JP2017150068A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2017150068A5
JP2017150068A5 JP2017009186A JP2017009186A JP2017150068A5 JP 2017150068 A5 JP2017150068 A5 JP 2017150068A5 JP 2017009186 A JP2017009186 A JP 2017009186A JP 2017009186 A JP2017009186 A JP 2017009186A JP 2017150068 A5 JP2017150068 A5 JP 2017150068A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
article
vapor deposition
thermochemical vapor
support
angstroms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2017009186A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2017150068A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from US15/004,455 external-priority patent/US20170211180A1/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2017150068A publication Critical patent/JP2017150068A/ja
Publication of JP2017150068A5 publication Critical patent/JP2017150068A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Description

[0002]反応律速の熱化学気相成長(CVD)は、多様な材料に付与することが可能な優れた特性を備えたコーティングを生成するために用いることができる。しかし、反応律速の熱CVDは、望ましくない表面上の効果および/または不整合を生み出す場合がある。例えば、加工用ビードの使用は、反応律速の熱CVDコーティングを生成するための技術である。そのようなビードによって、ばらつきのある厚さ、例えば、加工用ビードのスポットおよび/または相違する着色が生じる場合がある。同様に、1000トルよりも大きな圧力における分解のための高濃度の気体によっても同様の望ましくない効果が生じる場合がある。

Claims (16)

  1. 支持体、およびこの支持体上の熱化学気相成長コーティングを含む物品であって、熱化学気相成長コーティングは、拡散律速の熱化学気相成長によって生み出される特性を備え、上記特性には、1つよりも多い層の分子堆積による成長が含まれる、前記物品。
  2. 特性には1000オングストローム以下の厚さの範囲が含まれる、請求項1に記載の物品。
  3. 熱化学気相成長コーティングは8000オングストロームよりも大きな厚さを有し、そして剥離しない、請求項1に記載の物品。
  4. 熱化学気相成長コーティングは12000オングストロームよりも大きな厚さを有し、そして剥離しない、請求項1に記載の物品。
  5. 熱化学気相成長コーティングは16000オングストロームよりも大きな厚さを有し、そして剥離しない、請求項1に記載の物品。
  6. 熱化学気相成長コーティングは19000オングストロームよりも大きな厚さを有し、そして剥離しない、請求項1に記載の物品。
  7. 特性には主として非晶質の構造が含まれる、請求項1に記載の物品。
  8. 特性には実質的に完全に非晶質の構造が含まれる、請求項1に記載の物品。
  9. 特性には相違する着色が存在しないことが含まれる、請求項1に記載の物品。
  10. 支持体は金属を含む、請求項1に記載の物品。
  11. 支持体は合金を含む、請求項1に記載の物品。
  12. 支持体は少なくとも380℃の温度によって処理されている、請求項1に記載の物品。
  13. 支持体は少なくとも430℃の温度によって処理されている、請求項1に記載の物品。
  14. 支持体は少なくとも440℃の温度によって処理されている、請求項1に記載の物品。
  15. 容器へガス種を導入すること、および、容器の中の物品上にガス種の拡散律速の反応による熱化学気相成長コーティングを生成させることを含む、熱化学気相成長プロセス。
  16. ガス種は、容量で10%と20%の間の濃度でのシランおよび不活性ガスを含むシラン含有種である、請求項15に記載のプロセス。
JP2017009186A 2016-01-22 2017-01-23 拡散律速の熱化学気相成長コーティング Pending JP2017150068A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US15/004,455 US20170211180A1 (en) 2016-01-22 2016-01-22 Diffusion-rate-limited thermal chemical vapor deposition coating
US15/004,455 2016-01-22

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017150068A JP2017150068A (ja) 2017-08-31
JP2017150068A5 true JP2017150068A5 (ja) 2021-09-09

Family

ID=57860771

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017009186A Pending JP2017150068A (ja) 2016-01-22 2017-01-23 拡散律速の熱化学気相成長コーティング

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20170211180A1 (ja)
EP (1) EP3196335A1 (ja)
JP (1) JP2017150068A (ja)
KR (1) KR20170088307A (ja)
CN (1) CN107267955A (ja)
AU (1) AU2017200337A1 (ja)
SG (1) SG10201700441SA (ja)
TW (1) TWI772285B (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102018100686A1 (de) * 2018-01-12 2018-03-01 Peter Lell Elektrisches Unterbrechungsschaltglied mit Reaktivbeschichtung in der Reaktionskammer

