JP2017152366A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017152366A5 JP2017152366A5 JP2017003750A JP2017003750A JP2017152366A5 JP 2017152366 A5 JP2017152366 A5 JP 2017152366A5 JP 2017003750 A JP2017003750 A JP 2017003750A JP 2017003750 A JP2017003750 A JP 2017003750A JP 2017152366 A5 JP2017152366 A5 JP 2017152366A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- pulse train
- irradiator
- detector
- electronic control
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 5
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims 2
- 230000000903 blocking Effects 0.000 claims 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 1
Claims (8)
- 荷電粒子顕微鏡を使用する方法であって、前記荷電粒子顕微鏡は、
‐ 試料を保持するための試料ホルダと、
‐ 荷電粒子の照射ビームを生成するためのソースと、
‐ 前記ビームを前記試料に照射するように方向付けるための照射器と、
‐ 前記照射に応答して前記試料から発せられる放出放射束を検出するための検出器と、を備え、
パルス列によって前記試料を照射するステップと、付随的な放出放射の位置分解された検出を行うために前記検出器を用いるステップとを含む、
方法において、
前記照射器において、アパーチャアレイを有するアパーチャプレートを設けるステップと、
前記ビームが通過する共振RF空洞を含む偏向素子を提供するステップと、前記アレイを横切って前記ビームを走査する偏向素子を使用するステップであって、それにより、前記ビームパルス列を生成するように前記ビームを交互に遮断し透過させる、ステップと、を含む方法。 - 前記空洞がTM110モードで励起される、請求項1に記載の方法。
- 前記偏向素子に入射する前に、前記ビームがパルス化される、請求項1または2に記載の方法。
- 前記偏向素子の平面は、前記試料の平面上に結像される、請求項1から3のいずれか1項に記載の方法。
- 前記アパーチャプレートが、前記偏向素子と前記試料との間の中間ビーム交差点に配置される、請求項1から4のいずれか1項に記載の方法。
- 前記パルス列において、連続するパルスは1〜100ピコ秒の範囲の間隔を有する、請求項1から5のいずれか1項に記載の方法。
- 前記検出器は、前記試料によって生成された時間分解された一連の回折パターンを記録するために使用される、請求項1から6のいずれか1項に記載の方法。
- 荷電粒子顕微鏡であって、
‐ 試料を保持するための試料ホルダと
‐ 荷電粒子の照射ビームを生成するためのソースと、
‐ 前記ビームを前記試料に照射するように方向付けるための照射器と、
‐ 前記照射に応答して前記試料から発せられる放出放射束を検出するための検出器と、
‐ 顕微鏡の操作の態様を制御するための電子制御装置であって、前記電子制御装置は、前記試料に前記ビームのパルス列が照射されたときに前記試料から放出される放射の位置分解された検出を行うように構成されている、電子制御装置と、を備え、
当該顕微鏡はさらに、
‐ 前記ビームを方向付ける共振RF空洞を含むビーム偏向素子と、
‐ 前記照射器内に配置され、アパーチャのアレイを有するアパーチャプレートと、を備え、
前記電子制御装置は、
‐ 前記ビームが前記アレイを横切って走査するように前記偏向素子を駆動し、その結果、前記パルス列を生成するように前記ビームが交互に遮断され透過するように構成されている。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP16157199.7 | 2016-02-24 | ||
EP16157199.7A EP3133633B1 (en) | 2016-02-24 | 2016-02-24 | Studying dynamic specimen behavior in a charged-particle microscope |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017152366A JP2017152366A (ja) | 2017-08-31 |
JP2017152366A5 true JP2017152366A5 (ja) | 2018-06-07 |
JP6437020B2 JP6437020B2 (ja) | 2018-12-12 |
Family
ID=55411310
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017003750A Active JP6437020B2 (ja) | 2016-02-24 | 2017-01-13 | 荷電粒子顕微鏡を使用する方法及び荷電粒子顕微鏡 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10340113B2 (ja) |
EP (1) | EP3133633B1 (ja) |
JP (1) | JP6437020B2 (ja) |
CN (1) | CN107123584B (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3327748B1 (en) | 2016-11-28 | 2019-03-27 | FEI Company | Time-of-flight charged particle spectroscopy |
US10032599B2 (en) | 2016-11-28 | 2018-07-24 | FEI Cmnpany | Time-resolved charged particle microscopy |
EP3444836B1 (en) * | 2017-08-17 | 2020-01-29 | FEI Company | Diffraction pattern detection in a transmission charged particle microscope |
US10522323B2 (en) * | 2018-04-05 | 2019-12-31 | Fei Company | Electron energy loss spectroscopy with adjustable energy resolution |
EP3550585B1 (en) * | 2018-04-05 | 2021-06-23 | FEI Company | Studying dynamic specimens in a transmission charged particle microscope |
EP3564982A1 (en) * | 2018-05-02 | 2019-11-06 | FEI Company | Eels detection technique in an electron microscope |
CN110890256B (zh) * | 2019-11-26 | 2021-07-27 | 华中科技大学 | 一种会聚角可调无磁飞秒电子源装置 |
EP3901982A1 (en) * | 2020-04-20 | 2021-10-27 | ASML Netherlands B.V. | An inspection tool, inspection tool operating method, and non-transitory computer readable medium |
KR20220156060A (ko) * | 2020-04-20 | 2022-11-24 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 검사 도구 및 검사 도구 작동 방법 |
US11127562B1 (en) * | 2020-08-05 | 2021-09-21 | Fei Company | System and method for RF pulsed electron beam based STEM |
CN113984813A (zh) * | 2021-09-27 | 2022-01-28 | 上海大学 | 一种高通量薄膜晶体结构表征装置及方法 |
