JP2017177069A - 圧力変動吸着式ガス製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】吸着塔1に接続されたオフガス排出路4に、雑ガスを精製対象ガスに較べて速く透過する分離膜9Aを備える膜分離部9と、オフガスを昇圧して膜分離部9に供給する昇圧部10とが設けられ、分離膜9Aを透過しないリサイクルガスを原料ガス供給路3に返送するリサイクルガス返送路11が設けられ、運転制御部が、昇圧部10から膜分離部9に供給するオフガスの供給量を、前記脱着工程を行うごとに吸着塔1から排出されるオフガス量と吸着塔1が脱着工程を開始してから別の吸着塔1が脱着工程を開始するまでの間に膜分離部9に供給されるオフガス量とを等しくする流量にし、且つ、原料ガスGの精製対象ガスの濃度が低下した場合に、原料ガスGの供給流量を減少側に補正する。
【選択図】図1
Description
前記原料ガス供給路を通して供給される前記原料ガスから前記雑ガスを吸着して前記精製対象ガス排出路を通して前記精製対象ガスを排出する吸着工程、及び、前記オフガス排出路を通して前記雑ガスを排出する脱着工程を含む運転サイクルを、位相を異ならせて順次行う運転制御部が設けられ、
前記オフガス排出路に、前記雑ガスを前記精製対象ガスに較べて速く透過する分離膜を備える膜分離部、及び、前記脱着工程において前記吸着塔から排出されるオフガスを前記膜分離部での膜分離のために昇圧して前記膜分離部に供給する昇圧部が設けられ、
前記分離膜を透過しないリサイクルガスを前記原料ガス供給路に返送するリサイクルガス返送路が設けられた圧力変動吸着式ガス製造装置に関する。
特許文献1においては、原料ガスとして、精製対象ガスとしての水素を含み、雑ガスとして、二酸化酸素やメタンを含む水素含有ガスが記載されている。
前記原料ガス供給路を通して供給される前記原料ガスから前記雑ガスを吸着して前記精製対象ガス排出路を通して前記精製対象ガスを排出する吸着工程、及び、前記オフガス排出路を通して前記雑ガスを排出する脱着工程を含む運転サイクルを、位相を異ならせて順次行う運転制御部が設けられ、
前記オフガス排出路に、前記雑ガスを前記精製対象ガスに較べて速く透過する分離膜を備える膜分離部、及び、前記脱着工程において前記吸着塔から排出されるオフガスを前記膜分離部での膜分離のために昇圧して前記膜分離部に供給する昇圧部が設けられ、
前記分離膜を透過しないリサイクルガスを前記原料ガス供給路に返送するリサイクルガス返送路が設けられたものであって、その特徴構成は、
前記昇圧部から前記膜分離部に供給されるオフガスの供給流量を調整するオフガス調整部、及び、前記原料ガス供給路を通して前記吸着塔に供給する原料ガスの供給流量を調整する原料ガス調整部が設けられ、
前記運転制御部が、
前記オフガスの供給流量を、前記脱着工程を行うごとに前記吸着塔から排出されるオフガス量と前記吸着塔が脱着工程を開始してから別の吸着塔が前記脱着工程を開始するまでの間に前記膜分離部に供給されるオフガス量とを等しくする流量にするように、前記オフガス調整部を調整し、且つ、
前記吸着塔に供給される前記原料ガスの前記精製対象ガスの濃度が低下する場合に、前記原料ガスの供給流量を減少側に補正し、前記吸着塔に供給される前記原料ガスの前記精製対象ガスの濃度が上昇した場合に、前記原料ガスの供給流量を増加側に補正すべく、前記原料ガス調整部を調整する点にある。
そして、このようにオフガス量の増加が抑制されることにより、原料ガス供給路に返送されるリサイクルガス量の増加が抑制され、リサイクルガス返送路を通して原料ガス供給路に返送される雑ガス量が多くなることが抑制される。
前記昇圧部が、前記オフガスタンクに貯留されたオフガスを前記膜分離部に供給するように構成されている点にある。
つまり、オフガスをオフガスタンクに一旦貯留して、貯留したオフガスを昇圧部にて昇圧して膜分離部に供給するものであるから、オフガスをオフガスタンクの内部に十分な低圧で貯留させることができるため、脱着工程を良好に行うことができる。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
(圧力変動吸着式ガス製造装置の全体構成)
本実施形態においては、原料ガスGが、精製対象ガスとしてメタンを40%以上含み、雑ガスとして二酸化炭素等を含むバイオガスであり、雑ガスが、吸着塔1の吸着材に吸着され、メタンを80%以上含有するメタンガスが製品ガスHとして吸着塔1から排出されるように構成されている。
圧縮機2には、供給圧を設定値(例えば、750kPaG)に維持するための背圧弁2Aが設けられている。
原料ガス調整部MGは、マスフローコントローラを用いて構成されるものであって、原料ガス供給路3を流れる原料ガスGの流量を検出し、検出した流量が後述する運転制御部F(図2参照)から指令される目標流量になるように、原料ガスGの流量を制御するように構成されている。尚、マスフローコントローラの詳細は周知であるので、本実施形態では詳細な説明を省略する。
原料ガス供給路3における圧縮機2の下流側には、原料ガスGの精製対象ガスの濃度であるメタンガス濃度(原料ガス中メタン濃度)を検出する原料側濃度センサSGが設けられている。
そして、4つの吸着塔1の夫々に対応して、製品ガス送出路5を開閉する製品ガス送出弁A2、B2、C2、D2、及び、塔連通路7を開閉する連通断続弁A4、B4、C4、D4が設けられている。
昇圧ポンプ10には、供給圧を設定目標値(例えば、780kPaG)に維持するためのポンプ背圧弁10Aが設けられている。
また、オフガス排出路4における昇圧ポンプ10よりも上流側箇所には、オフガスを貯留するオフガスタンクTが設けられ、昇圧ポンプ10が、オフガスタンクTに貯留されたオフガスを膜分離部9に供給するように構成されている。
また、昇圧ポンプ10から膜分離部9に供給されるオフガスの供給流量を調整するオフガス調整部MRが、リサイクルガスの流量を目標流量に制御する形態で、リサイクルガス返送路11設けられている。
尚、昇圧ポンプ10から膜分離部9に供給されるオフガスの供給流量は、オフガスタンクTから排出されるオフガスの排出流量に相当するものであるから、オフガス調整部MRは、オフガスタンクTから排出されるオフガスの排出流量を調整するものでもある。
つまり、運転制御部Fは、オフガスタンクTの内部圧(以下オフガスタンク圧と呼称)を検出する圧力センサ14の検出情報に基づいて、目標流量を指令するように構成されており、その詳細は後述する。
図2に示すように、圧力変動吸着式ガス製造装置の運転を制御する運転制御部Fが設けられ、運転制御部Fが原料ガス供給弁A1〜D1、製品ガス送出弁A2〜D2、連通断続弁A4〜D4、及び、オフガス排出弁A5〜D5を制御することにより、4つの吸着塔1の夫々が、図3の表に示す運転サイクルを行うように構成されている。
4つの吸着塔1のうち、A塔を代表して、運転サイクルについて説明する。
尚、吸着均圧ABにおける「AB」の意味は、先に記載の高圧側のA塔の内部ガスを後に記載の低圧側のB塔に供給することを意味するものであり、以下同様である。
ステップ5においては、A塔に関連する全ての弁を閉じて待機する。
ステップ12及び13においては、A塔に関連する全ての弁を閉じて待機する。
ステップ16においては、A塔及びD塔の連通断続弁A4及びD4を開いて、D塔の内部ガスをA塔に供給する昇圧用終段均圧工程に相当する吸着均圧DAを行う。ちなみに、この昇圧用終段均圧工程においては、原料ガス供給弁A1、製品ガス送出弁A2及びオフガス排出弁A5を閉じる。
換言すれば、運転制御部Fが、4つの吸着塔1の夫々について、位相を異ならせる状態で、吸着工程、降圧用均圧工程、脱着工程、昇圧用均圧工程からなる運転サイクルを順次実行するように構成されている。
尚、図3の下段には、ステップ1〜16についての設定時間の一例を記載している。
運転制御部Fが、リサイクルガスの流量を、脱着工程を行うごとに吸着塔1から排出されるオフガス量と吸着塔1が脱着工程を開始してから別の吸着塔1が脱着工程を開始するまでにオフガスタンクTから排出されるオフガス量(昇圧ポンプ10から膜分離部9に供給されるオフガス量)とを等しくする流量にするように、オフガス調整部MRを調整するように構成されている。
リサイクルガス量=オフガス量‐膜透過ガス量--------(1)
そして、上記(1)式の関係が維持されていると、オフガスタンク圧は、図4に示すように、適正な最低圧(極小値)と適正な最高圧とを維持しながら、増加と減少を繰り返すことになる。
また、リサイクルガス量が、「オフガス量‐膜透過ガス量」よりも多いと、図6に示すように、オフガスタンク圧が漸次小さくなり、オフガスタンクTのオフガスタンク圧が過少(負圧)となって、昇圧ポンプ10を損傷する等の不都合を生じる虞がある。
尚、図8においては、差圧Ptと補正流量との関係を一次式として設定する場合を例示したが、差圧Ptと補正流量との関係を二次式として設定する等、差圧Ptと補正流量との関係は種々変更できる。
尚、圧力変動吸着式ガス製造装置の立ち上げ運転時においても、運転制御部Fが、上述の如く、差圧Ptに基づいて補正流量を求めながら目標流量を設定し、設定した目標流量をオフガス調整部MRに指令する形態で実施してもよい。
操作指令部16から運転制御部Fに対して、リサイクルガスが合流する前の原料ガスGのメタンガス濃度と目標供給量との目標関係が指示されるように構成されている。
そして、運転制御部Fが、指示されたメタンガス濃度と目標供給量との目標関係、及び、原料側濃度センサSGにて検出されるメタンガス濃度(原料ガス中メタン濃度)に基づいて、原料ガスGの目標供給量を求めて、求めた目標供給量を原料ガス調整部MGに指示するように構成されている。
ちなみに、目標供給量を減少させる量は、メタンガス濃度の低下に伴って増加するリサイクルガス量の増加量をも鑑みて設定されている。
次に、圧力変動吸着式ガス製造装置の第2実施形態を説明するが、この第2実施形態は、上記第1実施形態におけるオフガスタンクTを省略したものであって、その他の構成は上記第1実施形態と同様であるから、以下の説明においては、上記第1実施形態と異なる点を詳述する。
そして、上記(1)式の関係が維持されていると、流路圧力は、図4に示すオフガスタンク圧と同様に、適正な最低圧(極小値)と適正な最高圧とを維持しながら、増加と減少を繰り返すことになる。
また、リサイクルガス量が、「オフガス量‐膜透過ガス量」よりも多いと、流路圧力は、図6に示すオフガスタンク圧と同様に、漸次小さくなり、昇圧ポンプ10を損傷する等の不都合を生じる虞がある。
次に、その他の別実施形態を列記する。
(1)上記第1及び第2実施形態においては、オフガスの供給流量を調整するオフガス調整部MRを、膜分離部9の下流側箇所に設けるようにしたが、昇圧ポンプ10と膜分離部9との間に相当する箇所にオフガス調整部MRを設置する形態で実施してもよい。
また、オフガス排出路4を吸着塔1に接続する箇所は、吸着塔1における精製対象ガス排出路5が接続される端部側や、吸着塔1における長手方向の中間部に接続させるようにしてもよく、要は、オフガス排出路5を吸着塔1に接続すればよい。
