JP2017167174A - 補助露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】実施形態に係る補助露光装置は、被処理基板に対して露光処理を行う露光装置の前段側または後段側に配置され、被処理基板に対して局所的に露光処理を行う補助露光装置であって、搬送部と、光源ユニットとを備える。搬送部は、被処理基板を走査方向に搬送する。光源ユニットは、走査方向に搬送される被処理基板に対し、走査方向と交差する方向を長手方向とするライン状の光を照射する。また、光源ユニットは、複数の可動式マイクロミラーを配列したデジタルマイクロミラーデバイスを含んで構成される。
【選択図】図4
Description
図1に示す基板処理システム100は、クリーンルーム内に設置され、たとえばLCD(Liquid Crystal Display)用のガラス基板Gを被処理基板とし、LCD製造プロセスにおいてフォトリソグラフィ工程中の洗浄、レジスト塗布、プリベイク、現像およびポストベイク等の一連の処理を行う。露光処理は、基板処理システム100に隣接して設置される外部の露光装置20(EXP)で行われる。
次に、実施形態に係る補助露光装置11の構成について図4および図5を参照して説明する。図4は、実施形態に係る補助露光装置11の構成を示す図である。また、図5は、光源ユニット32から照射される紫外線の照射領域を示す図である。
次に、上述したDMD325を備える光源ユニット32の構成の一例について図6を参照して説明する。図6は、光源ユニット32の構成を示す図である。なお、光源ユニット32の構成は、図6に示す構成に限定されない。
ところで、DMD325の反射光をガラス基板Gの幅まで拡大した場合、照度分布が不均一化することが懸念される。具体的には、光源ユニット32から照射されるライン状の光のうち、DMD325から遠い端部側の照度がDMD325に近い中央部の照度と比べて低下するおそれがある。特に、本実施形態に係る補助露光装置11のように、単一の光源ユニット32を用いる場合には、上記のような照度分布の不均一化が生じ易い。
12 現像装置
17 制御部
20 露光装置
30 平流し搬送部
32 光源ユニット
38 照度測定部
46 コロ搬送路
100 基板処理システム
325 DMD
Claims (5)
- 被処理基板に対して露光処理を行う露光装置の前段側または後段側に配置され、前記被処理基板に対して局所的に露光処理を行う補助露光装置であって、
前記被処理基板を走査方向に搬送する搬送部と、
前記走査方向に搬送される前記被処理基板に対し、前記走査方向と交差する方向を長手方向とするライン状の光を照射する光源ユニットと
を備え、
前記光源ユニットは、
複数の可動式マイクロミラーを配列したデジタルマイクロミラーデバイスを含んで構成されること
を特徴とする補助露光装置。 - 前記光源ユニットは、
前記デジタルマイクロミラーデバイスおよび前記被処理基板間の光路上に配置され、前記デジタルマイクロミラーデバイスによって反射された光を前記被処理基板に対して前記ライン状に拡大して投射する投射レンズ
を備えることを特徴とする請求項1に記載の補助露光装置。 - 前記露光装置の後段側、かつ、露光後の前記被処理基板に対して現像処理を行う現像装置の前段に配置されること
を特徴とする請求項1または2に記載の補助露光装置。 - 単一の前記光源ユニットを備えることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の補助露光装置。
- 現像処理後の被処理基板における膜厚および線幅の少なくとも1つの測定結果と、前記複数の可動式マイクロミラーを均一に制御した場合における前記ライン状の光の照度分布とに基づき、前記可動式マイクロミラーの動作を制御する制御部
を備えることを特徴とする請求項4に記載の補助露光装置。
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