JP2017188617A - 紫外線処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】処理用ガスが被処理物に直接的に吹き付けられることがなく、従って、被処理物を効果的に光洗浄処理することのできる紫外線処理装置を提供すること。【解決手段】紫外線処理装置は、紫外線ランプからの紫外線が、平板状の紫外線透過性窓部材を介して、当該紫外線透過性窓部材と離間して対向配置された平板状の被処理物に照射される紫外線処理装置において、前記紫外線透過性窓部材と被処理物との間の処理空間に処理用ガスを供給するための処理用ガス供給機構が設けられており、前記処理用ガス供給機構は、緩衝用空間を介して前記処理空間に処理用ガスを供給することを特徴とする。【選択図】図４
Description
本発明は、紫外線処理装置に関し、更に詳しくはナノインプリント用テンプレートの表面をドライ洗浄処理するために好適に用いられる紫外線処理装置に関する。
従来、ナノインプリント用テンプレートの表面に付着したレジスト残渣を除去するための手法としては、薬液を用いたウェット洗浄処理が主流であった。しかしながら、ナノインプリント用テンプレートのウェット洗浄処理においては、薬液の管理が煩雑であり、また薬液処理によるパターンのダレ・細りが生じる、という問題がある。そのため、ナノインプリント用テンプレートの表面に対して紫外線を照射してレジスト残渣を直接分解する光洗浄処理（ドライ洗浄処理）が好んで用いられるようになってきた。
そして、光洗浄処理を行うための紫外線処理装置の或る種のものとしては、図１０に示すように、天面部５１Ａに紫外線透過性窓部材１７が設けられた直方体状の筐体５１を備え、この筐体５１の内部に紫外線ランプが配設されてなる構成のものがある（特許文献１参照。）。この紫外線処理装置５０には、筐体５１の両方の幅広側面部５１Ｂの各々における上縁部に沿って、例えば空気（具体的には、ＣＤＡ（Clean Dry Air））などの処理用ガスが流通される矩形筒状のガス流路部材５５が設けられており、これらのガス流路部材５５には、各々、紫外線透過性窓部材１７を臨む領域に複数の処理用ガス供給口５５Ａが設けられている。
この紫外線処理装置５０においては、紫外線透過性窓部材１７と離間した状態で対向するように位置された被処理物の被処理面（具体的には、ナノインプリント用テンプレートの表面）に対して、当該紫外線透過性窓部材１７を介して紫外線ランプからの光（紫外線）が照射される。また、被処理物の被処理面に対して紫外線ランプからの光が照射されている間、すなわち光洗浄処理中には、当該被処理物と紫外線透過性窓部材１７との間の処理空間に、複数の処理用ガス供給口５５Ａから処理用ガスが供給される。このように処理空間に処理用ガスが流通されることにより、被処理物および紫外線透過性窓部材１７が冷却される。
そして、光洗浄処理を行うための紫外線処理装置の或る種のものとしては、図１０に示すように、天面部５１Ａに紫外線透過性窓部材１７が設けられた直方体状の筐体５１を備え、この筐体５１の内部に紫外線ランプが配設されてなる構成のものがある（特許文献１参照。）。この紫外線処理装置５０には、筐体５１の両方の幅広側面部５１Ｂの各々における上縁部に沿って、例えば空気（具体的には、ＣＤＡ（Clean Dry Air））などの処理用ガスが流通される矩形筒状のガス流路部材５５が設けられており、これらのガス流路部材５５には、各々、紫外線透過性窓部材１７を臨む領域に複数の処理用ガス供給口５５Ａが設けられている。
この紫外線処理装置５０においては、紫外線透過性窓部材１７と離間した状態で対向するように位置された被処理物の被処理面（具体的には、ナノインプリント用テンプレートの表面）に対して、当該紫外線透過性窓部材１７を介して紫外線ランプからの光（紫外線）が照射される。また、被処理物の被処理面に対して紫外線ランプからの光が照射されている間、すなわち光洗浄処理中には、当該被処理物と紫外線透過性窓部材１７との間の処理空間に、複数の処理用ガス供給口５５Ａから処理用ガスが供給される。このように処理空間に処理用ガスが流通されることにより、被処理物および紫外線透過性窓部材１７が冷却される。
ナノインプリント用テンプレートの光洗浄処理には、波長の短い紫外線、例えばキセノンのエキシマ発光である波長１７２ｎｍの紫外線が用いられる。このような波長の短い紫外線は空気に吸収されやすいという特性を有する。そのため、紫外線処理装置５０において、洗浄能力および洗浄効率を向上させるためには、紫外線透過性窓部材１７と被処理物Ｗ（ナノインプリント用テンプレート）との離間距離を小さくする必要がある。また、処理空間の雰囲気を処理用ガスで速やかに置換し、当該処理空間を処理用ガスで充満させるためにも、紫外線透過性窓部材１７と被処理物との離間距離が小さいことは有効である。
しかしながら、紫外線処理装置５０においては、被処理物（ナノインプリント用テンプレート）および紫外線透過性窓部材１７の冷却性の観点から、処理用ガス供給口５５Ａをある程度以上には小さくすることができないことから、紫外線透過性窓部材１７と被処理物との離間距離を小さくすることが困難である、という問題がある。
而して、本発明の出願人は、紫外線透過性窓部材１７と被処理物（ナノインプリント用テンプレート）との離間距離を小さくするために、図１１に示すように、処理用ガスのガス供給口６５が、紫外線透過性窓部材１７と同一の平面領域６３上に設けられてなる構成の紫外線処理装置６０を提案した。
この紫外線処理装置６０においては、矩形平板状の平面部材６１の表面（図１１における上面）における平面領域６３に、紫外線透過性窓部材１７と処理用ガス供給口６５とが設けられている。そして、平面部材６１の表面に配設された載置台部材１８上に被処理物Ｗ（ナノインプリント用テンプレート）が載置されることにより、被処理物Ｗの被処理面Ｗａが、平面領域６３（紫外線透過性窓部材１７）および処理用ガス供給口６５と僅かに離間した状態で対向配置される。また、被処理面Ｗａは、紫外線透過性窓部材１７を介して、ランプハウス１１内に配置された紫外線ランプ３０と対向した状態とされる。
この紫外線処理装置６０においては、矩形平板状の平面部材６１の表面（図１１における上面）における平面領域６３に、紫外線透過性窓部材１７と処理用ガス供給口６５とが設けられている。そして、平面部材６１の表面に配設された載置台部材１８上に被処理物Ｗ（ナノインプリント用テンプレート）が載置されることにより、被処理物Ｗの被処理面Ｗａが、平面領域６３（紫外線透過性窓部材１７）および処理用ガス供給口６５と僅かに離間した状態で対向配置される。また、被処理面Ｗａは、紫外線透過性窓部材１７を介して、ランプハウス１１内に配置された紫外線ランプ３０と対向した状態とされる。
しかしながら、このような紫外線処理装置６０においては、処理用ガス供給口６５が被処理物Ｗの被処理面Ｗａに近接し、かつ対向した状態となることから、当該処理用ガス供給口６５から供給される処理用ガスが、被処理面Ｗａに直接的に吹き付けられることとなり、それに起因して被処理物Ｗを安定的・効果的に光洗浄処理することができない、という問題がある。
具体的に説明すると、処理用ガス供給口６５から処理空間に供給され、被処理面Ｗａに直接的に吹き付けられた処理用ガスは、平面領域６３に向かって流動し、当該平面領域６３に吹き付けられた後、再び被処理面Ｗａに吹き付けられることとなる。このように、処理空間においては、処理用ガスが、被処理面Ｗａおよび平面領域６３に、吹き付け圧（流動圧）を減衰しながら順次に吹き付けられつつ処理用ガス排出口６６に向かって流動することにより、外部に拡散排出される。そのため、被処理面Ｗａには、光洗浄処理によって分解されたレジスト残渣、いわゆるデブリを含んだ処理用ガスが繰り返し吹き付けられることになる。従って、被処理物Ｗにおけるパターンの形状によっては、被処理面Ｗａにデブリが付着するおそれがある。
