JP2017146367A

JP2017146367A - 位相差フィルム

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Publication number: JP2017146367A
Application number: JP2016026304A
Authority: JP
Inventors: 勇太高橋; Yuta Takahashi; 正兼武藤; Masakane MUTO
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2016-02-15
Filing date: 2016-02-15
Publication date: 2017-08-24

Abstract

【課題】近赤外光領域の波長の光に対して所定の光学特性を示すと共に、裁断性にも優れる位相差フィルムを提供する。
【解決手段】液晶化合物を含む光学異方性層を備える位相差フィルムであって、８００〜１２００ｎｍから選択されるいずれかの波長λにおける、前記位相差フィルムの面内レタデーションＲｅ（λ）がλ／２±１００ｎｍの範囲内である、位相差フィルム。
【選択図】図４Ａ

Description

本発明は、位相差フィルムに関する。

フィルムの位相差を制御して様々な機能を付与した位相差フィルムは、様々な用途に用いられている。例えば、液晶ディスプレイにおいて視野角の拡大を目的として、位相差フィルムが用いられている。
このような位相差フィルムとしては、例えば、特許文献１で具体的に使用されているような、ポリカーボネート樹脂フィルムなどの樹脂フィルムが挙げられる。

特開２００５−３１１７０号公報

一方で、近年、赤外光領域（特に、近赤外光領域）の波長の光に対してλ／２程度の位相差を生じる位相差フィルム（いわゆる、λ／２板）が要望されている。
本発明者は、特許文献１に記載されるような樹脂フィルムを用いて、上記のような特性を満たす位相差フィルムを作製しようとしたところ、従来よりも樹脂フィルムをより延伸する必要があり、このような延伸フィルムは裁断性に劣る（裁断によってクラックが生じる）ことが分かった。
なお、延伸する以外にも樹脂フィルムの厚みを厚くすることにより、上記位相差の特性を満たすこともできる。しかしながら、そのような厚みを厚くしたフィルムにおいても、裁断性が劣る。

本発明は、上記実情に鑑みて、近赤外光領域の波長の光に対して所定の光学特性を示すと共に、裁断性にも優れる位相差フィルムを提供することを目的とする。

本発明者らは、上記課題に対して鋭意検討を行ったところ、液晶化合物を含む光学異方性層を用いることにより、所望の効果が得られることを知見した。
すなわち、下記構成により、上記課題が解決できることを見出した。

（１）液晶化合物を含む光学異方性層を備える位相差フィルムであって、
８００〜１２００ｎｍから選択されるいずれかの波長λにおける、上記位相差フィルムの面内レタデーションＲｅ（λ）がλ／２±１００ｎｍの範囲内である、位相差フィルム。
（２）上記光学異方性層が、ディスコティック液晶化合物を含む第１光学異方性層と、棒状液晶化合物を含む第２光学異方性層とを含む、（１）に記載の位相差フィルム。
（３）波長３５０ｎｍにおける透過率が１０％以下である、（１）または（２）に記載の位相差フィルム。
（４）さらに、ハードコート層を備える、（１）〜（３）のいずれかに記載の位相差フィルム。
（５）さらに、反射防止層を備える、（１）〜（４）のいずれかに記載の位相差フィルム。

本発明によれば、近赤外光領域の波長の光に対して所定の光学特性を示すと共に、裁断性にも優れる位相差フィルムを提供することができる。

本発明の位相差フィルムの第１実施形態の断面図である。本発明の位相差フィルムの第２実施形態の断面図である。本発明の位相差フィルムの第３実施形態の断面図である。本発明の位相差フィルムの第３実施形態の変形例の断面図である。本発明の位相差フィルムの第４実施形態の断面図である。本発明の位相差フィルムの第４実施形態の変形例の断面図である。本発明の位相差フィルムの第４実施形態の変形例の断面図である。

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
Ｒｅ（λ）は、波長λにおける面内レタデーションを表す。Ｒｅ（λ）は、ＫＯＢＲＡ−ＷＸ１００／ＩＲ（王子計測機器（株）製）などを用いて測定することができる。なお、Ｒｅ（λ）は、位相差フィルムの表面の法線方向における測定値である。
また、本明細書において、角度の関係（例えば、「平行」および「直交」）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。具体的には、厳密な角度±１０°未満の範囲内であることを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下が好ましく、３°以下がより好ましい。

本発明の位相差フィルムは、液晶化合物を含む光学異方性層を用いているため裁断性に優れる。また、位相差フィルム（特に、ハードコート層または反射防止層を形成した面）は、耐擦傷性にも優れる。
なお、液晶化合物を含む光学異方性層は、樹脂フィルムと比較して、薄い厚みで所定の光学特性を満たすことが可能であり、位相差フィルム自体の薄型化が可能となる。

＜第１実施形態＞
本発明の位相差フィルムの第１実施形態について、図面を参照して説明する。図１に、位相差フィルムの第１実施形態の断面図を示す。なお、本発明における図は模式図であり、各層の厚みの関係および位置関係などは必ずしも実際のものとは一致しない。
位相差フィルム１０ａは、支持体１２と、液晶化合物を含む光学異方性層１４とを備える。なお、支持体１２は任意の構成部材であり、位相差フィルム１０ａには含まれなくてもよい。
以下に、位相差フィルム１０ａを構成する部材について詳述する。

（支持体）
支持体１２は、液晶化合物を含む光学異方性層１４を支持する板である。なかでも、透明支持体であることが好ましい。なお、透明支持体とは、可視光の透過率が６０％以上である支持体を意図し、その透過率は８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。
支持体１２を構成する材料は特に制限されず、例えば、セルロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエステル系ポリマー、（メタ）アクリル系ポリマー、スチレン系ポリマー、ポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、アミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、および、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマーなどが挙げられる。
なかでも、セルロース系ポリマー（例えば、セルロースアシレート）、熱可塑性ノルボルネン系ポリマー（日本ゼオン（株）製のゼオネックスおよびゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン）、（メタ）アクリル系ポリマー、または、ポリエステル系ポリマーが好ましい。

支持体１２には、ＵＶ（紫外線）吸収剤、マット剤微粒子、可塑剤、劣化防止剤、および、剥離剤などの各種添加剤が含まれていてもよい。

支持体１２の光学特性は、位相差フィルム１０ａが後述する光学特性を示せば、特に制限されない。なかでも、支持体１２としては、実質的に光学異方性がない透明支持体を用いることが好ましく、波長５５０ｎｍでの面内レタデーションが０〜１０ｎｍの透明支持体を用いることがより好ましい。

支持体１２の厚みは特に制限されないが、位相差フィルム１０ａの薄型化、および、取り扱い性の点から、１０〜２００μｍが好ましく、２０〜１００μｍがより好ましい。
上記厚みは平均厚みを意図し、支持体１２の任意の５点の厚みを測定し、それらを算術平均したものである。

（光学異方性層）
光学異方性層１４は、液晶化合物を含む層である。
液晶化合物の種類は、特に制限されない。なお、光学異方性層１４としては、例えば、低分子液晶化合物をネマチック配向させた後、光架橋もしくは熱架橋によって固定化して得られる層、または、高分子液晶化合物をネマチック配向させた後、冷却することによって配向を固定化して得られる層を用いることもできる。

一般的に、液晶化合物はその形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（ディスコティック液晶化合物、円盤状液晶化合物）とに分類できる。さらに、棒状タイプおよび円盤状タイプには、それぞれ低分子タイプと高分子タイプとがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井正男著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできる。また、２種以上の棒状液晶化合物、２種以上のディスコティック液晶化合物、または、棒状液晶化合物とディスコティック液晶化合物との混合物を用いてもよい。
なお、棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報の請求項１および特開２００５−２８９９８０号公報の段落［００２６］〜［００９８］に記載のものを好ましく用いることができる。ディスコティック液晶化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００２０］〜［００６７］および特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができる。
光学異方性層１４は、温度および／または湿度による各種特性（例えば、光学特性）の変化を小さくできることから、重合性基を有する棒状液晶化合物、または、重合性基を有するディスコティック液晶化合物を用いて形成することがより好ましい。
つまり、光学異方性層１４は、重合性基を有する棒状液晶化合物または重合性基を有するディスコティック液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。なかでも、重合性基を有する棒状液晶化合物または重合性基を有するディスコティック液晶化合物を配向させて、重合によってその配向を固定化させて形成された層であることがより好ましい。この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
棒状液晶化合物およびディスコティック液晶化合物に含まれる重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基が好ましい。より具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、または、アリル基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。

光学異方性層１４の光学特性は、位相差フィルム１０ａが後述する光学特性を示せば、特に制限されない。なかでも、所望の位相差フィルム１０ａが得られやすい点で、８００〜１２００ｎｍから選択されるいずれかの波長λにおける光学異方性層１４の面内レタデーションＲｅ（λ）は、λ／２±１００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
面内レタデーションＲｅ（λ）の好適範囲、および、波長λの好適数値は、後述する位相差フィルムの面内レタデーションＲｅ（λ）の好適範囲、および、波長λの好適数値と同じである。

（その他の層）
例えば、位相差フィルム１０ａには、液晶化合物の配向方向を規定する機能を有する配向膜が含まれていてもよい。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、および、無機化合物の斜方蒸着など公知の方法で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与、または、光照射（好ましくは偏光）により、配向膜を形成する方法も知られている。
なかでも、配向膜は、ポリマー膜のラビング処理により形成することが好ましい。
配向膜の形成に用いられるポリマーとしては、例えば、特開平８−３３８９１３号公報の段落［００２２］に記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、および、ポリカーボネートなどが挙げられる。

配向膜は、例えば、配向膜形成材料であるポリマーおよび任意の添加剤（例えば、架橋剤）を含む溶液を支持体上に塗布した後、塗膜を加熱乾燥（架橋させ）し、さらに塗膜にラビング処理を施すことにより形成することができる。
ラビング処理は、ＬＣＤ（liquid crystal display）の液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、塗膜の表面を、紙、ガーゼ、フェルト、ゴム、ナイロン、または、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向膜を得る方法を用いることができる。

（位相差フィルム）
位相差フィルム１０ａは、支持体１２と光学異方性層１４とを少なくとも含むフィルムである。
位相差フィルム１０ａは、８００〜１２００ｎｍから選択されるいずれかの波長λにおける面内レタデーションＲｅ（λ）がλ／２±１００ｎｍの範囲内であるフィルムである。つまり、位相差フィルム１０ａは、８００〜１２００ｎｍから選択されるいずれかの波長λにおいて、上記面内レタデーションＲｅ（λ）の範囲を示せばよい。より具体的には、例えば、波長λとして１０００ｎｍを選択した場合、面内レタデーションＲｅ（１０００）が５００±１００ｎｍの範囲内であるフィルムが、位相差フィルム１０ａに該当する。
上記面内レタデーションＲｅ（λ）はλ／２±１００ｎｍの範囲内であり、なかでも、λ／２±９０ｎｍの範囲内であることが好ましく、λ／２±８０ｎｍの範囲内であることがより好ましい。
上述したように、位相差フィルム１０ａは、８００〜１２００ｎｍから選択されるいずれかの波長λにおいて、上記面内レタデーションが所定の範囲であればよい。なかでも、位相差フィルム１０ａは、９００±１０ｎｍ、１０００±１０ｎｍ、および、１１００±１０ｎｍのいずれかの波長において上記面内レタデーションＲｅ（λ）を示すフィルムであることが好ましい。

位相差フィルム１０ａの波長３５０ｎｍにおける透過率は特に制限されないが、光学異方性層１２ａの耐久性がより優れる点、および、位相差フィルムと組み合わせる他の部材を紫外線から保護する点で、１０％以下が好ましく、５％以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、０％が挙げられる。

（位相差フィルムの製造方法）
位相差フィルム１０ａは、種々の方法で作製することができる。その一例は、以下の通りである。
まず、支持体１２を用意し、その上に、配向膜を形成する。次に、配向膜表面に重合性基を有する液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（以後、単に「組成物」とも称する）を塗布して、塗膜を形成する。この塗膜を所望により加熱して、塗膜中の液晶化合物を配向させる。その後、塗膜に硬化処理（光照射処理（例：紫外線照射）または加熱処理）を施して重合を進行させて、その配向を固定し、光学異方性層１４を得る。

上記組成物には、液晶化合物以外の成分が含まれていてもよい。
例えば、組成物には、重合開始剤が含まれていてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤および光重合開始剤が挙げられる。例えば、光重合開始剤としては、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、および、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせなどが挙げられる。

また、組成物には、液晶化合物とは異なる重合性モノマーが含まれていてもよい。
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性およびカチオン重合性の化合物が挙げられる。重合性モノマーとしては、多官能性ラジカル重合性モノマーが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報中の段落［００１８］〜［００２０］に記載の重合性モノマーが挙げられる。

また、組成物には、界面活性剤が含まれていてもよい。
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられ、特に、フッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば、特開２００１−３３０７２５号公報中の段落［００２８］〜［００５６］に記載の化合物、および、特願２００３−２９５２１２号明細書中の段落［００６９］〜［０１２６］に記載の化合物が挙げられる。

また、組成物には溶媒が含まれていてもよく、有機溶媒が好ましい。有機溶媒としては、例えば、アミド系溶媒、スルホキシド系溶媒、ヘテロ環化合物系溶媒、炭化水素系溶媒、アルキルハライド系溶媒、エステル系溶媒、ケトン系溶媒、および、エーテル系溶媒が挙げられる。

また、組成物には、垂直配向促進剤、および、水平配向促進剤などの各種配向剤が含まれていてもよい。
さらに、組成物には、上記成分以外に、密着改良剤、可塑剤、または、ポリマーなどが含まれていてもよい。

（用途）
上述した位相差フィルム１０ａは、種々の用途に適用することができる。例えば、赤外線センサーの受光部上に配置するフィルムなどが挙げられる。

＜第２実施形態＞
以下に、本発明の位相差フィルムの第２実施形態について図面を参照して説明する。図２に、位相差フィルムの第２実施形態の断面図を示す。
位相差フィルム１０ｂは、支持体１２と、液晶化合物を含む第１光学異方性層１４ａと、液晶化合物を含む第２光学異方性層１４ｂとをこの順で備える。図２に示す位相差フィルム１０ｂは、光学異方性層を２層有する点で、図１に示す位相差フィルム１０ａと異なる。２層の光学異方性層を用いることにより、位相差フィルム全体の面内レタデーションＲｅ（λ）の調整がより容易となる。

位相差フィルム１０ｂに含まれる支持体１２は、図１に示す位相差フィルム１０ａに含まれる支持体１２と同一の部材である。
また、上述した位相差フィルム１０ａと同様に、位相差フィルム１０ｂにおいては、８００〜１２００ｎｍから選択されるいずれかの波長λにおける面内レタデーションＲｅ（λ）がλ／２±１００ｎｍの範囲内である。面内レタデーションＲｅ（λ）の好適範囲および波長λの好適数値は、上述した第１実施形態と同じである。

第１光学異方性層１４ａおよび第２光学異方性層１４ｂには、液晶化合物が含まれる。液晶化合物の定義は、上述した第１実施形態で述べた通りである。
第１光学異方性層１４ａおよび第２光学異方性層１４ｂの好適態様としては、第１実施形態と同様に、重合性基を有する棒状液晶化合物または重合性基を有するディスコティック液晶化合物が重合によって固定されて形成された層が挙げられる。
また、位相差フィルム１０ｂのレタデーション値の入射光角度依存性がより小さくなる点で、第１光学異方性層１４ａにディスコティック液晶化合物が含まれる場合は、第２光学異方性層１４ｂには棒状液晶化合物が含まれることが好ましく、第１光学異方性層１４ａに棒状液晶化合物が含まれる場合は、第２光学異方性層１４ｂにはディスコティック液晶化合物が含まれることが好ましい。なお、第１光学異方性層１４ａおよび第２光学異方性層１４ｂは、いずれも、重合性基を有する液晶化合物が重合によって固定されて形成された層であることが好ましい。

第１光学異方性層１４ａおよび第２光学異方性層１４ｂの光学特性は、位相差フィルム１０ｂが所定の光学特性を示せば、特に制限されない。
例えば、８００〜１２００ｎｍから選択されるいずれかの波長λにおいて、第１光学異方性層１４ａおよび第２光学異方性層１４ｂのそれぞれの面内レタデーションＲｅ（λ）が、λ／４±５０ｎｍの範囲である態様が挙げられる。つまり、第１光学異方性層１４ａおよび第２光学異方性層１４ｂが、それぞれ、所定の波長λに対するλ／４板である態様が挙げられる。このようなλ／４板である第１光学異方性層１４ａおよび第２光学異方性層１４ｂを２層積層することにより、λ／２板としての特性が得られる。
第１光学異方性層１４ａの遅相軸と第２光学異方性層１４ｂの遅相軸との関係は、位相差フィルム１０ｂが所定の光学特性を示せば特に制限されない。例えば、上述したように、第１光学異方性層１４ａおよび第２光学異方性層１４ｂが、それぞれ所定の波長λに対するλ／４板である場合、第１光学異方性層１４ａの遅相軸と第２光学異方性層１４ｂの遅相軸とは平行であることが好ましい。

なお、位相差フィルム１０ｂには、支持体１２、第１光学異方性層１４ａおよび第２光学異方性層１４ｂ以外の層が含まれていてもよい。例えば、支持体１２と第１光学異方性層１４ａとの間、および／または、第１光学異方性層１４ａと第２光学異方性層１４ｂとの間には、配向膜が配置されていてよい。配向膜の定義は、上述した第１実施形態で述べた通りである。

