JP2017130627A - Chuck table - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、板状の被加工物を吸引、保持するチャックテーブルに関する。 The present invention relates to a chuck table that sucks and holds a plate-like workpiece.
半導体ウェーハやパッケージ基板等の被加工物を加工する加工装置には、例えば、被加工物を負圧(真空)で吸引、保持するチャックテーブルが設けられている。このチャックテーブルによって被加工物を吸引、保持することで、被加工物を十分に高い精度で加工できる。 A processing apparatus for processing a workpiece such as a semiconductor wafer or a package substrate is provided with, for example, a chuck table that sucks and holds the workpiece with a negative pressure (vacuum). By sucking and holding the workpiece by the chuck table, the workpiece can be processed with sufficiently high accuracy.
近年では、加工前後の被加工物を取り扱い易くするために、被加工物よりも径の大きい粘着テープを被加工物に貼り付け、粘着テープの外縁部に環状のフレームを固定した被加工物ユニット(フレームユニット)を形成する機会が増えている。この場合、チャックテーブルは、被加工物ユニットの全体を保持できるように構成される(例えば、特許文献1参照)。 In recent years, in order to make it easier to handle workpieces before and after processing, a workpiece unit in which an adhesive tape larger in diameter than the workpiece is attached to the workpiece and an annular frame is fixed to the outer edge of the adhesive tape Opportunities to form (frame units) are increasing. In this case, the chuck table is configured to be able to hold the entire workpiece unit (see, for example, Patent Document 1).
上述した被加工物の加工時には、加工屑の排出や各部の冷却等を促進するために、被加工物及び工具に純水等の加工液を供給するのが一般的である。しかしながら、被加工物ユニットとチャックテーブルとの間には僅かな隙間があるので、加工屑を含んだ加工液がこの隙間に吸い込まれてチャックテーブル(特に、負圧の伝達経路)が目詰まりし易いという問題があった。 When processing the above-described workpiece, it is common to supply a processing fluid such as pure water to the workpiece and the tool in order to promote the discharge of processing scraps, the cooling of each part, and the like. However, since there is a slight gap between the workpiece unit and the chuck table, the machining liquid containing machining waste is sucked into this gap and the chuck table (especially the negative pressure transmission path) is clogged. There was a problem that it was easy.
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、隙間から侵入する液体による目詰まりを防止できるチャックテーブルを提供することである。 The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a chuck table that can prevent clogging due to liquid entering from a gap.
本発明の一態様によれば、板状の被加工物を加工する加工装置に設けられ、該被加工物と、該被加工物を囲む環状のフレームと、該被加工物及び該フレームに貼着される粘着テープと、で構成される被加工物ユニットを保持するチャックテーブルであって、該粘着テープを介して該被加工物を吸引保持する保持面を有する本体部と、該本体部の外側で該フレームを支持するフレーム支持部と、を備え、該フレーム支持部は、該フレームよりも外径が小さくなるように形成されており、該フレームの外縁が該フレーム支持部の外側へはみ出すように該フレームを該フレーム支持部に重ねると、該本体部及び該フレーム支持部の上面全体が該被加工物ユニットで覆われることを特徴とするチャックテーブルが提供される。 According to one aspect of the present invention, a processing apparatus that processes a plate-shaped workpiece, the workpiece, an annular frame that surrounds the workpiece, the workpiece and the frame are attached to the workpiece. A chuck table for holding a workpiece unit composed of an adhesive tape to be attached, a main body having a holding surface for sucking and holding the workpiece through the adhesive tape, and A frame support portion that supports the frame on the outside, and the frame support portion is formed to have an outer diameter smaller than that of the frame, and an outer edge of the frame protrudes outside the frame support portion. Thus, when the frame is overlaid on the frame support portion, the chuck table is provided in which the entire upper surface of the main body portion and the frame support portion is covered with the workpiece unit.
本発明の一態様において、該フレーム支持部は、磁力発生部を更に備え、該フレームが強磁性材料で形成されている場合には、該フレームを磁力で吸着して保持することが好ましい。 In one aspect of the present invention, the frame support part further includes a magnetic force generation part, and when the frame is made of a ferromagnetic material, it is preferable to adsorb and hold the frame with a magnetic force.
また、本発明の一態様において、該フレーム支持部は、該本体部の外周側面の該保持面より低い位置から外側へ延在し、該フレーム支持部と該保持面との間に段差が形成されていることが好ましい。 In one embodiment of the present invention, the frame support portion extends outward from a position lower than the holding surface on the outer peripheral side surface of the main body portion, and a step is formed between the frame support portion and the holding surface. It is preferable that
また、本発明の一態様において、該フレーム支持部の一部は、切り欠かれていることが好ましい。 In one embodiment of the present invention, it is preferable that a part of the frame support portion is cut out.
本発明の一態様に係るチャックテーブルは、被加工物を保持する保持面を有する本体部と、フレームよりも外径が小さいフレーム支持部と、を備えるので、フレームの外縁がフレーム支持部の外側へとはみ出すようにフレームをフレーム支持部に重ねると、本体部及びフレーム支持部の上面全体が被加工物ユニットで覆われる。 The chuck table according to one aspect of the present invention includes a main body portion having a holding surface for holding a workpiece and a frame support portion having an outer diameter smaller than that of the frame, so that the outer edge of the frame is outside the frame support portion. When the frame is superimposed on the frame support portion so as to protrude from the edge, the entire upper surface of the main body portion and the frame support portion is covered with the workpiece unit.
これにより、被加工物ユニットに供給された液体がフレーム支持部に流れ落ち難くなって、被加工物ユニットとフレーム支持部との隙間への液体の侵入を防止できる。すなわち、本発明の一態様に係るチャックテーブルによれば、隙間から侵入する液体による保持面の目詰まりを防止できる。 As a result, the liquid supplied to the workpiece unit is less likely to flow down to the frame support portion, and the liquid can be prevented from entering the gap between the workpiece unit and the frame support portion. That is, according to the chuck table according to one aspect of the present invention, the holding surface can be prevented from being clogged by the liquid entering from the gap.
添付図面を参照して、本発明の一態様に係る実施形態について説明する。図1は、本実施形態に係るチャックテーブルを備える切削装置の構成例を模式的に示す斜視図である。なお、本実施形態では、切削装置を例に挙げて説明するが、本発明に係る加工装置は、研削装置、研磨装置等でも良い。 Embodiments according to one aspect of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view schematically illustrating a configuration example of a cutting apparatus including a chuck table according to the present embodiment. In the present embodiment, a cutting apparatus will be described as an example. However, the processing apparatus according to the present invention may be a grinding apparatus, a polishing apparatus, or the like.
図1に示すように、切削装置(加工装置)2は、各構造を支持する基台4を備えている。基台4の上面には、X軸方向(前後方向、加工送り方向)に長い矩形状の開口4aが形成されている。この開口4a内には、X軸移動テーブル6、X軸移動テーブル6をX軸方向に移動させるX軸移動機構(不図示)、及びX軸移動機構を覆う防塵防滴カバー8が設けられている。
As shown in FIG. 1, the cutting device (processing device) 2 includes a base 4 that supports each structure. On the upper surface of the base 4, a
X軸移動機構は、X軸方向に平行な一対のX軸ガイドレール(不図示)を備えており、X軸ガイドレールには、X軸移動テーブル6がスライド可能に取り付けられている。X軸移動テーブル6の下面側には、ナット部(不図示)が設けられており、このナット部には、X軸ガイドレールに平行なX軸ボールネジ(不図示)が螺合されている。 The X-axis movement mechanism includes a pair of X-axis guide rails (not shown) parallel to the X-axis direction, and an X-axis movement table 6 is slidably attached to the X-axis guide rails. A nut portion (not shown) is provided on the lower surface side of the X-axis moving table 6, and an X-axis ball screw (not shown) parallel to the X-axis guide rail is screwed to the nut portion.
X軸ボールネジの一端部には、X軸パルスモータ(不図示)が連結されている。X軸パルスモータでX軸ボールネジを回転させることで、X軸移動テーブル6はX軸ガイドレールに沿ってX軸方向に移動する。 An X-axis pulse motor (not shown) is connected to one end of the X-axis ball screw. By rotating the X-axis ball screw with the X-axis pulse motor, the X-axis moving table 6 moves in the X-axis direction along the X-axis guide rail.
X軸移動テーブル6上には、被加工物ユニット(フレームユニット)1を吸引、保持するチャックテーブル10が設けられている。チャックテーブル10は、モータ等の回転駆動源(不図示)に連結されており、Z軸方向(鉛直方向)に平行な回転軸の周りに回転する。また、チャックテーブル10は、上述のX軸移動機構でX軸方向に加工送りされる。チャックテーブル10の詳細については後述する。 On the X-axis moving table 6, a chuck table 10 for sucking and holding the workpiece unit (frame unit) 1 is provided. The chuck table 10 is connected to a rotation drive source (not shown) such as a motor, and rotates around a rotation axis parallel to the Z-axis direction (vertical direction). The chuck table 10 is processed and fed in the X-axis direction by the above-described X-axis moving mechanism. Details of the chuck table 10 will be described later.
図2は、被加工物ユニット1の構成例を模式的に示す平面図である。被加工物ユニット1は、板状の被加工物11を含んでいる。被加工物11は、例えば、シリコン等の半導体材料でなる円形の半導体ウェーハであり、その上面(表面)側は、格子状に配列された分割予定ライン(ストリート)で複数の領域に区画されている。
FIG. 2 is a plan view schematically showing a configuration example of the
被加工物11の下面(裏面)側には、被加工物11よりも径の大きい粘着テープ13が貼り付けられている。粘着テープ13の外縁部には、環状のフレーム15が固定されている。すなわち、被加工物11及びフレーム15には、1枚の粘着テープ13が貼り付けられており、被加工物11は、この粘着テープ13を介してフレーム15に支持されている。
An
なお、本実施形態では、シリコン等の半導体材料でなる円形の半導体ウェーハを被加工物11としているが、被加工物11の材質、形状等に制限はない。例えば、パッケージ基板、セラミックス基板、ガラス基板、樹脂基板、金属基板等を被加工物11として用いることもできる。
In the present embodiment, a circular semiconductor wafer made of a semiconductor material such as silicon is used as the
基台4の上面には、被加工物11を切削加工する切削ユニット(加工ユニット)12を支持する門型の支持構造14が、開口4aを跨ぐように配置されている。支持構造14の前面上部には、切削ユニット12をY軸方向(左右方向、割り出し送り方向)及びZ軸方向に移動させる切削ユニット移動機構16が設けられている。
On the upper surface of the base 4, a gate-
切削ユニット移動機構16は、支持構造14の前面に配置されY軸方向に平行な一対のY軸ガイドレール18を備えている。Y軸ガイドレール18には、切削ユニット移動機構16を構成するY軸移動プレート20がスライド可能に取り付けられている。
The cutting
Y軸移動プレート20の裏面側(後面側)には、ナット部(不図示)が設けられており、このナット部には、Y軸ガイドレール18に平行なY軸ボールネジ22が螺合されている。Y軸ボールネジ22の一端部には、Y軸パルスモータ(不図示)が連結されている。Y軸パルスモータでY軸ボールネジ22を回転させれば、Y軸移動プレート20は、Y軸ガイドレール18に沿ってY軸方向に移動する。
A nut portion (not shown) is provided on the back surface side (rear surface side) of the Y-
Y軸移動プレート20の表面(前面)には、Z軸方向に平行な一対のZ軸ガイドレール24が設けられている。Z軸ガイドレール24には、Z軸移動プレート26がスライド可能に取り付けられている。
A pair of Z-
Z軸移動プレート26の裏面側(後面側)には、ナット部(不図示)が設けられており、このナット部には、Z軸ガイドレール24に平行なZ軸ボールネジ28が螺合されている。Z軸ボールネジ28の一端部には、Z軸パルスモータ30が連結されている。Z軸パルスモータ30でZ軸ボールネジ28を回転させれば、Z軸移動プレート26は、Z軸ガイドレール24に沿ってZ軸方向に移動する。
A nut portion (not shown) is provided on the back surface side (rear surface side) of the Z-
Z軸移動プレート26の下部には、被加工物11を切削加工する切削ユニット12が設けられている。また、切削ユニット12と隣接する位置には、被加工物11の上面側を撮像するカメラ(撮像ユニット)32が設置されている。切削ユニット移動機構16で、Y軸移動プレート20をY軸方向に移動させれば、切削ユニット12及びカメラ32は割り出し送りされ、Z軸移動プレート26をZ軸方向に移動させれば、切削ユニット12及びカメラ32は昇降する。
A cutting
切削ユニット12は、Y軸方向に平行な回転軸を構成するスピンドルの一端側に装着された円環状の切削ブレード34を備えている。スピンドルの他端側にはモータ等の回転駆動源(不図示)が連結されており、スピンドルに装着された切削ブレード34を回転させる。また、切削ブレード34の近傍には、切削ブレード34及び被加工物11に対して純水等の切削液(加工液)を供給するノズル35が配置されている。
The cutting
開口4aと隣接する位置には、円形の開口4bが形成されている。開口4b内には、被加工物11を洗浄する洗浄ユニット36が配置されている。洗浄ユニット36は、被加工物ユニット1を吸引、保持するチャックテーブル38と、被加工物11に向けて洗浄用の流体を噴射するノズル40とを含んでいる。チャックテーブル38は、モータ等の回転駆動源(不図示)に連結されており、Z軸方向に平行な回転軸の周りに回転する。チャックテーブル38の詳細については後述する。
A
このように構成された切削装置2で被加工物11を切削加工する際には、まず、被加工物ユニット1をチャックテーブル10に搬入して保持させる。次に、チャックテーブル10と切削ユニット12とを相対的に移動、回転させて、加工対象となる分割予定ラインの延長線上に切削ブレード34の位置を合わせる。
When cutting the
その後、切削ブレード34を被加工物11に接触可能な高さまで下降させるとともに回転させ、更に、切削液を供給しながらチャックテーブル10を加工対象の分割予定ラインに対して平行に移動させる。これにより、被加工物11を分割予定ラインに沿って切削加工できる。切削加工後の被加工物11は、例えば、チャックテーブル10から搬出され、洗浄ユニット36で洗浄される。
Thereafter, the
図3は、チャックテーブル10,38の構成例を模式的に示す平面図である。チャックテーブル10,38は、本体部42を備えている。本体部42は、ステンレスやアルミニウム等の金属で形成された円盤状の枠体44を含む。枠体44の上面中央部には、円形の開口44aが形成されており、この開口44a内には、開口44aの形状に合致する吸引プレート46が嵌め込まれている。
FIG. 3 is a plan view schematically showing a configuration example of the chuck tables 10 and 38. The chuck tables 10 and 38 include a
吸引プレート46は、例えば、多孔質材料で板状に形成されており、その上面は、粘着テープ13を介して被加工物11を吸引、保持する保持面42aとなる。開口44aは、枠体44の内部に形成された流路44b(図4(B)参照)等を通じて吸引源(不図示)に接続されている。吸引源の負圧(真空)を吸引プレート46に作用させることで、保持面42aには、被加工物11を吸引するための吸引力が発生する。
The
本体部42の外周側面42b(枠体44の側面)には、フレーム15を支持するためのフレーム支持部48が設けられている。このフレーム支持部48は、例えば、ステンレスやアルミニウム等の金属を用いて板状に形成される。また、フレーム支持部48には、磁力を発生する磁石(磁力発生部)50が配置されており、フレーム11が強磁性材料でなる場合には、この磁石50の磁力でフレーム11を吸着して保持できる。なお、磁石50としては、電磁石及び永久磁石のいずれを用いても良い。
A
フレーム支持部48は、代表的には、外縁48a側を部分的に切り欠かれた円環状に形成される。フレーム支持部48の外縁48aから中心48bまでの距離48cは、被加工物ユニット1を構成するフレーム15の外縁15aから中心15bまでの距離15cよりも小さくなっている。すなわち、フレーム支持部48は、フレーム15よりも外径が小さくなるように形成されている。
The
このように、フレーム15よりもフレーム支持部48の外径を小さくすることで、本体部42及びフレーム支持部48の上面全体を被加工物ユニット1で覆うことができるようになる。つまり、被加工物ユニット1を傘のように機能させることができるので、特に被加工物ユニット1の上面に供給される液体(切削液や洗浄用の流体)が被加工物ユニット1とフレーム支持部48との隙間に侵入し難くなる。
Thus, by making the outer diameter of the
また、フレーム支持部48は、外周側面42bの保持面42aより低い位置から外側に向かって延在しており(図4(B)参照)、保持面42aとフレーム支持部48との間には、段差が形成されている。そのため、被加工物ユニット1とフレーム支持部48との隙間に粘着テープ13等を伝って液体が浸入したとしても、この液体の大部分は、段差と粘着テープ13との隙間に垂れて落ち、段差を上ることがない。つまり、この段差によって液体の侵入が止められるので、保持面42aには液体が殆ど到達しない。
Further, the
更に、フレーム支持部48の一部が切り欠かれているので、被加工物ユニット1とフレーム支持部48との隙間に液体が侵入する確率が更に低くなり、また、隙間に侵入した液体も切り欠き部48dを通じて容易に排出される。なお、本実施形態では、外縁48aから本体部42にまで達する4個の深い切り欠き部48dを概ね等間隔に設けているが、切り欠き部48の形状、数量、配置等は任意に変更できる。
Further, since a part of the
図4(A)は、被加工物ユニット1をチャックテーブル10,38で保持した状態を模式的に示す平面図である。図4(A)に示すように、フレーム15の外縁15aがフレーム支持部48の外側へとはみ出すようにフレーム15をフレーム支持部48に重ねると、本体部42及びフレーム支持部48の上面全体が被加工物ユニット1で覆われることになる。
FIG. 4A is a plan view schematically showing a state in which the
図4(B)は、チャックテーブル10に吸引、保持された被加工物11が切削される様子を模式的に示す一部断面側面図である。図4(B)に示すように、回転させた切削ブレード34を被加工物11に切り込ませる際には、被加工物11及び切削ブレード34に切削液21が供給される。
FIG. 4B is a partial cross-sectional side view schematically showing how the
上述のように、本体部42及びフレーム支持部48の上面全体は被加工物ユニット1で覆われている。よって、被加工物ユニット1は、切削液21に対して傘のような役割を果たすことになる。これにより、被加工物ユニット1で覆われたフレーム支持部48等には、切削液21が付着し難くなり、被加工物ユニット1とフレーム支持部48との隙間への切削液の21の侵入は防止される。
As described above, the entire upper surfaces of the
以上のように、本実施形態に係るチャックテーブル10,38は、被加工物11を保持する保持面42aを有する本体部42と、フレーム15よりも外径が小さいフレーム支持部48と、を備えるので、フレーム15の外縁15aがフレーム支持部48の外側へとはみ出すようにフレーム15をフレーム支持部48に重ねると、本体部42及びフレーム支持部48の上面全体が被加工物ユニット1で覆われる。
As described above, the chuck tables 10 and 38 according to the present embodiment include the
これにより、被加工物ユニット1に供給された液体がフレーム支持部48に流れ落ち難くなって、被加工物ユニット1とフレーム支持部48との隙間への液体の侵入を防止できる。すなわち、本実施形態に係るチャックテーブル10,38によれば、隙間から侵入する液体による保持面42aの目詰まりを防止できる。
As a result, the liquid supplied to the
なお、本発明は上記実施形態の記載に限定されず、種々変更して実施可能である。例えば、上記実施形態では、磁石(磁力発生部)50によってフレーム15を吸着、保持するフレーム支持部48を例示しているが、フレーム支持部48は、負圧(真空)によってフレーム15を吸引、保持できるように構成されても良い。
In addition, this invention is not limited to description of the said embodiment, A various change can be implemented. For example, in the above embodiment, the
また、上記実施形態では、切削加工(加工)の際に被加工物ユニット1を保持するチャックテーブル10と、洗浄の際に被加工物ユニット1を保持するチャックテーブル38と、を備える切削装置(加工装置)2について説明しているが、本発明に係るチャックテーブルの使用態様に特段の制限はない。例えば、本発明に係るチャックテーブルを1台だけ使用して加工装置を構成しても良い。
Moreover, in the said embodiment, the cutting apparatus (with the chuck table 10 holding the
その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。 In addition, the structure, method, and the like according to the above-described embodiment can be appropriately modified and implemented without departing from the scope of the object of the present invention.
2 切削装置(加工装置)
4 基台
4a,4b 開口
6 X軸移動テーブル
8 防塵防滴カバー
10,38 チャックテーブル
12 切削ユニット(加工ユニット)
14 支持構造
16 切削ユニット移動機構
18 Y軸ガイドレール
20 Y軸移動プレート
22 Y軸ボールネジ
24 Z軸ガイドレール
26 Z軸移動プレート
28 Z軸ボールネジ
30 Z軸パルスモータ
32 カメラ(撮像ユニット)
34 切削ブレード
35 ノズル
36 洗浄ユニット
40 ノズル
42 本体部
42a 保持面
42b 外周側面
44 枠体
44a 開口
44b 流路
46 吸引プレート
48 フレーム支持部
48a 外縁
48b 中心
48c 距離
48d 切り欠き部
50 磁石(磁力発生部)
1 被加工物ユニット(フレームユニット)
11 被加工物
13 粘着テープ
15 フレーム
15a 外縁
15b 中心
15c 距離
2 Cutting equipment (processing equipment)
4
DESCRIPTION OF
34
1 Workpiece unit (frame unit)
11
Claims (4)
該粘着テープを介して該被加工物を吸引保持する保持面を有する本体部と、
該本体部の外側で該フレームを支持するフレーム支持部と、を備え、
該フレーム支持部は、該フレームよりも外径が小さくなるように形成されており、
該フレームの外縁が該フレーム支持部の外側へはみ出すように該フレームを該フレーム支持部に重ねると、該本体部及び該フレーム支持部の上面全体が該被加工物ユニットで覆われることを特徴とするチャックテーブル。 Provided in a processing apparatus for processing a plate-like workpiece, and composed of the workpiece, an annular frame surrounding the workpiece, and the workpiece and an adhesive tape attached to the frame A chuck table for holding a workpiece unit to be processed,
A main body having a holding surface for sucking and holding the workpiece through the adhesive tape;
A frame support part for supporting the frame on the outside of the main body part,
The frame support portion is formed to have an outer diameter smaller than the frame,
When the frame is overlapped with the frame support portion so that the outer edge of the frame protrudes outside the frame support portion, the entire upper surface of the main body portion and the frame support portion is covered with the workpiece unit. Chuck table.
Priority Applications (3)
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