また、処理用ガスとしては、ランニングコストの観点から、紫外線処理装置外部環境雰囲気の空気（以下、「外部雰囲気空気」ともいう。）が利用されており、具体的には、外部雰囲気空気をコンプレッサによって圧縮処理することによって得られたＣＤＡが用いられている。ＣＤＡは、充分に除塵されているとはいえ、外部雰囲気空気に含まれていた塵埃、および圧縮処理過程において混合されたコンプレッサオイルのフューム（煙霧）などのパーティクルがわずかに含まれる場合がある。従って、被処理物Ｗの被処理面Ｗａに、処理用ガスが吹き付けられることによってパーティクルが付着するおそれがある。
また、被処理物Ｗが、処理用ガスが吹き付けられる圧力によって浮き上がることに起因して、光洗浄処理中に位置ずれが生じたり、あるいは装置（載置台部材１８）から落下したりすることから、所期の光洗浄処理を行うことができなくなるおそれがある。
さらに、上述の要因の複合作用により、被処理面Ｗａに対して均一に光洗浄処理を行うことができなくなるおそれがある。
具体的に説明すると、処理用ガス供給口６５から処理空間に供給され、被処理面Ｗａに直接的に吹き付けられた処理用ガスは、平面領域６３に向かって流動し、当該平面領域６３に吹き付けられた後、再び被処理面Ｗａに吹き付けられることとなる。このように、処理空間においては、処理用ガスが、被処理面Ｗａおよび平面領域６３に、吹き付け圧（流動圧）を減衰しながら順次に吹き付けられつつ処理用ガス排出口６６に向かって流動することにより、外部に拡散排出される。そのため、被処理面Ｗａには、光洗浄処理によって分解されたレジスト残渣、いわゆるデブリを含んだ処理用ガスが繰り返し吹き付けられることになる。従って、被処理物Ｗにおけるパターンの形状によっては、被処理面Ｗａにデブリが付着するおそれがある。
また、処理用ガスとしては、ランニングコストの観点から、紫外線処理装置外部環境雰囲気の空気（以下、「外部雰囲気空気」ともいう。）が利用されており、具体的には、外部雰囲気空気をコンプレッサによって圧縮処理することによって得られたＣＤＡが用いられている。ＣＤＡは、充分に除塵されているとはいえ、外部雰囲気空気に含まれていた塵埃、および圧縮処理過程において混合されたコンプレッサオイルのフューム（煙霧）などのパーティクルがわずかに含まれる場合がある。従って、被処理物Ｗの被処理面Ｗａに、処理用ガスが吹き付けられることによってパーティクルが付着するおそれがある。
また、被処理物Ｗが、処理用ガスが吹き付けられる圧力によって浮き上がることに起因して、光洗浄処理中に位置ずれが生じたり、あるいは装置（載置台部材１８）から落下したりすることから、所期の光洗浄処理を行うことができなくなるおそれがある。
さらに、上述の要因の複合作用により、被処理面Ｗａに対して均一に光洗浄処理を行うことができなくなるおそれがある。
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その目的は、処理用ガスが被処理物に直接的に吹き付けられることがなく、従って、被処理物を安定的・効果的に光洗浄処理することのできる紫外線処理装置を提供することにある。
本発明の紫外線処理装置は、紫外線ランプからの紫外線が、平板状の紫外線透過性窓部材を介して、当該紫外線透過性窓部材と離間して対向配置された平板状の被処理物に照射される紫外線処理装置において、
前記紫外線透過性窓部材と被処理物との間の処理空間に処理用ガスを供給するための処理用ガス供給機構が設けられており、
前記処理用ガス供給機構は、緩衝用空間を介して前記処理空間に処理用ガスを供給することを特徴とする。
前記紫外線透過性窓部材と被処理物との間の処理空間に処理用ガスを供給するための処理用ガス供給機構が設けられており、
前記処理用ガス供給機構は、緩衝用空間を介して前記処理空間に処理用ガスを供給することを特徴とする。
本発明の紫外線処理装置においては、前記緩衝用空間から導出される処理用ガスの流動方向を制御する制御板が設けられていることが好ましい。
本発明の紫外線処理装置においては、矩形状の平面領域と、この平面領域の一辺およびこれに連続する二辺に沿って当該平面領域より突出した状態で伸びる平板部とを有する平面部材、および
前記平板状の被処理物を、前記平板部の表面との間に間隙が形成される状態に保持する保持部材を備え、
前記平面部材においては、前記平面領域に前記紫外線透過性窓部材が設けられ、当該平面領域の前記一辺と前記平板部との間に当該一辺に沿って処理用ガス供給口が設けられており、当該平面領域の当該一辺と対向する他辺には、前記被処理物が前記保持部材に保持されて配置されることにより処理用ガス排出口が形成され、
前記緩衝用空間が、前記平面部材における、前記平面領域の前記一辺と前記平板部との間に形成された、当該一辺を開口縁辺として伸びる溝によって構成されており、
前記処理用ガス供給機構において、前記緩衝用空間を構成する溝に、前記処理用ガス供給口から処理用ガスが導入されることが好ましい。
このような構成の本発明の紫外線処理装置においては、前記制御板は、前記緩衝用空間から導出される処理用ガスを、前記平面領域に沿うように前記処理用ガス排出口に向かって流動させるものであることが好ましい。
前記平板状の被処理物を、前記平板部の表面との間に間隙が形成される状態に保持する保持部材を備え、
前記平面部材においては、前記平面領域に前記紫外線透過性窓部材が設けられ、当該平面領域の前記一辺と前記平板部との間に当該一辺に沿って処理用ガス供給口が設けられており、当該平面領域の当該一辺と対向する他辺には、前記被処理物が前記保持部材に保持されて配置されることにより処理用ガス排出口が形成され、
前記緩衝用空間が、前記平面部材における、前記平面領域の前記一辺と前記平板部との間に形成された、当該一辺を開口縁辺として伸びる溝によって構成されており、
前記処理用ガス供給機構において、前記緩衝用空間を構成する溝に、前記処理用ガス供給口から処理用ガスが導入されることが好ましい。
このような構成の本発明の紫外線処理装置においては、前記制御板は、前記緩衝用空間から導出される処理用ガスを、前記平面領域に沿うように前記処理用ガス排出口に向かって流動させるものであることが好ましい。
本発明の紫外線処理装置においては、紫外線透過性窓部材と被処理物との間の処理空間に、緩衝用空間を介して処理用ガスが供給される。そのため、緩衝用空間から導出される処理用ガスを、被処理物に向かう方向に流動することのないように制御することができる。
従って、本発明の紫外線処理装置によれば、処理用ガスが被処理物に直接的に吹き付けられることがないことから、被処理物を安定的・効果的に光洗浄処理することができる。
従って、本発明の紫外線処理装置によれば、処理用ガスが被処理物に直接的に吹き付けられることがないことから、被処理物を安定的・効果的に光洗浄処理することができる。
本発明の紫外線処理装置においては、緩衝用空間から導出される処理用ガスの流動方向を制御する制御板を設けることにより、処理用ガス供給機構の設計の自由度が大きくなる。
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
（第１の紫外線処理装置）
