JP2017119680A - ピエゾ式噴霧装置用空間処理剤 - Google Patents
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Abstract
【課題】無機系薬剤の拡散性及び揮散性に優れたピエゾ式噴霧装置用空間処理剤の提供。【解決手段】下記（Ａ）成分と、（Ｂ）成分と、（Ｃ）成分と、（Ｄ）成分とを含有し、（Ｂ）成分／（Ｃ）成分で表される質量比が０．１０〜１．０であるピエゾ式噴霧装置用空間処理剤。（Ａ）成分：遷移金属を含有する無機系薬剤。（Ｂ）成分：沸点が７０℃以上、１５０℃未満である有機溶剤。（Ｃ）成分：沸点が１５０℃以上、２５０℃未満である有機溶剤。（Ｄ）成分：カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤及び半反極性界面活性剤からなる群より選ばれる一種以上の界面活性剤。【選択図】なし
Description
本発明は、ピエゾ式噴霧装置用空間処理剤に関する。
浴室等の湿気が多い場所では、壁や天井に細菌、カビ等の微生物が繁殖しやすい。しかしながら、浴室の天井や壁の上部などは手が届きにくく、スプレー式の塩素系カビ取り剤により微生物を除去するのは困難である。
また、居住空間には、浴室以外にも、微生物が繁殖しやすい様々な場所、例えば玄関、窓サッシ、押入れ、クローゼットなどがある。しかし、これらの場所は水で洗剤を洗い流すことが容易ではないため、塩素系カビ取り剤により微生物を除去することは困難である。
さらに、微生物は様々な場所に繁殖するため、除菌スプレー等を吹きかけるという局所的な対応では微生物の繁殖を防止することは困難であり、また使い勝手も悪い。
そのため、これら居住空間における様々な場所の微生物を除去し、繁殖を予防することで、清潔な空間を手軽に維持できる方法が望まれている。
また、居住空間には、浴室以外にも、微生物が繁殖しやすい様々な場所、例えば玄関、窓サッシ、押入れ、クローゼットなどがある。しかし、これらの場所は水で洗剤を洗い流すことが容易ではないため、塩素系カビ取り剤により微生物を除去することは困難である。
さらに、微生物は様々な場所に繁殖するため、除菌スプレー等を吹きかけるという局所的な対応では微生物の繁殖を防止することは困難であり、また使い勝手も悪い。
そのため、これら居住空間における様々な場所の微生物を除去し、繁殖を予防することで、清潔な空間を手軽に維持できる方法が望まれている。
このような要望に対し、空間に噴霧することにより、空間を形成する壁や天井等の面の微生物を除去し、繁殖を予防する薬剤（以下、空間処理剤ともいう）が提案されている。
空間処理剤としては、微生物の繁殖を予防する効果、すなわち抗菌又は防カビ効果の高い、銀等の無機系薬剤を含む、燻煙タイプの空間処理剤が提案されている。燻煙タイプの空間処理剤が、居住空間の様々な場所で使用されることを考慮すると、煙の量を抑えて、又は煙を出さないようにして空間処理剤を噴霧する方法が求められている。
近年、ピエゾ式噴霧装置により空間処理剤を噴霧する方法が提案されている。ピエゾ式噴霧装置は、ピエゾ（圧電）素子を使用した超音波振動により薬液を霧化させる装置であり、手動のスプレー式に比べて楽に使用でき、しかも空間処理剤をより微粒化して噴霧できる。また、ピエゾ式噴霧装置は、加熱蒸散型の噴霧装置に比べて煙の量が少ない。
空間処理剤としては、微生物の繁殖を予防する効果、すなわち抗菌又は防カビ効果の高い、銀等の無機系薬剤を含む、燻煙タイプの空間処理剤が提案されている。燻煙タイプの空間処理剤が、居住空間の様々な場所で使用されることを考慮すると、煙の量を抑えて、又は煙を出さないようにして空間処理剤を噴霧する方法が求められている。
近年、ピエゾ式噴霧装置により空間処理剤を噴霧する方法が提案されている。ピエゾ式噴霧装置は、ピエゾ（圧電）素子を使用した超音波振動により薬液を霧化させる装置であり、手動のスプレー式に比べて楽に使用でき、しかも空間処理剤をより微粒化して噴霧できる。また、ピエゾ式噴霧装置は、加熱蒸散型の噴霧装置に比べて煙の量が少ない。
ピエゾ式噴霧装置を用いて噴霧される空間処理剤として、例えば特許文献１には、害虫防除剤としてトランスフルトリン等の有機薬剤と、沸点が１５０〜２５０℃の有機溶剤とを含有する空間処理剤が開示されている。
また、特許文献２には、殺虫成分と、エチレングリコール系溶剤やプロピレングリコール系溶剤等の有機溶剤とを含有する殺虫液を、ピエゾ式噴霧装置を用いて空間内に噴霧する匍匐害虫駆除方法が開示されている。
また、特許文献３には、芳香成分と金属イオンをエチレンビニルアセテート共重合体に担持させた担持体を沸点が２００℃未満の水性溶剤に浸漬又は分散させた消臭・芳香剤を、超音波式噴霧装置を用いて噴霧する方法が開示されている。
しかしながら、有効成分として銀等の無機系薬剤をピエゾ式噴霧装置で噴霧する場合、特許文献１〜３に記載の技術では無機系薬剤の拡散性及び揮散性が低く、抗菌又は防カビ効果を十分に発揮できなかった。
また、特許文献２には、殺虫成分と、エチレングリコール系溶剤やプロピレングリコール系溶剤等の有機溶剤とを含有する殺虫液を、ピエゾ式噴霧装置を用いて空間内に噴霧する匍匐害虫駆除方法が開示されている。
また、特許文献３には、芳香成分と金属イオンをエチレンビニルアセテート共重合体に担持させた担持体を沸点が２００℃未満の水性溶剤に浸漬又は分散させた消臭・芳香剤を、超音波式噴霧装置を用いて噴霧する方法が開示されている。
しかしながら、有効成分として銀等の無機系薬剤をピエゾ式噴霧装置で噴霧する場合、特許文献１〜３に記載の技術では無機系薬剤の拡散性及び揮散性が低く、抗菌又は防カビ効果を十分に発揮できなかった。
本発明は、無機系薬剤の拡散性及び揮散性に優れたピエゾ式噴霧装置用空間処理剤を提供する。
本発明は以下の態様を有する。
［１］ 下記（Ａ）成分と、（Ｂ）成分と、（Ｃ）成分と、（Ｄ）成分とを含有し、（Ｂ）成分／（Ｃ）成分で表される質量比が０．１０〜１．０である、ピエゾ式噴霧装置用空間処理剤。
（Ａ）成分：遷移金属を含有する無機系薬剤。
（Ｂ）成分：沸点が７０℃以上、１５０℃未満である有機溶剤。
（Ｃ）成分：沸点が１５０℃以上、２５０℃未満である有機溶剤。
（Ｄ）成分：カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤及び半極性界面活性剤からなる群より選ばれる一種以上の界面活性剤。
［２］ ［（Ａ）成分中の遷移金属］／（Ｄ）成分で表される質量比が０．０１〜５．０である、［１］に記載のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤。
［３］ 抗菌又は防カビ用である［１］又は［２］に記載のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤。
［１］ 下記（Ａ）成分と、（Ｂ）成分と、（Ｃ）成分と、（Ｄ）成分とを含有し、（Ｂ）成分／（Ｃ）成分で表される質量比が０．１０〜１．０である、ピエゾ式噴霧装置用空間処理剤。
（Ａ）成分：遷移金属を含有する無機系薬剤。
（Ｂ）成分：沸点が７０℃以上、１５０℃未満である有機溶剤。
（Ｃ）成分：沸点が１５０℃以上、２５０℃未満である有機溶剤。
（Ｄ）成分：カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤及び半極性界面活性剤からなる群より選ばれる一種以上の界面活性剤。
［２］ ［（Ａ）成分中の遷移金属］／（Ｄ）成分で表される質量比が０．０１〜５．０である、［１］に記載のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤。
［３］ 抗菌又は防カビ用である［１］又は［２］に記載のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤。
［４］ 前記（Ａ）成分が遷移金属の担持体である、［１］〜［３］のいずれか一つに記載のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤。
［５］ 前記遷移金属の含有量が０．００１０〜１．０質量％であり、（Ｂ）成分の含有量が１０〜５０質量％であり、（Ｃ）成分の含有量が４０〜８０質量％であり、（Ｄ）成分の含有量が０．０５０〜３．０質量％である、［１］〜［４］のいずれか一つに記載のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤。
［６］ 前記遷移金属の含有量が０．０３〜０．０８質量％であり、（Ｂ）成分の含有量が１０〜３０質量％であり、（Ｃ）成分の含有量が５０〜７５質量％であり、（Ｄ）成分の含有量が０．０５０〜１．０質量％である、［１］〜［５］のいずれか一つに記載のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤。