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4579752A (en) * 1984-10-29 1986-04-01 At&T Bell Laboratories Enhanced corrosion resistance of metal surfaces
US4792460A (en) * 1986-07-15 1988-12-20 Electric Power Research Institute, Inc. Method for production of polysilanes and polygermanes, and deposition of hydrogenated amorphous silicon, alloys thereof, or hydrogenated amorphous germanium
US4684542A (en) * 1986-08-11 1987-08-04 International Business Machines Corporation Low pressure chemical vapor deposition of tungsten silicide
GB2195663B (en) * 1986-08-15 1990-08-22 Nippon Telegraph & Telephone Chemical vapour deposition method and apparatus therefor
JP3507072B2 (ja) * 1991-07-16 2004-03-15 セイコーエプソン株式会社 化学気相推積装置及び半導体膜形成方法と薄膜半導体装置の製造方法
US5299731A (en) * 1993-02-22 1994-04-05 L'air Liquide Corrosion resistant welding of stainless steel
JPH10321819A (ja) * 1997-05-22 1998-12-04 Toshiba Corp 半導体素子の製造方法
JP2001345379A (ja) * 2000-05-30 2001-12-14 Fujitsu Ltd 半導体装置およびその製造方法
JP4484185B2 (ja) * 2000-08-29 2010-06-16 コバレントマテリアル株式会社 シリコン半導体基板の化学的気相薄膜成長方法
EP1421607A2 (en) * 2001-02-12 2004-05-26 ASM America, Inc. Improved process for deposition of semiconductor films
US7175713B2 (en) * 2002-01-25 2007-02-13 Applied Materials, Inc. Apparatus for cyclical deposition of thin films
GB2395492A (en) * 2002-11-25 2004-05-26 Thermo Electron Corp Improvements in deposition methods for the production of semiconductors
CN101066842A (zh) * 2007-06-05 2007-11-07 浙江大学 制备非晶氢硅薄膜的方法及装置
JP5735522B2 (ja) * 2009-10-27 2015-06-17 シルコテック コーポレイション 化学気相成長コーティング、物品、及び方法
WO2014123084A1 (ja) * 2013-02-07 2014-08-14 ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエル 半導体装置およびその製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7070833B2 (en) Method for chemical vapor deposition of silicon on to substrates for use in corrosive and vacuum environments
CN101974734B (zh) 具有多层复合防护膜的基底材料的制备方法
SG10201803412XA (en) Methods and apparatus for depositing silicon oxide on metal layers
JP6302081B2 (ja) ゲルマニウムまたは酸化ゲルマニウムの原子層堆積
JP6063065B2 (ja) シードラックから還元型酸化グラフェンを基板上に合成する方法
JP2017150068A5 (ja)
KR20070113535A (ko) 화학적 기상 반응 방법을 이용한 흑연에 내산화성을 갖게하는 방법 및 그 제조물
WO2012118200A1 (ja) 金属薄膜の製膜方法、金属薄膜、および金属薄膜の製膜装置
TWI772285B (zh) 限制擴散速率之熱化學氣相沉積塗層
JP5170788B2 (ja) 新規金属窒素酸化物プロセス
US10316408B2 (en) Delivery device, manufacturing system and process of manufacturing
GB955700A (en) Process for the production of coatings of very pure silicon carbide free from bindingagents
JP2017133096A (ja) 熱化学気相成長分割官能化プロセス、製品、およびコーティング
US20240117495A1 (en) Cold thermal chemical vapor deposition
US20040175578A1 (en) Method for chemical vapor deposition of silicon on to substrates for use in corrosive and vacuum environments
US10283354B2 (en) Methods of growing thin films at low temperatures using electron stimulated desorption (ESD)
EP3514258B1 (en) Method for the hydrophobization of a substrate
CN103320771A (zh) 喷淋头以及气相沉积设备
JP2018168398A (ja) 原子層堆積法による酸化イットリウム含有薄膜の製造方法
Hu Production technology and application of thin film materials in micro fabrication
Kurashima et al. High Temperature SiC Reactor Cleaning Using Chlorine Trifluoride Gas Achieved by Purified Pyrolytic Carbon Coating Film
JPH02228475A (ja) 炭化ケイ素被膜の製造方法
JP2016053217A (ja) 化学気相蒸着方法と被覆物品
TW202335093A (zh) 膜製造方法
Hong Low Temperature Growth of Hexagonal Boron Nitride on Various Substrates Using Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition