JP2017103387A - ウェーハ分割方法及びウェーハ分割装置 - Google Patents
ウェーハ分割方法及びウェーハ分割装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017103387A JP2017103387A JP2015236570A JP2015236570A JP2017103387A JP 2017103387 A JP2017103387 A JP 2017103387A JP 2015236570 A JP2015236570 A JP 2015236570A JP 2015236570 A JP2015236570 A JP 2015236570A JP 2017103387 A JP2017103387 A JP 2017103387A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- blade
- groove
- inspection
- cutting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 51
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 81
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims abstract description 67
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 13
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 19
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 17
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 2
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 abstract 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 141
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000002173 cutting fluid Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Dicing (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
Description
=D+C2+Δe ・・・(4)
なお、ブレード28の摩耗量Δeは、ブレード28が新品状態のときのブレード28のブレード径をR0としたとき、次式によって求めることができる。
また、切り込み深さ制御部48で算出されたブレード28の切り込み深さN1は記憶部46に記憶される。記憶部46に記憶されたブレード28の切り込み深さN1は、後述の裏面研削装置60の制御部74(図13参照)により参照される。
Claims (6)
- 表面に半導体素子が形成されたウェーハの分割予定ラインに沿って前記ウェーハの表面側からブレードにより切削溝を形成し、前記切削溝が形成された前記ウェーハの表面に保護テープを貼着し、前記ウェーハの裏面を研削して前記切削溝を前記ウェーハの裏面に表出させ前記ウェーハを個々のチップに分離するウェーハ分割方法であって、
前記ウェーハ又はダミーウェーハに前記ブレードにより検査用溝を形成する検査用溝形成工程と、
前記検査用溝が形成された前記ウェーハ又は前記ダミーウェーハを撮像した撮像画像に基づき、前記検査用溝の形状情報を取得する検査用溝形状検出工程と、
前記検査用溝の形状情報に基づき、前記ウェーハの裏面の研削速度を制御する研削速度制御工程と、
を備えるウェーハ分割方法。 - 前記研削速度制御工程は、前記ウェーハの裏面の研削速度を、前記ウェーハが前記ブレードの切り込み深さに相当する第1厚さとなるまでは第1研削速度とし、その後は前記ウェーハが前記第1厚さよりも小さい第2厚さとなるまで前記第1研削速度よりも遅い第2研削速度とする、
請求項1に記載のウェーハ分割方法。 - 前記検査用溝の形状情報に基づき、前記ブレードのブレード径を算出するブレード径算出工程と、
前記ウェーハに前記切削溝を形成するときの前記ブレードの切り込み深さを前記ブレード径算出工程で算出された前記ブレード径に基づいて変化させる切り込み深さ制御工程と、
を備える請求項1又は2に記載のウェーハ分割方法。 - 表面に半導体素子が形成されたウェーハの分割予定ラインに沿って前記ウェーハの表面側からブレードにより切削溝を形成し、前記切削溝が形成された前記ウェーハの表面に保護テープを貼着し、前記ウェーハの裏面を研削して前記切削溝を前記ウェーハの裏面に表出させ前記ウェーハを個々のチップに分離するウェーハ分割装置であって、
前記ブレードにより前記ウェーハ又はダミーウェーハに形成された検査用溝を撮像する撮像手段と、
前記撮像手段で撮像した撮像画像に基づき、前記検査用溝の形状情報を取得する検査用溝形状検出手段と、
前記検査用溝の形状情報に基づき、前記ウェーハの裏面の研削速度を制御する研削速度制御手段と、
を備えるウェーハ分割装置。 - 前記研削速度制御手段は、前記ウェーハの裏面の研削速度を、前記ウェーハが前記ブレードの切り込み深さに相当する第1厚さとなるまでは第1研削速度とし、その後は前記ウェーハが前記第1厚さよりも小さい第2厚さとなるまで前記第1研削速度よりも遅い第2研削速度とする、
請求項4に記載のウェーハ分割装置。 - 前記検査用溝の形状情報に基づき、前記ブレードのブレード径を算出するブレード径算出手段と、
前記ウェーハに前記切削溝を形成するときの前記ブレードの切り込み深さを前記ブレード径算出手段で算出された前記ブレード径に基づいて変化させる切り込み深さ制御手段と、
を備える請求項4又は5に記載のウェーハ分割装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015236570A JP6653055B2 (ja) | 2015-12-03 | 2015-12-03 | ウェーハ分割方法及びウェーハ分割装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015236570A JP6653055B2 (ja) | 2015-12-03 | 2015-12-03 | ウェーハ分割方法及びウェーハ分割装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017103387A true JP2017103387A (ja) | 2017-06-08 |
JP6653055B2 JP6653055B2 (ja) | 2020-02-26 |
Family
ID=59016981
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015236570A Active JP6653055B2 (ja) | 2015-12-03 | 2015-12-03 | ウェーハ分割方法及びウェーハ分割装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6653055B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019212797A (ja) * | 2018-06-06 | 2019-12-12 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法及び研削装置 |
JP2020057684A (ja) * | 2018-10-01 | 2020-04-09 | 株式会社ディスコ | 加工方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003017442A (ja) * | 2001-06-28 | 2003-01-17 | Disco Abrasive Syst Ltd | 半導体ウェーハの分割システム及び分割方法 |
JP2013041972A (ja) * | 2011-08-15 | 2013-02-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | 切削方法 |
-
2015
- 2015-12-03 JP JP2015236570A patent/JP6653055B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003017442A (ja) * | 2001-06-28 | 2003-01-17 | Disco Abrasive Syst Ltd | 半導体ウェーハの分割システム及び分割方法 |
JP2013041972A (ja) * | 2011-08-15 | 2013-02-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | 切削方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019212797A (ja) * | 2018-06-06 | 2019-12-12 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法及び研削装置 |
JP7061021B2 (ja) | 2018-06-06 | 2022-04-27 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法及び研削装置 |
JP2020057684A (ja) * | 2018-10-01 | 2020-04-09 | 株式会社ディスコ | 加工方法 |
JP7128073B2 (ja) | 2018-10-01 | 2022-08-30 | 株式会社ディスコ | 加工方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6653055B2 (ja) | 2020-02-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4913517B2 (ja) | ウエーハの研削加工方法 | |
JP4986568B2 (ja) | ウエーハの研削加工方法 | |
JP6608694B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
US20060009134A1 (en) | Grinding wheel, grinding apparatus and grinding method | |
CN105390383B (zh) | 晶片的加工方法 | |
US11094523B2 (en) | Processing method for wafer | |
JP2017054888A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
TW201701344A (zh) | 晶圓的加工方法 | |
TW201930015A (zh) | 切割刀片的修整方法 | |
JP2023059932A (ja) | ツルーイング方法及び面取り装置 | |
TW201709303A (zh) | 被加工物的加工方法 | |
KR102257264B1 (ko) | 스크래치 검출 방법 | |
JP6653055B2 (ja) | ウェーハ分割方法及びウェーハ分割装置 | |
JP6569857B2 (ja) | ダイシング方法及びダイシング装置 | |
CN110571131B (zh) | 倒角加工方法 | |
JP7258489B2 (ja) | 半導体装置の製造方法及び製造装置 | |
JP2022188089A (ja) | ウェーハ及びウェーハの薄化方法並びにウェーハの薄化装置 | |
JP2009224496A (ja) | ウェーハエッジ研削方法、ウェーハエッジ研削ユニット及びウェーハ裏面研削装置 | |
JP2017022162A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
KR20220127739A (ko) | 반도체 장치의 제조 방법 및 반도체 장치의 제조 장치 | |
JP7037422B2 (ja) | 被加工物の加工方法 | |
KR102613641B1 (ko) | 플라이 컷 장치 | |
JP2015182175A (ja) | 中心算出方法及び切削装置 | |
JP6487275B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP2015103567A (ja) | ウエーハの加工方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181004 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190624 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190627 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190826 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20191225 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200107 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6653055 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |