JP2017138508A - ハーフミラー面を有する光学素子及びそれを用いた光学機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ハーフミラー面11aを有する光学素子であって、波長587.56 nmのd線に対する屈折率が1.43〜2.05の基材と、前記基材のハーフミラー面11aに形成され、屈折率2.00〜2.55の高屈折率膜及び屈折率1.35〜1.7の低屈折率膜を交互に積層してなる少なくとも18層の多層膜とを有し、前記多層膜の全光学膜厚が2,350〜2,800 nmであり、前記多層膜の平均光学膜厚が135〜155 nmであり、前記多層膜は光学膜厚10〜70 nmの薄層を1〜4層含み、光学膜厚200 nm以上の厚層を2〜4層含むことを特徴とするハーフミラー面11aを有する光学素子。
【選択図】図1
Description
本発明の一実施例によるハーフミラーを図1に示す。図1に示すハーフミラー10は、基材11と、基材11のハーフミラー面11aに設けられた多層膜4とを有する。
本発明の別の実施例によるペンタプリズムを図2に示す。図2に示すペンタプリズム20は、入射面22a、ダハ面22b及び第三反射面(ハーフミラー面)22cを有する基材22と、基材22の第三反射面22cに設けられた多層膜6とを有する。ペンタプリズム20は、複数の反射面を持ち、入射面22aから入射した光線をダハ面22bで反射させた後、第三反射面22cで反射させる。なおダハ面22bは呼び面角90°で交わる一対の反射面を有し、入射光はダハ面22bで2回反射される。
本発明の光学機器は、上記ハーフミラー面を有する光学素子を備えることを特徴とする。かかる光学機器としては、一眼レフデジタルカメラ等の撮像装置、プロジェクタ、計測機器、デジタルムービーカメラ、測量機、双眼鏡、望遠鏡等が挙げられる。
S-BSL7(屈折率nd=1.516,株式会社オハラ製)からなる基材11のハーフミラー面11aに図4に示す18層構成を有する多層膜4を真空蒸着法により形成し、反射率80%を目標としたハーフミラー10を作成した。光学膜厚10〜70 nmの薄い層は中央(第9層と第10層の境界)より基材側に3層配置され、光学膜厚200〜250 nmの厚い層は中央より媒質側に2層配置されている。
TAFD40(屈折率nd=2.001,HOYA株式会社製)からなる基材11のハーフミラー面11aに図7に示す18層構成を有する多層膜4をスパッタリング法により形成し、反射率80%を目標としたハーフミラー10を作成した。光学膜厚10〜70 nmの薄い層は中央より基材側に1層配置され、光学膜厚200〜250 nmの厚い層は中央より媒質側に2層配置されている。
S-FPL53(屈折率nd=1.439,株式会社オハラ製)からなる基材11のハーフミラー面11aに図10に示す18層構成を有する多層膜4を真空蒸着法により形成し、反射率70%を目標としたハーフミラー10を作成した。光学膜厚10〜70 nmの薄い層は中央より基材側に3層配置され、光学膜厚200〜250 nmの厚い層は中央より媒質側に2層配置されている。
S-BSL7(屈折率nd=1.516,株式会社オハラ製)からなる基材11のハーフミラー面11aに図13に示す18層構成を有する多層膜4をスパッタリング法により形成し、反射率70%を目標としたハーフミラー10を作成した。光学膜厚10〜70 nmの薄い層は中央より基材側に2層配置され、光学膜厚200〜250 nmの厚い層は中央より媒質側に4層配置されている。
TAFD40(屈折率nd=2.001,HOYA株式会社製)からなる基材11のハーフミラー面11aに図16に示す18層構成を有する多層膜4をスパッタリング法により形成し、反射率85%を目標としたハーフミラー10を作成した。光学膜厚10〜70 nmの薄い層は中央より基材側に3層配置され、光学膜厚200〜250 nmの厚い層は中央より媒質側に2層配置されている。
S-LAH66(屈折率nd=1.7725,株式会社オハラ製)からなる基材11のハーフミラー面11aに図19に示す18層構成を有する多層膜4を真空蒸着法により形成し、反射率85%を目標としたハーフミラー10を作成した。光学膜厚10〜70 nmの薄い層は中央より基材側に2層配置され、光学膜厚200〜250 nmの厚い層は中央より媒質側に2層配置されている。
S-BSL7(屈折率nd=1.516,株式会社オハラ製)からなる基材11のハーフミラー面11aに図22に示す19層構成を有する多層膜4を真空蒸着法により形成し、反射率80%を目標としたハーフミラー10を作成した。光学膜厚10〜70 nmの薄い層は中央(第10層)より基材側に3層配置され、光学膜厚200〜250 nmの厚い層は中央より媒質側に3層配置されている。
S-BSL7(屈折率nd=1.516,株式会社オハラ製)からなる基材の入射面に図25に示す特開2014−32331の実施例1と同様の13層構成を有する多層膜を真空蒸着法により形成し、ハーフミラーを作成した。
S-BSL7(屈折率nd=1.516,株式会社オハラ製)からなる基材の入射面に図28に示す特開2014−119629の比較例3と同様の20層構成を有する多層膜を真空蒸着法により形成し、ハーフミラーを作成した。なおS-BSL7はショット日本株式会社製のBK7に相当する。
図3に示す一眼レフデジタルカメラ1において、メインミラー10のハーフミラー面11aに実施例7の多層膜4を形成し、ペンタプリズム20のダハ面22bに銀ミラーを形成し、第三反射面22cに実施例1の多層膜5を形成した。メインミラー10に入射角30°、45°及び60°で波長350〜800 nmの範囲のランダム偏光の光線が入射したときに、メインミラー10で反射された後ペンタプリズム20を通過し、接眼レンズ23、ファインダ窓24を透過した光の分光透過特性(Tm)をそれぞれシミュレーションにより求めた。その際、拡散板21、ペンタプリズム20、接眼レンズ23及びファインダ窓24の透過率は色調に対する影響が小さいので、無視した。得られた結果を図31に示す。各入射角における分光透過特性(Tm)を基に算出したCIE色度座標と白色のCIE色度座標をプロットしたCIE色度図を図32に示す。なおメインミラー10に入射角30°、45°及び60°で光線が入射したとき、ペンタプリズム20の第三反射面22cから空気媒質に出射する光線の出射角を、入射面22aに光線が垂直に入射したときのダハ面22bの稜線方向の角度変化のみ考えた場合の入射角及び出射角を20°とし、第三反射面22cでの入射角及び出射角を25°として計算したところ、それぞれ約25°、約40°及び約55°であった。
図3に示す一眼レフデジタルカメラ1において、メインミラー10のハーフミラー面11aに比較例1の多層膜を形成し、ペンタプリズム20のダハ面22bに銀ミラーを形成し、第三反射面22cに比較例2の多層膜を形成した。実施例8と同様に、メインミラー10に入射角30°、45°及び60°で波長350〜800 nmの範囲のランダム偏光の光線が入射したときにファインダ窓24を透過する光の分光透過特性(Tm)をそれぞれシミュレーションにより求めた。得られた結果を図35に示す。各入射角における分光透過特性(Tm)を基に算出したCIE色度座標と白色のCIE色度座標をプロットしたCIE色度図を図36に示す。
11・・・基材
11a・・・ハーフミラー面
4・・・多層膜
20・・・ペンタプリズム
22・・・基材
22a・・・入射面
22b・・・ダハ面
22c・・・第三反射面
5・・・多層膜
Claims (9)
- ハーフミラー面を有する光学素子であって、
波長587.56 nmのd線に対する屈折率が1.43〜2.05の基材と、前記基材のハーフミラー面に形成され、屈折率2.00〜2.55の高屈折率膜及び屈折率1.35〜1.7の低屈折率膜を交互に積層してなる少なくとも18層の多層膜とを有し、
前記多層膜の全光学膜厚が2,350〜2,800 nmであり、前記多層膜の平均光学膜厚が135〜155 nmであり、
前記多層膜は光学膜厚10〜70 nmの薄層を1〜4層含み、光学膜厚200 nm以上の厚層を2〜4層含むことを特徴とするハーフミラー面を有する光学素子。 - 空気媒質から前記多層膜への入射角又は前記多層膜から空気媒質への出射角が20〜70°の範囲において、各入射角又は出射角を有する光線の分光反射特性に基づいて求めたCIE色度座標の最大差が0.015以下であることを特徴とする請求項1に記載のハーフミラー面を有する光学素子。
- 前記薄層は前記多層膜の基材側及び媒質側のいずれかに一方に偏せて配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のハーフミラー面を有する光学素子。
- 前記薄層は前記多層膜の媒質側に全て配置されており、前記厚層は前記多層膜の基材側に全て配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のハーフミラー面を有する光学素子。
- 前記多層膜が18層からなり、基材側から第1層の光学膜厚が30〜75 nm、第2層の光学膜厚が40〜145 nm、第3層の光学膜厚が55〜135 nm、第4層の光学膜厚が25〜90 nm、第5層の光学膜厚が85〜135 nm、第6層の光学膜厚が125〜175 nm、第7層の光学膜厚が75〜125 nm、第8層の光学膜厚が100〜140 nm、第9層の光学膜厚が95〜145 nm、第10層の光学膜厚が130〜215 nm、第11層の光学膜厚が70〜165 nm、第12層の光学膜厚が140〜205 nm、第13層の光学膜厚が155〜185 nm、第14層の光学膜厚が175〜220 nm、第15層の光学膜厚が160〜190 nm、第16層の光学膜厚が175〜220 nm、第17層の光学膜厚が175〜195 nm、第18層の光学膜厚が75〜120 nmであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のハーフミラー面を有する光学素子。
- 前記多層膜が18層からなり、基材側から第1層の光学膜厚が170〜290 nm、第2層の光学膜厚が110〜250 nm、第3層の光学膜厚が100〜270 nm、第4層の光学膜厚が110〜240 nm、第5層の光学膜厚が130〜310 nm、第6層の光学膜厚が70〜250 nm、第7層の光学膜厚が120〜240 nm、第8層の光学膜厚が70〜210 nm、第9層の光学膜厚が80〜240 nm、第10層の光学膜厚が10〜190 nm、第11層の光学膜厚が60〜250 nm、第12層の光学膜厚が10〜180 nm、第13層の光学膜厚が80〜230 nm、第14層の光学膜厚が10〜170 nm、第15層の光学膜厚が10〜160 nm、第16層の光学膜厚が10〜160 nm、第17層の光学膜厚が40〜230 nm、第18層の光学膜厚が10〜120 nmであることを特徴とする請求項1、2又は4に記載のハーフミラー面を有する光学素子。
- 前記多層膜が19層からなり、基材側から第1層の光学膜厚が150〜270 nm、第2層の光学膜厚が170〜290 nm、第3層の光学膜厚が110〜250 nm、第4層の光学膜厚が100〜270 nm、第5層の光学膜厚が110〜240 nm、第6層の光学膜厚が130〜310 nm、第7層の光学膜厚が70〜250 nm、第8層の光学膜厚が120〜240 nm、第9層の光学膜厚が70〜210 nm、第10層の光学膜厚が80〜240 nm、第11層の光学膜厚が10〜190 nm、第12層の光学膜厚が60〜250 nm、第13層の光学膜厚が10〜180 nm、第14層の光学膜厚が80〜230 nm、第15層の光学膜厚が10〜170 nm、第16層の光学膜厚が10〜160 nm、第17層の光学膜厚が10〜160 nm、第18層の光学膜厚が40〜230 nm、第19層の光学膜厚が10〜120 nmであることを特徴とする請求項請求項1、2又は4に記載のハーフミラー面を有する光学素子。
- 前記高屈折率膜がZrO2、Ta2O5、Nb2O5、CeO2、TiO2、TiO2とZrO2の混合膜及びTiO2とNb2O5の混合膜からなる群から選ばれた少なくとも1材料からなり、前記低屈折率膜がAl2O3、SiO2、MgF2及びAl2O3とSiO2の混合膜からなる群から選ばれた少なくとも1材料からなることを特徴とする請求項1〜7に記載のハーフミラー面を有する光学素子。
- 請求項1〜8に記載のハーフミラー面を有する光学素子を用いる光学機器。
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