［５］ 前記遷移金属の含有量が０．００１０〜１．０質量％であり、（Ｂ）成分の含有量が１０〜５０質量％であり、（Ｃ）成分の含有量が４０〜８０質量％であり、（Ｄ）成分の含有量が０．０５０〜３．０質量％である、［１］〜［４］のいずれか一つに記載のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤。
［６］ 前記遷移金属の含有量が０．０３〜０．０８質量％であり、（Ｂ）成分の含有量が１０〜３０質量％であり、（Ｃ）成分の含有量が５０〜７５質量％であり、（Ｄ）成分の含有量が０．０５０〜１．０質量％である、［１］〜［５］のいずれか一つに記載のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤。
本発明によれば、無機系薬剤の拡散性及び揮散性に優れたピエゾ式噴霧装置用空間処理剤が得られる。
以下、本発明を詳細に説明する。
なお、本発明において「抗菌又は防カビ」とは、細菌、カビ等の微生物の繁殖を防ぐこと、及び細菌、カビ等の微生物を減らすことを包含する概念である。また、細菌、カビ等の微生物を減らすことを特に「殺菌又は殺カビ」という。
無機系薬剤の揮散性とは、無機系薬剤を含む空間処理剤を噴霧した際の無機系薬剤の揮散し易さを示す性質である。無機系薬剤の拡散性とは、無機系薬剤を含む空間処理剤を噴霧した際の無機系薬剤の拡散し易さを示す性質である。
なお、本発明において「抗菌又は防カビ」とは、細菌、カビ等の微生物の繁殖を防ぐこと、及び細菌、カビ等の微生物を減らすことを包含する概念である。また、細菌、カビ等の微生物を減らすことを特に「殺菌又は殺カビ」という。
無機系薬剤の揮散性とは、無機系薬剤を含む空間処理剤を噴霧した際の無機系薬剤の揮散し易さを示す性質である。無機系薬剤の拡散性とは、無機系薬剤を含む空間処理剤を噴霧した際の無機系薬剤の拡散し易さを示す性質である。
本発明のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤（以下、単に「空間処理剤」ともいう）は、以下に示す（Ａ）成分と、（Ｂ）成分と、（Ｃ）成分と、（Ｄ）成分とを含有する液体の組成物である。本発明のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤は、さらに任意成分を含有していてもよい。
＜（Ａ）成分＞
（Ａ）成分は、抗菌又は防カビ効果を有する無機系薬剤である。（Ａ）成分が抗菌又は防カビ効果を奏することにより、微生物の増殖による臭気が抑制される。
（Ａ）成分は、遷移金属を含有する薬剤であり、遷移金属単体、遷移金属イオン又は遷移金属担持体等を用いることができる。（Ａ）成分は、遷移金属担持体であることが好ましい。
遷移金属としては、例えば銀、銅、亜鉛、ニッケルが挙げられる。遷移金属としては、抗菌又は防カビ効果及び消臭効果に優れた空間処理剤が得られることから、銀、銅、又は亜鉛を用いることが好ましく、銀を用いることがより好ましい。
遷移金属は、遷移金属単体、又は遷移金属イオンである。
遷移金属イオンとしては、遷移金属イオンと陰イオンとからなる遷移金属化合物中に存在するものを用いることができる。遷移金属化合物としては、塩化物、硝酸塩、硫酸塩、グルコン酸塩、炭酸塩、ギ酸塩、酢酸塩が挙げられる。具体例としては、酸化銀、硝酸銀、硫酸銅、塩化亜鉛等が挙げられる。
遷移金属担持体とは、遷移金属が担体に担持された担持体をいう。担体としては、例えばゼオライト、シリカゲル、低分子ガラス、リン酸カルシウム、ケイ酸塩、酸化チタン等が挙げられる。
遷移金属担持体（以下、単に担持体ともいう）としては、抗菌又は防カビ効果に優れた空間処理剤が得られることから、前記遷移金属化合物がゼオライトに担持された担持体（ゼオライト系抗菌剤）、前記遷移金属化合物がシリカゲルに担持された担持体（シリカゲル系抗菌剤）、前記遷移金属化合物が酸化チタンに担持された担持体（チタン系抗菌剤）、前記遷移金属化合物がケイ酸塩に担持された担持体（ケイ酸塩系抗菌剤）のいずれか一以上を用いることが好ましい。
（Ａ）成分は、抗菌又は防カビ効果を有する無機系薬剤である。（Ａ）成分が抗菌又は防カビ効果を奏することにより、微生物の増殖による臭気が抑制される。
（Ａ）成分は、遷移金属を含有する薬剤であり、遷移金属単体、遷移金属イオン又は遷移金属担持体等を用いることができる。（Ａ）成分は、遷移金属担持体であることが好ましい。
遷移金属としては、例えば銀、銅、亜鉛、ニッケルが挙げられる。遷移金属としては、抗菌又は防カビ効果及び消臭効果に優れた空間処理剤が得られることから、銀、銅、又は亜鉛を用いることが好ましく、銀を用いることがより好ましい。
遷移金属は、遷移金属単体、又は遷移金属イオンである。
遷移金属イオンとしては、遷移金属イオンと陰イオンとからなる遷移金属化合物中に存在するものを用いることができる。遷移金属化合物としては、塩化物、硝酸塩、硫酸塩、グルコン酸塩、炭酸塩、ギ酸塩、酢酸塩が挙げられる。具体例としては、酸化銀、硝酸銀、硫酸銅、塩化亜鉛等が挙げられる。
遷移金属担持体とは、遷移金属が担体に担持された担持体をいう。担体としては、例えばゼオライト、シリカゲル、低分子ガラス、リン酸カルシウム、ケイ酸塩、酸化チタン等が挙げられる。
遷移金属担持体（以下、単に担持体ともいう）としては、抗菌又は防カビ効果に優れた空間処理剤が得られることから、前記遷移金属化合物がゼオライトに担持された担持体（ゼオライト系抗菌剤）、前記遷移金属化合物がシリカゲルに担持された担持体（シリカゲル系抗菌剤）、前記遷移金属化合物が酸化チタンに担持された担持体（チタン系抗菌剤）、前記遷移金属化合物がケイ酸塩に担持された担持体（ケイ酸塩系抗菌剤）のいずれか一以上を用いることが好ましい。
担持体の体積平均粒子径は、０．０１０〜１０μｍであることが好ましく、０．０１０〜５．０μｍであることがより好ましい。
本発明において体積平均粒子径は、レーザー回析／散乱式粒度分布測定装置（ＬＡ９１０、株式会社堀場製作所製）により測定される値をいう。体積平均粒子径は次のようにして測定できる。担持体を固形分１質量％となるように蒸留水に分散して試料とする。この試料をレーザー回析／散乱式粒度分布測定装置に投入し、装置内で超音波による分散後、レーザーを照射して粒度分布を測定する。体積頻度の累積が５０％（体積）以上である粒子の粒子径を平均粒子径とする。
本発明において体積平均粒子径は、レーザー回析／散乱式粒度分布測定装置（ＬＡ９１０、株式会社堀場製作所製）により測定される値をいう。体積平均粒子径は次のようにして測定できる。担持体を固形分１質量％となるように蒸留水に分散して試料とする。この試料をレーザー回析／散乱式粒度分布測定装置に投入し、装置内で超音波による分散後、レーザーを照射して粒度分布を測定する。体積頻度の累積が５０％（体積）以上である粒子の粒子径を平均粒子径とする。
（Ａ）成分は、１種で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
空間処理剤中の遷移金属の含有量、すなわち空間処理剤全体の質量に対する遷移金属の質量の割合は、０．００１０〜１．０質量％であることが好ましく、０．０１０〜０．２０質量％であることがより好ましく、０．０３〜０．０８質量％であることが更に好ましい。遷移金属の含有量が０．００１０質量％以上であると、抗菌又は防カビ効果に優れた空間処理剤が得られやすい。遷移金属の含有量が１．０質量以下であると、（Ａ）成分の効果が飽和することなく、濃度の高さに応じて効果の向上が得られやすい。
（Ａ）成分として担持体を用いる場合、空間処理剤中の担持体の含有量、すなわち空間処理剤全体の質量に対する担持体の質量の割合は、０．０２０〜５．０質量％であることが好ましく、０．１０〜２．０質量％であることがより好ましい。担持体の含有量が０．０２０質量％以上であると、抗菌又は防カビ効果に優れた空間処理剤が得られる。また、担持体の含有量が５．０質量％以内であることにより、ピエゾ式噴霧装置の目詰まりによる噴霧力の低下を抑制しやすい。
空間処理剤中の遷移金属の含有量、すなわち空間処理剤全体の質量に対する遷移金属の質量の割合は、０．００１０〜１．０質量％であることが好ましく、０．０１０〜０．２０質量％であることがより好ましく、０．０３〜０．０８質量％であることが更に好ましい。遷移金属の含有量が０．００１０質量％以上であると、抗菌又は防カビ効果に優れた空間処理剤が得られやすい。遷移金属の含有量が１．０質量以下であると、（Ａ）成分の効果が飽和することなく、濃度の高さに応じて効果の向上が得られやすい。
（Ａ）成分として担持体を用いる場合、空間処理剤中の担持体の含有量、すなわち空間処理剤全体の質量に対する担持体の質量の割合は、０．０２０〜５．０質量％であることが好ましく、０．１０〜２．０質量％であることがより好ましい。担持体の含有量が０．０２０質量％以上であると、抗菌又は防カビ効果に優れた空間処理剤が得られる。また、担持体の含有量が５．０質量％以内であることにより、ピエゾ式噴霧装置の目詰まりによる噴霧力の低下を抑制しやすい。
＜（Ｂ）成分＞
（Ｂ）成分は、沸点が７０℃以上、１５０℃未満である有機溶剤である。
（Ｂ）成分は、（Ｃ）成分と特定比で併用する事により、空間処理剤を噴霧した際の（Ａ）成分の揮散性及び拡散性が良好となり、空間処理剤が噴霧された空間（処理空間ともいう）の天井や壁面において十分な抗菌又は防カビ効果を発現することができる。
（Ｂ）成分は、沸点が７０℃以上、１５０℃未満である有機溶剤である。
（Ｂ）成分は、（Ｃ）成分と特定比で併用する事により、空間処理剤を噴霧した際の（Ａ）成分の揮散性及び拡散性が良好となり、空間処理剤が噴霧された空間（処理空間ともいう）の天井や壁面において十分な抗菌又は防カビ効果を発現することができる。
（Ｂ）成分としては、例えばエタノール（沸点７８．３℃）、２−プロパノール（沸点８２．４℃）、エチレングリコールジメチルエーテル（沸点８５．２℃）、エチレングリコールモノメチルエーテル（沸点１２４．５℃）、エチレングリコールモノエチルエーテル（沸点１３５℃）、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート（沸点１４５℃）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（沸点１２０℃）、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル（沸点１４２℃）等が挙げられる。この中でも、（Ｂ）成分としてはエタノールが好ましい。
（Ｂ）成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
空間処理剤中の（Ｂ）成分の含有量、すなわち空間処理剤全体の質量に対する（Ｂ）成分の質量の割合は、１０〜５０質量％であることが好ましく、１０〜３０質量％であることがより好ましい。
（Ｂ）成分の含有量を１０質量％以上、５０質量％以下とすることにより、（Ａ）成分の拡散性、揮散率が向上するとともに、天井、壁面等に対する付着性を十分有し、抗菌又は防カビ効果を持続可能な空間処理剤が得られやすくなる。
空間処理剤中の（Ｂ）成分の含有量、すなわち空間処理剤全体の質量に対する（Ｂ）成分の質量の割合は、１０〜５０質量％であることが好ましく、１０〜３０質量％であることがより好ましい。
（Ｂ）成分の含有量を１０質量％以上、５０質量％以下とすることにより、（Ａ）成分の拡散性、揮散率が向上するとともに、天井、壁面等に対する付着性を十分有し、抗菌又は防カビ効果を持続可能な空間処理剤が得られやすくなる。
＜（Ｃ）成分＞
（Ｃ）成分は、沸点が１５０℃以上、２５０℃未満である有機溶剤である。
（Ｃ）成分は、（Ｂ）成分と特定比で併用する事により、空間処理剤中において（Ａ）成分が均一に分散し易くなる。これにより、空間処理剤を噴霧した際の（Ａ）成分の揮散性及び拡散性が良好となり、空間処理剤が噴霧された空間（処理空間ともいう）の天井や壁面（処理面ともいう）において十分な抗菌又は防カビ効果を発現することができる。
（Ｃ）成分は、沸点が１５０℃以上、２５０℃未満である有機溶剤である。
（Ｃ）成分は、（Ｂ）成分と特定比で併用する事により、空間処理剤中において（Ａ）成分が均一に分散し易くなる。これにより、空間処理剤を噴霧した際の（Ａ）成分の揮散性及び拡散性が良好となり、空間処理剤が噴霧された空間（処理空間ともいう）の天井や壁面（処理面ともいう）において十分な抗菌又は防カビ効果を発現することができる。
（Ｃ）成分としては、例えばエチレングリコール（沸点１９８℃）、プロピレングリコール（沸点１８７℃）、ジエチレングリコールジメチルエーテル（沸点１８９℃）、エチレングリコールジアセテート（沸点１９７℃）、プロピレングリコールジアセテート（沸点１９０℃）、ジプロピレングリコールジメチルエーテル（沸点１７１℃）、ジプロピレングリコール（沸点２３０℃）、イソパラフィン系炭化水素が挙げられる。イソパラフィン系炭化水素としては、例えば商品名「ネオチオゾール」（中央化成社製）、商品名「ＩＰソルベント」（出光興産社製）等が挙げられる。
（Ｃ）成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
空間処理剤中の（Ｃ）成分の含有量、すなわち空間処理剤全体の質量に対する（Ｃ）成分の質量の割合は、４０〜８０質量％であることが好ましく、５０〜７５質量％であることがより好ましい。（Ｃ）成分の含有量を４０質量％以上とすることにより、（Ａ）成分の処理面への付着性が優れる空間処理剤が得られやすい。（Ｃ）成分の含有量を８０質量％以下とすることにより、（Ａ）成分の拡散性に優れる空間処理剤が得られやすい。
（Ｂ）成分／（Ｃ）成分で表される質量比、つまり（Ｃ）成分の総質量に対する（Ｂ）成分の総質量の比（「Ｂ／Ｃ」とも表す）は０．１０〜１．０であり、０．２０〜０．５０であることがより好ましい。Ｂ／Ｃが０．１０以上、１．０以下であることにより、（Ａ）成分の揮散性が向上し、かつ拡散性の良好な空間処理剤が得られる。さらに（Ａ）成分の付着性が良好な空間処理剤が得られる。
空間処理剤中の（Ｂ）成分と（Ｃ）成分との合計質量は、８０質量％以上、１００質量％未満が好ましく、８５〜９５質量％がより好ましい。
空間処理剤中の（Ｃ）成分の含有量、すなわち空間処理剤全体の質量に対する（Ｃ）成分の質量の割合は、４０〜８０質量％であることが好ましく、５０〜７５質量％であることがより好ましい。（Ｃ）成分の含有量を４０質量％以上とすることにより、（Ａ）成分の処理面への付着性が優れる空間処理剤が得られやすい。（Ｃ）成分の含有量を８０質量％以下とすることにより、（Ａ）成分の拡散性に優れる空間処理剤が得られやすい。
（Ｂ）成分／（Ｃ）成分で表される質量比、つまり（Ｃ）成分の総質量に対する（Ｂ）成分の総質量の比（「Ｂ／Ｃ」とも表す）は０．１０〜１．０であり、０．２０〜０．５０であることがより好ましい。Ｂ／Ｃが０．１０以上、１．０以下であることにより、（Ａ）成分の揮散性が向上し、かつ拡散性の良好な空間処理剤が得られる。さらに（Ａ）成分の付着性が良好な空間処理剤が得られる。
空間処理剤中の（Ｂ）成分と（Ｃ）成分との合計質量は、８０質量％以上、１００質量％未満が好ましく、８５〜９５質量％がより好ましい。
＜（Ｄ）成分＞
（Ｄ）成分は、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤及び半極性界面活性剤からなる群より選ばれる一種以上の界面活性剤である。
（Ｄ）成分が存在することにより、空間処理剤を噴霧した際の（Ａ）成分の揮散性を向上させることができる。これにより、処理空間の天井や壁面において十分な抗菌又は防カビ効果を発現することができる。
（Ｄ）成分は、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤及び半極性界面活性剤からなる群より選ばれる一種以上の界面活性剤である。
（Ｄ）成分が存在することにより、空間処理剤を噴霧した際の（Ａ）成分の揮散性を向上させることができる。これにより、処理空間の天井や壁面において十分な抗菌又は防カビ効果を発現することができる。
カチオン性界面活性剤としては、下記一般式（１）で表される４級アンモニウム塩であるカチオン性界面活性剤を用いることが好ましい。
式（１）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に炭素数１〜２２のアルキル基又は炭素数１〜２２のアルケニル基であり、Ｒ１とＲ２の炭素数の合計は１２〜２６である。Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に炭素数１〜２のアルキル基である。ＸはＣｌ、Ｂｒ、ＣＨ３ＳＯ３及びＣＨ３ＣＨ２ＳＯ３からなる群より選ばれる１種又は２種以上の原子又は原子群である。
Ｒ１及びＲ２が炭素数１０のアルキル基であり、Ｒ３及びＲ４が炭素数１のアルキル基であり、ＸがＣｌであることが好ましい。
Ｒ１及びＲ２が炭素数１０のアルキル基であり、Ｒ３及びＲ４が炭素数１のアルキル基であり、ＸがＣｌであることが好ましい。
カチオン性界面活性剤としては、例えば、牛脂アルキルトリメチルアンモニウムクロライド、牛脂アルキルトリメチルアンモニウムブロマイド、牛脂アルキルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、牛脂アルキルエチルジメチルアンモニウムエチルサルフェート、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムブロマイド、ステアリルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、ステアリルエチルジメチルアンモニウムエチルサルフェート、オレイルトリメチルアンモニウムクロライド、オレイルトリメチルアンモニウムブロマイド、オレイルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、オレイルエチルジメチルアンモニウムエチルサルフェート、パルミチルオレイルトリメチルアンモニウムクロライド、パルミチルトリメチルアンモニウムブロマイド、パルミチルオレイルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、パルミチルエチルジメチルアンモニウムエチルサルフェート、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムブロマイド、ジデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、ジデシルメチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、ジドデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジドデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、ジドデシルエチルメチルアンモニウムエチルサルフェート、ジオクチルジメチルアンモニウムクロライド、ジオクチルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、ジオクチルエチルメチルアンモニウムエチルサルフェート、デシルドデシルジメチルアンモニウムクロライド、デシルドデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、デシルドデシルエチルメチルアンモニウムエチルサルフェート、デシルオクチルジメチルアンモニウムクロライド、デシルオクチルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、デシルオクチルエチルメチルアンモニウムエチルサルフェート等が挙げられる。
これらの中でも、カチオン性界面活性剤としては、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、ジデシルメチルエチルアンモニウムエチルサルフェートが好ましい。
これらのカチオン性界面活性剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、カチオン性界面活性剤としては、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、ジデシルメチルエチルアンモニウムエチルサルフェートが好ましい。
これらのカチオン性界面活性剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
両性界面活性剤としては、例えば、アルキルベタイン型、アルキルアミドベタイン型、イミダゾリン型、アルキルアミノスルホンベタイン型、アルキルアミノカルボン酸型、アルキルアミドカルボン酸型、Ｎ−アシルアミノ酸塩、Ｎ−アシルメチルタウリン塩、アルキルアミノ酸型、リン酸型等の両性界面活性剤が挙げられる。
これらの中でも、両性界面活性剤としては、アルキルアミノカルボン酸型両性界面活性剤が好ましい。アルキルアミノカルボン酸型両性界面活性剤としては、炭素数１２〜１４のアルキル基を有するものが好ましく、例えば、ラウリルプロピルアミノ酢酸ベタイン、ラウリン酸アミドプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−酢酸ベタイン、ミリスチン酸アミドプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−酢酸ベタイン、コカミドアミドプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル酢酸ベタイン等が挙げられる。
これらの両性界面活性剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、両性界面活性剤としては、アルキルアミノカルボン酸型両性界面活性剤が好ましい。アルキルアミノカルボン酸型両性界面活性剤としては、炭素数１２〜１４のアルキル基を有するものが好ましく、例えば、ラウリルプロピルアミノ酢酸ベタイン、ラウリン酸アミドプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−酢酸ベタイン、ミリスチン酸アミドプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−酢酸ベタイン、コカミドアミドプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチル酢酸ベタイン等が挙げられる。
これらの両性界面活性剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
半極性界面活性剤とは、アミンオキシド型界面活性剤をいう。
アミンオキシド型界面活性剤としては、下記式（２）で表される化合物が好ましい。
Ｒ５（Ｄ）ｐＮ（Ｒ６）（Ｒ７）→Ｏ・・・（２）
式（２）中、Ｒ５は炭素数８〜１８のアルキル基又は炭素数８〜１８のアルケニル基を表し、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に炭素数１〜３のアルキル基又は炭素数１〜３のヒドロキシアルキル基を表し、Ｄは−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｒ８−を表し、ｐは０又は１である。Ｄ中、Ｒ８は炭素数１〜４のアルキレン基を表す。
Ｒ５が炭素数１２のアルキル基であり、Ｒ６及びＲ７が炭素数１のアルキル基（メチル基）であり、ｐが０であることが好ましい。
アミンオキシド型界面活性剤としては、下記式（２）で表される化合物が好ましい。
Ｒ５（Ｄ）ｐＮ（Ｒ６）（Ｒ７）→Ｏ・・・（２）
式（２）中、Ｒ５は炭素数８〜１８のアルキル基又は炭素数８〜１８のアルケニル基を表し、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に炭素数１〜３のアルキル基又は炭素数１〜３のヒドロキシアルキル基を表し、Ｄは−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｒ８−を表し、ｐは０又は１である。Ｄ中、Ｒ８は炭素数１〜４のアルキレン基を表す。
Ｒ５が炭素数１２のアルキル基であり、Ｒ６及びＲ７が炭素数１のアルキル基（メチル基）であり、ｐが０であることが好ましい。
アミンオキシド型界面活性剤としては、式（２）で表される化合物の中でも、式（２）中のＲ５がアルキル基である化合物が好ましい。また、Ｒ５の炭素数は１０〜１４であることがより好ましい。Ｒ５は直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。
アミンオキシド型界面活性剤としては、式（２）で表される化合物の中でも、Ｒ６又はＲ７がアルキル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。また、Ｒ６及びＲ７がアルキル基であることがより好ましく、メチル基であることがさらに好ましい。Ｒ６及びＲ７は、直鎖状であってもよいし、分岐鎖状であってもよい。また、式（２）中のＲ６又はＲ７がヒドロキシアルキル基である場合、ヒドロキシアルキル基が有するヒドロキシ基の数は、１つでも２つ以上でもよい。
アミンオキシド型界面活性剤としては、式（２）で表される化合物の中でも、ｐが０である化合物が好ましい。
アミンオキシド型界面活性剤としては、式（２）で表される化合物の中でも、Ｒ６又はＲ７がアルキル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。また、Ｒ６及びＲ７がアルキル基であることがより好ましく、メチル基であることがさらに好ましい。Ｒ６及びＲ７は、直鎖状であってもよいし、分岐鎖状であってもよい。また、式（２）中のＲ６又はＲ７がヒドロキシアルキル基である場合、ヒドロキシアルキル基が有するヒドロキシ基の数は、１つでも２つ以上でもよい。
アミンオキシド型界面活性剤としては、式（２）で表される化合物の中でも、ｐが０である化合物が好ましい。
式（２）で表される化合物としては、例えば、ラウリルジメチルアミンオキシド（ｎ−ドデシルジメチルアミンオキシド）、ヤシアルキルジメチルアミンオキシド、ラウリルジエチルアミンオキシド、ラウリン酸アミドプロピルジメチルアミンオキシド等が挙げられる。これらの中でも、ラウリルジメチルアミンオキシドが好ましい。
