JP2017157322A - ヒータおよび定着装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】ヒータに用いる加熱体として、NTC特性の大きい抵抗発熱体を使用すると、ヒータの非通紙部が過度に昇温した場合、抵抗値が低下して非通紙部の温度上昇が抑制される。しかし、ヒータの温度制御を行うサーミスタ等の部品が故障した場合、ヒータが熱暴走を起こし、発熱量が過度に大きくなり、短時間でヒータに亀裂が発生する現象が起こりやすい。本発明は、ヒータの非通紙部昇温と、熱暴走時のヒータ破損を抑制することが可能な、NTC特性のヒータ及び定着装置を提供する。【解決手段】長尺な基板と;前記基板上の長手方向に沿って設けられる導体と;前記基板上の長手方向に複数に分割され、前記導体によって電気的に直列に接続され、前記基板の長手方向における抵抗温度係数が、端部領域に近づくほど小さくなる抵抗発熱体と;を具備していることを特徴とする。【選択図】図4

Description

本発明の実施形態は、ヒータおよび定着装置に関する。
OA機器、家電用電気製品、精密製造設備などの電子機器類にヒータが装着されている。ヒータは、例えば、複写機やファクシミリなどの定着装置において用紙にトナーを定着する定着装置に用いられる。また、リライタブルカードリーダであれば印字消去などに用いられる。ヒータは、給電用電極、導体、抵抗発熱体が基板上に形成されていることで構成され、給電用電極から供給された電力により、抵抗発熱体が発熱する。
定着装置に用いられるヒータは、一般的に、銀およびパラジウム、または、酸化ルテニウムおよびガラスを主成分として、抵抗温度係数[ppm/℃]が0あるいは正となるPTC(Positive Temperature Coefficient)特性の抵抗発熱体が使用されている。
ヒータは、定着装置で加熱できる記録媒体の最大のサイズ(記録媒体のヒータの長手方向と平行な長さ)に合わせた有効長、すなわち最大のサイズと同じか、または長く形成される。したがって、最大のサイズよりも小さい記録媒体を加熱する場合、PTC特性のヒータでは、ヒータのうち、非通紙部の領域の温度が上昇する。そこで、非通紙部の領域の温度上昇を抑制することを優先する場合には、ヒータには、抵抗温度係数[ppm/℃]が負となるNTC(Negative Temperature Coefficient)特性の抵抗発熱体を使用することが考えられる。(特許文献1参照)
従来のヒータ1Dを、図5を参照して説明する。ヒータ1Dの抵抗発熱体5−1、5−2をPTC特性の材料で構成する場合、搬送可能なサイズよりも小さいサイズの紙が連続して通過すると、非通紙部では紙に熱を奪われないため、温度が上昇する。特に厚みのある小さいサイズの紙を大量に通過させる場合、通紙部で低下する温度を上昇させるために、大きな電力がヒータ1Dに投入される。その結果、非通紙部の温度が過度に上昇し、加熱ローラ等の部品が劣化や破損に至るおそれがある。非通紙部の昇温抑制のためには、抵抗発熱体5−1、5−2をNTC特性の材料で形成することが考えられる。NTC特性の抵抗発熱体は、温度上昇に伴い抵抗値が下がるため、基板2長手方向の端部領域で非通紙部となる抵抗発熱体5−1、5−2は発熱量が低下し、非通紙部昇温を抑制することが可能となる。
しかし、抵抗発熱体5−1、5−2のNTC特性が大きいと、例えば温度制御を行うサーミスタ等の故障でヒータ1Dが熱暴走する場合、発熱量が過度に上昇する。基板2の両端部は抵抗発熱体5−1、5−2が形成されていないため、温度の上昇が小さく、その結果、基板2の長手方向における温度差が大きくなり、過大な熱応力が発生する。この熱応力は、短時間でヒータ1Dの破断強度を超えるため、ヒータ1Dの端部に亀裂が生じる現象が発生する。
特開2009−244867号公報
ヒータに用いる加熱体として、NTC特性の大きい抵抗発熱体を使用すると、ヒータの非通紙部が過度に昇温した場合、抵抗値が低下して非通紙部の温度上昇が抑制される。しかし、ヒータの温度制御を行うサーミスタ等の部品が故障した場合、ヒータが熱暴走を起こし、発熱量が過度に大きくなり、短時間でヒータに亀裂が発生する現象が起こりやすい。
本発明は、ヒータの非通紙部昇温と、熱暴走時のヒータ破損を抑制することが可能な、NTC特性のヒータ及び定着装置を提供する。
長尺な基板と;前記基板上の長手方向に沿って設けられる導体と;前記基板上の長手方向に複数に分割され、前記導体によって電気的に直列に接続され、前記基板の長手方向における抵抗温度係数が、端部領域に近づくほど小さくなる抵抗発熱体と;を具備していることを特徴とする。