図１は、本発明の第１の紫外線処理装置の構成の一例を示す説明用平面図であり、図２は、図１の第１の紫外線処理装置に被処理物が配置された状態を示す説明用平面図である。また、図３は、図１のＡ−Ａ線断面を、第１の紫外線処理装置に被処理物が配置された状態で示す説明用断面図であり、図４は、図１のＢ−Ｂ線断面を、第１の紫外線処理装置に被処理物が配置された状態で示す説明用断面図である。また、図５は、図１の第１の紫外線処理装置の要部を示す説明図である。
第１の紫外線処理装置１０は、例えばナノインプリント用テンプレートを被処理物Ｗとし、ナノインプリント用テンプレートの表面（被処理面Ｗａ）を光洗浄処理（ドライ洗浄処理）するために用いられるものである。この第１の紫外線処理装置１０において、被処理物Ｗは、当該被処理物Ｗの被処理面Ｗａが空間を介して紫外線透過性窓部材１７に対向するように配置される。
この図の例において、被処理物Ｗは、略矩形平板状の形状のものである。
図１は、本発明の第１の紫外線処理装置の構成の一例を示す説明用平面図であり、図２は、図１の第１の紫外線処理装置に被処理物が配置された状態を示す説明用平面図である。また、図３は、図１のＡ−Ａ線断面を、第１の紫外線処理装置に被処理物が配置された状態で示す説明用断面図であり、図４は、図１のＢ−Ｂ線断面を、第１の紫外線処理装置に被処理物が配置された状態で示す説明用断面図である。また、図５は、図１の第１の紫外線処理装置の要部を示す説明図である。
第１の紫外線処理装置１０は、例えばナノインプリント用テンプレートを被処理物Ｗとし、ナノインプリント用テンプレートの表面（被処理面Ｗａ）を光洗浄処理（ドライ洗浄処理）するために用いられるものである。この第１の紫外線処理装置１０において、被処理物Ｗは、当該被処理物Ｗの被処理面Ｗａが空間を介して紫外線透過性窓部材１７に対向するように配置される。
この図の例において、被処理物Ｗは、略矩形平板状の形状のものである。
第１の紫外線処理装置１０は、一方（図３および図４における上方）に開口を有する直方体箱型形状のランプハウス１１を備えている。このランプハウス１１の開口には、例えば石英ガラスよりなる紫外線透過性窓部材１７が配設された、略平板状の平面部材２１が気密に設けられており、これにより、ランプハウス１１の内部に密閉されたランプ室Ｒが形成されている。ランプ室Ｒ（ランプハウス１１の内部）には、ランプハウス１１の開口（紫外線透過性窓部材１７）の近接位置に、矩形棒状の紫外線ランプ３０が、当該紫外線ランプ３０のランプ軸（中心軸）がランプハウス１１の幅広側面部１１Ａ，１１Ｃに沿って伸びるよう、当該開口に平行に配置されている。また、ランプハウス１１には、例えば窒素ガスなどの不活性ガスをパージする不活性ガスパージ手段（図示省略）が設けられている。
この図の例において、平面部材２１は、表面（図３および図４における上面）形状および裏面（図３および図４における下面）形状が正方形であって、幅広側面部１１Ａ，１１Ｃの幅（図４における紙面に垂直な方向の寸法であって図３における左右方向の寸法）と同等の縦横寸法を有している。この平面部材２１の裏面において、ランプハウス１１の開口は、幅狭側面部１１Ｂ，１１Ｄの幅方向（図３における紙面に垂直な方向であって図４における左右方向）における中央部に位置している。
この図の例において、平面部材２１は、表面（図３および図４における上面）形状および裏面（図３および図４における下面）形状が正方形であって、幅広側面部１１Ａ，１１Ｃの幅（図４における紙面に垂直な方向の寸法であって図３における左右方向の寸法）と同等の縦横寸法を有している。この平面部材２１の裏面において、ランプハウス１１の開口は、幅狭側面部１１Ｂ，１１Ｄの幅方向（図３における紙面に垂直な方向であって図４における左右方向）における中央部に位置している。
平面部材２１の表面には、幅広側面部１１Ａ，１１Ｃの幅方向（図１における上下方向）における中央部に、幅広側面部１１Ａ，１１Ｃに平行な一方の縁部２１Ａからランプハウス１１の開口の直上位置にわたって縁部２１Ｂ，２１Ｄに沿って伸びる矩形状の中央平面領域２３が形成されている。この中央平面領域２３の一方の短辺２３Ａは、平面部材２１の縁部２１Ａ上に位置している。
また、平面部材２１の表面には、中央平面領域２３を包囲するよう、当該中央平面領域２３の短辺２３Ａ以外の三辺（具体的には、短辺２３Ａに対向する短辺２３Ｃおよびこの短辺に連続する長辺２３Ｂ，２３Ｄ）に沿ってコ字状に伸びる平板部２５が形成されている。この平板部２５は、短辺２３Ｃに沿って伸びる短土手部分２６Ａと、長辺２３Ｂ，２３Ｄに沿って伸びる長土手部分２６Ｂ，２６Ｃとを有しており、これらが一体的に連続されることによってコの字形状が形成されたものである。また、平板部２５の表面（図３および図４における上面）は、中央平面領域２３に平行な平面とされている。また、中央平面領域２３からの平板部２５の突出高さは、被処理物Ｗと紫外線透過性窓部材１７との離間距離に応じ、平板部２５の表面が、載置台部材１８の載置面よりも中央平面領域２３に接近した位置レベルとなるように定められ、例えば０．８ｍｍ以下とされる。
この図の例において、平面部材２１の表面には、長土手部分２６Ｂ,２６Ｃに沿って伸びる矩形状の側方平面領域２７Ａ，２７Ｂが形成されている。この側方平面領域２７Ａ，２７Ｂの位置レベルは、中央平面領域２３の位置レベルと一致している。
また、平面部材２１の表面には、中央平面領域２３を包囲するよう、当該中央平面領域２３の短辺２３Ａ以外の三辺（具体的には、短辺２３Ａに対向する短辺２３Ｃおよびこの短辺に連続する長辺２３Ｂ，２３Ｄ）に沿ってコ字状に伸びる平板部２５が形成されている。この平板部２５は、短辺２３Ｃに沿って伸びる短土手部分２６Ａと、長辺２３Ｂ，２３Ｄに沿って伸びる長土手部分２６Ｂ，２６Ｃとを有しており、これらが一体的に連続されることによってコの字形状が形成されたものである。また、平板部２５の表面（図３および図４における上面）は、中央平面領域２３に平行な平面とされている。また、中央平面領域２３からの平板部２５の突出高さは、被処理物Ｗと紫外線透過性窓部材１７との離間距離に応じ、平板部２５の表面が、載置台部材１８の載置面よりも中央平面領域２３に接近した位置レベルとなるように定められ、例えば０．８ｍｍ以下とされる。
この図の例において、平面部材２１の表面には、長土手部分２６Ｂ,２６Ｃに沿って伸びる矩形状の側方平面領域２７Ａ，２７Ｂが形成されている。この側方平面領域２７Ａ，２７Ｂの位置レベルは、中央平面領域２３の位置レベルと一致している。
平面部材２１において、中央平面領域２３には、紫外線ランプ３０と対向するように、正方形平板状の紫外線透過性窓部材１７が設けられている。具体的には、中央平面領域２３に形成された、ランプ室Ｒに連通する紫外線放射開口２４が紫外線透過性窓部材１７によって閉塞されている。この紫外線透過性窓部材１７は、紫外線ランプ３０およびランプハウス１１の開口に平行に配置されている。
また、側方平面領域２７Ａ，２７Ｂには、被処理物Ｗを、紫外線透過性窓部材１７と離間した状態に保持する保持部材が設けられている。この保持部材は、側方平面領域２７Ａ，２７Ｂの長手方向（図１における左右方向）の両端に配設された柱状の載置台部材１８よりなるものである。すなわち、平面部材２１の表面の四隅の各々には、保持部材を構成する載置台部材１８が設けられている。これらの載置台部材１８は、各々、載置面（図３および図４における上面）が中央平面領域２３に平行な平面とされており、この載置面に被処理物Ｗが載置されるものである。