半極性界面活性剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
半極性界面活性剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
空間処理剤中の（Ｄ）成分の含有量、すなわち空間処理剤全体の質量に対する（Ｄ）成分の質量の割合は、０．０５０〜３．０質量％であることが好ましく、０．０５０〜１．０質量％であることがより好ましく、０．０５０〜０．５０質量％であることがさらに好ましい。
（Ｄ）成分の含有量を０．０５０質量％以上とすることにより、空間処理剤が噴霧された場合の（Ａ）成分の揮散性に優れた空間処理剤が得られやすい。（Ｄ）成分の含有量を３．０質量％以下とすることにより、空間処理剤を噴霧する際にピエゾ式噴霧装置が目詰まりを起こすことを防ぎやすくなる。
（Ｄ）成分の含有量を０．０５０質量％以上とすることにより、空間処理剤が噴霧された場合の（Ａ）成分の揮散性に優れた空間処理剤が得られやすい。（Ｄ）成分の含有量を３．０質量％以下とすることにより、空間処理剤を噴霧する際にピエゾ式噴霧装置が目詰まりを起こすことを防ぎやすくなる。
［（Ａ）成分中の遷移金属］／（Ｄ）成分で表される質量比、つまり（Ｄ）成分の総質量に対する（Ａ）成分中の遷移金属の総質量の比（「（Ａ）成分中の遷移金属／（Ｄ）成分」とも表す）は０．０１〜５．０であることが好ましく、０．２０〜０．５０であることがより好ましい。（Ａ）成分中の遷移金属／（Ｄ）成分が上記範囲にあることにより、空間処理剤を噴霧する際のピエゾ式噴霧装置における（Ｄ）成分の目詰まりを防ぎ、（Ａ）成分の噴霧量に優れた空間処理剤が得られやすくなる。
＜任意成分＞
本発明のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤は、本発明の効果を妨げない限りにおいて、さらに任意成分を含有していてもよい。任意成分としては、例えば水や香料などが挙げられる。
任意成分として水を含有する場合、空間処理剤中の水の含有量、すなわち空間処理剤全体の質量に対する水の質量の割合は、０．１〜１０質量％が好ましい。
任意成分として香料を含有する場合、空間処理剤中の香料の含有量、すなわち空間処理剤全体の質量に対する香料の質量の割合は、０．０１〜２．０質量％が好ましい。
任意成分として香料を含有する場合、噴霧する空間処理剤に香りを付与することができ、空間処理剤を噴霧した際に処理空間に香りを与えることができる。また、空間処理剤の臭気のマスキングできる。
香料としては、特に限定されないが、例えば「Ｐｅｒｆｕｍｅ ａｎｄ Ｆｌａｖｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ」，Ｖｏｌ．Ｉａｎｄ ＩＩ，Ｓｔｅｆｆｅｎ Ａｒｃｔａｎｄｅｒ，Ａｌｌｕｒｅｄ Ｐｕｂ．Ｃｏ．（１９９４）；「合成香料 化学と商品知識」、印藤元一著、化学工業日報社（１９９６）；「Ｐｅｒｆｕｍｅ ａｎｄ Ｆｌａｖｏｒ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ｏｆ Ｎａｔｕｒａｌ Ｏｒｉｇｉｎ」，Ｓｔｅｆｆｅｎ Ａｒｃｔａｎｄｅｒ，Ａｌｌｕｒｅｄ Ｐｕｂ．Ｃｏ．（１９９４）；「香りの百科」、日本香料協会編、朝倉書店（１９８９）；「Ｐｅｒｆｕｍｅｒｙ Ｍａｔｅｒｉａｌ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｖ．３．３」，Ｂｏｅｌｅｎｓ Ａｒｏｍａ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｓｅｒｖｉｃｅ（１９９６）；及び「Ｆｌｏｗｅｒ ｏｉｌｓ ａｎｄ Ｆｌｏｒａｌ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ Ｉｎ Ｐｅｒｆｕｍｅｒｙ」，ＤａｎｕｔｅＬａｊａｕｊｉｓ Ａｎｏｎｉｓ，Ａｌｌｕｒｅｄ Ｐｕｂ．Ｃｏ．（１９９３）等に記載されている香料を用いることができる。
本発明のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤は、本発明の効果を妨げない限りにおいて、さらに任意成分を含有していてもよい。任意成分としては、例えば水や香料などが挙げられる。
任意成分として水を含有する場合、空間処理剤中の水の含有量、すなわち空間処理剤全体の質量に対する水の質量の割合は、０．１〜１０質量％が好ましい。
任意成分として香料を含有する場合、空間処理剤中の香料の含有量、すなわち空間処理剤全体の質量に対する香料の質量の割合は、０．０１〜２．０質量％が好ましい。
任意成分として香料を含有する場合、噴霧する空間処理剤に香りを付与することができ、空間処理剤を噴霧した際に処理空間に香りを与えることができる。また、空間処理剤の臭気のマスキングできる。
香料としては、特に限定されないが、例えば「Ｐｅｒｆｕｍｅ ａｎｄ Ｆｌａｖｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ」，Ｖｏｌ．Ｉａｎｄ ＩＩ，Ｓｔｅｆｆｅｎ Ａｒｃｔａｎｄｅｒ，Ａｌｌｕｒｅｄ Ｐｕｂ．Ｃｏ．（１９９４）；「合成香料 化学と商品知識」、印藤元一著、化学工業日報社（１９９６）；「Ｐｅｒｆｕｍｅ ａｎｄ Ｆｌａｖｏｒ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ｏｆ Ｎａｔｕｒａｌ Ｏｒｉｇｉｎ」，Ｓｔｅｆｆｅｎ Ａｒｃｔａｎｄｅｒ，Ａｌｌｕｒｅｄ Ｐｕｂ．Ｃｏ．（１９９４）；「香りの百科」、日本香料協会編、朝倉書店（１９８９）；「Ｐｅｒｆｕｍｅｒｙ Ｍａｔｅｒｉａｌ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｖ．３．３」，Ｂｏｅｌｅｎｓ Ａｒｏｍａ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｓｅｒｖｉｃｅ（１９９６）；及び「Ｆｌｏｗｅｒ ｏｉｌｓ ａｎｄ Ｆｌｏｒａｌ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ Ｉｎ Ｐｅｒｆｕｍｅｒｙ」，ＤａｎｕｔｅＬａｊａｕｊｉｓ Ａｎｏｎｉｓ，Ａｌｌｕｒｅｄ Ｐｕｂ．Ｃｏ．（１９９３）等に記載されている香料を用いることができる。
香料は、典型的には、複数の香料成分を含む香料組成物である。
香料成分は特に限定されないが、使用できる香料原料のリストは、様々な文献、例えば「Ｐｅｒｆｕｍｅ ａｎｄ Ｆｌａｖｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ」，Ｖｏｌ．Ｉ ａｎｄ ＩＩ，Ｓｔｅｆｆｅｎ Ａｒｃｔａｎｄｅｒ，Ａｌｌｕｒｅｄ Ｐｕｂ．Ｃｏ．（１９９４）、「合成香料 化学と商品知識」、印藤元一著、化学工業日報社（１９９６）、「Ｐｅｒｆｕｍｅ ａｎｄ Ｆｌａｖｏｒ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ｏｆ ＮａｔｕｒａｌＯｒｉｇｉｎ 」，Ｓｔｅｆｆｅｎ Ａｒｃｔａｎｄｅｒ，Ａｌｌｕｒｅｄ Ｐｕｂ．Ｃｏ．（１９９４ ）、「香りの百科」、日本香料協会編、朝倉書店（１９８９）、「Ｐｅｒｆｕｍｅｒｙ Ｍａｔｅｒｉａｌ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｖ．３．３」，Ｂｏｅｌｅｎｓ Ａｒｏｍａ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｓｅｒｖｉｃｅ（１９９６）、「Ｆｌｏｗｅｒ ｏｉｌｓ ａｎｄ Ｆｌｏｒａｌ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ Ｉｎ Ｐｅｒｆｕｍｅｒｙ」，Ｄａｎｕｔｅ Ｌａｊａｕｊｉｓ Ａｎｏｎｉｓ，Ａｌｌｕｒｅｄ Ｐｕｂ．Ｃｏ．（１９９３）等に記載されている。
香料成分は特に限定されないが、使用できる香料原料のリストは、様々な文献、例えば「Ｐｅｒｆｕｍｅ ａｎｄ Ｆｌａｖｏｒ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ」，Ｖｏｌ．Ｉ ａｎｄ ＩＩ，Ｓｔｅｆｆｅｎ Ａｒｃｔａｎｄｅｒ，Ａｌｌｕｒｅｄ Ｐｕｂ．Ｃｏ．（１９９４）、「合成香料 化学と商品知識」、印藤元一著、化学工業日報社（１９９６）、「Ｐｅｒｆｕｍｅ ａｎｄ Ｆｌａｖｏｒ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ｏｆ ＮａｔｕｒａｌＯｒｉｇｉｎ 」，Ｓｔｅｆｆｅｎ Ａｒｃｔａｎｄｅｒ，Ａｌｌｕｒｅｄ Ｐｕｂ．Ｃｏ．（１９９４ ）、「香りの百科」、日本香料協会編、朝倉書店（１９８９）、「Ｐｅｒｆｕｍｅｒｙ Ｍａｔｅｒｉａｌ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｖ．３．３」，Ｂｏｅｌｅｎｓ Ａｒｏｍａ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｓｅｒｖｉｃｅ（１９９６）、「Ｆｌｏｗｅｒ ｏｉｌｓ ａｎｄ Ｆｌｏｒａｌ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ Ｉｎ Ｐｅｒｆｕｍｅｒｙ」，Ｄａｎｕｔｅ Ｌａｊａｕｊｉｓ Ａｎｏｎｉｓ，Ａｌｌｕｒｅｄ Ｐｕｂ．Ｃｏ．（１９９３）等に記載されている。
