JP2017097012A - 光走査装置 - Google Patents

Abstract

【課題】被走査面における主走査方向のドット位置のばらつきを低減することができる、複数の発光点を有する光源を備える光走査装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る光走査装置１００は、複数の発光点を有する光源１０１と、光源１０１からの光束を偏向して被走査面１０９を主走査方向に光走査する偏向器１０６と、光源１０１からの光束を偏向器１０６に入射させる入射光学系と、偏向器１０６によって偏向された光束を被走査面１０９に導光する結像光学系と、を備え、入射光学系は、光束を主走査方向において制限する主走査絞り１０５と、主走査絞り１０５とは異なる位置に配置され、光束を副走査方向において制限する副走査絞り１０２と、を有し、複数の発光点から出射した複数の光束の夫々の主光線の主走査絞り１０５における通過位置は、主走査方向において互いに異なることを特徴とする。
【選択図】図１

Description

本発明は、光走査装置に関し、特にレーザービームプリンタや複写機などの画像出力部における光走査装置に好適なものである。

近年、光走査装置において、高速化及び高精細化を達成するために、複数の発光点を有する光源が用いられている。
従来の複数の発光点を有する光源を備える光走査装置では、以下のような課題が生じる。
すなわち、光走査装置の各部材の組立時の公差の影響によって、被走査面上におけるピント位置がずれると各発光点が互いに主走査方向に間隔を有して配置されるために、被走査面における各発光点に対応するドット位置の主走査方向におけるばらつきが生じてしまう。その結果、画像の不良、特にモアレが発生してしまい、高精細化が困難となる。
従って、複数の発光点を有する光源を備える光走査装置において、被走査面における主走査方向のドット位置のばらつきを低減しつつ、光走査装置の高速化及び高精細化を実現することが求められる。

特許文献１は、偏向器近傍に主走査方向の光束径を制限する主走査絞りを配置し、偏向面における各光源からの主光線の間隔を小さくすることで、被走査面における主走査方向のドット位置のばらつきを低減する光走査装置を開示している。
しかしながら、特許文献１に開示されている光走査装置では、配置の制約から、主走査絞りを偏向器近傍に近づけることに限界があり、被走査面における主走査方向のドット位置のばらつきを十分に低減することができない。

特許文献２は、傾いた楕円状の光強度分布を有する光源と、それに対応するように傾いた絞りを設けて、透過率の角度依存による光量むらを低減する光走査装置を開示している。
しかしながら、特許文献２に開示されている光走査装置では、主走査絞りと副走査方向の光束径を制限する副走査絞りが一体に形成されており、偏向器に近づけて配置すると副走査方向の集光が悪化する虞がある。
また、特許文献２に開示されている光走査装置では、絞りの形状を最適化することで光量むらを低減する方法は開示されているが、被走査面における主走査方向のドット位置のばらつきを低減することはできない。

特許第３３９７７６５号 特許第４８２２６６８号

上記のように、複数の発光点を有する光源を備える従来の光走査装置では、被走査面における主走査方向のドット位置のばらつきを低減することができない。
そこで本発明では、被走査面における主走査方向のドット位置のばらつきを低減することができる、複数の発光点を有する光源を備える光走査装置を提供する。

本発明に係る光走査装置は、複数の発光点を有する光源と、光源からの光束を偏向して被走査面を主走査方向に光走査する偏向器と、光源からの光束を偏向器に入射させる入射光学系と、偏向器によって偏向された光束を被走査面に導光する結像光学系と、を備え、入射光学系は、光束を主走査方向において制限する主走査絞りと、主走査絞りとは異なる位置に配置され、光束を副走査方向において制限する副走査絞りと、を有し、複数の発光点から出射した複数の光束の夫々の主光線の主走査絞りにおける通過位置は、主走査方向において互いに異なることを特徴とする。

本発明によれば、被走査面における主走査方向のドット位置のばらつきを低減することができる、複数の発光点を有する光源を備える光走査装置を提供することができる。

第一実施形態に係る光走査装置の主走査断面図。 従来の入射光学系の主走査断面図及び副走査断面図。 従来の光源を偏向器側から見た図。 従来の主走査絞り及び第一実施形態に係る主走査絞りを偏向器側から見た図。 第一実施形態に係る入射光学系の主走査断面図。 第一実施形態に係る入射光学系の主走査断面図及び副走査断面図。 本実施形態に係る光走査装置におけるドット位置のずれ量及びずれ量の変化率を示した図。 本実施形態に係る結像光学系の深度幅を示した図。 第二実施形態に係る光源を偏向器側から見た図。 第二実施形態に係る主走査絞りを偏向器側から見た図。 第二実施形態に係る入射光学系の主走査断面図。 第二実施形態に係る入射光学系の主走査断面図及び副走査断面図。 従来の入射光学系の主走査断面図及び副走査断面図。 従来の主走査絞り及び第三実施形態に係る主走査絞りを偏向器側から見た図。 第三実施形態に係る入射光学系の主走査断面図。 第三実施形態に係る入射光学系の主走査断面図及び副走査断面図。 第四実施形態に係る光走査装置の主走査断面図。 第一乃至第四実施形態のいずれかに係る光走査装置が搭載されたモノクロ画像形成装置の要部副走査断面図。 第一乃至第四実施形態のいずれかに係る光走査装置が搭載されたカラー画像形成装置の要部副走査断面図。

以下、本発明の実施形態に係る光走査装置について図面に基づいて説明する。なお、以下に示す図面は、本発明の実施形態を容易に理解できるようにするために、実際とは異なる縮尺で描かれている場合がある。

なお、以下の説明において、主走査方向は、偏向器の回転軸及び光学系の光軸に垂直な方向に対応し、副走査方向は、偏向器の回転軸に平行な方向に対応する。また、主走査断面は、副走査方向に垂直な断面に対応し、副走査断面は、主走査方向に垂直な断面に対応する。
特に、本発明では、主走査断面内における、入射光学系の光軸方向と副走査方向とに垂直な方向も主走査方向とする。

［第一実施形態］
図１は、第一実施形態に係る光走査装置１００の主走査断面図を示している。

光走査装置１００は、光源１０１、副走査絞り１０２、コリメータレンズ１０３、シリンドリカルレンズ１０４及び主走査絞り１０５を備えている。
また、光走査装置１００は、偏向器１０６、第一のｆθレンズ１０７、第二のｆθレンズ１０８及び被走査面１０９を備えている。

光源１０１は、複数の発光点を有しており、例えば、端面発光型のレーザーやＶＣＳＥＬ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ｃａｖｉｔｙ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ ＬＡＳＥＲ（垂直共振器面発光レーザー））等の面発光型の半導体レーザーなどが用いられる。
副走査絞り１０２は、光源１０１より射出された光束の副走査方向の光束径を制限する。
コリメータレンズ１０３は、副走査絞り１０２を通過した光束を略平行光束に変換する。なお、ここで、略平行光束とは、弱発散光束、弱収束光束及び平行光束を含むものとする。
シリンドリカルレンズ１０４は、副走査断面内にのみ有限のパワー（屈折力）を有しており、コリメータレンズ１０３を通過した光束を副走査方向にのみ屈折する。
主走査絞り１０５は、シリンドリカルレンズ１０４を通過した光束の主走査方向の光束径を制限する。
副走査絞り１０２、コリメータレンズ１０３、シリンドリカルレンズ１０４及び主走査絞り１０５によって、本実施形態に係る光走査装置１００の入射光学系が構成される。