この図の例において、紫外線透過性窓部材１７は、平面部材２１の表面の中央部に配置されている。また、紫外線透過性窓部材１７は、当該紫外線透過性窓部材１７の表面（図３および図４における上面）の位置レベルが、中央平面領域２３の位置レベルと一致するように配設されている。また、被処理物Ｗは、保持部材（載置台部材１８）により、平板部２５の表面と僅かに離間した状態で保持される。
また、側方平面領域２７Ａ，２７Ｂには、被処理物Ｗを、紫外線透過性窓部材１７と離間した状態に保持する保持部材が設けられている。この保持部材は、側方平面領域２７Ａ，２７Ｂの長手方向（図１における左右方向）の両端に配設された柱状の載置台部材１８よりなるものである。すなわち、平面部材２１の表面の四隅の各々には、保持部材を構成する載置台部材１８が設けられている。これらの載置台部材１８は、各々、載置面（図３および図４における上面）が中央平面領域２３に平行な平面とされており、この載置面に被処理物Ｗが載置されるものである。
この図の例において、紫外線透過性窓部材１７は、平面部材２１の表面の中央部に配置されている。また、紫外線透過性窓部材１７は、当該紫外線透過性窓部材１７の表面（図３および図４における上面）の位置レベルが、中央平面領域２３の位置レベルと一致するように配設されている。また、被処理物Ｗは、保持部材（載置台部材１８）により、平板部２５の表面と僅かに離間した状態で保持される。
そして、第１の紫外線処理装置１０には、載置台部材１８の載置面に載置された被処理物Ｗと紫外線透過性窓部材１７との間の処理空間に、緩衝用空間Ｓを介して処理用ガスを供給する処理用ガス供給機構が設けられている。
具体的に説明すると、処理用ガス供給機構は、処理用ガス供給手段（図示省略）を備えており、この処理用ガス供給手段からの処理用ガスを、緩衝用空間Ｓを介して、処理空間を含む、被処理物Ｗと中央平面領域２３との間の空間（以下、「ガス流通空間」ともいう。）に供給するものである。このガス流通空間は、緩衝用空間Ｓと連通している。
緩衝用空間Ｓは、平面部材２１の表面における、中央平面領域２３の短辺２３Ｃと短土手部分２６Ａとの間に形成された、当該短辺２３Ｃおよび当該短土手部分２６Ａに沿って伸びる断面矩形状の溝部２８によって構成されている。この溝部２８は、短辺２３Ｃを開口縁辺としており、当該短辺２３Ｃと同等の全長を有するものである。そして、溝部２８における短土手部分側の内壁２９Ｂには、複数（この図の例においては３つ）の円形状の処理用ガス供給口１４が、溝部２８の伸びる方向（図１における上下方向であって図４および図５における紙面に垂直な方向）に一定の間隔（この図の例においては等間隔）で並列に形成されている。これら複数のガス供給口１４は、各々、平面部材２１に形成された連通孔２２および処理用ガス供給管（図示省略）を介して、共通の処理用ガス供給手段に接続されている。ここに、緩衝用空間Ｓを構成する溝部２８の溝幅および溝深さは、処理用ガス供給口１４の形状寸法などに応じ、処理用ガス供給口１４の個数、および被処理物Ｗと紫外線透過性窓部材１７との離間距離などを考慮して適宜に定められ、例えば処理用ガス供給口１４が円形状であって口径が２ｍｍである場合には、溝幅は１０ｍｍであって、溝深さは１５ｍｍである。よって、溝部２８には、処理用ガス供給手段からの処理用ガスが、複数の処理用ガス供給口１４から導入される。
また、ガス流通空間は、中央平面領域２３の短辺２３Ａと被処理物Ｗの一辺とに囲われた処理用ガス排出口１５に連通している。
この図の例において、連通孔２２は、平面部材２１の厚み方向に伸びる供給手段側部分２２Ａと、この供給手段側部分２２Ａに連続し、平面部材２１の面方向に伸びる緩衝用空間側部分２２Ｂとを有している。そして、緩衝用空間側部分２２Ｂは、供給手段側部分２２Ａを介して処理用ガス供給管接続用開口１９に連通している。
具体的に説明すると、処理用ガス供給機構は、処理用ガス供給手段（図示省略）を備えており、この処理用ガス供給手段からの処理用ガスを、緩衝用空間Ｓを介して、処理空間を含む、被処理物Ｗと中央平面領域２３との間の空間（以下、「ガス流通空間」ともいう。）に供給するものである。このガス流通空間は、緩衝用空間Ｓと連通している。
緩衝用空間Ｓは、平面部材２１の表面における、中央平面領域２３の短辺２３Ｃと短土手部分２６Ａとの間に形成された、当該短辺２３Ｃおよび当該短土手部分２６Ａに沿って伸びる断面矩形状の溝部２８によって構成されている。この溝部２８は、短辺２３Ｃを開口縁辺としており、当該短辺２３Ｃと同等の全長を有するものである。そして、溝部２８における短土手部分側の内壁２９Ｂには、複数（この図の例においては３つ）の円形状の処理用ガス供給口１４が、溝部２８の伸びる方向（図１における上下方向であって図４および図５における紙面に垂直な方向）に一定の間隔（この図の例においては等間隔）で並列に形成されている。これら複数のガス供給口１４は、各々、平面部材２１に形成された連通孔２２および処理用ガス供給管（図示省略）を介して、共通の処理用ガス供給手段に接続されている。ここに、緩衝用空間Ｓを構成する溝部２８の溝幅および溝深さは、処理用ガス供給口１４の形状寸法などに応じ、処理用ガス供給口１４の個数、および被処理物Ｗと紫外線透過性窓部材１７との離間距離などを考慮して適宜に定められ、例えば処理用ガス供給口１４が円形状であって口径が２ｍｍである場合には、溝幅は１０ｍｍであって、溝深さは１５ｍｍである。よって、溝部２８には、処理用ガス供給手段からの処理用ガスが、複数の処理用ガス供給口１４から導入される。
また、ガス流通空間は、中央平面領域２３の短辺２３Ａと被処理物Ｗの一辺とに囲われた処理用ガス排出口１５に連通している。
この図の例において、連通孔２２は、平面部材２１の厚み方向に伸びる供給手段側部分２２Ａと、この供給手段側部分２２Ａに連続し、平面部材２１の面方向に伸びる緩衝用空間側部分２２Ｂとを有している。そして、緩衝用空間側部分２２Ｂは、供給手段側部分２２Ａを介して処理用ガス供給管接続用開口１９に連通している。
この処理用ガス供給機構において、処理用ガスとしては、紫外線が照射されることによってオゾンが生成されるものが用いられる。
処理用ガスの具体例としては、ＣＤＡ（Clean Dry Air）が挙げられる。
処理用ガスの具体例としては、ＣＤＡ（Clean Dry Air）が挙げられる。
処理用ガス供給手段としては、処理用ガスを構成するガスの種類などに応じて適宜のものが用いられる。
具体的には、処理用ガスがＣＤＡよりなる場合には、例えば、装置外部環境雰囲気の空気（外部雰囲気空気）を取り込む吸気ファンと、この吸気ファンによって取り込まれた外部雰囲気空気を圧縮処理するコンプレッサとを備えたものが用いられる。
具体的には、処理用ガスがＣＤＡよりなる場合には、例えば、装置外部環境雰囲気の空気（外部雰囲気空気）を取り込む吸気ファンと、この吸気ファンによって取り込まれた外部雰囲気空気を圧縮処理するコンプレッサとを備えたものが用いられる。
処理用ガス供給手段による処理用ガスの供給条件は、紫外線ランプ３０の種類、紫外線ランプ３０の点灯条件、被処理物Ｗに対する紫外線の照射時間および処理用ガスの種類などに応じ、中央平面領域２３の縦横寸法、および紫外線透過性窓部材１７と被処理物Ｗとの離間距離などを考慮して適宜に定められる。
平面部材２１およびランプハウス１１は、耐紫外線性および耐オゾン性を有する材料よりなるものである。この耐紫外線性および耐オゾン性を有する材料の具体例としては、例えば硬質アルマイト処理されたアルミニウム材およびステンレス鋼材（ＳＵＳ）などが挙げられる。
紫外線ランプ３０としては、波長１７２ｎｍの紫外線を含む光を放射するエキシマランプなどが用いられる。