＜ピエゾ式噴霧装置用空間処理剤の製造方法＞
本発明のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、及び（Ｄ）成分と、必要に応じて任意成分とを混合することにより得られる。
本発明のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、及び（Ｄ）成分と、必要に応じて任意成分とを混合することにより得られる。
＜ピエゾ式噴霧装置用空間処理剤の使用方法＞
本発明のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤は、ピエゾ式噴霧装置に充填して使用する。
ピエゾ式噴霧装置への空間処理剤の充填量及び噴霧量は、処理空間の大きさや処理面の面積等を勘案して決定される。空間処理剤の噴霧量は、下記式で表される処理量が０．０２０ｍｇ〜２０ｍｇ／ｍ３となるようにすることが好ましい。
処理量＝（（Ａ）成分の噴霧量）／（空間処理剤が噴霧された空間の容積）
なお、（Ａ）成分の噴霧量は、噴霧した空間処理剤の総質量に（Ａ）成分の含有量（質量％）を乗することによって得られる。
本発明のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤は、ピエゾ式噴霧装置に充填して使用する。
ピエゾ式噴霧装置への空間処理剤の充填量及び噴霧量は、処理空間の大きさや処理面の面積等を勘案して決定される。空間処理剤の噴霧量は、下記式で表される処理量が０．０２０ｍｇ〜２０ｍｇ／ｍ３となるようにすることが好ましい。
処理量＝（（Ａ）成分の噴霧量）／（空間処理剤が噴霧された空間の容積）
なお、（Ａ）成分の噴霧量は、噴霧した空間処理剤の総質量に（Ａ）成分の含有量（質量％）を乗することによって得られる。
ピエゾ式噴霧装置としては特に制限されず、従来のピエゾ式噴霧装置を用いることができる。
以下、ピエゾ式噴霧装置の一実施形態について、図１を用いて説明する。ただし本発明におけるピエゾ式噴霧装置は本実施形態に限定されるものではなく、容器の形状等を適宜変更することができる。
以下、ピエゾ式噴霧装置の一実施形態について、図１を用いて説明する。ただし本発明におけるピエゾ式噴霧装置は本実施形態に限定されるものではなく、容器の形状等を適宜変更することができる。
図１は、ピエゾ式噴霧装置の一実施形態を示す断面図である。図１には、ピエゾ式噴霧装置に本発明の空間処理剤が充填された状態を示している。
この例のピエゾ式噴霧装置１０は、空間処理剤１７を収容する容器１１と、棒状の吸液芯１２と、超音波振動子１３と、超音波発振機１４とを備えている。
この例のピエゾ式噴霧装置１０は、空間処理剤１７を収容する容器１１と、棒状の吸液芯１２と、超音波振動子１３と、超音波発振機１４とを備えている。
吸液芯１２は、容器１１の上部開口に嵌め込まれた芯支持体１５により支持されている。その上端は容器１１の上部開口から突出しており、下端は容器１１内の下端付近に配置されて、容器１１内に空間処理剤１７が収容されているときに、吸液芯１２が空間処理剤１７に浸漬するようになっている。また、吸液芯１２の上端は、接合片１６を介して超音波振動子１３に接続されている。
吸液芯１２の材質としては表面張力の大きな材質が好ましく、例えばスポンジ、フェルト、綿、多孔質材などが挙げられる。特に、超音波を印加した際にのみ吸液機能を発揮し、超音波を印加しないときは密栓的に機能する点で、多孔質材が好ましく、その中でも炭素質微粉末と結着剤との混合物からなる成形体がより好ましい。
接合片１６の材質としては、金属、セラミックなどが挙げられる。
芯支持体１５の材質としては、特に制限されない。
吸液芯１２の材質としては表面張力の大きな材質が好ましく、例えばスポンジ、フェルト、綿、多孔質材などが挙げられる。特に、超音波を印加した際にのみ吸液機能を発揮し、超音波を印加しないときは密栓的に機能する点で、多孔質材が好ましく、その中でも炭素質微粉末と結着剤との混合物からなる成形体がより好ましい。
接合片１６の材質としては、金属、セラミックなどが挙げられる。
芯支持体１５の材質としては、特に制限されない。
超音波発振機１４は、超音波振動子１３及び電源（図示略）に接続されている。電源としては電池などが挙げられる。
図１に示すピエゾ式噴霧装置１０を用いた空間処理剤の噴霧方法の一例について説明する。
まず、容器１１に所定量の空間処理剤１７を収容し、吸液芯１２の上端にまで空間処理剤１７を十分に吸収させる。この状態で超音波発振機１４を作動させ、超音波発振機１４から超音波振動子１３へ信号を送り、超音波振動子１３及び接合片１６を超音波振動させる。これにより、吸液芯１２の上端に対し、空間処理剤１７の表面張力以上、かつ粘度以上の超音波振動エネルギーを与え、空間処理剤１７を吸液芯１２から空気中に蒸散させる。
まず、容器１１に所定量の空間処理剤１７を収容し、吸液芯１２の上端にまで空間処理剤１７を十分に吸収させる。この状態で超音波発振機１４を作動させ、超音波発振機１４から超音波振動子１３へ信号を送り、超音波振動子１３及び接合片１６を超音波振動させる。これにより、吸液芯１２の上端に対し、空間処理剤１７の表面張力以上、かつ粘度以上の超音波振動エネルギーを与え、空間処理剤１７を吸液芯１２から空気中に蒸散させる。
超音波発振機１４の周波数は３０〜５００ｋＨｚが好ましい。
空間処理剤１７の蒸散は連続的でもよいが、駆動と停止とが交互に行われる間欠蒸散でもよい。
１回の駆動により蒸散される空間処理剤Ａの液量は０．０１〜１μＬが好ましい。
空間処理剤１７の蒸散は連続的でもよいが、駆動と停止とが交互に行われる間欠蒸散でもよい。
１回の駆動により蒸散される空間処理剤Ａの液量は０．０１〜１μＬが好ましい。
なお、図１に示すピエゾ式噴霧装置１０において、接合片１６を設けず、吸液芯１２の上端と超音波振動子１３とが直接接触していてもよい。
送風機を用いて（Ａ）成分の拡散性を高めてもよいが、消費電力を抑える観点では、送風機を用いることなく空間処理剤を蒸散させることが好ましい。
送風機を用いて（Ａ）成分の拡散性を高めてもよいが、消費電力を抑える観点では、送風機を用いることなく空間処理剤を蒸散させることが好ましい。
ピエゾ式噴霧装置としては市販品を用いることもでき、例えばオムロンヘルスケア株式会社製の「メッシュ式ネブライザＮＥ−Ｕ２２」などが挙げられる。
ピエゾ式噴霧装置としては、例えば特開平６−３２００８３号公報、特開平７−２４３７４号公報、特開平７−２５６１７０号公報などに記載の噴霧装置を用いてもよい。
ピエゾ式噴霧装置としては、例えば特開平６−３２００８３号公報、特開平７−２４３７４号公報、特開平７−２５６１７０号公報などに記載の噴霧装置を用いてもよい。
＜作用効果＞
以上説明した本発明のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤は、ピエゾ式噴霧装置により（Ａ）成分の含まれた空間処理剤を空間に噴霧して用いるため、煙の量を抑えて、又は煙を出さないようにしつつ、居住空間の様々な場所の細菌、カビ等の微生物を除去し、その繁殖を予防できる。
加えて、本発明のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤は、上述した（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分を含有するため、（Ａ）成分の揮散性及び拡散性が良好となり、処理空間全体で均一な抗菌又は防カビ効果を発現できる。また、本願発明のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤は、噴霧後の（Ａ）成分の対象面に対する付着性及び広がり性に優れ、処理空間全体で均一に抗菌又は防カビ効果を持続できる。
したがって、本発明のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤は、抗菌又は防カビ用として有用である。
以上説明した本発明のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤は、ピエゾ式噴霧装置により（Ａ）成分の含まれた空間処理剤を空間に噴霧して用いるため、煙の量を抑えて、又は煙を出さないようにしつつ、居住空間の様々な場所の細菌、カビ等の微生物を除去し、その繁殖を予防できる。
加えて、本発明のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤は、上述した（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分を含有するため、（Ａ）成分の揮散性及び拡散性が良好となり、処理空間全体で均一な抗菌又は防カビ効果を発現できる。また、本願発明のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤は、噴霧後の（Ａ）成分の対象面に対する付着性及び広がり性に優れ、処理空間全体で均一に抗菌又は防カビ効果を持続できる。
したがって、本発明のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤は、抗菌又は防カビ用として有用である。
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
（使用原料）
（Ａ）成分として、以下に示す化合物を用いた。
Ａ−１：銀担持ゼオライト系無機抗菌剤（商品名：ゼオミックＡＪ１０Ｎ、（株）シナネンゼオミック製）、銀濃度２．５質量％。
Ａ−２：銀担持シリカ・アルミナ系無機抗菌剤（商品名：ＡＴＯＭＹ ＢＡＬＬ−（ＵＡ）、日揮触媒化成（株）製）、担持体１．５質量％、銀０．０７５質量％。
Ａ−３：水溶液型銀系抗菌剤（商品名：ＣＦ−０１、（株）Ｊ−ケミカル製）、銀濃度２．５％。
Ａ−４：グルコン酸亜鉛（商品名：ヘルシャス Ｚｎ、扶桑化学工業（株）製）、亜鉛濃度１２．８％。
（Ａ）成分として、以下に示す化合物を用いた。
Ａ−１：銀担持ゼオライト系無機抗菌剤（商品名：ゼオミックＡＪ１０Ｎ、（株）シナネンゼオミック製）、銀濃度２．５質量％。
Ａ−２：銀担持シリカ・アルミナ系無機抗菌剤（商品名：ＡＴＯＭＹ ＢＡＬＬ−（ＵＡ）、日揮触媒化成（株）製）、担持体１．５質量％、銀０．０７５質量％。
Ａ−３：水溶液型銀系抗菌剤（商品名：ＣＦ−０１、（株）Ｊ−ケミカル製）、銀濃度２．５％。
Ａ−４：グルコン酸亜鉛（商品名：ヘルシャス Ｚｎ、扶桑化学工業（株）製）、亜鉛濃度１２．８％。
（Ｂ）成分又はその比較品として、以下に示す化合物を用いた。なお、表２〜４に記載の（Ｂ−１）エタノールの配合割合は、他の化合物からの持ち込み分を含んだ値である。
Ｂ−１：エタノール（試薬特級、純正化学（株）製）（沸点：７８．３７℃）。
Ｂ−２：プロピレングリコールモノメチルエーテル（ハイソルブＭＰ、東邦化学工業（株）製）（沸点：１２０℃）。
Ｂ−３：エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＭＣアセテート、東邦化学工業（株）製）（沸点：１４５℃）。
Ｂ−４（比較品）：ｎ−ペンタン（沸点：３６℃）。
Ｂ−１：エタノール（試薬特級、純正化学（株）製）（沸点：７８．３７℃）。
Ｂ−２：プロピレングリコールモノメチルエーテル（ハイソルブＭＰ、東邦化学工業（株）製）（沸点：１２０℃）。
Ｂ−３：エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＭＣアセテート、東邦化学工業（株）製）（沸点：１４５℃）。
Ｂ−４（比較品）：ｎ−ペンタン（沸点：３６℃）。
（Ｃ）成分又はその比較品として、以下に示す化合物を用いた。
Ｃ−１：プロピレングリコール（試薬特級、純正科学（株）製）（沸点：１８８．２℃）。
Ｃ−２：ジエチレングリコールジメチルエーテル（ハイソルブＭＤＭ、東邦化学工業（株）製）（沸点：１６２℃）。
Ｃ−３：トリエチレングリコールモノメチルエーテル（ハイモールＴＭ、東邦化学工業（株）製）（沸点：２４９℃）。
Ｃ−４（比較品）：テトラエチレングリコールジメチルエーテル（ハイソルブＭＴＥＭ、東邦化学工業（株）製）（沸点：２７５℃）。
Ｃ−１：プロピレングリコール（試薬特級、純正科学（株）製）（沸点：１８８．２℃）。
Ｃ−２：ジエチレングリコールジメチルエーテル（ハイソルブＭＤＭ、東邦化学工業（株）製）（沸点：１６２℃）。
Ｃ−３：トリエチレングリコールモノメチルエーテル（ハイモールＴＭ、東邦化学工業（株）製）（沸点：２４９℃）。
Ｃ−４（比較品）：テトラエチレングリコールジメチルエーテル（ハイソルブＭＴＥＭ、東邦化学工業（株）製）（沸点：２７５℃）。
（Ｄ）成分又はその比較品として、以下に示す化合物を用いた。
Ｄ−１： ジメチルジデシルアンモニウムクロライド（ライオン（株）製、アーカード ２１０−８０Ｅ）。なお、純分は８０質量％、溶媒はエタノール１５質量％、水５質量％である。
Ｄ−２：ｎ−ドデシルジメチルアミンオキシド（ライオンアクゾ製、アロモックスＤＭ１２Ｄ−Ｗ）。純分は３３％、残りの溶媒は水である。
Ｄ−３：ラウリルプロピルアミノ酢酸ベタイン（ライオン（株）製、エナジコール Ｌ−３０Ｂ）。純分は３０％、残りの溶媒は水である。
Ｄ−４（比較品）：ポリオキシエチレンアルキルエーテル（ライオン（株）製、レオックスＣＬ−２３０、ＨＬＢ１６．８）。アルキル基の炭素数１２〜１４、エチレンオキシド平均２３モル付加品。
Ｄ−１： ジメチルジデシルアンモニウムクロライド（ライオン（株）製、アーカード ２１０−８０Ｅ）。なお、純分は８０質量％、溶媒はエタノール１５質量％、水５質量％である。
Ｄ−２：ｎ−ドデシルジメチルアミンオキシド（ライオンアクゾ製、アロモックスＤＭ１２Ｄ−Ｗ）。純分は３３％、残りの溶媒は水である。
Ｄ−３：ラウリルプロピルアミノ酢酸ベタイン（ライオン（株）製、エナジコール Ｌ−３０Ｂ）。純分は３０％、残りの溶媒は水である。
Ｄ−４（比較品）：ポリオキシエチレンアルキルエーテル（ライオン（株）製、レオックスＣＬ−２３０、ＨＬＢ１６．８）。アルキル基の炭素数１２〜１４、エチレンオキシド平均２３モル付加品。
任意成分として、水及び表１に示す香料組成物１を用いた。
＜実施例１〜２０、比較例１〜９＞
［ピエゾ式噴霧装置用空間処理剤の製造］
表２〜４に記載の配合割合で各構成成分を配合し、５００ｇの空間処理剤を調製した。
さらに、（Ａ）成分及び水からなり、測定対象の空間処理剤と（Ａ）成分の含有量が同一である（Ａ）成分水溶液を対象品として調製した。
調製した空間処理剤、及び対応する対象品を用いて空間処理剤の（Ａ）成分の揮散性及び拡散性を評価した。結果を表２〜４に示す。
なお、表中の組成は質量％で表されたものである。
［ピエゾ式噴霧装置用空間処理剤の製造］
表２〜４に記載の配合割合で各構成成分を配合し、５００ｇの空間処理剤を調製した。
さらに、（Ａ）成分及び水からなり、測定対象の空間処理剤と（Ａ）成分の含有量が同一である（Ａ）成分水溶液を対象品として調製した。
調製した空間処理剤、及び対応する対象品を用いて空間処理剤の（Ａ）成分の揮散性及び拡散性を評価した。結果を表２〜４に示す。
なお、表中の組成は質量％で表されたものである。
［ピエゾ式噴霧装置用空間処理剤の噴霧］
図２に示すように、容積２４ｍ３の立方体形状の実験室２０（高さＨが２ｍ、縦長Ｌが３ｍ、横長４ｍ）の床の中央及び一隅のそれぞれに、滅菌プラスチックシャーレ（内径φ８５ｍｍ、アズワン社製）であるシャーレ２１及びシャーレ２２を設置した。また、この床の四隅のうちシャーレ２２を設置した隅の対角の隅にピエゾ式噴霧装置２３（アロマ超音波加湿器 Ｍｓ．ミスト ｖｅｒ．４ 株式会社阪和製）を設置した。設置したピエゾ式噴霧装置２３に、調製した空間処理剤５００ｍＬを充填し、空間処理剤を３０分間噴霧した。噴霧を行ってから３０分経過後、１時間放置した後にシャーレ２１及びシャーレ２２を回収した。
ピエゾ式噴霧装置による噴霧は、下記の条件にて行った。
・電源：ＡＣ １００Ｖ ５０Ｈｚ。
・空間処理剤の噴霧量：３５０ｍＬ／Ｈ。
図２に示すように、容積２４ｍ３の立方体形状の実験室２０（高さＨが２ｍ、縦長Ｌが３ｍ、横長４ｍ）の床の中央及び一隅のそれぞれに、滅菌プラスチックシャーレ（内径φ８５ｍｍ、アズワン社製）であるシャーレ２１及びシャーレ２２を設置した。また、この床の四隅のうちシャーレ２２を設置した隅の対角の隅にピエゾ式噴霧装置２３（アロマ超音波加湿器 Ｍｓ．ミスト ｖｅｒ．４ 株式会社阪和製）を設置した。設置したピエゾ式噴霧装置２３に、調製した空間処理剤５００ｍＬを充填し、空間処理剤を３０分間噴霧した。噴霧を行ってから３０分経過後、１時間放置した後にシャーレ２１及びシャーレ２２を回収した。
ピエゾ式噴霧装置による噴霧は、下記の条件にて行った。
・電源：ＡＣ １００Ｖ ５０Ｈｚ。
・空間処理剤の噴霧量：３５０ｍＬ／Ｈ。
シャーレ２１に付着した空間処理剤を５％硝酸水溶液１０ｍＬに溶解し、溶解液αとした。同様に、シャーレ２２に付着した空間処理剤を溶解液βとして回収した。ＩＣＰ（高周波誘導結合プラズマ）発光分光分析装置（パーキンエルマー社製、Ｏｐｔｉｍａ ５３００ＤＶ）を用いて、溶解液α及び溶解液βそれぞれに含まれる（Ａ）成分の量を定量した。