第１光学異方性層１４ａおよび第２光学異方性層１４ｂの製造方法は、第１実施形態で述べた方法が挙げられる。
より具体的には、支持体１２を用意し、その上に、配向膜を形成し、配向膜表面に重合性基を有する液晶化合物を含む第１光学異方性層形成用組成物を塗布して、塗膜を形成する。この塗膜を所望により加熱して、塗膜中の液晶化合物を配向させる。その後、塗膜に硬化処理（光照射処理（例：紫外線照射）または加熱処理）を施して重合を進行させて、その配向を固定し、第１光学異方性層１４ａを得る。次に、第１光学異方性層１４ａ上に、重合性基を有する液晶化合物を含む第２光学異方性層形成用組成物を塗布して、第１光学異方性層１４ａの形成手順と同様の方法により、第２光学異方性層１４ｂを得ることができる。

なお、図２においては、位相差フィルム１０ｂ中に光学異方性層が２層含まれているが、３層以上の光学異方性層が含まれていてもよい。

＜第３実施形態＞
以下に、本発明の位相差フィルムの第３実施形態について図面を参照して説明する。図３Ａに、位相差フィルムの第３実施形態の断面図を示す。
位相差フィルム１０ｃは、支持体１２と、支持体１２の一方の表面上に配置された液晶化合物を含む光学異方性層１４と、支持体１２の他方の表面上に配置されたハードコート層１６および反射防止層１８とを備える。
図３Ａに示す位相差フィルム１０ｃは、ハードコート層１６および反射防止層１８を備える点を除いて、図１に示す位相差フィルム１０ａと同様の層を有するものであり、同一の構成要素には同一の参照符号を付し、その説明を省略する。
なお、上述した位相差フィルム１０ａと同様に、位相差フィルム１０ｃにおいては、８００〜１２００ｎｍから選択されるいずれかの波長λにおける面内レタデーションＲｅ（λ）がλ／２±１００ｎｍの範囲内である。面内レタデーションＲｅ（λ）の好適範囲および波長λの好適数値は、上述した第１実施形態と同じである。
以下では、ハードコート層１６および反射防止層１８について詳述する。

（ハードコート層）
ハードコート層１６とは、この層を形成することで位相差フィルム１０ｃの鉛筆硬度が上昇する層をいう。実用的には、ハードコート層積層後の位相差フィルム１０ｃの鉛筆硬度（ＪＩＳＫ５４００）はＨ以上が好ましく、２Ｈ以上がより好ましく、３Ｈ以上がさらに好ましい。
ハードコート層１６の厚みは、０．４〜３５μｍが好ましく、１〜３０μｍがより好ましく、１．５〜２０μｍがさらに好ましい。

ハードコート層１６の形成方法は特に制限されず、不飽和二重結合を有する化合物、および、必要に応じて用いられる添加剤（例えば、重合開始剤、透光性粒子、溶媒）を含有するハードコート層形成用組成物を、支持体１２上に直接または他の層を介して塗布して塗膜を形成し、塗膜を硬化することにより形成することができる。

不飽和二重結合を有する化合物は、硬化後にバインダーとして機能することができる。不飽和二重結合を有する化合物は、重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーであることが好ましい。また、重合性不飽和基は３つ以上であることがより好ましい。
不飽和二重結合を有する化合物としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、または、アリル基などの重合性不飽和基を有する化合物が挙げられる。なかでも、重合性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基、または、−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ_２が好ましい。
重合性不飽和基を有する化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドまたはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、および、ポリエステル（メタ）アクリレート類などが挙げられる。

ハードコート層形成用組成物に含まれるその他の添加剤の具体例としては、特開２０１２−１０３６８９号公報の段落００２５〜００４３に記載の光重合開始剤、透光性粒子、および、溶媒などを参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。

（反射防止層）
反射防止層１８は、最も単純な構成では、低屈折率層のみを配置した構成が挙げられる。より反射率を低下させるには、屈折率の高い高屈折率層と屈折率の低い低屈折率層とを組み合わせて反射防止層を構成することが好ましい。構成例としては、例えば、図３Ａにおいては、ハードコート層１６側から順に、高屈折率層／低屈折率層の２層の屈折率の異なる層を配置する態様が挙げられる。また、さらに反射率をより低下させるためには、中屈折率層（低屈折率層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）と、高屈折率層と、低屈折率層とをこの順に積層した反射防止層を用いる態様が挙げられる。

高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率は、１．７０〜１．７４であることが好ましく、１．７１〜１．７３であることがより好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整される。中屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率は、１．６０〜１．６４であることが好ましく、１．６１〜１．６３であることがより好ましい。低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率は、１．３０〜１．４７であることが好ましい。多層薄膜干渉型の反射防止フィルム（中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層）の場合の低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率は、１．３３〜１．３８であることが好ましく、１．３４〜１．３７であることがより好ましい。
高屈折率層、中屈折率層、および、低屈折率層の形成方法は、塗布法、化学蒸着（ＣＶＤ）法、および、物理蒸着（ＰＶＤ）法が挙げられる。
高屈折率層、中屈折率層、および低屈折率層としては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１９７］〜［０２１１］に記載のものを使用することができる。

なお、図３Ａにおいては、支持体１２上にハードコート層１６および反射防止層１８を配置する態様を述べたが、この態様には限定されず、図３Ｂに示すように、支持体１２、光学異方性層１４、ハードコート層１６、および、反射防止層１８の順に各層を配置する態様であってもよい。

また、図３Ａおよび図３Ｂにおいては、ハードコート層１６および反射防止層１８の両方が含まれる態様について述べたが、ハードコート層１６および反射防止層１８の一方のみが位相差フィルム中に含まれていてもよい。

＜第４実施形態＞
以下に、本発明の位相差フィルムの第４実施形態について図面を参照して説明する。図４Ａに、位相差フィルムの第４実施形態の断面図を示す。
位相差フィルム１０ｄは、支持体１２と、液晶化合物を含む第１光学異方性層１４ａと、粘着層２０と、液晶化合物を含む第２光学異方性層１４ｂと、支持体１２とを備える。位相差フィルム１０ｄは、上述した第２実施形態と同様に、２層の光学異方性層（第１光学異方性層１４ａおよび第２光学異方性層１４ｂ）を備える。第１光学異方性層１４ａおよび第２光学異方性層１４ｂの構成は、上述した第２実施形態で述べた通りである。
また、支持体１２の構成は、上述した第１実施形態で述べた通りである。
また、上述した位相差フィルム１０ａと同様に、位相差フィルム１０ｄにおいて、８００〜１２００ｎｍから選択されるいずれかの波長λにおける面内レタデーションＲｅ（λ）がλ／２±１００ｎｍの範囲内である。面内レタデーションＲｅ（λ）の好適範囲および波長λの好適数値は、上述した第１実施形態と同じである。

位相差フィルム１０ｄにおいては、第１光学異方性層１４ａおよび第２光学異方性層１４ｂを挟むように、２つの支持体１２が配置されている。そのため、第１光学異方性層１４ａおよび第２光学異方性層１４ｂが、外部からの影響を受けにくい。
例えば、２つの支持体１２にはＵＶ（紫外線）吸収剤が含まれていてもよく、その場合、第１光学異方性層１４ａおよび第２光学異方性層１４ｂの外光（特に、紫外線）による劣化を防止することができる。

位相差フィルム１０ｄに含まれる粘着層２０は、第１光学異方性層１４ａと第２光学異方性層１４ｂとを貼り合わせるための層である。粘着層２０を構成する材料としては、公知の粘着剤を用いることができる。
なお、粘着層２０は任意の部材であり、第１光学異方性層１４ａと第２光学異方性層１４ｂとを直接貼り合わせてもよい。

位相差フィルム１０ｄの製造方法としては、例えば、支持体１２および支持体１２上に配置された第１光学異方性層１４ａを有する第１フィルムと、支持体１２および支持体１２上に配置された第２光学異方性層１４ｂを有する第２フィルムとを、第１光学異方性層１４ａと第２光学異方性層１４ｂとが対向するようにして、粘着層を介して両者を貼り合わせることにより、製造する方法が挙げられる。
一般的に、面内レタデーションの大きい光学異方性層を形成するためには、光学異方性層の厚みを厚くする必要がある。このような厚みの厚い光学異方性層を製造する場合、製造プロセスが煩雑となりやすく、かつ、製造時間もより長くなる。
それに対して、上記のような、フィルム同士を貼り合わせる方法によれば、生産性が高い、面内レタデーションの小さい光学異方性層を有するフィルムを作製し、これらを複数枚貼り合わせることにより、生産性良く、所望の光学特性を示す位相差フィルムを製造することができる。

位相差フィルム１０ｄには、支持体１２、２層の光学異方性層、および、粘着層２０以外の層が含まれていてもよく、例えば、図４Ｂに示すように、さらに、２つの支持体１２上にハードコート層１６および反射防止層１８がそれぞれ配置されていてもよい。

なお、図４Ａにおいては、２層の光学異方性層を貼り合わせて形成される位相差フィルム１０ｄの態様を示したが、この態様には限定されず、例えば、図４Ｃに示すように、４層の光学異方性層１４ｃを粘着層２０でそれぞれ貼り合わせることにより位相差フィルムを製造してもよい。この場合、光学異方性層１４ｃとしては、いわゆるλ／８板を使用することが好ましい。

以下に、実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

〔実施例１〕
＜セルロースアシレートフィルムの作製＞
（コア層セルロースアシレートドープの調製）
下記の成分をミキシングタンクに投入し、これらの混合物を攪拌して各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープを調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８８のセルロースアシレート１００質量部
・エステルオリゴマーＡ１０質量部
・偏光子耐久性改良剤（化−１）４質量部
・紫外線吸収剤（ＵＶ−１）２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）４３０質量部
・メタノール（第２溶媒）６４質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

偏光子耐久性改良剤（化−１）

紫外線吸収剤（ＵＶ−１）

（外層セルロースアシレートドープの調製）
コア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液１０質量部を加え、外層セルロースアシレートドープを調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
“ＡＥＲＯＳＩＬＲ９７２”（日本アエロジル（株）製）
２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）７６質量部
・メタノール（第２溶媒）１１質量部
・コア層セルロースアシレートドープ１質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

（セルロースアシレートフィルムの作製）
コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを、３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した。ドラム上に形成されたフィルムの溶媒含有率が略２０質量％の状態で、フィルムをドラム上から剥ぎ取った。次に、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、フィルム中の残留溶媒が３〜１５質量％の状態で、フィルムを横方向に１．１倍延伸しつつ乾燥した。その後、得られたフィルムを熱処理装置のロール間に搬送することにより、さらに乾燥し、厚さ４０μｍのセルロースアシレートフィルム１を作製した。

＜ハードコート層および反射防止層の形成＞
下記に示す各層形成用塗布液を調製した。
（ハードコート層形成用塗布液ＨＣ−１の調製）
以下に示す成分を混合し、最終溶媒組成がＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）とＭＥＫ（メチルエチルケトン）との５０：５０質量％混合比となるように調整して、最終的に固形分５０質量％の混合液を調製した。
ＰＥＴ−３０６０．０ｇ
ビスコート３６０４０．０ｇ
イルガキュア１２７３．０ｇ
８μｍ架橋アクリル粒子（３０質量％分散液）１１．０ｇ
８μｍ架橋アクリル・スチレン粒子（３０質量％分散液）７．０ｇ
ＣＡＢポリマー（２０質量％溶液）１０．０ｇ
ＳＰ−１３（２質量％溶液）１．０ｇ

上記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、ハードコート層形成用塗布液ＨＣ−１を調製した。
なお、ハードコート層形成用塗布液ＨＣ−１を用いて形成されるハードコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率は、１．５２５であった。

使用した材料を以下に示す。
・ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］
・ビスコート３６０：エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート［大阪有機化学（株）製］
・イルガキュア１２７：重合開始剤［ＢＡＳＦ社製］
・８μｍ架橋アクリル粒子屈折率１．４９（３０質量％ＭＩＢＫ分散液）
・８μｍ架橋アクリル・スチレン粒子屈折率１．５５（３０質量％ＭＩＢＫ分散液）
・ＣＡＢポリマー：セルロースアセテートブチレート（２０質量％溶液）［イーストマン・ケミカル（株）製５３１・１のＭＩＢＫ溶液］
・ＳＰ−１３（レベリング剤）：下記フッ素ポリマーの２質量％ＭＥＫ溶液

（中屈折率層形成用塗布液の調製）
リン含有酸化錫（ＰＴＯ）分散液（触媒化成工業（株）製ＥＬＣＯＭＪＸ−１００１ＰＴＶ）、および、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物（ＤＰＨＡ）を混合し、硬化後の層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．６２になるよう調整した中屈折率層形成用塗布液Ｍｎ−１を調製した。

（高屈折率層形成用塗布液Ｈｎ−１の調製）
ＺｒＯ_２微粒子含有ハードコート剤（デソライトＺ７４０４［屈折率１．７２、固形分濃度：６０質量％、酸化ジルコニウム微粒子含量：７０質量％（対固形分）、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径：約２０ｎｍ、溶媒組成：メチルイソブチルケトン／メチルエチルケトン＝９／１、ＪＳＲ（株）製］）１５．７質量部に、メチルエチルケトン６１．９質量部、メチルイソブチルケトン３．４質量部、および、シクロヘキサノン１．１質量部を添加して、得られた混合物を攪拌した。その後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターを用いて、得られた混合物をろ過して、高屈折率層形成用塗布液Ｈｎ−１を調製した。

（低屈折率層形成用塗布液Ｌｎ−１の調製）
各成分を下記のように混合し、さらに、得られた混合物をＭＥＫ／ＭＭＰＧ−ＡＣの９０／１０混合物（質量比）に溶解して、固形分５質量％の混合液を調製した。

（Ｌｎ−１の組成）
下記のパーフルオロオレフィン共重合体（Ｐ−１）１５質量部
ＤＰＨＡ７質量部
ＲＭＳ−０３３５質量部
下記の含フッ素モノマー（Ｍ−１）２０質量部
中空シリカ粒子（固形分）５０質量部
イルガキュア１２７３質量部

使用した化合物を以下に示す。

・ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物（日本化薬（株）製）
・ＲＭＳ−０３３：シリコーン系多官能アクリレート（Ｇｅｌｅｓｔ製、Ｍｗｔ＝２８０００）
・イルガキュア１２７：光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製）
・中空シリカ：中空シリカ粒子分散液（平均粒子サイズ：４５ｎｍ、屈折率１．２５、アクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理された粒子、ＭＥＫ分散液濃度：２０質量％）
・ＭＥＫ：メチルエチルケトン
・ＭＭＰＧ−Ａｃ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート

上記混合液を孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層形成用塗布液Ｌｎ−１を調製した。
なお、低屈折率層形成用塗布液Ｌｎ−１を用いて形成される低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率は、１．３４であった。

（ハードコート層および反射防止層の形成）
上記で作製したセルロースアシレートフィルム１の表面に、特開２００６−１２２８８９号公報の実施例１に記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件でハードコート層形成用塗布液ＨＣ−１を塗布した。その後、ハードコート層形成用塗布液ＨＣ−１が塗布されたセルロースアシレートフィルム１を、６０℃で１５０秒間乾燥して、塗膜を形成した。その後、窒素パージ下、酸素濃度約０．１％で、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ^２および照射量１００ｍＪ／ｃｍ^２の条件にて紫外線を塗膜に照射して、ハードコート層を形成し、ハードコート層が形成されたセルロースアシレートフィルム１を巻き取った。なお、ハードコート層の膜厚は１１μｍになるよう塗布量を調整した。
このハードコート層上に、上記中屈折率層形成用塗布液Ｍｎ−１を塗布した。その後、中屈折率層形成用塗布液Ｍｎ−１が塗布されたフィルムを、９０℃で３０秒間乾燥して、塗膜を形成した。その後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージし、１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ^２および照射量２４０ｍＪ／ｃｍ^２の条件にて紫外線を塗膜に照射して、中屈折率層を形成した。中屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率は１．６２、膜厚は１２０ｎｍであった。
続いて、形成した中屈折率層上に、上記高屈折率層形成用塗布液Ｈｎ−１を塗布した。その後、高屈折率層形成用塗布液Ｈｎ−１が塗布されたフィルムを、９０℃で３０秒間乾燥して、塗膜を形成した。その後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージし、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ^２および照射量２４０ｍＪ／ｃｍ^２の条件にて紫外線を塗膜に照射して、高屈折率層を形成した。高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率は１．７２、膜厚は２２０ｎｍであった。
続いて、形成した高屈折率層上に、上記低屈折率層形成用塗布液Ｌｎ−１を塗布した。その後、低屈折率層形成用塗布液Ｌｎ−１が塗布されたフィルムを、６０℃で６０秒間乾燥して、塗膜を形成した。その後、酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージし、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ^２および照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の条件にて紫外線を塗膜に照射して、低屈折率層を形成した。低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率は１．３４、膜厚は１９０ｎｍであった。
以上のように、セルロースアシレートフィルム１上にハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、および、低屈折率層がこの順で積層されたフィルムＡＲ１を作製した。なお、中屈折率層、高屈折率層、および、低屈折率層は、近赤外光領域の光に対する反射防止層を構成する。

＜光学異方性層の形成＞
（フィルムの鹸化処理）
上記で得られたフィルムＡＲ１を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した。その後、フィルムＡＲ１のハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、および、低屈折率層が形成された面とは反対側の面に、下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍＬ／ｍ²で塗布した。その後、アルカリ溶液が塗布されたフィルムＡＲ１を、１１０℃に加熱したスチーム式遠赤外ヒーター（（株）ノリタケカンパニーリミテド製）の下に１０秒間滞留させた。
次いで、同じくバーコーターを用いて、アルカリ溶液で処理されたフィルムＡＲ１の表面上に、純水を３ｍＬ／ｍ²塗布した。
次いで、得られたフィルムに対して、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りとを３回繰り返した。その後、得られたフィルムを７０℃の乾燥ゾーンに５秒間滞留させて乾燥し、フィルムＡＲ１中のセルロースアシレートフィルム１の表面に対して鹸化処理を施した。

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アルカリ溶液の組成
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・水酸化カリウム４．７質量部
・水１５．７質量部
・イソプロパノール６４．８質量部
・界面活性剤（Ｃ₁₆Ｈ₃₃Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₀Ｈ）１．０質量部
・プロピレングリコール１４．９質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

（配向膜の形成）
上記で得られたフィルムＡＲ１中のセルロースアシレートフィルム１の鹸化処理面に、下記に示す組成の配向膜形成用塗布液を、ワイヤーバーコーターで２４ｍＬ／ｍ²塗布した。その後、配向膜形成用塗布液が塗布されたフィルムＡＲ１を１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。

――――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜形成用塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記に示す変性ポリビニルアルコール２８質量部
・クエン酸エステル（ＡＳ３、三共化学（株）製）１．２質量部
・光開始剤（イルガキュア２９５９、ＢＡＳＦ社製）０．８４質量部
・グルタルアルデヒド２．８質量部
・水６９９質量部
・メタノール２２６質量部
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（変性ポリビニルアルコール）

（光学異方性層の形成）
上記作製した配向膜に、連続的にラビング処理を施した。
このとき、長尺状のフィルム（配向膜を有するフィルムＡＲ１）の長手方向と搬送方向とは平行であり、フィルム長手方向に対して、ラビングローラーの回転軸が反時計回りに４５°となるように調節した。

下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む光学異方性層形成用塗布液（Ｄ）を、作製した配向膜上にワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度は４０ｍ／ｍｉｎとした。光学異方性層形成用塗布液（Ｄ）中の溶媒の乾燥、および、ディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、光学異方性層形成用塗布液（Ｄ）が塗布されたフィルムを１２０℃の温風で９０秒間加熱して、塗膜を形成した。次いで、得られた塗膜に対して８０℃にてＵＶ照射を行い、ディスコティック液晶化合物の配向を固定化して光学異方性層を形成し、フィルムＤ１を作製した。形成された光学異方性層（すなわち液晶化合物層）の厚さは、２．２μｍであった。

――――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用塗布液（Ｄ）の組成
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・下記のディスコティック液晶化合物−１８０質量部
・下記のディスコティック液晶化合物−２２０質量部
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（ビスコート＃３６０、大阪有機化学（株）製）５質量部
・下記の紫外線吸収剤−Ａ５質量部
・光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製）４質量部
・下記の配向膜界面配向剤−１２質量部
・下記の配向膜界面配向剤−２０．２質量部
・下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ１）０．２１質量部
・下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ２）０．１質量部
・下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ３）０．０５質量部
・メチルエチルケトン２０９質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

ディスコティック液晶化合物−１

ディスコティック液晶化合物−２

紫外線吸収剤−Ａ

配向膜界面配向剤−１

配向膜界面配向剤−２

（ＦＰ１）

（ＦＰ２）

（ＦＰ３）

作製したフィルムＤ１中の光学異方性層の遅相軸の方向は、ラビングローラーの回転軸と平行であった。すなわち、フィルムＤ１の長手方向に対して、光学異方性層の遅相軸は反時計回りに４５°の方向であった。ディスコティック液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶化合物がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。フィルムＤ１の面内レタデーションＲｅ（９０２）、Ｒｅ（１０００）、および、Ｒｅ（１０９０）は、それぞれ２５０ｎｍ、２４０ｎｍ、および、２３９ｎｍであった。

上記フィルムＤ１の作製において、ラビングローラーの回転軸を時計回りに４５°となるように調節した以外は同様にして、厚さ２．２μｍの光学異方性層を形成し、フィルムＤ２を作製した。
作製したフィルムＤ２中の光学異方性層の遅相軸の方向は、ラビングローラーの回転軸と平行であった。すなわち、フィルムＤ２の長手方向に対して、光学異方性層の遅相軸は時計回りに４５°の方向であった。ディスコティック液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶化合物がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。フィルムＤ２の面内レタデーションＲｅ（９０２）、Ｒｅ（１０００）、および、Ｒｅ（１０９０）は、それぞれ２５０ｎｍ、２４０ｎｍ、および、２３９ｎｍであった。

＜位相差フィルムの作製＞
上記作製した長尺状のフィルムＤ１およびフィルムＤ２を、反射防止層同士が外側になるように、すなわち、光学異方性層同士が内側になるように、粘着剤を用いて、連続的に貼り合せた。このようにして、位相差フィルムＤＤを作製した。このとき、フィルムＤ１に含まれる光学異方性層の遅相軸の方向と、フィルムＤ２に含まれる光学異方性層の遅相軸の方向は平行であり、位相差フィルムＤＤの遅相軸方向とフィルム長手方向とのなす角度は４５°であった。

〔実施例２〕
＜光学異方性層の形成＞
上記実施例１と同様にして、フィルムＡＲ１を作製し、セルロースアシレートフィルム１の表面に鹸化処理を行った後、配向膜を形成した。
作製した配向膜に、連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルム（配向膜を有するフィルムＡＲ１）の長手方向と搬送方向とは平行であり、フィルム長手方向に対して、ラビングローラーの回転軸が反時計回りに４５°となるように調節した。

下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用塗布液（Ｃ）を、作製した配向膜上にワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度は４０ｍ／ｍｉｎとした。光学異方性層形成用塗布液（Ｃ）中の溶媒の乾燥および棒状液晶化合物の配向熟成のために、光学異方性層形成用塗布液（Ｃ）が塗布されたフィルムを８０℃の温風で６０秒間加熱し、塗膜を形成した。その後、塗膜に対して６０℃にてＵＶ照射を行い、棒状液晶化合物の配向を固定化して光学異方性層を形成し、フィルムＣ１を作製した。形成された光学異方性層（すなわち液晶化合物層）の厚さは、２．１μｍであった。

――――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用塗布液（Ｃ）の組成
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棒状液晶化合物−１８３質量部
棒状液晶化合物−２１５質量部
棒状液晶化合物−３２質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（ビスコート＃３６０、大阪有機化学（株）製）８質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ製）６質量部
上記のフッ素系ポリマー（ＦＰ１）０．２５質量部
上記のフッ素系ポリマー（ＦＰ３）０．１質量部
メチルエチルケトン１９３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

[棒状液晶化合物−１]

[棒状液晶化合物−２]

[棒状液晶化合物−３]

作製したフィルムＣ１中の光学異方性層の遅相軸の方向は、ラビングローラーの回転軸と直交していた。すなわち、フィルムＣ１の長手方向に対して、光学異方性層の遅相軸は時計回りに４５°の方向であった。棒状液晶化合物の長軸のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、棒状液晶化合物がフィルム面に対して平行に配向していることを確認した。フィルムＣ１の面内レタデーションＲｅ（９０２）、Ｒｅ（１０００）、および、Ｒｅ（１０９０）は、それぞれ２７０ｎｍ、２５８ｎｍ、および、２５７ｎｍであった。

＜位相差フィルムの作製＞
上記作製した長尺状のフィルムＤ１およびフィルムＣ１を、反射防止層同士が外側になるように、すなわち、光学異方性同士が内側になるように、粘着剤を用いて、連続的に貼り合せた。このようにして、位相差フィルムＤＣを作製した。このとき、フィルムＤ１に含まれる光学異方性層の遅相軸の方向と、フィルムＣ１に含まれる光学異方性層の遅相軸の方向は平行であり、位相差フィルムＤＣの遅相軸方向とフィルム長手方向とのなす角度は４５°であった。

〔比較例１〕
日本ゼオン（株）製ゼオノアフィルムＺＦ１６（厚み１００μｍ）を、１７５℃で１．５倍１軸延伸し、厚み７０μｍのフィルムＨ１を作製した。このフィルムを延伸軸が一致するように２枚貼り合せて、位相差フィルムＨＨを作製した。フィルムＨ１の面内レタデーションＲｅ（９０２）、Ｒｅ（１０００）、および、Ｒｅ（１０９０）は、それぞれ２４８ｎｍ、２４８ｎｍ、および、２４７ｎｍであった。

＜光学特性の測定＞
作製した位相差フィルムＤＤ、ＤＣ、および、ＨＨの近赤外光領域の面内レタデーションＲｅ（λ）は、ＫＯＢＲＡ−ＷＸ１００／ＩＲ（王子計測機器（株）製）を用いて測定した。
紫外線透過率は、分光光度計Ｕ−３３１０（日立計測器製）を用いて測定した。

＜裁断性の評価＞
トムソン刃をセットした１ｃｍ角の打ち抜き機を用いて、作製した位相差フィルムＤＤ、ＤＣ、および、ＨＨを裁断した。裁断された各位相差フィルムの辺（裁断辺）を顕微鏡で観察し、クラックが認められないものは「Ａ」、クラックが発生しているものは「Ｂ」とした。

＜スチールウール耐傷性の評価＞
ラビングテスターを用いて、こすりテストを行った。具体的には、こすり材：スチールウール（日本スチールウール（株）製、ゲレードＮｏ．００００）を、試料（位相差フィルムＤＤ、ＤＣ、および、ＨＨ）と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に巻いて、バンド固定した。スチールウールを巻きつけたこすり先端部を、位相差フィルムＤＤ、ＤＣ、および、ＨＨの表面に接触させ、移動距離（片道）：１３ｃｍ、こすり速度：１３ｃｍ／秒、荷重：５００ｇ／ｃｍ^２、先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、こすり回数：１０往復の条件にて、こすりテストを行った。
こすりテスト終えた試料（位相差フィルムＤＤ、ＤＣ、および、ＨＨ）の裏側（位相差フィルムＤＤ、ＤＣ、および、ＨＨのこすった面とは反対側）に油性黒インキを塗り、こすり部分を反射光で目視観察して、こすり部分の傷を評価した。傷が見えないもの、または、非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見えるものを「Ａ」、注意深く見なくても、傷が見えるものを「Ｂ」とした。

評価結果を表１に示す。本発明の位相差フィルムは、近赤外光領域で１／２波長板(
λ／２板）としての機能を有し、裁断性および耐擦傷性に優れたフィルムであった。

１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ位相差フィルム
１２支持体
１４，１４ｃ光学異方性層
１４ａ第１光学異方性層
１４ｂ第２光学異方性層
１６ハードコート層
１８反射防止層
２０粘着層

Claims

液晶化合物を含む光学異方性層を備える位相差フィルムであって、
８００〜１２００ｎｍから選択されるいずれかの波長λにおける、前記位相差フィルムの面内レタデーションＲｅ（λ）がλ／２±１００ｎｍの範囲内である、位相差フィルム。
前記光学異方性層が、ディスコティック液晶化合物を含む第１光学異方性層と、棒状液晶化合物を含む第２光学異方性層とを含む、請求項１に記載の位相差フィルム。
波長３５０ｎｍにおける透過率が１０％以下である、請求項１または２に記載の位相差フィルム。
さらに、ハードコート層を備える、請求項１〜３のいずれか１項に記載の位相差フィルム。
さらに、反射防止層を備える、請求項１〜４のいずれか１項に記載の位相差フィルム。