偏向器１０６は、ポリゴンミラーなどで構成され、モーター等の駆動手段（不図示）により、一定方向（例えば、図中Ａの方向）に一定速度で回転し、入射光学系から入射する光束を偏向走査する。
第一のｆθレンズ１０７及び第二のｆθレンズ１０８は、主走査断面内と副走査断面内とで異なるパワーを有し、ｆθ特性を決定する結像レンズ（アナモフィックレンズ）などの結像光学素子である。第一のｆθレンズ１０７及び第二のｆθレンズ１０８は、偏向器１０６によって偏向走査される光束を、被走査面１０９に導光する。
第一のｆθレンズ１０７及び第二のｆθレンズ１０８によって、本実施形態に係る光走査装置１００の結像光学系が構成される。

光源１０１の複数の発光点から出射した複数の光束はそれぞれ、副走査絞り１０２を通過することによって副走査方向の光束径が制限され、コリメータレンズ１０３を通過することによって略平行光束に変換される。そして、変換された複数の光束はそれぞれ、シリンドリカルレンズ１０４を通過することによって副走査断面内で収束光束に変換され、主走査絞り１０５を通過することによって主走査方向の光束径が制限される。そして、主走査絞り１０５を通過した複数の光束はそれぞれ、図１中のＡ方向に回転している偏向器１０６に入射する。
偏向器１０６に入射した複数の光束はそれぞれ、偏向器１０６によって偏向走査された後、第一のｆθレンズ１０７及び第二のｆθレンズ１０８によって被走査面１０９に導光される。
なお、偏向器１０６はＡ方向に回転しているので、偏向走査された光束は、被走査面１０９を図１中のＢ方向に等速度で走査する。
また、被走査面１０９の位置に感光体を配置した場合、偏向器１０６によって偏向走査された光束による副走査方向の露光分布の作成は、主走査露光毎に、感光体を副走査方向に移動（回転）させることによって行うことができる。

本実施形態に係る光走査装置１００の入射光学系の諸特性を表１に示す。

また、本実施形態に係る光走査装置１００の結像光学系の諸特性を表２に示す。

なお、ここで、第一のｆθレンズ１０７及び第二のｆθレンズ１０８の光軸をＸ方向、主走査方向をＹ方向、副走査方向をＺ方向と定義する。
また、表１及び表２において、「Ｅ−ｘ」は「×１０^-x」を意味している。

本実施形態に係る光走査装置１００のコリメータレンズ１０３は、収差補正のための非球面形状を有する回転対称なガラスモールドレンズであり、その形状は、以下の式（１）で表される。

なお、ここで、Ｒは曲率半径、ｋは離心率、Ｃ_i（ｉ＝２、４、６）は非球面係数である。

第一のｆθレンズ１０７及び第二のｆθレンズ１０８の各レンズ面の母線形状（主走査断面内の形状）は、以下の式（２）で表される。

なお、ここで、Ｒは曲率半径、ｋは離心率、Ｂ_i（ｉ＝４、６、８、・・・、１６）は非球面係数である。
また、ｙの値に関してプラス側とマイナス側で係数ｋ及びＢ_iが異なる場合は、プラス側の係数には添字ｕを付し（すなわち、ｋ_u及びＢ_iu）、マイナス側の係数には添字ｌを付している（すなわち、ｋ_l及びＢ_il）。

第一のｆθレンズ１０７の入射面及び出射面、及び第二のｆθレンズ１０８の出射面の副走査断面内の非球面形状は、以下の式（３）で表される。

すなわち、式（３）におけるＳは、母線上の任意の点において母線の面法線を含み主走査断面と垂直な面内に定義される子線形状に対応する。

なお、式（３）における副走査断面の曲率半径ｒ’は、主走査方向の位置ｙに従って、以下の式（４）のように連続的に変化する。

ここで、ｒは光軸上における副走査断面の曲率半径、Ｄ_j（ｊ＝２、４、６、８、１０）は副走査断面の曲率半径の変化係数である。
ｙの値に関してプラス側とマイナス側で係数Ｄ_iが異なる場合は、プラス側の係数には添字ｕを付し（すなわち、Ｄ_ju）、マイナス側の係数には添字ｌを付している（すなわち、Ｄ_jl）。

また、第二のｆθレンズ１０８の入射面の子線形状は、以下の式（５）のように表される。

ここで、式（５）における副走査断面の曲率半径ｒ’’は、主走査方向の位置ｙに従って、以下の式（６）のように連続的に変化する。

ここで、ｒは光軸上における副走査断面の曲率半径、Ｄ_j（ｊ＝２，４，６，８，１０，１２）は副走査断面の曲率半径の変化係数である。
ｙの値に関してプラス側とマイナス側で係数Ｄ_iが異なる場合は、プラス側の係数には添字ｕを付し（すなわち、Ｄ_ju）、マイナス側の係数には添字ｌを付している（すなわち、Ｄ_jl）。

すなわち、子線形状は、レンズ面のｙ座標に対して連続的に変化しており、円弧形状となっている。

次に、本実施形態の効果について説明する。

図２（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ、従来の光走査装置における入射光学系の主走査断面図及び副走査断面図を示している。
図３は、従来の光走査装置の偏向器１０６側から見た光源１０１における発光点の配置を示した図である。

なお、ここで、従来の光走査装置の入射光学系は、主走査絞り１０５の代わりに主走査絞り２０５が設けられていること以外は、第一実施形態に係る光走査装置１００の入射光学系と同一であるため、同一の部材には、同一の参照符号を付している。
また、以降の説明において、上記の通り、光軸方向をｘ軸、主走査方向をｙ軸、副走査方向をｚ軸と定義する。また、回転方向については、反時計回りの方向を正の方向と定義する。すなわち、角度については、反時計回りを正と定義する。

図２及び図３に示されているように、光源１０１は、所定の方向に一列に配置された複数の発光点（本実施形態では３２個）を有しており、ここで、発光点１０１ａは仮想的に設定した中央の発光点である。
なお、以下で示すｙ座標及びｚ座標の正負（プラスマイナス）については、発光点１０１ａの位置のｙ座標及びｚ座標を共に０とした場合で示している。換言すると、ｙ座標及びｚ座標の正負（プラスマイナス）については、光軸位置のｙ座標及びｚ座標を共に０としている。
また、発光点１０１ｂ及び１０１ｃはそれぞれ、ｙ方向及びｚ方向のプラス側端部及びマイナス側端部に配置された発光点である。
なお、複数の発光点が配置されている所定の方向は、ｙ軸に対して所定の角度＋θ_LSだけ回転した方向である。本実施形態では、＋θ_LSは１０．０６度である。ここで、θ_LSに関しては、光源１０１を偏向器１０６側から光軸方向に見た時に、複数の発光点のうち最も離れた２つの発光点を結ぶ直線が主走査方向に対してなす鋭角が反時計回りであるときに正であるとする。

主走査絞り２０５は、ｚ軸に平行なｙ方向プラス側端部２０５ａ、ｚ軸に平行なｙ方向マイナス側端部２０５ｂ、ｙ軸に平行なｚ方向プラス側端部２０５ｃ及びｙ軸に平行なｚ方向マイナス側端部２０５ｄを有している。

主光線２００ａ、２００ｂ及び２００ｃはそれぞれ、発光点１０１ａ、１０１ｂ及び１０１ｃから射出される主光線である。主光線２００ａ、２００ｂ及び２００ｃは、副走査絞り１０２のｘ軸方向中間点において発光点１０１ａの位置を含む主走査断面を通過する。
なお、図２（ａ）においては、主光線２００ｂ及び２００ｃは、所定の主走査断面に投影されており、図２（ｂ）においては、主光線２００ｂ及び２００ｃは、所定の副走査断面に投影されていることに注意されたい。

図２に示されているように、従来の光走査装置では、主走査絞り２０５と偏向器１０６の偏向面が離間しているため、主光線２００ｂ及び主光線２００ｃは、偏向器１０６の偏向面上に分離して到達する。具体的には、主光線２００ｂは、偏向器１０６の偏向面上のｙ方向マイナス側の位置に到達し、主光線２００ｃは、偏向器１０６の偏向面上のｙ方向プラス側の位置に到達する。
このため、被走査面１０９において主走査方向のドット位置のばらつきが生じる。

図４（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ、従来の光走査装置の主走査絞り２０５及び第一実施形態に係る光走査装置１００の主走査絞り１０５を偏向器１０６側から見た図を示している。

上述の通り、従来の光走査装置の主走査絞り２０５は、ｚ軸に平行なｙ方向側端部２０５ａ及び２０５ｂを備えている。
ここで、ｙ方向側端部とは、絞りの光束が通過する側、すなわち絞りに設けられた開口の主走査端部であり、絞りの光束が通過する側、すなわち絞りに設けられた開口の主走査方向における端部を意味している。
そのため、図４（ａ）に示されているように、主光線２００ａ、２００ｂ及び２００ｃは、主走査絞り２０５においてｙ＝０の位置を通過する。なお、主走査絞り２０５において、主光線２００ａ、２００ｂ及び２００ｃがそれぞれｚ軸方向において異なる位置を通過しているのは、副走査絞り１０２と主走査絞り２０５とが離間して配置されているためである。

一方で、第一実施形態に係る光走査装置１００の主走査絞り１０５は、ｙ方向プラス側端部１０５ａ、ｙ方向マイナス側端部１０５ｂ、ｚ方向プラス側端部１０５ｃ及びｚ方向マイナス側端部１０５ｄを有している。
また、第一実施形態に係る光走査装置１００の光源１０１の発光点１０１ａ、１０１ｂ及び１０１ｃからはそれぞれ、主光線４００ａ、４００ｂ及び４００ｃが射出される。

ここで注意すべきことは、図４（ｂ）に示されているように、第一実施形態に係る光走査装置１００の主走査絞り１０５のｙ方向側端部１０５ａ及び１０５ｂはそれぞれ、ｚ軸に対してｘ軸回りで＋θ_apだけ回転した、入射光学系の光軸方向に見たとき、ｚ軸に非平行な方向に沿っていることである。
これにより、主光線４００ｂ及び４００ｃは、主走査絞り１０５においてｙ＝０の位置を通過しない。具体的には、主光線４００ｂ及び４００ｃはそれぞれ、主走査絞り１０５においてｙ＝＋δ及び−δの位置を通過する。
すなわち、従来の光走査装置に比べて、第一実施形態に係る光走査装置１００では、主走査絞り１０５における主光線４００ｂの通過位置は、ｙ方向プラス側にδだけシフトする。一方で、従来の光走査装置に比べて、第一実施形態に係る光走査装置１００では、主走査絞り１０５における主光線４００ｃの通過位置は、ｙ方向マイナス側にδだけシフトする。
従って、本実施形態に係る光走査装置１００では、光源１０１の複数の発光点から射出された複数の光束の主光線の主走査絞り１０５における各通過位置は、入射光学系の光軸方向に見たとき、副走査方向に対して非平行な方向に沿っている。
また、換言すると、第一実施形態に係る光走査装置１００では、光源１０１の複数の発光点から出射した光束の主光線の主走査絞り１０５における通過位置は、主走査方向において互いに異なっている。

このように、本実施形態に係る光走査装置１００では、主走査絞り１０５のｙ方向側端部１０５ａ及び１０５ｂの少なくとも一方をｚ軸に対して非平行になるように設計することで、主走査絞り１０５における光束の通過位置を制御することが可能である。

なお、主走査絞り１０５において、主光線４００ａ、４００ｂ及び４００ｃがそれぞれｚ軸方向において異なる位置を通過しているのは、副走査絞り１０２と主走査絞り１０５とが離間して配置されているためである。

また本実施形態の光走査装置１００において、光源１０１の複数の発光点が配列されている所定の方向がｘ軸回りで（ｘ軸に垂直な平面内で）ｙ軸に対してなす角度＋θ_LSと、主走査絞り１０５のｙ方向側端部１０５ａ、１０５ｂがｘ軸回りで（ｘ軸に垂直な平面内で）ｚ軸に対してなす角度＋θ_apは同符号であることに注意すべきである。
なお、本実施形態では、＋θ_apは３０．０度である。ここで、θ_apに関しては、主走査絞り１０５を偏向器１０６側から光軸方向に見た時に、主走査絞り１０５の光束が通過する側の主走査端部（ｙ方向側端部）１０５ａ、１０５ｂが副走査方向に対してなす鋭角が反時計回りであるときに正であるとする。

図５（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ、本実施形態に係る光走査装置１００における入射光学系の、図４（ｂ）に示される主走査断面１での断面図及び図４（ｂ）に示される主走査断面２での断面図を示している。
なお、ここで、主走査断面１とは、主走査絞り１０５における主光線４００ｂの通過位置を含む主走査断面であり、主走査断面２とは、主走査絞り１０５における主光線４００ｃの通過位置を含む主走査断面である。
また、図５（ａ）においては、主光線２００ｂ及び４００ｂは、主走査断面１に投影されており、図５（ｂ）においては、主光線２００ｃ及び４００ｃは、主走査断面２に投影されていることに注意されたい。

図５（ａ）に示されているように、従来の光走査装置における主光線２００ｂは、主走査絞り１０５に、ｘ軸に対して角度−θ_inをなして、入射している。一方で、図５（ｂ）に示されているように、従来の光走査装置における主光線２００ｃは、主走査絞り１０５に、ｘ軸に対して角度＋θ_inをなして、入射している。ここで、θ_inに関しては、入射光学系をｚ軸のプラス方向からマイナス方向に見た時に、光源１０１の複数の発光点から出射した主光線のうちの第１の主光線が、主走査絞り１０５の位置で、主走査断面内において光軸に対してなす鋭角が反時計回りであるときに正であるとする。
そのため、主光線２００ｂは、偏向器１０６の偏向面上のｙ方向マイナスの位置に到達し、一方で、主光線２００ｃは、偏向器１０６の偏向面上のｙ方向プラスの位置に到達する。

一方で、上記の通り、従来の光走査装置に比べて、第一実施形態に係る光走査装置１００では、主走査絞り１０５における主光線４００ｂの通過位置は、ｙ方向プラス側にδだけシフトする。一方で、従来の光走査装置に比べて、第一実施形態に係る光走査装置１００では、主走査絞り１０５における主光線４００ｃの通過位置は、ｙ方向マイナス側にδだけシフトする。
そのため、主光線４００ｂは、偏向器１０６の偏向面上において、主光線２００ｂに比べてｙ方向プラス側にδだけシフトしたｙ方向マイナスの位置に到達する。一方で、主光線４００ｃは、偏向器１０６の偏向面上において、主光線２００ｃに比べてｙ方向マイナス側にδだけシフトしたｙ方向プラスの位置に到達する。
従って、本実施形態に係る光走査装置１００では、主走査絞り１０５を用いることによって、従来の光走査装置に比べて、主光線４００ｂ及び４００ｃの偏向器１０６の偏向面上の到達位置を、ｙ＝０の位置により近づくようにシフトさせることができる。

また、注意すべきこととして、本実施形態に係る光走査装置１００において、入射光学系をｚ軸のプラス方向からマイナス方向に見た時に、主光線４００ｂ及び４００ｃが、主走査絞り１０５の位置で、主走査断面内において光軸に対してなす角度（鋭角）と、主光線４００ｂ及び４００ｃの主光線２００ｂ及び２００ｃと比較した偏向器１０６の偏向面上の到達位置のシフト量とは、異符号なことである。
すなわち、角度−θ_inで主走査絞り１０５に入射する主光線４００ｂは、偏向器１０６の偏向面上において、主光線２００ｂと比較して、ｙ方向に＋δだけシフトした位置に到達する。一方で、角度＋θ_inで主走査絞り１０５に入射する主光線４００ｃは、偏向器１０６の偏向面上において、主光線２００ｃと比較して、ｙ方向に−δだけシフトした位置に到達する。

図６（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ、第一実施形態に係る光走査装置１００における入射光学系の主走査断面図及び副走査断面図を示している。

図６に示されているように、上記の結果として、従来の光走査装置における主光線２００ｂと２００ｃの間隔Δ₀に対して、第一実施形態に係る光走査装置１００では、主光線４００ｂと４００ｃの間隔をΔ₁に小さくすることができる。
それにより、被走査面１０９における主走査方向のドット位置のばらつきを小さくすることができる。

図７（ａ）は、本実施形態に係る光走査装置１００における、角度θ_apに対する被走査面１０９でのデフォーカス１ｍｍ当たり（ピントずれが生じた際の）のドット位置のずれ量Δの変化を示した図である。
また、図７（ｂ）及び（ｃ）はそれぞれ、角度θ_apに対する変化率（Δ（θ_ap）−Δ（θ_ap＝０゜））／Δ（θ_ap＝０゜）を示した図、及びｔａｎ（θ_ap）に対する変化率（Δ（θ_ap）−Δ（θ_ap＝０゜））／Δ（θ_ap＝０゜）を示した図である。
図８は、本実施形態に係る光走査装置１００における、角度θ_apに対する結像光学系の深度幅の変化を示した図である。

図７からは、本実施形態に係る光走査装置１００において従来の光走査装置（θａｐ＝０゜）よりも被走査面１０９でのドット位置のずれ量を小さくする為には、角度θａｐが０゜＜θａｐ＜９０゜を満たすように、主走査絞り１０５を設計すればよいことがわかる。
一方で、結像光学系の深度幅に着目すると、図８に示されているように、角度θａｐが大きくなりすぎると、結像光学系の深度幅が急激に小さくなり、結像性能が悪くなる。
そのため、角度θａｐは０゜＜θａｐ≦６０゜を満たすように、主走査絞り１０５を設計することがより好ましい。
換言すると、後に示す実施形態も考慮して、角度θａｐの絶対値｜θａｐ｜は０度より大きく、６０度以下になるように、主走査絞り１０５を設計することが好ましい。

また、図７（ｃ）に示されているように、変化率（Δ（θ_ap）−Δ（θ_ap＝０゜））／Δ（θ_ap＝０゜）は、ｔａｎ（θ_ap）に比例する。具体的には、本実施形態に係る光走査装置１００では、（Δ（θ_ap）−Δ（θ_ap＝０゜））／Δ（θ_ap＝０゜）＝−０．４５ｔａｎ（θ_ap）の関係が満たされている。

［第二実施形態］
図９は、第二実施形態に係る光走査装置の偏向器１０６側から見た光源１０１における発光点の配置を示した図である。
図１０は、第二実施形態に係る光走査装置の主走査絞り８０５を偏向器１０６側から見た図を示している。
図１１（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ、第二実施形態に係る光走査装置における入射光学系の、図１０に示される主走査断面３での断面図及び図１０に示される主走査断面４での断面図を示している。
なお、ここで、第二実施形態に係る光走査装置は、主走査絞り１０５の代わりに、主走査絞り８０５を設けたこと以外は、第一実施形態に係る光走査装置１００と同一であるため、同一の部材には、同一の参照符号を付している。
また、以降の説明において、上記の通り、光軸方向をｘ軸、主走査方向をｙ軸、副走査方向をｚ軸と定義する。また、回転方向については、反時計回りの方向を正の方向と定義する。
また、主走査断面３とは、主走査絞り８０５における主光線１１００ｂの通過位置を含む主走査断面であり、主走査断面４とは、主走査絞り８０５における主光線１１００ｃの通過位置を含む主走査断面である。
また、図１１（ａ）においては、主光線２００ｂ及び１１００ｂは、主走査断面３に投影されており、図１１（ｂ）においては、主光線２００ｃ及び１１００ｃは、主走査断面４に投影されていることに注意されたい。

図９に示されているように、光源１０１は、所定の方向に一列に配置された複数の発光点（本実施形態では３２個）を有しており、ここで、発光点１０１ｄは仮想的に設定した中央の発光点である。
なお、以下で示すｙ座標及びｚ座標の正負（プラスマイナス）については、発光点１０１ｄの位置のｙ座標及びｚ座標を共に０とした場合で示している。
また、発光点１０１ｅ及び１０１ｆはそれぞれ、ｙ方向プラス側且つｚ方向マイナス側端部及びｙ方向マイナス側且つｚ方向プラス側端部に配置された発光点である。
従って、本実施形態に係る光走査装置の光源１０１は、第一実施形態に係る光走査装置１００の光源１０１とは異なり、複数の発光点が配置されている所定の方向が、ｙ軸に対して所定の角度−θ_LSだけ回転した方向である。本実施形態では、−θ_LSは−１０．０６度である。

第二実施形態に係る光走査装置の主走査絞り８０５は、ｙ方向プラス側端部８０５ａ、ｙ方向マイナス側端部８０５ｂ、ｚ方向プラス側端部８０５ｃ及びｚ方向マイナス側端部８０５ｄを有している。
また、第二実施形態に係る光走査装置の光源１０１の発光点１０１ｄ、１０１ｅ及び１０１ｆからはそれぞれ、主光線１１００ａ、１１００ｂ及び１１００ｃが射出される。

ここで注意すべきことは、図１０に示されているように、第二実施形態に係る光走査装置の主走査絞り８０５のｙ方向側端部８０５ａ及び８０５ｂはそれぞれ、ｚ軸に対して−θ_apだけ回転した、ｚ軸に非平行な方向に沿っていることである。
これにより、主光線１１００ｂ及び１１００ｃは、主走査絞り８０５においてｙ＝０の位置を通過しない。具体的には、主光線１１００ｂ及び１１００ｃはそれぞれ、主走査絞り８０５においてｙ＝＋δ及び−δの位置を通過する。
すなわち、従来の光走査装置に比べて、第二実施形態に係る光走査装置では、主走査絞り８０５における主光線１１００ｂの通過位置は、ｙ方向プラス側にδだけシフトする。一方で、従来の光走査装置に比べて、第二実施形態に係る光走査装置では、主走査絞り８０５における主光線１１００ｃの通過位置は、ｙ方向マイナス側にδだけシフトする。
従って、本実施形態に係る光走査装置では、光源１０１の複数の発光点から射出された複数の光束の主光線の主走査絞り８０５における各通過位置は、副走査方向に非平行な方向に沿っている。

このように、本実施形態に係る光走査装置では、主走査絞り８０５のｙ方向側端部８０５ａ及び８０５ｂの少なくとも一方をｚ軸に対して非平行になるように設計することで、主走査絞り８０５における光束の通過位置を制御することが可能である。

なお、主走査絞り８０５において、主光線１１００ａ、１１００ｂ及び１１００ｃがそれぞれｚ軸方向において異なる位置を通過しているのは、副走査絞り１０２と主走査絞り８０５とが離間して配置されているためである。

また、本実施形態に係る光走査装置において、光源１０１の複数の発光点が配列されている所定の方向がｙ軸に対してなす角度−θ_LSと、主走査絞り８０５のｙ方向側端部８０５ａ及び８０５ｂがｚ軸に対してなす角度−θ_apは同符号なことに注意すべきである。
なお、本実施形態では、−θ_apは−３０．０度である。

図１１（ａ）に示されているように、従来の光走査装置における主光線２００ｂは、主走査絞り８０５に、ｘ軸に対して角度−θ_inをなして、入射している。一方で、図１１（ｂ）に示されているように、従来の光走査装置における主光線２００ｃは、主走査絞り８０５に、ｘ軸に対して角度＋θ_inをなして、入射している。
そのため、主光線２００ｂは、偏向器１０６の偏向面上のｙ方向マイナスの位置に到達し、一方で、主光線２００ｃは、偏向器１０６の偏向面上のｙ方向プラスの位置に到達する。

一方で、上記の通り、従来の光走査装置に比べて、第二実施形態に係る光走査装置では、主走査絞り８０５における主光線１１００ｂの通過位置は、ｙ方向プラス側にδだけシフトする。一方で、従来の光走査装置に比べて、第二実施形態に係る光走査装置では、主走査絞り８０５における主光線１１００ｃの通過位置は、ｙ方向マイナス側にδだけシフトする。
そのため、主光線１１００ｂは、偏向器１０６の偏向面上において、主光線２００ｂに比べてｙ方向プラス側にδだけシフトしたｙ方向マイナスの位置に到達する。一方で、主光線１１００ｃは、偏向器１０６の偏向面上において、主光線２００ｃに比べてｙ方向マイナス側にδだけシフトしたｙ方向プラスの位置に到達する。
従って、本実施形態に係る光走査装置では、主走査絞り８０５を用いることによって、従来の光走査装置に比べて、主光線１１００ｂ及び１１００ｃの偏向器１０６の偏向面上の到達位置を、ｙ＝０の位置により近づくようにシフトさせることができる。

また、注意すべきこととして、本実施形態に係る光走査装置において、入射光学系をｚ軸のプラス方向からマイナス方向に見た時に、主光線１１００ｂ及び１１００ｃが、主走査絞り８０５の位置で、主走査断面内において光軸に対してなす角度（鋭角）と、主光線１１００ｂ及び１１００ｃの主光線２００ｂ及び２００ｃと比較した偏向器１０６の偏向面上の到達位置のシフト量は異符号なことである。
すなわち、角度−θ_inで主走査絞り８０５に入射する主光線１１００ｂは、偏向器１０６の偏向面上において、主光線２００ｂと比較して、ｙ方向に＋δだけシフトした位置に到達する。また、角度＋θ_inで主走査絞り８０５に入射する主光線１１００ｃは、偏向器１０６の偏向面上において、主光線２００ｃと比較して、ｙ方向に−δだけシフトした位置に到達する。

図１２（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ、第二実施形態に係る光走査装置における入射光学系の主走査断面図及び副走査断面図を示している。

図１２に示されているように、上記の結果として、従来の光走査装置における主光線２００ｂと２００ｃの間隔Δ₀に対して、第二実施形態に係る光走査装置では、主光線１１００ｂと１１００ｃの間隔をΔ₂に小さくすることができる。
それにより、被走査面１０９における主走査方向のドット位置のばらつきを小さくすることができる。

また、詳細は省略するが、第一実施形態と同様な議論に基づいて、角度−θａｐが−９０゜＜−θａｐ＜０゜を満たすように、主走査絞り８０５を設計すればよい。これにより、本実施形態に係る光走査装置において、従来の光走査装置（θａｐ＝０゜）よりも被走査面１０９でのドット位置のずれ量を小さくすることができる。

［第三実施形態］
図１３（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ、従来の光走査装置における入射光学系の主走査断面図及び副走査断面図を示している。

なお、ここで、従来の光走査装置の入射光学系は、主走査絞り１０５の代わりに主走査絞り２０５が設けられていること以外は、第二実施形態に係る光走査装置の入射光学系と同一であるため、同一の部材には、同一の参照符号を付している。
また、以降の説明において、上記の通り、光軸方向をｘ軸、主走査方向をｙ軸、副走査方向をｚ軸と定義する。また、回転方向については、反時計回りの方向を正の方向と定義する。
なお、以下で示すｙ座標及びｚ座標の正負（プラスマイナス）については、発光点１０１ｄの位置のｙ座標及びｚ座標を共に０とした場合で示している。

