JP2017081913A - ジベンゾカルバゾール化合物、発光素子、発光装置、表示装置、電子機器、及び照明装置 - Google Patents

ジベンゾカルバゾール化合物、発光素子、発光装置、表示装置、電子機器、及び照明装置 Download PDF

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Abstract

【課題】消費電力が低く、信頼性が高く、色純度が良い発光素子を作製することが可能な、新規なジベンゾカルバゾール化合物を提供する。
【解決手段】ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格の窒素に、少なくともアントラセン骨格を含む炭素数14乃至30のアリール基が結合した、ジベンゾカルバゾール化合物である。また、該ジベンゾカルバゾール化合物を有する発光素子である。
【選択図】なし

Description

本発明の一態様は、ジベンゾカルバゾール化合物に関する。また、発光素子、または該発光素子を有する発光装置、表示装置、電子機器、及び照明装置に関する。
なお、本発明の一態様は、上記の技術分野に限定されない。本明細書等で開示する発明の一態様の技術分野は、物、方法、または、製造方法に関する。または、本発明の一態様は、プロセス、マシン、マニュファクチャ、または、組成物(コンポジション・オブ・マター)に関する。そのため、より具体的に本明細書で開示する本発明の一態様の技術分野としては、半導体装置、表示装置、液晶表示装置、発光装置、照明装置、蓄電装置、記憶装置、それらの駆動方法、または、それらの製造方法、を一例として挙げることができる。
近年、エレクトロルミネッセンス(Electroluminescence:EL)を利用した発光素子の研究開発が盛んに行われている。これら発光素子の基本的な構成は、一対の電極間に発光性の材料を含む層(EL層)を挟んだ構成である。この素子の電極間に電圧を印加することにより、発光性の材料からの発光が得られる。
上述の発光素子は自発光型であるため、これを用いた表示装置は、視認性に優れ、バックライトが不要であり、消費電力が少ない等の利点を有する。さらに、薄型軽量に作製でき、応答速度が高いなどの利点も有する。
発光性の材料に有機材料を用い、一対の電極間に当該発光性の有機材料を含むEL層を設けた発光素子(例えば、有機EL素子)の場合、一対の電極間に電圧を印加することにより、陰極から電子が、陽極から正孔(ホール)がそれぞれ発光性のEL層に注入され、電流が流れる。そして、注入された電子及び正孔が再結合することによって発光性の有機材料が励起状態となり、励起された発光性の有機材料から発光を得ることができる。
有機材料が形成する励起状態の種類としては、一重項励起状態(S)と三重項励起状態(T)があり、一重項励起状態からの発光が蛍光、三重項励起状態からの発光が燐光と呼ばれている。また、発光素子におけるそれらの統計的な生成比率は、S:T=1:3である。そのため、蛍光を発する材料(蛍光材料)を用いた発光素子より、燐光を発する材料(燐光材料)を用いた発光素子の方が、高い発光効率を得ることが可能となる。したがって、三重項励起状態のエネルギーを発光に変換することが可能な燐光材料を用いた発光素子の開発が近年盛んに行われている。
燐光材料を用いた発光素子のうち、特に青色の発光を呈する発光素子においては、高い三重項励起エネルギー準位を有する安定な材料の開発が困難であるため、未だ実用化に至っていない。そのため、青色の発光を呈する発光素子においては、より安定な蛍光材料を用いた発光素子の開発が行われており、蛍光材料を用いた発光素子の発光効率を高める材料や寿命を高める材料が探索されている。
なお、発光素子の発光効率や寿命といった性能は、発光材料のみに依存する訳ではなく、発光材料を励起するために必要なホスト材料や、キャリアを輸送するために必要なキャリア輸送材料の性能にも大きく影響を受ける。そのため、発光素子の発光効率や寿命を高めるために、様々な分子構造を有する材料が提案されている(例えば、特許文献1及び特許文献2)
中でも、深い青色の発光を呈する発光素子においては、発光材料だけでなく、発光材料を励起するために必要なホスト材料についても、高い励起エネルギーを有することが必要となる。そのため、発光材料を効率よく励起可能で、安定性の高いホスト材料の開発が求められている。
米国特許出願公開第2008/0122344号 国際公開第2010/114264号
青色の蛍光発光素子のホスト材料に用いることが可能な材料の一例として、9−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CzPA)が挙げられる。CzPAをホスト材料として用いることで、発光効率や駆動寿命に優れた特性を有する青色の蛍光発光素子を作製することができる。
しかしながら、近年、表示装置の高性能化の要求に伴い、低い消費電力で高い色再現性を有する表示装置が求められている。そのため、さらに色純度が高く、効率が高い発光を呈する発光素子が求められている。中でも、高い効率と長い寿命とを有し、深い青色を呈する発光素子が求められている。なお、これまでに多くの発光素子用の材料が提案されているが、発光効率が高く、寿命が長く、深い青色を呈する発光素子を実現する材料を開発することは難航している。
そこで、本発明の一態様では、新規な化合物を提供することを課題の一とする。または、本発明の一態様では、発光効率が高い発光素子を実現可能な新規な化合物を提供することを課題の一とする。または、本発明の一態様では、消費電力が低減された発光素子を実現可能な新規な化合物を提供することを課題の一とする。または、本発明の一態様では、寿命の優れた発光素子を実現可能な新規な化合物を提供することを課題の一とする。または、本発明の一態様では、新規な発光素子を実現可能な新規な化合物を提供することを課題の一とする。または、本発明の一態様では、新規な化合物を有する発光素子を提供することを課題の一とする。または、本発明の一態様では、発光効率が高い発光素子を提供することを課題の一とする。または、本発明の一態様では、青色を呈する発光素子において、発光効率が高い発光素子を提供することを課題の一とする。または、本発明の一態様では、寿命の優れた発光素子を提供することを課題の一とする。または、本発明の一態様では、新規な発光装置を提供することを課題の一とする。または、本発明の一態様では、新規な表示装置を提供することを課題の一とする。または、本発明の一態様では、新規な電子機器を提供することを課題の一とする。または、本発明の一態様では、新規な照明装置を提供することを課題の一とする。
なお、上記の課題の記載は、他の課題の存在を妨げない。なお、本発明の一態様は、必ずしも、これらの課題の全てを解決する必要はない。上記以外の課題は、明細書等の記載から自ずと明らかであり、明細書等の記載から上記以外の課題を抽出することが可能である。
本発明者らは、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格と、アントラセン骨格とを有する新規なジベンゾカルバゾール化合物を合成し、当該ジベンゾカルバゾール化合物を用いることで、優れた特性を有する発光素子を提供できることを見出した。
すなわち、本発明の一態様は、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格と、アリール基と、が結合しており、アリール基が、少なくともアントラセン骨格を含む炭素数14乃至30のアリール基であるジベンゾカルバゾール化合物である。
また、本発明の他の一態様は、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格の7位またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格の11位に、アリール基が結合しており、アリール基が、少なくともアントラセン骨格を有する炭素数14乃至30のアリール基であるジベンゾカルバゾール化合物である。
また、本発明の他の一態様は、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格の7位またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格の11位と、アントラセン骨格とが、フェニレン基を介して結合しているジベンゾカルバゾール化合物である。
また、本発明の他の一態様は、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格の7位またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格の11位と、アントラセン骨格の9位とが、フェニレン基を介して結合しているジベンゾカルバゾール化合物である。
また、本発明の他の一態様は、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格の7位またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格の11位と、炭素数20乃至30の置換または無置換のアントリルフェニル基とが、結合しているジベンゾカルバゾール化合物である。
また、本発明の他の一態様は、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格の7位またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格の11位と、炭素数20乃至30の置換または無置換の(9−アントリル)フェニル基とが、結合しているジベンゾカルバゾール化合物である。
また、本発明の他の一態様は、一般式(G1)で表されるジベンゾカルバゾール化合物である。
一般式(G1)において、R11乃至R22は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、Arは、少なくともアントラセン骨格を含む炭素数14乃至30の置換または無置換のアリール基を表す。
また、本発明の他の一態様は、一般式(G2)で表されるジベンゾカルバゾール化合物である。
一般式(G2)において、R11乃至R22は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、Xは、炭素数6乃至13の置換または無置換のアリーレン基を表し、Yは、置換または無置換のアントリル基を表す。
上記構成において、XおよびYを構成する炭素数の合計が20乃至30であると好ましい。
また、本発明の他の一態様は、一般式(G3)で表されるジベンゾカルバゾール化合物である。
一般式(G3)において、R乃至Rは、それぞれ独立に、水素、または炭素数1乃至4のアルキル基を表し、Rは、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、R11乃至R22は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、Xは、炭素数6乃至13の置換または無置換のアリーレン基を表す。
上記構成において、R乃至RおよびXを構成する炭素数の合計が6乃至16であると好ましい。
また、上記各構成において、Xは、置換または無置換のフェニレン基を表すと好ましい。
また、本発明の他の一態様は、一般式(G4)で表されるジベンゾカルバゾール化合物である。
一般式(G4)において、Rは、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、R11乃至R22は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、Xは、置換または無置換のフェニレン基を表す。
また、本発明の他の一態様は、一般式(G5)で表されるジベンゾカルバゾール化合物である。
一般式(G5)において、Rは、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、Xは置換または無置換のフェニレン基を表す。
上記各構成において、RおよびXを構成する炭素数の合計が6乃至16であると好ましい。
また、本発明の他の一態様は、構造式(100)で表されるジベンゾカルバゾール化合物である。
また、本発明の他の一態様は、一般式(G6)で表されるジベンゾカルバゾール化合物である。
一般式(G6)において、R31乃至R42は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、Arは、少なくともアントラセン骨格を含む炭素数14乃至30の置換または無置換のアリール基を表す。
また、本発明の他の一態様は、一般式(G7)で表されるジベンゾカルバゾール化合物である。
一般式(G7)において、R31乃至R42は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、Xは、炭素数6乃至13の置換または無置換のアリーレン基を表し、Yは、置換または無置換のアントリル基を表す。
上記構成において、XおよびYを構成する炭素数の合計が20乃至30であると好ましい。
また、本発明の他の一態様は、一般式(G8)で表されるジベンゾカルバゾール化合物である。
一般式(G8)において、R乃至Rは、それぞれ独立に、水素、または炭素数1乃至4のアルキル基を表し、Rは、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、R31乃至R42は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、Xは、炭素数6乃至13の置換または無置換のアリーレン基を表す。
上記構成において、R乃至RおよびXを構成する炭素数の合計が6乃至16であると好ましい。
また、上記各構成において、Xは、置換または無置換のフェニレン基を表すと好ましい。
また、本発明の他の一態様は、一般式(G9)で表されるジベンゾカルバゾール化合物である。
一般式(G9)において、Rは、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、R31乃至R42は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、Xは、置換または無置換のフェニレン基を表す。
また、本発明の他の一態様は、一般式(G10)で表されるジベンゾカルバゾール化合物である。
一般式(G10)において、Rは、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、Xは置換または無置換のフェニレン基を表す。
上記各構成において、RおよびXを構成する炭素数の合計が6乃至16であると好ましい。
また、本発明の他の一態様は、構造式(136)で表されるジベンゾカルバゾール化合物である。
また、本発明の他の一態様は、上記各構成のジベンゾカルバゾール化合物を有する発光素子である。
また、本発明の他の一態様は、発光層と、電子輸送層と、を有し、発光層と、電子輸送層と、が上記各構成のジベンゾカルバゾール化合物を有する発光素子である。
また、本発明の他の一態様は、ホスト材料と、ゲスト材料と、を有し、ホスト材料が、上記各構成のジベンゾカルバゾール化合物である発光素子である。
上記構成において、ゲスト材料が、蛍光を呈する機能を有すると好ましい。また、ゲスト材料が呈する蛍光が、青色であると好ましい。また、ゲスト材料が、CIE1931色度座標における色度yが0.01以上0.15以下の発光を呈すると好ましい。
また、上記各構成において、ホスト材料が1に対するゲスト材料の重量比は、0より大きく0.03未満であると好ましい。
また、本発明の他の一態様は、上記各構成の発光素子と、トランジスタとを有する発光装置である。また、本発明の他の一態様は、上記各構成の発光素子と、駆動回路とを有する表示装置である。また、本発明の他の一態様は、上記各構成の発光素子と、センサ、操作ボタン、スピーカ、及びマイクの少なくとも一とを有する電子機器である。また、本発明の他の一態様は、上記各構成の発光素子と、筐体またはタッチセンサの少なくとも一とを有する照明装置である。また、本発明の一態様は、発光素子を有する発光装置だけでなく、発光装置を有する電子機器も範疇に含める。従って、本明細書中における発光装置とは、画像表示デバイス、もしくは光源(照明装置含む)を指す。また、発光装置にコネクター、例えばFPC(Flexible Printed Circuit)、TCP(Tape Carrier Package)が取り付けられたモジュール、TCPの先にプリント配線板が設けられたモジュール、または発光素子にCOG(Chip On Glass)方式によりIC(集積回路)が直接実装されたモジュールも本発明の一態様である。
本発明の一態様により、新規な化合物を提供することができる。または、本発明の一態様により、発光効率が高い発光素子を実現可能な新規な化合物を提供することができる。または、本発明の一態様により、消費電力が低減された発光素子を実現可能な新規な化合物を提供することができる。または、本発明の一態様により、寿命の優れた発光素子を実現可能な新規な化合物を提供することができる。または、本発明の一態様により、新規な発光素子を実現可能な新規な化合物を提供することができる。または、本発明の一態様により、新規な化合物を有する発光素子を提供することができる。または、本発明の一態様により、発光効率が高い発光素子を提供することができる。または、本発明の一態様により、青色を呈する発光素子において、発光効率が高い発光素子を提供することができる。または、本発明の一態様により、寿命の優れた発光素子を提供することができる。または、本発明の一態様により、新規な発光装置を提供することができる。または、本発明の一態様により、新規な表示装置を提供することができる。または、本発明の一態様により、新規な電子機器を提供することができる。または、本発明の一態様により、新規な照明装置を提供することができる。
なお、これらの効果の記載は、他の効果の存在を妨げない。なお、本発明の一態様は、必ずしも、これらの効果の全てを有する必要はない。なお、これら以外の効果は、明細書、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかであり、明細書、図面、請求項などの記載から、これら以外の効果を抽出することが可能である。
本発明の一態様の化合物に係わる置換基の構造を説明する図。 本発明の一態様の発光素子の断面模式図、及びエネルギー準位の相関を説明する模式図。 本発明の一態様の発光素子の断面模式図、及びエネルギー準位の相関を説明する図。 本発明の一態様の発光素子の断面模式図、及びエネルギー準位の相関を説明する図。 本発明の一態様の発光素子の断面模式図。 本発明の一態様の発光素子の断面模式図。 本発明の一態様の発光素子の作製方法を説明する断面模式図。 本発明の一態様の発光素子の作製方法を説明する断面模式図。 本発明の一態様の半導体素子の断面模式図。 本発明の一態様の表示装置を説明する上面図及び断面模式図。 本発明の一態様の表示装置を説明する断面模式図。 本発明の一態様の表示装置を説明する断面模式図。 本発明の一態様の表示装置を説明する断面模式図。 本発明の一態様の表示装置を説明する断面模式図。 本発明の一態様の表示装置を説明する断面模式図。 本発明の一態様の表示装置を説明する断面模式図。 本発明の一態様の表示装置を説明する断面模式図。 本発明の一態様の表示装置を説明する断面模式図。 本発明の一態様の表示装置を説明するブロック図及び回路図。 本発明の一態様の表示装置の画素回路を説明する回路図。 本発明の一態様の表示装置の画素回路を説明する回路図。 本発明の一態様のタッチパネルの一例を示す斜視図。 本発明の一態様の表示装置、及びタッチセンサの一例を示す断面図。 本発明の一態様のタッチパネルの一例を示す断面図。 本発明の一態様に係るタッチセンサのブロック図及びタイミングチャート図。 本発明の一態様に係るタッチセンサの回路図。 本発明の一態様の表示モジュールを説明する斜視図。 本発明の一態様の電子機器について説明する図。 本発明の一態様の電子機器について説明する図。 本発明の一態様の電子機器について説明する図。 本発明の一態様の表示装置を説明する斜視図。 本発明の一態様の発光装置を説明する斜視図及び断面図。 本発明の一態様の発光装置を説明する断面図。 本発明の一態様の照明装置及び電子機器を説明する図。 本発明の一態様の照明装置について説明する図。 実施例に係る、化合物のNMRチャートを説明する図。 実施例に係る、化合物のMSスペクトルを説明する図。 実施例に係る、化合物の吸収スペクトル、及び発光スペクトルを説明する図。 実施例に係る、化合物の吸収スペクトル、及び発光スペクトルを説明する図。 実施例に係る、化合物のNMRチャートを説明する図。 実施例に係る、化合物のMSスペクトルを説明する図。 実施例に係る、化合物の吸収スペクトル、及び発光スペクトルを説明する図。 実施例に係る、化合物の吸収スペクトル、及び発光スペクトルを説明する図。 実施例に係る、発光素子の電流効率−輝度特性を説明する図。 実施例に係る、発光素子の輝度−電圧特性を説明する図。 実施例に係る、発光素子の外部量子効率−輝度特性を説明する図。 実施例に係る、発光素子の電界発光スペクトルを説明する図。 実施例に係る、発光素子の駆動寿命試験結果を説明する図。 実施例に係る、発光素子の電流効率−輝度特性を説明する図。 実施例に係る、発光素子の輝度−電圧特性を説明する図。 実施例に係る、発光素子の外部量子効率−輝度特性を説明する図。 実施例に係る、発光素子の電界発光スペクトルを説明する図。 実施例に係る、発光素子の駆動寿命試験結果を説明する図。
以下、本発明の実施の態様について図面を用いて詳細に説明する。但し、本発明は以下の説明に限定されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることが可能である。従って、本発明は以下に示す実施の形態および実施例の記載内容に限定して解釈されない。
なお、図面等において示す各構成の、位置、大きさ、範囲などは、理解の簡単のため、実際の位置、大きさ、範囲などを表していない場合がある。このため、開示する発明は、必ずしも、図面等に開示された位置、大きさ、範囲などに限定されない。
また、本明細書等において、第1、第2等として付される序数詞は便宜上用いており、工程順又は積層順を示さない場合がある。そのため、例えば、「第1の」を「第2の」又は「第3の」などと適宜置き換えて説明することができる。また、本明細書等に記載されている序数詞と、本発明の一態様を特定するために用いられる序数詞は一致しない場合がある。
また、本明細書等において、図面を用いて発明の構成を説明するにあたり、同じものを指す符号は異なる図面間でも共通して用いる場合がある。
また、本明細書等において、「膜」という用語と、「層」という用語とは、互いに入れ替えることが可能である。例えば、「導電層」という用語を、「導電膜」という用語に変更することが可能な場合がある。または、例えば、「絶縁膜」という用語を、「絶縁層」という用語に変更することが可能な場合がある。
また、本明細書等において、一重項励起状態(S)は、励起エネルギーを有する一重項状態のことである。一重項励起状態のうち、最も低いエネルギーを有する励起状態を、最低励起一重項状態という。また、一重項励起エネルギー準位は、一重項励起状態のエネルギー準位のことである。一重項励起エネルギー準位のうち、最も低い励起エネルギー準位を、最低励起一重項エネルギー(S1)準位という。なお、本明細書等において、単に一重項励起状態および一重項励起エネルギー準位と表記した場合であっても、最低励起一重項状態およびS1準位を表す場合がある。
また、本明細書等において、三重項励起状態(T)は、励起エネルギーを有する三重項状態のことである。三重項励起状態のうち、最も低いエネルギーを有する励起状態を、最低励起三重項状態という。また、三重項励起エネルギー準位は、三重項励起状態のエネルギー準位のことである。三重項励起エネルギー準位のうち、最も低い励起エネルギー準位を、最低励起三重項エネルギー(T1)準位という。なお、本明細書等において、単に三重項励起状態および三重項励起エネルギー準位と表記した場合であっても、最低励起三重項状態およびT1準位を表す場合がある。
また、本明細書等において、蛍光材料とは、一重項励起状態から基底状態へ緩和する際に可視光領域に発光を与える材料である。一方、燐光材料とは、三重項励起状態から基底状態へ緩和する際に、室温において可視光領域に発光を与える材料である。換言すると燐光材料とは、三重項励起エネルギーを可視光へ変換可能な材料の一つである。
なお、本明細書等において、室温とは、0℃以上40℃以下のいずれかの温度をいう。
また、本明細書等において、青色の波長領域とは、400nm以上550nm以下の波長領域であり、青色の発光とは、該領域に少なくとも一つの発光スペクトルピークを有する発光である。
(実施の形態1)
本実施の形態では、本発明の一態様の発光素子に好適に用いることができる化合物について、以下説明する。
本発明の一態様の化合物は、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格と、少なくともアントラセン骨格を有するアリール基が結合しているジベンゾカルバゾール化合物である。ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格、ジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格、及びアントラセン骨格を有するアリール基はキャリア輸送性に優れることから、当該ジベンゾカルバゾール化合物を発光素子に用いることで、駆動電圧の小さい発光素子を作製することができる。また、当該ジベンゾカルバゾール化合物は、バンドギャップが広いことから、当該ジベンゾカルバゾール化合物を発光素子に用いることで、発光効率の良好な発光素子を作製することができる。また、特に発光効率の良好な青色を呈する発光素子を作製することができる。また、当該ジベンゾカルバゾール化合物は、酸化および還元の繰返しに良好な耐性を有することから、当該ジベンゾカルバゾール化合物を発光素子に用いることで、寿命、特に駆動寿命の良好な発光素子を作製することができる。以上のように、本発明の一態様の化合物を発光素子に用いることで、優れた発光特性を有する高性能な発光素子を作製することができる。
当該アリール基の炭素数が14乃至30である場合、当該ジベンゾカルバゾール化合物は、比較的低分子量の低分子化合物となるため、真空蒸着に適した(比較的低温で真空蒸着できる)構成となる。また、一般には分子量が低いと成膜後の耐熱性が乏しくなることが多いが、当該ジベンゾカルバゾール化合物は、ジベンゾ[a,g]カルバゾール、ジベンゾ[a,i]カルバゾール、及びアントラセン骨格の剛直な骨格の影響により、分子量が低くても十分な耐熱性を確保できる利点がある。なお、アントラセン骨格と、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格との間には、フェニレン基やナフチレン基などのアリーレン基を介して結合することが好ましい。
また、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格およびジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格は、当該骨格が有する窒素において置換基と結合すると、バンドギャップが広くなるため、特に青色などのエネルギーの高い発光を呈する発光素子に好適に用いることができる。したがって、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格の7位またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格の11位において、アリーレン基を介してアントラセン骨格に結合したジベンゾカルバゾール化合物は、青色の発光素子に好適に用いることができる。なお、当該アリーレン基は、フェニレン基であると安定であり分子量を低くできるため好ましい。
また、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格が、アリーレン基を介してアントラセン骨格の9位に結合することで、当該ジベンゾカルバゾール化合物のキャリア輸送性は優れた輸送性となる。したがって、当該ジベンゾカルバゾール化合物を用いた発光素子は、低い電圧で駆動することができる。なお、当該アリーレン基は、フェニレン基であると安定であり分子量を低くできるため好ましい。
また、上記の理由により、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格の7位またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格の11位において、アリーレン基を介してアントラセン骨格の9位に結合したジベンゾカルバゾール化合物は、バンドギャップが広く、キャリア輸送性に優れるため、当該ジベンゾカルバゾール化合物を発光素子に用いることで、駆動電圧が小さく、発光効率の良好な青色の発光素子を作製することができる。なお、当該アリーレン基は、フェニレン基であると安定であり分子量を低くできるため好ましい。
また、上記ジベンゾカルバゾール化合物は、換言すると、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格に、アリールアントラセン誘導体が結合したジベンゾカルバゾール化合物ということもできる。当該ジベンゾカルバゾール化合物は合成する際、純度良く合成することが容易であることから、不純物による素子劣化を抑制することが可能である。なお、素子特性の安定性及び駆動寿命の観点から、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格に結合するアリールアントラセン誘導体の炭素数は20乃至30であることが好ましい。この場合、当該ジベンゾカルバゾール化合物は、上述したように比較的低温で真空蒸着できるため、蒸着時の熱分解等の劣化が起こりにくい。また、当該化合物は、駆動寿命だけでなく駆動電圧にも優れる。これは、当該ジベンゾカルバゾール化合物が、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格の7位またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格の11位に、アリーレン基を介してアントラセン骨格が結合した分子構造を有するため、電気化学的な安定性や高いキャリア輸送性が得られていることにも起因する。なお、当該アリールアントラセン誘導体は、アントリルフェニル基であると安定であり分子量を低くできるため好ましい。
また、上述の理由により、アリーレン基を介してアントラセン骨格の9位と、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格の7位またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格の11位とが、結合したジベンゾカルバゾール化合物がより好ましい。これは、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格の7位またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格の11位に、(9−アントリル)アリール基が結合したジベンゾカルバゾール化合物がより好ましいということができる。なお、化合物の安定性及び発光素子の安定性の観点から、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格の7位またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格の11位に結合する(9−アントリル)アリール基の炭素数は20乃至30であることが好ましい。すなわち、当該ジベンゾカルバゾール化合物は、上述した蒸着の容易性、電気化学的安定性、キャリア輸送性に加え、(9−アントリル)アリール基の骨格の影響によりバンドギャップが広いという特性をも有する。したがって、発光素子における発光層のホスト材料として当該ジベンゾカルバゾール化合物を用い、ゲスト材料として発光材料を発光層に添加する構成において有利に働く。その中でも特に、青色発光素子のホスト材料として用いることが好適である。なお、当該(9−アントリル)アリール基のアリール基がフェニル基であると安定であり分子量を低くできるため好ましい。すなわち、当該(9−アントリル)アリール基としては、(9−アントリル)フェニル基であると好ましい。