本発明によれば、非通紙部昇温と、熱暴走時のヒータ破損を抑制することが可能な、NTC特性のヒータ及び定着装置を提供する。
第1の実施形態を例示するヒータの概略図である。 第1の実施形態に係る抵抗発熱体材料の組成と抵抗温度係数の特性を例示するための図である。 第2の実施形態を例示するヒータの概略図である。 第1の実施形態と第2の実施形態のヒータと、ヒータが熱暴走する場合のヒータの温度分布を例示するための図である。 従来のヒータを例示する概略図である。 ヒータの使用例である定着装置の概略図である。
以下、図面を参照して各実施形態を説明する。
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の寸法や比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、各図面において同じ構成および作用効果については、同一符号を用いて重複部分の説明を省略する。
以下、第1の実施形態のヒータを、図1、図2を参照して説明する。
本実施形態に係るヒータ1Aは、基板2と、第1導体3と、第2導体4と、抵抗発熱体5a〜5eおよび、第1導体3,第2導体4と、抵抗発熱体5を覆うオーバーコート層7と、給電用電極6a、6bを具備する。第1導体3と、第2導体4は、基板2の短手方向における幅を一定に、基板2の長手方向に沿って互いに所定の間隔を保って形成されている。
第1導体3と第2導体4は、基板2の長手方向の一端に設けられている電極6から基板2の長手方向に沿って形成され、抵抗発熱体5a〜5eと電気的に接続されている。抵抗発熱体5a〜5eはNTC特性を有し、第1導体3と第2導体4との間に互いに離間するように四辺形状に分割され、第1導体3と第2導体4によって、電気的に直列に接続されている。NTC特性の抵抗発熱体5は、総じてシート抵抗値が高く、一つのヒータに形成する抵抗発熱体5の総抵抗値を商用電源で使用することが困難である。そこで本実施形態のように、基板2の長手方向で抵抗発熱体5を複数に分割して形成し、抵抗発熱体5の通電方向と直交する方向において、第1導体3、第2導体4との接触面積を広く形成する方法が取られている。
図1に例示するように、抵抗発熱体5は基板2上で複数に分割され、基板2の長手方向の幅をW、短手方向の長さをLとすると、W>Lとなるように形成される。これにより抵抗発熱体5a〜5eは、第1導体3、第2導体4との接触長さが大きくなり、電流が流れる経路が数多く形成され、シート抵抗値を下げることができる。抵抗発熱体5をこのように形成することにより、多種類のサイズの記録媒体を効率的に加熱することが可能となり、抵抗発熱体5のNTC特性を生かすことができる。
ここで、抵抗発熱体5の組成と抵抗温度係数との関係を図2に例示する。抵抗発熱体5を構成する抵抗体ペーストの材料について配合比を変え、抵抗体ペーストを試作した。
本実施形態におけるヒータ1Aの、基板2の長手方向の中央領域に設けられる抵抗発熱体5b〜5dは、例えばルテニウム(Ru)、イリジウム(Ir)、ロジウム(Rh)などのうち少なくとも1種類を20〜80質量%、酸化物として含み、チタン(Ti)、マンガン(Mn)、鉄(Fe)などを15〜60質量%、酸化物として添加した抵抗体ペーストからなる。基板2の端部領域に設けられる抵抗発熱体5a、5eは、例えばルテニウム(Ru)、イリジウム(Ir)、ロジウム(Rh)などのうち少なくとも1種類を1〜30質量%、酸化物として含み、鉛(Pb)、コバルト(Co)、マンガン(Mn)、銅(Cu)などのうち、少なくとも1種類を25〜90質量%、酸化物として添加した抵抗体ペーストからなる。抵抗発熱体5a〜5eは、材料となる抵抗体ペーストをスクリーン印刷等により基板2上に塗布し、乾燥させ焼成して形成する。なお、抵抗体ペーストは、各材料を足して100質量%を超えることは無く、全体となる100質量%のうちに、各材料の割合が記載する範囲で構成されてなるものが本発明および実施形態である。
この構成によれば、基板2の長手方向中央領域に設けられる抵抗発熱体5b〜5dの抵抗温度係数は、−600ppm/℃〜―1000ppm/℃となる。また、基板2の端部領域に設けられる抵抗発熱体5a、5eの抵抗温度係数は、−2000ppm/℃〜―6000ppm/℃となる。本実施形態では、例えば図2に例示するように、No1からNo6までの条件で作成した抵抗体ペーストを参照して説明する。
例えば、基板2の長手方向の中央領域に設けられる抵抗発熱体5b、5c、5dには、No6の抵抗体ペーストを用い、端部領域に設けられる抵抗発熱体5a、5eにはNo1の抵抗体ペーストを用いる。この場合、抵抗発熱体5b、5c、5dの抵抗温度係数は−840ppm/℃であり、抵抗発熱体5a、5eの抵抗温度係数はそれよりも低く、−4023ppm/℃である。ヒータ1Aを中サイズ紙が連続して通過する場合、端部領域の抵抗発熱体5a、5eは非通紙部となり昇温する。しかし抵抗発熱体5a、5eの抵抗温度係数は中央領域よりも低いため、昇温とともに抵抗値が低下して発熱量が減少し、昇温を抑制することが可能である。
またヒータ1Aの熱暴走が発生する場合、ヒータ1Aの温度上昇に伴って、抵抗発熱体5a、5eの抵抗値は、抵抗発熱体5b〜5dと比較して速やかに減少する。これにより、ヒータ1Aの端部領域では発熱量が低下するため、温度が低下し、熱応力が緩和されて、基板2の端部割れを抑制することが可能となる。
また、抵抗発熱体5の抵抗温度係数は、中央領域の抵抗発熱体5cを最も高い値とし、基盤2の端部に近づくほど、小さい値となるように設定してもよい。例えば、基板2の中央領域に設ける抵抗発熱体5cを、図2のNo6とし、隣り合う抵抗発熱体5b、5dをNo1、基板2の端部領域の抵抗発熱体5a、5eをNo5の抵抗体ペーストで形成する。
例えば、はがきのような小サイズの記録媒体が基板2の中央領域を通過する場合、非通紙部の領域がヒータ1Aに占める面積は、通紙部の領域よりも広くなる。この場合、基板2の端部領域において、抵抗温度係数を両端部に近づくほど小さくなるように形成すると、用紙サイズに応じた非通紙部昇温の抑制を効率的に行うことが可能となる。また、ヒータ1Aが熱暴走する場合、非通紙部における抵抗発熱体5の発熱量は、基板2の両端部に近づくほど段階的に低下するため、熱応力発生の抑制に有利に働く。
次に、第2の実施形態について、図3を参照して説明する。
図3に例示するヒータ1Bの抵抗発熱体5は、ヒータ1Aよりも基板2の長手方向で細かく分割されている。また、複数に分割される抵抗発熱体5a〜5zは、基板2の長手方向における抵抗温度係数が、基板2の両端部に近づくほど小さくなるように形成されることが望ましい。これによりヒータ1Bは、多種類の用紙サイズに応じた加熱と、非通紙部昇温の抑制を効率的に行うことが可能となり、熱応力発生の抑制にも有利に働く。
次に図4を参照して、ヒータ1の抵抗発熱体5の構成と、ヒータ1が熱暴走を起こす場合のヒータ1の長手方向の温度分布について説明する。
図4で例示するヒータ1Aとヒータ1Cは、基板2の長手方向に設けられる抵抗発熱体5が複数に分割される数が異なっている。ヒータ1Cの抵抗発熱体5は、ヒータ1Aよりも基板2の長手方向で、細かく分割して設けられている。また、ヒータ1A、1Cに設けられる抵抗発熱体5の抵抗温度係数は、基板2の端部領域に近づくほど小さくなるように形成されている。ここで抵抗温度係数の条件をT1〜T6とし、抵抗温度係数の大きさを、T1<T2<T3<T4<T5<T6とする。
例えば、ヒータ1Aに設けられる抵抗発熱体5の抵抗温度係数は、中央領域がT6、T6と隣り合う2か所はT5で形成され、基板2の端部領域では、最も小さい値であるT1で形成されている。ヒータ1Cに設けられる抵抗発熱体5の抵抗温度係数は、基板2の中央領域が最も大きいT6で形成されており、基板2の端部領域に近づくにつれて段階的に小さくなり、両端は最も小さいT1で形成されている。
ヒータ1Aが熱暴走する場合、T5とT1は中央領域のT6よりも抵抗温度係数が小さく形成されているため、温度上昇とともに発熱量が低下する。この場合、T5とT1の抵抗温度係数の差が大きいと、ヒータ1Aの温度分布は、T5とT1の境界付近で急激に低下する曲線となる。
ヒータ1Cが熱暴走する場合、抵抗発熱体5の抵抗温度係数は、基板2の端部領域に近づくにつれて、T6からT1まで段階的に小さくなるように形成されているため、温度上昇に伴い発熱量も段階的に低下する。そのため、ヒータ1Cの温度分布は中央領域をピークとし、端部領域に向かってなだらかに低下する曲線となる。
熱暴走時、ヒータ1Aとヒータ1Cでは、抵抗発熱体5の分割される数と、その抵抗温度係数の条件Tに差があることにより、基板2の長手方向における温度分布が異なる。ヒータ1Aは基板2の長手方向において、高温から低温への境界部分で温度分布が急激に変化しているため、その境界部分で熱応力が発生する可能性がある。ヒータ1Cは、基板2の中央領域から端部領域にかけてなだらかに温度が低下するため、熱応力が発生しにくく、基板2の端部の割れを抑制することに対し、さらに有利に働く。
基板2の長手方向で複数に分割される抵抗発熱体5の数量や列数、抵抗温度係数は、本実施形態に限定されない。ヒータ1Aの種類や用途に応じて適宜変更し、基板2の端部領域に近づくほど、抵抗発熱体5の抵抗温度係数が小さくなるように形成されればよい。