主走査絞り２０５は、ｚ軸に平行なｙ方向プラス側端部２０５ａ、ｚ軸に平行なｙ方向マイナス側端部２０５ｂ、ｙ軸に平行なｚ方向プラス側端部２０５ｃ及びｙ軸に平行なｚ方向マイナス側端部２０５ｄを有している。

光線１４００ａ、１４００ｂ及び１４００ｃはそれぞれ、発光点１０１ｄ、１０１ｅ及び１０１ｆから射出される重心光線である。ここで、重心は、光束の強度分布から決まる量である。

光源１０１にレーザーのような光源を用いると、ＦＦＰ（Ｆａｒ Ｆｉｅｌｄ Ｐａｔｔｅｒｎ）と呼ばれる角度強度分布が発光点に存在する。
光源にこのような強度分布が存在する場合、一般的には主光線と重心光線は異なる。
以下に示す第三実施形態に係る光走査装置において、重心光線を考慮した場合においても、被走査面上でのドット位置のばらつきを低減すすることができる。

なお、図１３（ａ）においては、重心光線１４００ｂ及び１４００ｃは、所定の主走査断面に投影されており、図１３（ｂ）においては、重心光線１４００ｂ及び１４００ｃは、所定の副走査断面に投影されていることに注意されたい。

図１３に示されているように、従来の光走査装置では、主走査絞り２０５と偏向器１０６の偏向面が離間しているため、重心光線１４００ｂ及び重心光線１４００ｃは、偏向器１０６の偏向面上に分離して到達する。具体的には、重心光線１４００ｂは、偏向器１０６の偏向面上のｙ方向マイナス側の位置に到達し、重心光線１４００ｃは、偏向器１０６の偏向面上のｙ方向プラス側の位置に到達する。
このため、被走査面１０９において主走査方向のドット位置のばらつきが生じる。

図１４（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ、従来の光走査装置の主走査絞り２０５及び第三実施形態に係る光走査装置の主走査絞り８０５を偏向器１０６側から見た図を示している。
なお、ここで、第三実施形態に係る光走査装置の入射光学系は、第二実施形態に係る光走査装置の入射光学系と同一であるため、同一の部材には、同一の参照符号を付している。

上述の通り、従来の光走査装置の主走査絞り２０５は、ｚ軸に平行なｙ方向側端部２０５ａ及び２０５ｂを備えている。
上記で示したように、発光点１０１ｅ及び１０１ｆから出射した主光線は、主走査絞り２０５においてｙ＝０の位置を通過する。
しかしながら、発光点１０１ｅ及び１０１ｆから出射した重心光線１４００ｂ及び１４００ｃは、主走査絞り２０５においてｙ＝０の位置を通過しない。
具体的には、主走査絞り２０５において、重心光線１４００ｂはｙ方向マイナス側の位置を通過し、重心光線１４００ｃはｙ方向プラス側の位置を通過する。
これにより、偏向器１０６の偏向面上の重心光線の到達位置の間隔は、主光線の到達位置の間隔よりも大きくなり、重心で見た被走査面１０９上のドット位置のばらつき量は大きくなってしまう。

第三実施形態に係る光走査装置の主走査絞り８０５は、ｙ方向プラス側端部８０５ａ、ｙ方向マイナス側端部８０５ｂ、ｚ方向プラス側端部８０５ｃ及びｚ方向マイナス側端部８０５ｄを有している。
そして、図１４（ｂ）に示されているように、第三実施形態に係る光走査装置の主走査絞り８０５のｙ方向側端部８０５ａ及び８０５ｂはそれぞれ、ｚ軸に対して−θ_apだけ回転した、ｚ軸に非平行な方向に沿っている。
これにより、従来の光走査装置に比べて、第三実施形態に係る光走査装置では、主走査絞り８０５における発光点１０１ｅから出射した重心光線１５００ｂの通過位置は、ｙ方向プラス側にδだけシフトする。一方で、従来の光走査装置に比べて、第三実施形態に係る光走査装置では、主走査絞り８０５における発光点１０１ｆから出射した重心光線１５００ｃの通過位置は、ｙ方向マイナス側にδだけシフトする。

このように、本実施形態に係る光走査装置では、主走査絞り８０５のｙ方向側端部８０５ａ及び８０５ｂの少なくとも一方をｚ軸に対して非平行になるように設計することで、主走査絞り８０５における光束の通過位置を制御することが可能である。

また、本実施形態に係る光走査装置において、光源１０１の複数の発光点が配列されている所定の方向がｙ軸に対してなす角度−θ_LSと、主走査絞り８０５のｙ方向側端部８０５ａ及び８０５ｂがｚ軸に対してなす角度−θ_apは同符号なことに注意すべきである。
なお、本実施形態では、−θ_apは−３０．０度である。

図１５（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ、第三実施形態に係る光走査装置における入射光学系の、図１４（ｂ）に示される主走査断面５での断面図及び図１４（ｂ）に示される主走査断面６での断面図を示している。

図１５（ａ）に示されているように、従来の光走査装置における重心光線１４００ｂは、主走査絞り８０５に、ｘ軸に対して角度−θ_inをなして、入射している。一方で、図１５（ｂ）に示されているように、従来の光走査装置における重心光線１４００ｃは、主走査絞り８０５に、ｘ軸に対して角度＋θ_inをなして、入射している。
そのため、重心光線１４００ｂは、偏向器１０６の偏向面上のｙ方向マイナスの位置に到達し、一方で、重心光線１４００ｃは、偏向器１０６の偏向面上のｙ方向プラスの位置に到達する。

一方で、上記の通り、従来の光走査装置に比べて、第三実施形態に係る光走査装置では、主走査絞り８０５における重心光線１５００ｂの通過位置は、ｙ方向プラス側にδだけシフトする。一方で、従来の光走査装置に比べて、第三実施形態に係る光走査装置では、主走査絞り８０５における重心光線１５００ｃの通過位置は、ｙ方向マイナス側にδだけシフトする。
そのため、重心光線１５００ｂは、偏向器１０６の偏向面上において、重心光線１４００ｂに比べてｙ方向プラス側にδだけシフトしたｙ方向マイナスの位置に到達する。一方で、重心光線１５００ｃは、偏向器１０６の偏向面上において、重心光線１４００ｃに比べてｙ方向マイナス側にδだけシフトしたｙ方向プラスの位置に到達する。
従って、本実施形態に係る光走査装置では、主走査絞り８０５を用いることによって、従来の光走査装置に比べて、重心光線１５００ｂ及び１５００ｃの偏向器１０６の偏向面上の到達位置を、ｙ＝０の位置により近づくようにシフトさせることができる。