ＩＣＰ発行分析装置による定量は、高周波出力１．３ｋＷ、試料導入量、１ｍＬ／ｍｉｎ、サンプルフラッシュ時間０秒、測定高さ１５ｍｍ、測定波長 Ａｇ：３２８．０６８ｎｍ、Ｚｎ：２０６．２００ｎｍとして行った。
（Ａ）成分の定量には、銀標準液（１００６ｍｇ／Ｌ）（試薬、関東化学株式会社製）または亜鉛標準液（１００５ｍｇ／Ｌ）（試薬、和光純薬製）を、５％硝酸水溶液を用いて、金属の質量濃度が１０ｐｐｍ、１ｐｐｍ、０．１ｐｐｍ、０．０１ｐｐｍとなるよう希釈した液を検量線として使用し、定量を行った。
対象品についても同様に噴霧を行い、シャーレ２１に付着した空間処理剤を５％硝酸水溶液１０ｍＬに溶解して対象品溶解液α’とし、対象品溶解液α’に含まれる（Ａ）成分の量を定量した。
ＩＣＰ発行分析装置による定量は、高周波出力１．３ｋＷ、試料導入量、１ｍＬ／ｍｉｎ、サンプルフラッシュ時間０秒、測定高さ１５ｍｍ、測定波長 Ａｇ：３２８．０６８ｎｍ、Ｚｎ：２０６．２００ｎｍとして行った。
（Ａ）成分の定量には、銀標準液（１００６ｍｇ／Ｌ）（試薬、関東化学株式会社製）または亜鉛標準液（１００５ｍｇ／Ｌ）（試薬、和光純薬製）を、５％硝酸水溶液を用いて、金属の質量濃度が１０ｐｐｍ、１ｐｐｍ、０．１ｐｐｍ、０．０１ｐｐｍとなるよう希釈した液を検量線として使用し、定量を行った。
対象品についても同様に噴霧を行い、シャーレ２１に付着した空間処理剤を５％硝酸水溶液１０ｍＬに溶解して対象品溶解液α’とし、対象品溶解液α’に含まれる（Ａ）成分の量を定量した。
上記の結果から、下記の評価基準に従い（Ａ）成分の揮散性及び拡散性を評価した。結果を表２〜４に示す。
［揮散性の評価］
空間処理剤の（Ａ）成分の揮散性を以下の式により算出した揮散率を用いて評価した。
なお、揮散率が高いほど、（Ａ）成分の揮散性が高い。
揮散率＝（溶解液α中の（Ａ）成分の量）／（対象品溶解液α’中の（Ａ）成分の量）
揮散率が２以上であれば、揮散性が良好であると判断した。
［揮散性の評価］
空間処理剤の（Ａ）成分の揮散性を以下の式により算出した揮散率を用いて評価した。
なお、揮散率が高いほど、（Ａ）成分の揮散性が高い。
揮散率＝（溶解液α中の（Ａ）成分の量）／（対象品溶解液α’中の（Ａ）成分の量）
揮散率が２以上であれば、揮散性が良好であると判断した。
［拡散性の評価］
空間処理剤の（Ａ）成分の拡散性を以下の式を用いて算出した拡散率を用いて評価した。なお、拡散率が高いほど、（Ａ）成分の拡散性が高い。
拡散率（％）＝［（溶解液β中の（Ａ）成分の量）／（溶解液α中の（Ａ）成分の量）］×１００
拡散率が９０％以上であれば、拡散性が良好であると判断した。
空間処理剤の（Ａ）成分の拡散性を以下の式を用いて算出した拡散率を用いて評価した。なお、拡散率が高いほど、（Ａ）成分の拡散性が高い。
拡散率（％）＝［（溶解液β中の（Ａ）成分の量）／（溶解液α中の（Ａ）成分の量）］×１００
拡散率が９０％以上であれば、拡散性が良好であると判断した。
実施例１〜２０の空間処理剤は、いずれも揮散率が２以上、拡散率が９０％以上であり、揮散性及び拡散性に優れていた。
Ｂ／Ｃの値が０．１０〜１．０の範囲を満たさない比較例１、８、９は、それぞれ拡散率が５２％、７２％、７０％と低かった。
（Ｂ）成分の代わりに比較品を用いた比較例２は、拡散率が６５％と低かった。
（Ｃ）成分を用いない比較例３、及び（Ｃ）成分の代わりに比較品を用いた比較例４は、拡散率がそれぞれ６５％、７４％と低かった。
（Ｄ）成分を用いない比較例５、６、及び（Ｄ）成分の代わりに比較品を用いた比較例７は、揮散率がそれぞれ１、１．１、１．１と低かった。
Ｂ／Ｃの値が０．１０〜１．０の範囲を満たさない比較例１、８、９は、それぞれ拡散率が５２％、７２％、７０％と低かった。
（Ｂ）成分の代わりに比較品を用いた比較例２は、拡散率が６５％と低かった。
（Ｃ）成分を用いない比較例３、及び（Ｃ）成分の代わりに比較品を用いた比較例４は、拡散率がそれぞれ６５％、７４％と低かった。
（Ｄ）成分を用いない比較例５、６、及び（Ｄ）成分の代わりに比較品を用いた比較例７は、揮散率がそれぞれ１、１．１、１．１と低かった。
本発明の空間処理剤は、細菌、カビ等の微生物を抑制することが要求される居住空間に抗菌又は防カビ効果を付与するために用いられる。
本発明の空間処理剤の処理対象としては、例えば浴室、洗面所、キッチン、トイレ、玄関、リビング、窓サッシ、押入れ、クローゼットなどが挙げられる。
本発明の空間処理剤の処理対象としては、例えば浴室、洗面所、キッチン、トイレ、玄関、リビング、窓サッシ、押入れ、クローゼットなどが挙げられる。
１０：ピエゾ式噴霧装置
１１：容器
１２：吸液芯
１３：超音波振動子
１４：超音波発振機
１５：芯支持体
１６：接合片
１７：空間処理剤
２０：実験室
２１：シャーレ
２２：シャーレ
２３：ピエゾ式噴霧装置
１１：容器
１２：吸液芯
１３：超音波振動子
１４：超音波発振機
１５：芯支持体
１６：接合片
１７：空間処理剤
２０：実験室
２１：シャーレ
２２：シャーレ
２３：ピエゾ式噴霧装置
Claims (3)
- 下記（Ａ）成分と、（Ｂ）成分と、（Ｃ）成分と、（Ｄ）成分とを含有し、（Ｂ）成分／（Ｃ）成分で表される質量比が０．１０〜１．０である、ピエゾ式噴霧装置用空間処理剤。
（Ａ）成分：遷移金属を含有する無機系薬剤。
（Ｂ）成分：沸点が７０℃以上、１５０℃未満である有機溶剤。
（Ｃ）成分：沸点が１５０℃以上、２５０℃未満である有機溶剤。
（Ｄ）成分：カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤及び半極性界面活性剤からなる群より選ばれる一種以上の界面活性剤。 - ［（Ａ）成分中の遷移金属］／（Ｄ）成分で表される質量比が０．０１〜５．０である、請求項１に記載のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤。
- 抗菌又は防カビ用である請求項１又は２に記載のピエゾ式噴霧装置用空間処理剤。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015256624 | 2015-12-28 | ||
| JP2015256624 | 2015-12-28 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017119680A true JP2017119680A (ja) | 2017-07-06 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016245953A Pending JP2017119680A (ja) | 2015-12-28 | 2016-12-19 | ピエゾ式噴霧装置用空間処理剤 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2017119680A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020083855A (ja) * | 2018-11-30 | 2020-06-04 | エステー株式会社 | 抗菌抗カビ剤、硬質表面洗浄用組成物及び硬質表面洗浄用エアゾール製品 |
| JP2020193268A (ja) * | 2019-05-28 | 2020-12-03 | 花王株式会社 | ピエゾジェット型芳香装置用香料組成物 |
-
2016
- 2016-12-19 JP JP2016245953A patent/JP2017119680A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020083855A (ja) * | 2018-11-30 | 2020-06-04 | エステー株式会社 | 抗菌抗カビ剤、硬質表面洗浄用組成物及び硬質表面洗浄用エアゾール製品 |
| JP7362245B2 (ja) | 2018-11-30 | 2023-10-17 | エステー株式会社 | 抗菌抗カビ剤、硬質表面洗浄用組成物及び硬質表面洗浄用エアゾール製品 |
| JP2020193268A (ja) * | 2019-05-28 | 2020-12-03 | 花王株式会社 | ピエゾジェット型芳香装置用香料組成物 |
| JP7003089B2 (ja) | 2019-05-28 | 2022-02-04 | 花王株式会社 | ピエゾジェット型芳香装置用香料組成物 |
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|---|---|---|---|
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