基板2は、耐熱性および絶縁性を有し、本実施形態では矩形状に形成されている。基板2は、例えば厚みが0.5mmから1.0mm程度の平板であり、アルミナ等のセラミック、ガラスセラミックまたは耐熱複合材料などから構成される。基板2の形状は、短手方向および短手方向と交差する長手方向を有していれば、本実施形態に限定されるものではない。
第1導体3、第2導体4は、抵抗発熱体5に電力を供給するものであり、基板2上に形成されている。第1導体3、第2導体4は、抵抗値の低い銀(Ag)系の導電体材料を使用することで、電流を流れやすくし、抵抗発熱体5のNTC特性をより高めることが可能となる。
オーバーコート層6は、基板2上に形成された第1導体3、第2導体4および抵抗発熱体5を覆っており、本実施形態では帯状に形成されている。オーバーコート層6は、例えば、アルミナ等の熱伝導性に優れた無機酸化物フィラーを、3〜25質量%加えたガラス層である。
オーバーコート層6は、第1導体3、第2導体4及び抵抗発熱体5を覆っていることで、第1導体3、第2導体4および抵抗発熱体5が直接大気に露出することを防止し、外部からの干渉(例えば、機械的、化学的、電気的な干渉)によって第1導体3、第2導体4および抵抗発熱体5が損傷・破損することを抑制するものである。
次に、ヒータ1を備えた定着装置100の一実施形態について説明する。図6はヒータ1の使用例である定着装置100を示す説明図である。定着装置100は、ヒータ1と、定着フィルム200と、加圧ローラ300とで構成されている。なお、定着装置100は、実際は画像形成装置に内蔵されているが、画像形成装置は省略する。
定着フィルム200は、ポリイミド樹脂等の耐熱性シートからなるロール状のフィルムである。この定着フィルム200の底部に、ヒータ1が配置されている。
加圧ローラ300は、回転軸によって回転可能に構成されたローラである。そのローラの表面には、耐熱性の弾性材料として、シリコーンゴム層が形成されている。シリコーンゴム層は、定着フィルム200を介して、ヒータ1と弾接している。
ヒータ1が通電され、抵抗発熱体5で熱が発生し、その熱は基板を介し、定着フィルム200および加圧ローラ300を加熱する。そこに、定着フィルム200および加圧ローラ300の回転によってトナー像500が付着した用紙400が送られると、トナー像500は加熱され、軟化溶融する。この後、加圧ローラ300の用紙排出側では用紙400がヒータ1から離れ、トナー像500’は自然放熱して冷却固化し、定着装置から離れる。
本実施形態によれば、非通紙部昇温と熱暴走時の基板割れの抑制が可能なヒータ1を用いることにより、信頼性に優れた定着装置100を実現することができる。
なお、本実施形態では、ヒータ1を定着装置100のトナー定着用に使用する例を説明した。しかし、本発明は、この実施形態に限定されるものではない。例えば、家庭用の電気製品、業務用や実験用の精密機器や化学反応用の機器等に装着して加熱や保温の熱源として使用することができる。
本発明の実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
1 ヒータ、 2 基板、 3 第1導体、 4 第2導体、 5 抵抗発熱体、 100 定着装置

Claims (4)

  1. 長尺な基板と;
    前記基板上の長手方向に沿って設けられる導体と;
    前記基板上の長手方向に複数に分割され、前記導体によって電気的に直列に接続され、前記基板の長手方向における抵抗温度係数が、端部領域に近づくほど小さくなる抵抗発熱体と;
    を具備していることを特徴とするヒータ。
  2. 前記抵抗発熱体は、NTC特性を有し、前記基板の長手方向における端部領域の抵抗温度係数が、−2000〜−6000ppm/℃であることを特徴とする請求項1に記載のヒータ。
  3. 前記基板の長手方向の端部領域における前記抵抗発熱体は、ルテニウム、イリジウム、ロジウムなどのうち少なくとも1種類を1〜30質量%含み、鉛、コバルト、マンガン、銅などのうち少なくとも1種が25〜90質量%添加されてなることを特徴とする請求項1または2に記載のヒータ。
  4. 通過する記録媒体を加熱する請求項1から3のいずれか一に記載のヒータと;
    前記記録媒体を加熱時に加圧するローラと;
    を備え、前記記録媒体を加熱および加圧することで、前記記録媒体に付着したトナー像を定着させることを特徴とする定着装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7508305B2 (ja) 2020-08-06 2024-07-01 東芝テック株式会社 画像処理装置