この図の例において、紫外線ランプ３０は、断面扁平四角形状であって、一対の幅広面部３１Ａ，３１Ｃと、一対の幅狭面部３１Ｂ，３１Ｄとを有し、外観形状が略直方体状の長尺な放電容器３１を備えており、この放電容器３１の両端にセラミックベース３２，３２が装着されたエキシマランプである。この放電容器３１の内部の放電空間には、例えばキセノンガスなどの希ガスが放電ガスとして封入されている。放電容器３１において、一方の幅広面部３１Ａには、網状の高電圧側電極（図示省略）が設けられており、他方の幅広面部３１Ｃには、網状のアース側電極（図示省略）が設けられており、当該高電圧側電極および当該アース側電極は、各々、高周波電源（図示省略）に接続されている。そして、紫外線ランプ３０は、高電圧側電極が配設された一方の幅広面部３１Ａが、紫外線透過性窓部材１７と対向するよう配置されている。
この図の例において、紫外線ランプ３０は、断面扁平四角形状であって、一対の幅広面部３１Ａ，３１Ｃと、一対の幅狭面部３１Ｂ，３１Ｄとを有し、外観形状が略直方体状の長尺な放電容器３１を備えており、この放電容器３１の両端にセラミックベース３２，３２が装着されたエキシマランプである。この放電容器３１の内部の放電空間には、例えばキセノンガスなどの希ガスが放電ガスとして封入されている。放電容器３１において、一方の幅広面部３１Ａには、網状の高電圧側電極（図示省略）が設けられており、他方の幅広面部３１Ｃには、網状のアース側電極（図示省略）が設けられており、当該高電圧側電極および当該アース側電極は、各々、高周波電源（図示省略）に接続されている。そして、紫外線ランプ３０は、高電圧側電極が配設された一方の幅広面部３１Ａが、紫外線透過性窓部材１７と対向するよう配置されている。
第１の紫外線処理装置１０において、被処理物Ｗは、載置台部材１８の載置面に載置されることにより、紫外線透過性窓部材１７（中央平面領域２３）に平行な状態で紫外線透過性窓部材１７に近接して配置される。
この被処理物Ｗと紫外線透過性窓部材１７との離間距離は、処理用ガスの種類に応じて適宜に定められる。
具体的には、処理用ガスがＣＤＡよりなる場合においては、紫外線透過性窓部材１７と被処理物Ｗとの離間距離は、３ｍｍ以下であることが好ましい。
紫外線透過性窓部材１７と被処理物Ｗとの離間距離が３ｍｍ以下とされることにより、紫外線ランプ３０からの光が被処理物Ｗに至るまでの過程において、当該光に含まれる紫外線（具体的には、例えば波長１７２ｎｍの紫外線）が空気（具体的には、酸素ガス）によって吸収されることに起因して、被処理物Ｗに照射される紫外線量が大きく低下することを抑制できる。
この被処理物Ｗと紫外線透過性窓部材１７との離間距離は、処理用ガスの種類に応じて適宜に定められる。
具体的には、処理用ガスがＣＤＡよりなる場合においては、紫外線透過性窓部材１７と被処理物Ｗとの離間距離は、３ｍｍ以下であることが好ましい。
紫外線透過性窓部材１７と被処理物Ｗとの離間距離が３ｍｍ以下とされることにより、紫外線ランプ３０からの光が被処理物Ｗに至るまでの過程において、当該光に含まれる紫外線（具体的には、例えば波長１７２ｎｍの紫外線）が空気（具体的には、酸素ガス）によって吸収されることに起因して、被処理物Ｗに照射される紫外線量が大きく低下することを抑制できる。
また、第１の紫外線処理装置１０においては、被処理物Ｗが平板部２５の表面から僅かに離間した状態とされるが、その被処理物Ｗと平板部２５との離間距離は、０．１〜１ｍｍであることが好ましい。
被処理物Ｗと平板部２５との離間距離が過大である場合には、ガス流通空間に供給された処理用ガスが、被処理面Ｗａと平板部２５の表面との間隙から外部に漏れ、その結果、紫外線透過性窓部材１７上（処理空間）において、処理用ガスを高い均一性で流通させることができなくなるおそれがある。
被処理物Ｗと平板部２５との離間距離が過大である場合には、ガス流通空間に供給された処理用ガスが、被処理面Ｗａと平板部２５の表面との間隙から外部に漏れ、その結果、紫外線透過性窓部材１７上（処理空間）において、処理用ガスを高い均一性で流通させることができなくなるおそれがある。
この第１の紫外線処理装置１０においては、被処理物Ｗが載置台部材１８の載置面に載置されることにより、ガス流通空間と処理用ガス排出口１５とが形成される。
そして、処理用ガス供給手段から、処理用ガス供給口１４を介してガス流通空間に処理用ガスが供給されると、中央平面領域２３と被処理物Ｗとの離間距離が、平板部２５と被処理物Ｗとの離間距離よりも大きいことから、当該処理用ガスは、平板部２５と被処理物Ｗとの間隙から僅かずつ漏洩しながら、全体的には処理用ガス排出口１５に向かって安定的に流通する。平板部２５と被処理物Ｗとの間隙から処理用ガスが僅かずつ漏洩することによって装置外部からの外部雰囲気空気に対する流れ抵抗が生じ、外部雰囲気空気のガス流通空間への流入が抑制される。
このように、ガス流通空間に処理用ガスが流通している状態において、紫外線ランプ３０を点灯させることにより、紫外線ランプ３０からの紫外線が、紫外線透過性窓部材１７を介して、処理空間を流動する処理用ガスおよび被処理物Ｗの被処理面Ｗａに照射され、これにより、被処理物Ｗの光洗浄処理が行われる。
ここに、処理空間（ガス流通空間）に流通される処理用ガスの供給量は、例えば０．１〜１０Ｌ／ｍｉｎである。また、被処理物Ｗに対する紫外線の照射時間は、例えば３〜３６００秒間である。
図５には、ガスの流動方向が矢印によって示されている。
そして、処理用ガス供給手段から、処理用ガス供給口１４を介してガス流通空間に処理用ガスが供給されると、中央平面領域２３と被処理物Ｗとの離間距離が、平板部２５と被処理物Ｗとの離間距離よりも大きいことから、当該処理用ガスは、平板部２５と被処理物Ｗとの間隙から僅かずつ漏洩しながら、全体的には処理用ガス排出口１５に向かって安定的に流通する。平板部２５と被処理物Ｗとの間隙から処理用ガスが僅かずつ漏洩することによって装置外部からの外部雰囲気空気に対する流れ抵抗が生じ、外部雰囲気空気のガス流通空間への流入が抑制される。
このように、ガス流通空間に処理用ガスが流通している状態において、紫外線ランプ３０を点灯させることにより、紫外線ランプ３０からの紫外線が、紫外線透過性窓部材１７を介して、処理空間を流動する処理用ガスおよび被処理物Ｗの被処理面Ｗａに照射され、これにより、被処理物Ｗの光洗浄処理が行われる。
ここに、処理空間（ガス流通空間）に流通される処理用ガスの供給量は、例えば０．１〜１０Ｌ／ｍｉｎである。また、被処理物Ｗに対する紫外線の照射時間は、例えば３〜３６００秒間である。
図５には、ガスの流動方向が矢印によって示されている。
而して、第１の紫外線処理装置１０においては、処理用ガス供給口１４が溝部２８の内壁２９Ｂに形成されていることから、処理用ガス供給口１４から導出された処理用ガスは、当該内壁２９Ｂに対向する内壁２９Ｃに向かって流動する。すなわち、内壁２９Ｃに吹き付けられる。よって、処理用ガス供給口１４から導出された処理用ガスは、一旦、緩衝用空間Ｓに滞留し、その流動圧が緩衝された後、当該緩衝用空間Ｓからガス流通空間に導出されることとなる。そのため、緩衝用空間Ｓから導出する処理用ガスは、被処理物Ｗに向かう方向に流動することなく、中央平面領域２３および被処理面Ｗａに沿って処理用ガス排出口１５に向かって流動する。
従って、第１の紫外線処理装置１０によれば、処理用ガスが、被処理面Ｗａに直接的に吹き付けられることがない。そのため、処理用ガスが、ガス流通空間（処理空間）を流通する過程において、光洗浄処理によって分解されたレジスト残渣、いわゆるデブリを含むものとされた場合であっても、そのデブリが被処理物Ｗ（被処理面Ｗａ）に付着することがない。また、処理用ガスとして、外部雰囲気空気を利用したＣＤＡを用いた場合において、そのＣＤＡに外部雰囲気空気に含まれていた塵埃、および圧縮処理過程において混合されたコンプレッサオイルのフューム（煙霧）などのパーティクルがわずかに含まれていても、そのパーティクルが被処理物Ｗ（被処理面Ｗａ）に付着することがない。ここに、処理用ガスに含まれるパーティクルの具体例としては、例えば、塵、埃、金属片（加工屑）およびガラスチッピング(剥落したガラス粉)等の無機物、コンプレッサオイルや薬品のフューム（煙霧）および繊維等の有機物が挙げられる。これらのパーティクルの大きさは、例えば０．０１〜５μｍである。
また、第１の紫外線処理装置１０においては、緩衝用空間Ｓにおいて処理用ガスの流動圧が緩衝され、処理用ガスが被処理面Ｗａに直接的に吹き付けられることがないため、載置台部材１８の載置面に載置された被処理物Ｗが、処理用ガスの流動圧によって浮き上がることがない。そのため、処理用ガスがガス流通空間に供給されることに伴って、光洗浄処理中に位置ずれが生じたり、あるいは装置（載置台部材１８）から落下したりすることがない。
このように、第１の紫外線処理装置１０によれば、被処理物Ｗを安定的・効果的に光洗浄処理することができ、よって被処理面Ｗａに対して、高い均一性で所期の光洗浄処理を行うことができる。
従って、第１の紫外線処理装置１０によれば、処理用ガスが、被処理面Ｗａに直接的に吹き付けられることがない。そのため、処理用ガスが、ガス流通空間（処理空間）を流通する過程において、光洗浄処理によって分解されたレジスト残渣、いわゆるデブリを含むものとされた場合であっても、そのデブリが被処理物Ｗ（被処理面Ｗａ）に付着することがない。また、処理用ガスとして、外部雰囲気空気を利用したＣＤＡを用いた場合において、そのＣＤＡに外部雰囲気空気に含まれていた塵埃、および圧縮処理過程において混合されたコンプレッサオイルのフューム（煙霧）などのパーティクルがわずかに含まれていても、そのパーティクルが被処理物Ｗ（被処理面Ｗａ）に付着することがない。ここに、処理用ガスに含まれるパーティクルの具体例としては、例えば、塵、埃、金属片（加工屑）およびガラスチッピング(剥落したガラス粉)等の無機物、コンプレッサオイルや薬品のフューム（煙霧）および繊維等の有機物が挙げられる。これらのパーティクルの大きさは、例えば０．０１〜５μｍである。
また、第１の紫外線処理装置１０においては、緩衝用空間Ｓにおいて処理用ガスの流動圧が緩衝され、処理用ガスが被処理面Ｗａに直接的に吹き付けられることがないため、載置台部材１８の載置面に載置された被処理物Ｗが、処理用ガスの流動圧によって浮き上がることがない。そのため、処理用ガスがガス流通空間に供給されることに伴って、光洗浄処理中に位置ずれが生じたり、あるいは装置（載置台部材１８）から落下したりすることがない。
このように、第１の紫外線処理装置１０によれば、被処理物Ｗを安定的・効果的に光洗浄処理することができ、よって被処理面Ｗａに対して、高い均一性で所期の光洗浄処理を行うことができる。
（第２の紫外線処理装置）
図６は、本発明の紫外線処理装置の構成の他の例の要部を示す説明図である。
この第２の紫外線処理装置４０は、処理用ガス供給機構の構成が異なること以外は、図１に係る第１の紫外線処理装置１０と同様の構成を有するものである。
図６は、本発明の紫外線処理装置の構成の他の例の要部を示す説明図である。
この第２の紫外線処理装置４０は、処理用ガス供給機構の構成が異なること以外は、図１に係る第１の紫外線処理装置１０と同様の構成を有するものである。
第２の紫外線処理装置４０において、処理用ガス供給機構は、制御板４１を備えており、複数（この図の例においては３つ）の処理用ガス供給口１４が溝部２８の底壁２９Ａに形成されていること以外は、図１に係る第１の紫外線処理装置１０における処理用ガス供給機構と同様の構成のものである。
制御板４１は、緩衝用空間Ｓから導出される処理用ガスの流動方向を制御するものであり、また溝部２８と共に緩衝用空間Ｓを構成するものである。
この制御板４１は、溝部２８の全長よりも長尺であって当該溝部２８が伸びる方向（図６における紙面に垂直な方向）に伸びる矩形状平板体よりなり、配置される被処理物Ｗと中央平面領域２３との間における被処理物Ｗの近接位置に、中央平面領域２３および被処理物Ｗに沿って伸び、先端側部分４１Ａが溝部２８（緩衝用空間Ｓ）の直上に位置するように配設されている。すなわち、制御板４１は、先端側部分４１Ａが溝部２８の開口の全体を覆うように配設されている。この制御板４１の厚みは、例えば０．１〜２ｍｍである。
複数の処理用ガス供給口１４は、円形状であって、溝部２８の底壁２９Ａに、当該溝部２８の伸びる方向に一定の間隔（この図の例においては等間隔）で並列に形成されている。これら複数のガス供給口１４は、各々、平面部材２１に形成された直線状の連通孔４３および処理用ガス供給管（図示省略）を介して、共通の処理用ガス供給手段（図示省略）に接続されている。
この図の例において、制御板４１は、基端側部分４１Ｂが平板部２５の表面（図６における上面）に固定され、先端側部分４１Ａが緩衝用空間Ｓの直上に位置するように設けられている。この制御板４１の先端４２は、中央平面領域２３上に位置している。
制御板４１は、緩衝用空間Ｓから導出される処理用ガスの流動方向を制御するものであり、また溝部２８と共に緩衝用空間Ｓを構成するものである。
この制御板４１は、溝部２８の全長よりも長尺であって当該溝部２８が伸びる方向（図６における紙面に垂直な方向）に伸びる矩形状平板体よりなり、配置される被処理物Ｗと中央平面領域２３との間における被処理物Ｗの近接位置に、中央平面領域２３および被処理物Ｗに沿って伸び、先端側部分４１Ａが溝部２８（緩衝用空間Ｓ）の直上に位置するように配設されている。すなわち、制御板４１は、先端側部分４１Ａが溝部２８の開口の全体を覆うように配設されている。この制御板４１の厚みは、例えば０．１〜２ｍｍである。
複数の処理用ガス供給口１４は、円形状であって、溝部２８の底壁２９Ａに、当該溝部２８の伸びる方向に一定の間隔（この図の例においては等間隔）で並列に形成されている。これら複数のガス供給口１４は、各々、平面部材２１に形成された直線状の連通孔４３および処理用ガス供給管（図示省略）を介して、共通の処理用ガス供給手段（図示省略）に接続されている。
この図の例において、制御板４１は、基端側部分４１Ｂが平板部２５の表面（図６における上面）に固定され、先端側部分４１Ａが緩衝用空間Ｓの直上に位置するように設けられている。この制御板４１の先端４２は、中央平面領域２３上に位置している。
この第２の紫外線処理装置４０においては、被処理物Ｗが載置台部材１８（図１等参照）の載置面に載置されることにより、ガス流通空間と処理用ガス排出口（図４参照）とが形成される。
そして、処理用ガス供給手段から、処理用ガス供給口１４を介してガス流通空間に処理用ガスが供給されると、処理用ガスは、平板部２５と被処理物Ｗとの間隙から僅かずつ漏洩しながら、全体的には処理用ガス排出口１５に向かって安定的に流通する。
このように、ガス流通空間に処理用ガスが流通している状態において、紫外線ランプ３０を点灯させることにより、紫外線ランプ３０からの紫外線が、紫外線透過性窓部材１７を介して、処理空間を流動する処理用ガスおよび被処理物Ｗの被処理面Ｗａに照射され、これにより、被処理物Ｗの光洗浄処理が行われる。
ここに、処理空間（ガス流通空間）に流通される処理用ガスの供給量は、例えば０．１〜１０Ｌ／ｍｉｎである。また、被処理物Ｗに対する紫外線の照射時間は、例えば３〜３６００秒間である。
図６には、ガスの流動方向が矢印によって示されている。
そして、処理用ガス供給手段から、処理用ガス供給口１４を介してガス流通空間に処理用ガスが供給されると、処理用ガスは、平板部２５と被処理物Ｗとの間隙から僅かずつ漏洩しながら、全体的には処理用ガス排出口１５に向かって安定的に流通する。
このように、ガス流通空間に処理用ガスが流通している状態において、紫外線ランプ３０を点灯させることにより、紫外線ランプ３０からの紫外線が、紫外線透過性窓部材１７を介して、処理空間を流動する処理用ガスおよび被処理物Ｗの被処理面Ｗａに照射され、これにより、被処理物Ｗの光洗浄処理が行われる。
ここに、処理空間（ガス流通空間）に流通される処理用ガスの供給量は、例えば０．１〜１０Ｌ／ｍｉｎである。また、被処理物Ｗに対する紫外線の照射時間は、例えば３〜３６００秒間である。
図６には、ガスの流動方向が矢印によって示されている。
而して、第２の紫外線処理装置４０においては、処理用ガス供給口１４が溝部２８の底壁２９Ａに形成されており、また溝部２８を覆うように制御板４１が設けられていることから、処理用ガス供給口１４から導出された処理用ガスは、溝部２８の内壁２９Ｂ，２９Ｃあるいは制御板４１に向かって流動する。すなわち、内壁２９Ｂ，２９Ｃあるいは制御板４１に吹き付けられる。よって、処理用ガス供給口１４から導出された処理用ガスは、一旦、緩衝用空間Ｓに滞留し、その流動圧が緩衝された後、当該緩衝用空間Ｓからガス流通空間に導出されることとなる。そのため、緩衝用空間Ｓから導出する処理用ガスは、被処理物Ｗに向かう方向に流動することなく、制御板４１、中央平面領域２３および被処理面Ｗａに沿って処理用ガス排出口１５に向かって流動する。
従って、第２の紫外線処理装置４０によれば、処理用ガスが、被処理面Ｗａに直接的に吹き付けられることがない。そのため、処理用ガスが、ガス流通空間（処理空間）を流通する過程において、光洗浄処理によって分解されたレジスト残渣、いわゆるデブリを含むものとされた場合であっても、そのデブリが被処理物Ｗ（被処理面Ｗａ）に付着することがない。また、処理用ガスとして、外部雰囲気空気を利用したＣＤＡを用いた場合において、そのＣＤＡに外部雰囲気空気に含まれていた塵埃、および圧縮処理過程において混合されたコンプレッサオイルのフューム（煙霧）などのパーティクルがわずかに含まれていても、被処理物Ｗを効果的に光洗浄処理することができる。
また、第２の紫外線処理装置４０においては、緩衝用空間Ｓにおいて処理用ガスの流動圧が緩衝され、処理用ガスが被処理面Ｗａに直接的に吹き付けられることがないため、載置台部材１８の表面に載置された被処理物Ｗが、処理用ガスの流動圧によって浮き上がることがない。そのため、処理用ガスがガス流通空間に供給されることに伴って、光洗浄処理中に位置ずれが生じたり、あるいは装置（載置台部材１８）から落下したりすることがない。
このように、第２の紫外線処理装置４０によれば、被処理物を安定的・効果的に光洗浄処理することができ、よって被処理面Ｗａに対して、高い均一性で所期の光洗浄処理を行うことができる。
従って、第２の紫外線処理装置４０によれば、処理用ガスが、被処理面Ｗａに直接的に吹き付けられることがない。そのため、処理用ガスが、ガス流通空間（処理空間）を流通する過程において、光洗浄処理によって分解されたレジスト残渣、いわゆるデブリを含むものとされた場合であっても、そのデブリが被処理物Ｗ（被処理面Ｗａ）に付着することがない。また、処理用ガスとして、外部雰囲気空気を利用したＣＤＡを用いた場合において、そのＣＤＡに外部雰囲気空気に含まれていた塵埃、および圧縮処理過程において混合されたコンプレッサオイルのフューム（煙霧）などのパーティクルがわずかに含まれていても、被処理物Ｗを効果的に光洗浄処理することができる。
また、第２の紫外線処理装置４０においては、緩衝用空間Ｓにおいて処理用ガスの流動圧が緩衝され、処理用ガスが被処理面Ｗａに直接的に吹き付けられることがないため、載置台部材１８の表面に載置された被処理物Ｗが、処理用ガスの流動圧によって浮き上がることがない。そのため、処理用ガスがガス流通空間に供給されることに伴って、光洗浄処理中に位置ずれが生じたり、あるいは装置（載置台部材１８）から落下したりすることがない。
このように、第２の紫外線処理装置４０によれば、被処理物を安定的・効果的に光洗浄処理することができ、よって被処理面Ｗａに対して、高い均一性で所期の光洗浄処理を行うことができる。
また、第２の紫外線処理装置４０においては、制御板４１が設けられていることから、処理用ガス供給機構の設計の自由度が大きくなる。
具体的に説明すると、第２の紫外線処理装置４０においては、制御板４１が設けられていることから、この制御板４１の作用によって緩衝用空間Ｓから導出される処理用ガスを、被処理物Ｗに向かう方向に流動することがなく、被処理物Ｗおよび中央平面領域２３に沿って流動するように確実に整流することができる。そのため、処理用ガス供給口１４が被処理物Ｗの被処理面Ｗａに対向した状態とされていても、被処理面Ｗａに処理用ガスが直接的に吹き付けられることがない。
具体的に説明すると、第２の紫外線処理装置４０においては、制御板４１が設けられていることから、この制御板４１の作用によって緩衝用空間Ｓから導出される処理用ガスを、被処理物Ｗに向かう方向に流動することがなく、被処理物Ｗおよび中央平面領域２３に沿って流動するように確実に整流することができる。そのため、処理用ガス供給口１４が被処理物Ｗの被処理面Ｗａに対向した状態とされていても、被処理面Ｗａに処理用ガスが直接的に吹き付けられることがない。
以上、本発明の実施の形態を説明したが、本発明は上記の実施の形態に限定されず、種々の変更を加えることができる。
例えば、第２の紫外線処理装置において、制御板は、緩衝用空間から導出される処理用ガスの流動方向を制御することのできるものであればよく、例えば、図７に示すように、制御板４５は、溝部２８の開口の一部を覆うように配設されたもの、具体的には、処理用ガス供給口１４の全体を覆うように配設されたものであってもよい。この制御板４５の先端４６は、底壁２９Ａ上における、処理用ガス供給口１４より中央平面領域２３側の領域に位置している。ここに、図７に係る第２の紫外線処理装置は、制御板４５が溝部２８の開口の一部を覆うように配設されていること以外は、図６に係る第２の紫外線処理装置４０と同様の構成のものである。この図７には、ガスの流動方向が矢印によって示されている。また、図８に示すように、制御板４７は、先端側部分４７Ａがナイフエッジ形状のものであってもよい。この制御板４７の先端４８は、中央平面領域２３上に位置している。ここに、図８に係る第２の紫外線処理装置は、制御板４７の先端側部分４７Ａがナイフエッジ形状であること以外は、図６に係る第２の紫外線処理装置４０と同様の構成のものである。この図８には、ガスの流動方向が矢印によって示されている。
また、第２の紫外線処理装置において、処理用ガス供給口は、溝部における短手部分側（中央平面領域側）の内壁に形成されていてもよい。
例えば、第２の紫外線処理装置において、制御板は、緩衝用空間から導出される処理用ガスの流動方向を制御することのできるものであればよく、例えば、図７に示すように、制御板４５は、溝部２８の開口の一部を覆うように配設されたもの、具体的には、処理用ガス供給口１４の全体を覆うように配設されたものであってもよい。この制御板４５の先端４６は、底壁２９Ａ上における、処理用ガス供給口１４より中央平面領域２３側の領域に位置している。ここに、図７に係る第２の紫外線処理装置は、制御板４５が溝部２８の開口の一部を覆うように配設されていること以外は、図６に係る第２の紫外線処理装置４０と同様の構成のものである。この図７には、ガスの流動方向が矢印によって示されている。また、図８に示すように、制御板４７は、先端側部分４７Ａがナイフエッジ形状のものであってもよい。この制御板４７の先端４８は、中央平面領域２３上に位置している。ここに、図８に係る第２の紫外線処理装置は、制御板４７の先端側部分４７Ａがナイフエッジ形状であること以外は、図６に係る第２の紫外線処理装置４０と同様の構成のものである。この図８には、ガスの流動方向が矢印によって示されている。
また、第２の紫外線処理装置において、処理用ガス供給口は、溝部における短手部分側（中央平面領域側）の内壁に形成されていてもよい。
また、第１の紫外線処理装置および第２の紫外線処理装置のいずれにおいても、緩衝用空間を構成する溝部は、その形状が断面矩形状に限定されるものではなく、図９に示すように、溝部４９は、その形状が断面三角形状であってもよい。この溝部４９には、当該溝部４９における短土手部分側の内壁４９Ａに処理用ガス供給口１４が形成されている。ここに、図９に係る第１の紫外線処理装置は、溝部４９の形状が断面三角形状であること以外は、図１に係る第１の紫外線処理装置１０と同様の構成のものである。この図９には、ガスの流動方向が矢印によって示されている。
また、第１の紫外線処理装置および第２の紫外線処理装置のいずれにおいても、保持部材は、被処理物を、紫外線透過性窓部材と離間して対向配置することのできるものであればよく、例えば、被処理物を、当該被処理物の裏面において吸着保持する吸着部材よりなるものであってもよい。
また、第１の紫外線処理装置および第２の紫外線処理装置のいずれにおいても、保持部材は、被処理物を、紫外線透過性窓部材と離間して対向配置することのできるものであればよく、例えば、被処理物を、当該被処理物の裏面において吸着保持する吸着部材よりなるものであってもよい。
また、第１の紫外線処理装置および第２の紫外線処理装置のいずれにおいても、処理用ガス供給口は、溝部の伸びる方向に沿って伸びるスリットによって構成されていてもよい。
また、第１の紫外線処理装置および第２の紫外線処理装置のいずれにおいても、被処理物は、ナノインプリント用テンプレートに限定されず、紫外線照射処理が必要とされる種々のものに適用することができる。
また、第１の紫外線処理装置および第２の紫外線処理装置のいずれにおいても、被処理物は、ナノインプリント用テンプレートに限定されず、紫外線照射処理が必要とされる種々のものに適用することができる。
１０ 第１の紫外線処理装置
１１ ランプハウス
１１Ａ，１１Ｃ 幅広側面部
１１Ｂ，１１Ｄ 幅狭側面部
１４ 処理用ガス供給口
１５ 処理用ガス排出口
１７ 紫外線透過性窓部材
１８ 載置台部材
１９ 処理用ガス供給管接続用開口
２１ 平面部材
２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ，２１Ｄ 縁部
２２ 連通孔
２２Ａ 供給手段側部分
２２Ｂ 緩衝用空間側部分
２３ 中央平面領域
２３Ａ，２３Ｃ 短辺
２３Ｂ，２３Ｄ 長辺
２４ 紫外線放射開口
２５ 平板部
２６Ａ 短土手部分
２６Ｂ，２６Ｃ 長土手部分
２７Ａ，２７Ｂ 側方平面領域
２８ 溝部
２９Ａ 底壁
２９Ｂ，２９Ｃ 内壁
３０ 紫外線ランプ
３１ 放電容器
３１Ａ，３１Ｃ 幅広面部
３１Ｂ，３１Ｄ 幅狭面部
３２ セラミックベース
４０ 第２の紫外線処理装置
４１ 制御板
４１Ａ 先端側部分
４１Ｂ 基端側部分
４２ 先端
４３ 連通孔
４５ 制御板
４６ 先端
４７ 制御板
４７Ａ 先端側部分
４８ 先端
４９ 溝部
４９Ａ 内壁
５０ 紫外線処理装置
５１ 筐体
５１Ａ 天面部
５１Ｂ 幅広側面部
５５ ガス流路部材
５５Ａ 処理用ガス供給口
６０ 紫外線処理装置
６１ 平面部材
６３ 平面領域
６５ 処理用ガス供給口
６６ 処理用ガス排出口
１１ ランプハウス
１１Ａ，１１Ｃ 幅広側面部
１１Ｂ，１１Ｄ 幅狭側面部
１４ 処理用ガス供給口
１５ 処理用ガス排出口
１７ 紫外線透過性窓部材
１８ 載置台部材
１９ 処理用ガス供給管接続用開口
２１ 平面部材
２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ，２１Ｄ 縁部
２２ 連通孔
２２Ａ 供給手段側部分
２２Ｂ 緩衝用空間側部分
２３ 中央平面領域
２３Ａ，２３Ｃ 短辺
２３Ｂ，２３Ｄ 長辺
２４ 紫外線放射開口
２５ 平板部
２６Ａ 短土手部分
２６Ｂ，２６Ｃ 長土手部分
２７Ａ，２７Ｂ 側方平面領域
２８ 溝部
２９Ａ 底壁
２９Ｂ，２９Ｃ 内壁
３０ 紫外線ランプ
３１ 放電容器
３１Ａ，３１Ｃ 幅広面部
３１Ｂ，３１Ｄ 幅狭面部
３２ セラミックベース
４０ 第２の紫外線処理装置
４１ 制御板
４１Ａ 先端側部分
４１Ｂ 基端側部分
４２ 先端
４３ 連通孔
４５ 制御板
４６ 先端
４７ 制御板
４７Ａ 先端側部分
４８ 先端
４９ 溝部
４９Ａ 内壁
５０ 紫外線処理装置
５１ 筐体
５１Ａ 天面部
５１Ｂ 幅広側面部
５５ ガス流路部材
５５Ａ 処理用ガス供給口
６０ 紫外線処理装置
６１ 平面部材
６３ 平面領域
６５ 処理用ガス供給口
６６ 処理用ガス排出口
Claims (4)
- 紫外線ランプからの紫外線が、平板状の紫外線透過性窓部材を介して、当該紫外線透過性窓部材と離間して対向配置された平板状の被処理物に照射される紫外線処理装置において、
前記紫外線透過性窓部材と被処理物との間の処理空間に処理用ガスを供給するための処理用ガス供給機構が設けられており、
前記処理用ガス供給機構は、緩衝用空間を介して前記処理空間に処理用ガスを供給することを特徴とする紫外線処理装置。 - 前記緩衝用空間から導出される処理用ガスの流動方向を制御する制御板が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の紫外線処理装置。
- 矩形状の平面領域と、この平面領域の一辺およびこれに連続する二辺に沿って当該平面領域より突出した状態で伸びる平板部とを有する平面部材、および
前記平板状の被処理物を、前記平板部の表面との間に間隙が形成される状態に保持する保持部材を備え、
前記平面部材においては、前記平面領域に前記紫外線透過性窓部材が設けられ、当該平面領域の前記一辺と前記平板部との間に当該一辺に沿って処理用ガス供給口が設けられており、当該平面領域の当該一辺と対向する他辺には、前記被処理物が前記保持部材に保持されて配置されることにより処理用ガス排出口が形成され、
前記緩衝用空間が、前記平面部材における、前記平面領域の前記一辺と前記平板部との間に形成された、当該一辺を開口縁辺として伸びる溝によって構成されており、
前記処理用ガス供給機構において、前記緩衝用空間を構成する溝に、前記処理用ガス供給口から処理用ガスが導入されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の紫外線処理装置。 - 前記制御板は、前記緩衝用空間から導出される処理用ガスを、前記平面領域に沿うように前記処理用ガス排出口に向かって流動させることを特徴とする請求項３に記載の紫外線処理装置。
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