材
Claims (22)
- 水素を発生させるための水素極と、
酸素を発生させるための酸素極と、
前記水素極と電解質水溶液を内包する水素極室と、
前記酸素極と電解質水溶液を内容する酸素極室と、
前記水素極室と前記酸素極室を隔てる隔膜と、を備え、
水素発生時に前記水素極室内に蓄えられる負の保有電荷量が、酸素発生時に前記酸素極室内に蓄えられる正の保有電荷量の
0.1倍を超え、0.99倍以下である、
電解質水溶液を電気分解するための水電解セル。 - 前記の水素発生時に前記水素極室内に蓄えられる前記負の保有電荷量が、前記の酸素発生時に前記酸素極室内に蓄えられる前記正の保有電荷量の0.1倍を超え、0.49倍以下である、請求項1に記載の水電解セル。
- 前記の酸素発生時に前記酸素極室内に蓄えられる前記正の保有電荷量が、前記酸素極の面積1m2あたり、
0.01〜10Fの範囲である、請求項1又は2に記載の水電解セル。 - 前記の酸素発生時に前記酸素極室内に蓄えられる前記正の保有電荷量が、前記酸素極の面積1m2あたり、
0.05〜5Fの範囲である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の水電解セル。 - 前記の水素発生時に前記水素極室内に蓄えられる前記負の保有電荷量が、前記水素極の面積1m2あたり、
0.001〜9.9Fの範囲である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の水電解セル。 - 前記の水素発生時に前記水素極室内に蓄えられる前記負の保有電荷量が、前記水素極の面積1m2あたり、
0.005〜4.95Fの範囲である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の水電解セル。 - 前記水素極室が、更に還元補助材を内包し、前記還元補助材は前記水素極と電気的に接続している、請求項1〜6のいずれか一項に記載の水電解セル。
- 前記還元補助材が、金属ニッケル、酸化ニッケル、水酸化ニッケル及びニッケル合金からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む、請求項7に記載の水電解セル。
- 前期還元補助材に蓄えられる負の保有電荷量が、前記水素極室に蓄えられる負の電気容
量の0.00025〜0.98倍の範囲である、請求項7又は8に記載の水電解セル。 - 前記水素極室が、更に金属製弾性クッション材と集電体を内包しており、前記金属製弾性クッション材が、前記水素極と前記集電体との間で電気的に接続した状態で圧縮収容されており、前記集電体の一部が前記還元補助材で構成されている、請求項7〜9のいずれか一項に記載の水電解セル。
- 前記酸素極が、導電性基材と、前記導電性基材を被覆する触媒層とを備えている、請求項1〜10のいずれか一項に記載の水電解セル。
- 前記触媒層が、酸化ニッケル、金属ニッケル、水酸化ニッケル及びニッケル合金からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む、請求項11に記載の水電解セル。
- 前記酸素極が、導電性基材と、前記導電性基材を被覆する触媒層とを有し、
前記触媒層は、ニッケルの金属結晶を含み、
前記触媒層は、細孔を有し、
前記触媒層の前記細孔のうち、
孔径が2〜5nmの範囲内である第一細孔の比表面積が0.6〜2.0m2/gであり、
前記第一細孔の細孔容積が3×10−4〜9×10−4ml/gであり、
前記触媒層の前記細孔のうち、孔径が0.01〜2.00μmの範囲内である第二細孔の比表面積が2.0〜5.0m2/gであり、
前記第二細孔の細孔容積が0.04〜0.2ml/gであり、さらに、
前記触媒層の厚みが50〜800μmである、
請求項1〜10のいずれか一項に記載の水電解セル。 - 前記酸素極の前記触媒層の実電極表面積が、90〜10000m 2 の範囲である、請求項11〜13のいずれか一項に記載の水電解セル。
- 前記水素極が、Ru−La−Pt系、Ru−Ce系、Pt−Ce系、及びPt−Ir系、Ir−Pt−Pd系、Pt−Ni系からなる群から選択される少なくとも一種のPt族化合物を含む、請求項1〜14のいずれか一項に記載の水電解セル。
- 前記水素極及び酸素極が、メッシュ状の構造である、請求項1〜15のいずれか一項に記載の水電解セル。
- 前記水素極の基材が、0.05〜0.5mmの範囲の線形を有し、目開きが30メッシュから80メッシュの範囲を有する、請求項1〜16のいずれか一項に記載の水電解セル。
- 前記酸素極の基材が、開口率が20%から60%の範囲を有するメッシュ状の構造である、請求項1〜17のいずれか一項に記載の水電解セル。
- 請求項1〜18のいずれか一項に記載の水電解セルを単位水電解セルとして、電気的に直列に接続されている、複極式水電解槽。
- 前記複極式水電解槽が、前記水素極、前記酸素極、イオン透過性隔膜、前記酸素極室と前記水素極室を区画する隔壁及び導電性隔壁を取囲むフランジパンを有する複極式フレームを備え、前記水素極と前記酸素極の間に前記イオン透過性隔膜が位置し、前記イオン透過性隔膜は前記水素極及び前記酸素極と接触している、請求項19に記載の複極式水電解槽。
- 少なくとも、請求項19又は20に記載の複極式水電解槽、気液分離タンク、電解液循環ポンプ、水投入ポンプ、及び電気分解用の電力供給用の整流器を具備する、水素製造装置。
- 請求項21に記載の水素製造装置を用いて、前記水素極から消費電荷量換算で、1.8kF/m2〜1217.7kF/m2の水素を連続的に発生させた後に、5〜400分の範囲で、連続的に水素製造を停止する、水素製造方法。
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