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7282526B2 (ja) 2019-01-18 2023-05-29 キヤノン株式会社 ヒータ、定着装置及び画像形成装置
US20220043377A1 (en) 2020-08-06 2022-02-10 Toshiba Tec Kabushiki Kaisha Heating device, fixing device, and image processing apparatus
JP2022154239A (ja) * 2021-03-30 2022-10-13 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 定着装置および画像形成装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004234998A (ja) * 2003-01-30 2004-08-19 Canon Inc 加熱装置、画像形成装置、及び加熱体
JP2007232819A (ja) * 2006-02-28 2007-09-13 Harison Toshiba Lighting Corp 定着ヒータ、加熱装置、画像形成装置
JP2010146832A (ja) * 2008-12-18 2010-07-01 Allied Material Corp 抵抗発熱体
JP2012252127A (ja) * 2011-06-02 2012-12-20 Canon Inc 加熱体及び画像加熱装置
JP2015109245A (ja) * 2013-12-05 2015-06-11 東芝ライテック株式会社 ヒータおよび画像形成装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5253240B2 (ja) * 2008-03-14 2013-07-31 キヤノン株式会社 像加熱装置及びこの像加熱装置に用いられるヒータ
JP5518080B2 (ja) * 2009-09-11 2014-06-11 キヤノン株式会社 ヒータ及びこのヒータを搭載する像加熱装置
EP2476027B1 (en) * 2009-09-11 2014-06-25 Canon Kabushiki Kaisha Heater, image heating device with the heater and image forming apparatus therein
JP5791264B2 (ja) * 2009-12-21 2015-10-07 キヤノン株式会社 ヒータ及びこのヒータを搭載する像加熱装置
JP5812632B2 (ja) * 2011-03-10 2015-11-17 キヤノン株式会社 ヒータ及びこのヒータを有する像加熱装置
JP5893261B2 (ja) * 2011-04-19 2016-03-23 キヤノン株式会社 加熱装置及び画像形成装置
JP5896142B2 (ja) * 2012-03-23 2016-03-30 東芝ライテック株式会社 セラミックヒータおよび定着装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004234998A (ja) * 2003-01-30 2004-08-19 Canon Inc 加熱装置、画像形成装置、及び加熱体
JP2007232819A (ja) * 2006-02-28 2007-09-13 Harison Toshiba Lighting Corp 定着ヒータ、加熱装置、画像形成装置
JP2010146832A (ja) * 2008-12-18 2010-07-01 Allied Material Corp 抵抗発熱体
JP2012252127A (ja) * 2011-06-02 2012-12-20 Canon Inc 加熱体及び画像加熱装置
JP2015109245A (ja) * 2013-12-05 2015-06-11 東芝ライテック株式会社 ヒータおよび画像形成装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7508305B2 (ja) 2020-08-06 2024-07-01 東芝テック株式会社 画像処理装置

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