JP7490832B2 (ja) | 2022-03-14 | 2024-05-27 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線装置および荷電粒子線装置の制御方法 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4921829B1 (ja) * | 1969-05-16 | 1974-06-04 | ||
JPS4937759Y1 (ja) * | 1970-12-18 | 1974-10-16 | ||
JPS5538634B2 (ja) | 1972-06-24 | 1980-10-06 | ||
JPS5115782B2 (ja) | 1972-08-17 | 1976-05-19 | ||
US4445041A (en) * | 1981-06-02 | 1984-04-24 | Hewlett-Packard Company | Electron beam blanker |
JPS60130031A (ja) | 1983-12-16 | 1985-07-11 | Toshiba Mach Co Ltd | パルスビ−ム発生装置 |
US6414313B1 (en) * | 1999-06-01 | 2002-07-02 | Nikon Corporation | Multiple numerical aperture electron beam projection lithography system |
CN100399014C (zh) | 2001-06-29 | 2008-07-02 | 中国科学院物理研究所 | 一种具有高时间分辨的电子显微镜 |
US7557360B2 (en) * | 2003-10-16 | 2009-07-07 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
JP2006196236A (ja) | 2005-01-12 | 2006-07-27 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子顕微鏡及び観察方法 |
US8569712B2 (en) * | 2010-10-07 | 2013-10-29 | Fei Company | Beam blanker for interrupting a beam of charged particles |
JP5744629B2 (ja) * | 2011-06-03 | 2015-07-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡及び電子線を用いた撮像方法 |
WO2014123591A2 (en) * | 2012-10-17 | 2014-08-14 | Cornell University | Generation and acceleration of charged particles using compact devices and systems |
EP2722865A1 (en) * | 2012-10-22 | 2014-04-23 | Fei Company | Beam pulsing device for use in charged-particle microscopy |
US9165743B2 (en) * | 2014-02-14 | 2015-10-20 | Lawrence Livermore National Security, Llc | High-speed multiframe dynamic transmission electron microscope image acquisition system with arbitrary timing |
US9464998B2 (en) * | 2014-06-20 | 2016-10-11 | California Institute Of Technology | Method and system for electron microscope with multiple cathodes |
US9697982B2 (en) * | 2015-04-06 | 2017-07-04 | Euclid Techlabs, Llc | Apparatus for GHz rate high duty cycle pulsing and manipulation of low and medium energy DC electron beams |
US10032599B2 (en) * | 2016-11-28 | 2018-07-24 | FEI Cmnpany | Time-resolved charged particle microscopy |
-
2016
- 2016-02-24 EP EP16157199.7A patent/EP3133633B1/en active Active
- 2016-12-22 US US15/389,151 patent/US10340113B2/en active Active
-
2017
- 2017-01-13 JP JP2017003750A patent/JP6437020B2/ja active Active
- 2017-01-20 CN CN201710041635.XA patent/CN107123584B/zh active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2017152366A5 (ja) | ||
CN110582833B (zh) | 试样检查装置及试样检查方法 | |
US9110022B2 (en) | Acoustic methods and systems for detecting terahertz radiation | |
WO2012008274A1 (ja) | 粒子線照射装置およびこれを備えた粒子線治療装置 | |
US20080298401A1 (en) | Device and Method for Creating a Spatial Dose Distribution in a Medium Volume | |
JP6533532B2 (ja) | レーザーコンプトンx線源およびレーザーコンプトンγ線源を用いた超低放射線量フィードバック撮影 | |
JP2008502104A (ja) | レーザ原子プロービング方法 | |
JP2007531218A (ja) | レーザ原子プローブ | |
JP6361086B1 (ja) | X線回折測定装置及びx線回折測定方法 | |
CN102185250A (zh) | 一种产生飞秒级时间分辨的x射线源的装置及方法 | |
WO2016103834A8 (ja) | 斜入射蛍光x線分析装置および方法 | |
CN110431391A (zh) | 针对极紫外光源的量测系统 | |
CN104142316A (zh) | 结合预烧蚀和再加热的三脉冲libs探测系统 | |
Lamprou et al. | A perspective on high photon flux nonclassical light and applications in nonlinear optics | |
JP2019132599A (ja) | 搬送物の応力測定装置 | |
Nürnberg | Laser-accelerated proton beams as a new particle source | |
JP4718982B2 (ja) | イオン分析装置 | |
JP2008241301A (ja) | 飛行時間分析型後方散乱による非破壊3次元ナノメートル分析装置及び飛行時間分析型後方散乱による非破壊3次元ナノメートル分析方法 | |
JP3822032B2 (ja) | 欠陥評価装置 | |
JP6114122B2 (ja) | X線発生装置 | |
KR101212460B1 (ko) | 플라즈마를 이용한 레이저 가공상태 모니터링 장치 및 방법 | |
Shaw et al. | Generation of tens-of-MeV photons by compton backscatter from laser-plasma-accelerated GeV electrons | |
US20230148240A1 (en) | Production of an object by way of two-photon polymerization | |
JP2005346962A (ja) | 硬x線発生方法および装置 | |
JP3866225B2 (ja) | 表面微小領域原子発光分析装置 |