また、注意すべきこととして、本実施形態に係る光走査装置において、入射光学系をｚ軸のプラス方向からマイナス方向に見た時に、重心光線１５００ｂ及び１５００ｃが、主走査絞り８０５の位置で、主走査断面内において光軸に対してなす角度（鋭角）と、重心光線１５００ｂ及び１５００ｃの重心光線１４００ｂ及び１４００ｃと比較した偏向器１０６の偏向面上の到達位置のシフト量とは、異符号なことである。
すなわち、角度−θ_inで主走査絞り８０５に入射する重心光線１５００ｂは、偏向器１０６の偏向面上において、重心光線１４００ｂと比較して、ｙ方向に＋δだけシフトした位置に到達する。一方で、角度＋θ_inで主走査絞り８０５に入射する重心光線１５００ｃは、偏向器１０６の偏向面上において、重心光線１４００ｃと比較して、ｙ方向に−δだけシフトした位置に到達する。

図１６（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ、第三実施形態に係る光走査装置における入射光学系の主走査断面図及び副走査断面図を示している。

図１６に示されているように、上記の結果として、従来の光走査装置における重心光線１４００ｂと１４００ｃの間隔Δ₀に対して、第三実施形態に係る光走査装置では、重心光線１５００ｂと１５００ｃの間隔をΔ₁に小さくすることができる。
このようにして、重心光線に対しても被走査面１０９における主走査方向のドット位置のばらつきを小さくすることができ、従って、本実施形態に係る光走査装置における重心位置で見た主走査方向のドット位置の被走査面上におけるばらつきを低減することができる。

また、詳細は省略するが、第二実施形態と同様な議論に基づいて、角度−θａｐが−９０゜＜−θａｐ＜０゜を満たすように、主走査絞り８０５を設計すればよい。これにより、本実施形態に係る光走査装置において、従来の光走査装置（θａｐ＝０゜）よりも被走査面１０９でのドット位置のずれ量を小さくすることができる。

［第四実施形態］
図１７は、第四実施形態に係る光走査装置４００の主走査断面図を示している。

なお、ここで、第四実施形態に係る光走査装置４００は、主走査絞り１０５の代わりに主走査絞り１８０５ａ及び１８０５ｂが設けられていること以外は、第一実施形態に係る光走査装置１００と同一であるため、同一の部材には、同一の参照符号を付している。

主走査絞り１８０５ａ及び１８０５ｂはそれぞれ、シリンドリカルレンズ１０４を通過した光束の主走査方向の光束径の一方側及び他方側を制限し、互いに光軸方向に沿って異なる位置に配置されている。
このような主走査絞り１８０５ａ及び１８０５ｂの少なくとも一方をｚ軸に対して非平行になるように設計することによっても、第一実施形態乃至第三実施形態と同様に、主走査絞り１８０５ａ及び１８０５ｂにおける光束の通過位置を制御することが可能である。
それにより、被走査面１０９における主走査方向のドット位置のばらつきを小さくすることができる。

第一乃至第四実施形態においては、偏向器１０６よりも光源１０１側にコリメータレンズ１０３の像側焦点位置があったが、これに限られない。偏向器１０６よりも第一のｆθレンズ１０７側にコリメータレンズ１０３の像側焦点位置がある場合には、主走査絞りのｙ方向端部の回転角度の符号を反転させることで、同様の効果を得ることができる。

また、第一乃至第四実施形態においては、主走査絞りのｙ方向端部を直線形状としていたが、これに限られない。例えば、主走査絞りのｙ方向端部を階段形状にする（複数の直線部から形成されるようにする）ことによって、各発光点からの主光線の主走査絞りの通過位置のｙ座標を異ならせることによっても、同様の効果を得ることができる。

各実施形態に係る複数の発光点を有する光源を備える光走査装置によれば、主走査絞りの主走査方向側端部の形状を副走査方向に対して非平行にすることで、偏向器の偏向面上でのマルチビームの間隔を小さくしている。それにより、被走査面における主走査方向のドット位置のばらつきを低減している。
従って、各実施形態に係る光走査装置によれば、被走査面における主走査方向のドット位置のばらつきを小さくしつつ、高速化及び高精細化を実現することができる。

以上、好ましい実施形態に係る光走査装置について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。

［モノクロ画像形成装置］
図１８は、第一乃至第四実施形態のいずれかに係る光走査ユニット１２００が搭載されたモノクロ画像形成装置１２０４の要部副走査断面図を示している。

モノクロ画像形成装置１２０４には、パーソナルコンピュータ等の外部機器１２１７から出力したコードデータＤｃが入力される。このコードデータＤｃは、画像形成装置１２０４内のプリンタコントローラ１２１１によって、画像データ（ドットデータ）に変換される。この画像データは、第一乃至第四実施形態のいずれかに係る光走査ユニット１２００に入力される。そして、この光走査ユニット１２００からは、画像データに応じて変調された光ビーム１２０３が出射され、この光ビーム１２０３によって感光ドラム１２０１の感光面が主走査方向に走査される。

静電潜像担持体（感光体）たる感光ドラム１２０１は、モーター１２１５によって時計廻りに回転させられる。そして、この回転に伴って、感光ドラム１２０１の感光面が光ビーム１２０３に対して、主走査方向と直交する副走査方向に移動する。感光ドラム１２０１の上方には、感光ドラム１２０１の表面を一様に帯電せしめる帯電ローラ１２０２が表面に当接するように設けられている。そして、帯電ローラ１２０２によって帯電された感光ドラム１２０１の表面に、光走査ユニット１２００によって走査される光ビーム１２０３が照射されるようになっている。

先に説明したように、光ビーム１２０３は、画像データに基づいて変調されており、この光ビーム１２０３を照射することによって、感光ドラム１２０１の表面に静電潜像を形成せしめる。この静電潜像は、光ビーム１２０３の照射位置よりもさらに感光ドラム１２０１の回転方向の下流側で感光ドラム１２０１に当接するように配設された現像器１２０７によってトナー像として現像される。

現像器１２０７によって現像されたトナー像は、感光ドラム１２０１の下方で、感光ドラム１２０１に対向するように配設された転写ローラ（転写器）１２０８によって被転写材たる用紙１２１２上に転写される。用紙１２１２は感光ドラム１２０１の前方（図１８において右側）の用紙カセット１２０９内に収納されているが、手差しでも給紙が可能である。用紙カセット１２０９の端部には、給紙ローラ１２１０が配設されており、用紙カセット１２０９内の用紙１２１２を搬送路へ送り込む。

以上のようにして、未定着トナー像が転写された用紙１２１２は、さらに感光ドラム１２０１後方（図１８において左側）の定着器１２５０へと搬送される。定着器１２５０は、内部に定着ヒータ（不図示）を有する定着ローラ１２１３とこの定着ローラ１２１３に圧接するように配設された加圧ローラ１２１４とで構成されている。転写部から搬送されてきた用紙１２１２を定着ローラ１２１３と加圧ローラ１２１４の圧接部にて加圧しながら加熱することにより用紙１２１２上の未定着トナー像は定着せしめられる。更に定着器１２５０の後方には排紙ローラ１２１６が配設されており、定着された用紙１２１２がモノクロ画像形成装置１２０４の外部に排出せしめられる。

なお、プリンタコントローラ１２１１は、データの変換だけでなく、モーター１２１５を始めモノクロ画像形成装置１２０４内の各部や、光走査ユニット１２００内のポリゴンモーターなどの制御も行う。

［カラー画像形成装置］
図１９は、第一乃至第四実施形態のいずれかに係る光走査装置１１乃至１４が搭載されたカラー画像形成装置９０の要部副走査断面図を示している。

画像形成装置９０は、光走査装置を４個並べて、各々並行して像担持体である感光ドラム面上に画像情報を記録するタンデムタイプのカラー画像形成装置である。
画像形成装置９０は、第一乃至第四実施形態のいずれかに係る光走査装置１１、１２、１３、１４、像担持体としての感光ドラム２３、２４、２５、２６、現像器１５、１６、１７、１８、搬送ベルト９１、及びプリンタコントローラ９３を備えている。

画像形成装置９０には、パーソナルコンピュータ等の外部機器９２からＲ（レッド）、Ｇ（グリーン）、Ｂ（ブルー）の各色信号が入力される。これらの色信号は、画像形成装置９０内のプリンタコントローラ９３によって、Ｃ（シアン），Ｍ（マゼンタ），Ｙ（イエロー）、Ｋ（ブラック）の各画像データ（ドットデータ）に変換される。これらの画像データは、それぞれ光走査装置１１、１２、１３、１４に入力される。そして、これらの光走査装置１１、１２、１３、１４からは、各画像データに応じて変調された光ビーム１９、２０、２１、２２が射出され、これらの光ビーム１９、２０、２１、２２によって、感光ドラム２３、２４、２５、２６の感光面が主走査方向に走査される。

そして、光走査装置１１、１２、１３、１４により各々の画像データに基づいて射出された光ビーム１９、２０、２１、２２によって各々対応する感光ドラム２３、２４、２５、２６の感光面上に各色の潜像が形成される。その後、各色の潜像が現像器１５乃至１８によって各色トナー像に現像され、現像された各色トナー像が記録材に転写器によって多重転写され、転写されたトナー像が定着器によって定着され、１枚のフルカラー画像が形成される。

従って、画像形成装置９０では、４つの光走査装置１１、１２、１３、１４を並べ、各々がＣ（シアン），Ｍ（マゼンタ），Ｙ（イエロー）、Ｋ（ブラック）の各色に対応している。そして、並行して感光ドラム２３、２４、２５、２６の感光面上に画像信号（画像情報）を記録し、カラー画像を高速に印字することができる。

なお、外部機器９２としては、例えばＣＣＤセンサを備えたカラー画像読取装置が用いられても良い。この場合には、このカラー画像読取装置と、カラー画像形成装置９０とで、カラーデジタル複写機が構成される。

以上、好ましい実施形態に係る画像形成装置について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
また、本実施形態に係る画像形成装置の記録密度は、特に限定されない。しかしながら、記録密度が高くなればなるほど、高画質が求められることを考えると、１２００ｄｐｉ以上の画像形成装置において、第一乃至第四実施形態に係る光走査装置を搭載した場合に、本発明の効果がより発揮される。

１００ 光走査装置
１０１ 光源
１０１ａ、１０１ｂ、１０１ｃ 発光点
１０２ 副走査絞り（入射光学系）
１０３ コリメータレンズ（入射光学系）
１０４ シリンドリカルレンズ（入射光学系）
１０５ 主走査絞り
１０６ 偏向器
１０７ 第一のｆθレンズ（結像光学系）
１０８ 第二のｆθレンズ（結像光学系）
１０９ 被走査面

Claims (12)

1. 複数の発光点を有する光源と、
   前記光源からの光束を偏向して被走査面を主走査方向に光走査する偏向器と、
   前記光源からの光束を前記偏向器に入射させる入射光学系と、
   前記偏向器によって偏向された光束を前記被走査面に導光する結像光学系と、
   を備え、
   前記入射光学系は、光束を主走査方向において制限する主走査絞りと、該主走査絞りとは異なる位置に配置され、光束を副走査方向において制限する副走査絞りと、を有し、
   前記複数の発光点から出射した複数の光束の夫々の主光線の前記主走査絞りにおける通過位置は、主走査方向において互いに異なることを特徴とする光走査装置。
2. 前記主走査絞りの光束が通過する側の主走査端部のうちの少なくとも一方は、前記入射光学系の光軸方向に見たとき、副走査方向に対して非平行であることを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
3. 前記複数の発光点のうち最も離れた２つの発光点を結ぶ直線が主走査方向に対してなす角度と、前記主走査絞りの光束が通過する側の主走査端部のうちの少なくとも一方が副走査方向に対してなす角度とは、同符号であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光走査装置。
4. 前記主走査絞りの光束が通過する側の主走査端部のうちの少なくとも１つが副走査方向に対してなす角度の絶対値は、０度より大きく、６０度以下であることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光走査装置。
5. 前記光源の前記複数の発光点から出射した主光線のうちの第１の主光線が、前記主走査絞りの位置で、主走査断面内において光軸に対してなす角度と、前記主走査絞りの光束が通過する側の主走査端部のうちの少なくとも１つを副走査方向に対して非平行にすることによって生じる該第１の主光線の前記偏向器の前記偏向面上の到達位置の主走査方向に沿ったシフト量とは、異符号であることを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の光走査装置。
6. 前記光源の前記複数の発光点から出射した重心光線のうちの第１の重心光線が、前記主走査絞りの位置で、主走査断面内において光軸に対してなす角度と、前記主走査絞りの光束が通過する側の主走査端部のうちの少なくとも１つを副走査方向に対して非平行にすることによって生じる該第１の重心光線の前記偏向器の偏向面上の到達位置の主走査方向に沿ったシフト量とは、異符号であることを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の光走査装置。
7. 前記主走査絞りの光束が通過する側の主走査端部のうちの少なくとも１つは、複数の直線部を有していることを特徴とする、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の光走査装置。
8. 前記入射光学系は、第１の主走査絞り及び第２の主走査絞りを備えており、
   該第１の主走査絞り及び該第２の主走査絞りは、前記入射光学系の光軸方向に沿って、互いに異なる位置に配置されていることを特徴とする、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の光走査装置。
9. 前記光源は、ＶＣＳＥＬであることを特徴とする、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の光走査装置。
10. 前記主走査絞りの光束が通過する側の主走査端部のうちの少なくとも１つが副走査方向に対してなす角度をθａｐとするとき、ピントずれが生じた際の前記被走査面上のドット位置のずれ量は、ｔａｎ（θａｐ）に比例して変化することを特徴とする、請求項１乃至９のいずれか一項に記載の光走査装置。
11. 請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の光走査装置と、前記光走査装置によって前記被走査面に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像されたトナー像を被転写材に転写する転写器と、転写されたトナー像を前記被転写材に定着させる定着器と、を備えることを特徴とする画像形成装置。
12. 請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の光走査装置と、外部機器から出力されたコードデータを画像信号に変換して前記光走査装置に入力するプリンタコントローラと、を備えることを特徴とする画像形成装置。

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