3 原料ガス供給路
4 オフガス排出路
5 精製対象ガス排出路(製品ガス送出路)
9A 分離膜
9 膜分離部
11 リサイクルガス返送路
12 オフガス調整部
15 原料ガス調整部
F 運転制御部
G 原料ガス(バイオガス)
H 製品対象ガス(製品ガス)
T オフガスタンク
Claims (5)
- 精製対象ガス及びそれ以外の雑ガスを含む原料ガスから前記雑ガスを吸着する吸着材を充填させた形態で、且つ、原料ガス供給路を一端側に接続し、精製対象ガス排出路を他端側に接続し、かつ、オフガス排出路を接続させた形態で設けた複数の吸着塔の夫々について、
前記原料ガス供給路を通して供給される前記原料ガスから前記雑ガスを吸着して前記精製対象ガス排出路を通して前記精製対象ガスを排出する吸着工程、及び、前記オフガス排出路を通して前記雑ガスを排出する脱着工程を含む運転サイクルを、位相を異ならせて順次行う運転制御部が設けられ、
前記オフガス排出路に、前記雑ガスを前記精製対象ガスに較べて速く透過する分離膜を備える膜分離部、及び、前記脱着工程において前記吸着塔から排出されるオフガスを前記膜分離部での膜分離のために昇圧して前記膜分離部に供給する昇圧部が設けられ、
前記分離膜を透過しないリサイクルガスを前記原料ガス供給路に返送するリサイクルガス返送路が設けられた圧力変動吸着式ガス製造装置であって、
前記昇圧部から前記膜分離部に供給されるオフガスの供給流量を調整するオフガス調整部、及び、前記原料ガス供給路を通して前記吸着塔に供給する原料ガスの供給流量を調整する原料ガス調整部が設けられ、
前記運転制御部が、
前記オフガスの供給流量を、前記脱着工程を行うごとに前記吸着塔から排出されるオフガス量と前記吸着塔が脱着工程を開始してから別の吸着塔が前記脱着工程を開始するまでの間に前記膜分離部に供給されるオフガス量とを等しくする流量にするように、前記オフガス調整部を調整し、且つ、
前記吸着塔に供給される前記原料ガスの前記精製対象ガスの濃度が低下する場合に、前記原料ガスの供給流量を減少側に補正し、前記前記吸着塔に供給される前記原料ガスの前記精製対象ガスの濃度が上昇した場合に、前記原料ガスの供給流量を増加側に補正すべく、前記原料ガス調整部を調整する圧力変動吸着式ガス製造装置。 - 前記運転制御部が、前記リサイクルガスの流量及び前記リサイクルガスの前記精製対象ガスの濃度のうちの少なくとも一方に基づいて、前記吸着塔に供給される前記原料ガスの精製対象ガスの濃度の低下及び上昇を判別するように構成されている請求項1記載の圧力変動吸着式ガス製造装置。
- 前記運転制御部が、前記リサイクルガスが合流する前の前記原料ガスの前記精製対象ガスの濃度に基づいて、前記吸着塔に供給される前記原料ガスの前記精製対象ガスの濃度の低下及び上昇を判別するように構成されている請求項1記載の圧力変動吸着式ガス製造装置。
- 前記オフガス排出路における前記昇圧部よりも上流側箇所に、前記吸着塔から排出されるオフガスを貯留するオフガスタンクが設けられ、
前記昇圧部が、前記オフガスタンクに貯留されたオフガスを前記膜分離部に供給するように構成されている請求項1〜3のいずれか1項に記載の圧力変動吸着式ガス製造装置。 - 前記原料ガスが、前記精製対象ガスとしてのメタンを40%以上含有するメタン含有ガスであり、前記精製対象ガス排出路を通して排出される前記精製対象ガスが、メタンを80%以上含有する製品ガスである請求項1〜4のいずれか1項に記載の圧力変動吸着式ガス製造装置。
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