<量子化学計算>
ここで、本発明の一態様に係るジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格を有する化合物について、量子化学計算を用いて、最も安定な分子構造を導出した。比較として、ジベンゾ[c,g]カルバゾール骨格を有する化合物についても量子化学計算を行った。計算を行った化合物は、7−フェニル−7H−ジベンゾ[a,g]カルバゾール(略称:agDBCz)、11−フェニル−11H−ジベンゾ[a,i]カルバゾール(略称:aiDBCz)、7−フェニル−7H−ジベンゾ[c,g]カルバゾール(略称:cgDBCz)である。当該化合物の分子構造を下記に示す。
各化合物の一重項基底状態における最安定構造を、密度汎関数法(DFT)を用いて計算した。量子化学計算プログラムとしては、Gaussian09を使用した。計算は、ハイパフォーマンスコンピュータ(SGI社製、ICE X)を用いて行った。基底関数としては、6−311G(d,p)を用い、汎関数はB3LYPを用いた。なお、DFTの全エネルギーは、ポテンシャルエネルギー、電子間静電エネルギー、電子の運動エネルギーと複雑な電子間の相互作用を全て含む交換相関エネルギーの和で表される。DFTでは、電子密度で表現された一電子ポテンシャルの汎関数(関数の関数の意)で交換相関相互作用を近似しているため、計算は高精度である。
計算結果を図1に示す。図1(A)(B)にagDBCzの結果を、図1(C)(D)にaiDBCzの結果を、図1(E)(F)にcgDBCzの結果を、それぞれ示す。なお、図1(A)〜(F)においては、各化合物が有するピロール環がxy平面上に配置されるよう描写しており、図1(A)(C)(E)に、xy平面からみた各化合物の最安定構造を示し、図1(B)(D)(F)に、yz平面からみた各化合物の最安定構造を示す。
図1(B)(D)に示すように、agDBCzおよびaiDBCzは、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格およびジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格が、xy平面上に配設されている。一方、図1(F)に示すように、cgDBCzは、ジベンゾ[c,g]カルバゾール骨格における1位の水素と12位の水素とが立体障害を有するため、ジベンゾ[c,g]カルバゾール骨格がxy平面上からz軸方向に歪む結果となっている。
すなわち、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格およびジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格は、ジベンゾ[c,g]カルバゾール骨格より分子構造の歪みが小さく、安定な骨格であると言える。したがって、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格を用いることで、安定なジベンゾカルバゾール化合物を作製することができる。また、該ジベンゾカルバゾール化合物を用いることで、駆動寿命に優れた発光素子を実現することができる。
また、上記各化合物の最も低い三重項励起エネルギー準位(T1準位)を算出した。各化合物のT1準位を算出するため、各化合物の一重項基底状態及び三重項励起状態における最安定構造を、密度汎関数法(DFT)を用いて計算した。基底関数としては、6−311G(d,p)を用い、汎関数はB3LYPを用いた。さらに、振動準位を計算し、一重項基底状態と三重項励起状態における最低振動準位間の電子遷移(0−0遷移)に係わるエネルギーを計算することで、T1準位を算出した。
計算の結果、agDBCz、aiDBCz、及びcgDBCzの三重項励起エネルギー準位はそれぞれ、2.44eV、2.60eV、及び2.28eVと算出された。すなわち、agDBCz及びaiDBCzは、cgDBCzより高い三重項励起エネルギーを有している。したがって、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格およびジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格は、アントラセン骨格より高い三重項励起エネルギーを有するベンゾ[a]アントラセン骨格等と組み合わせることが好適である。
<化合物の例1>
上記で示した本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物は、下記一般式(G1)で表されるジベンゾカルバゾール化合物である。
上記一般式(G1)において、Arは、少なくともアントラセン骨格を含む炭素数14乃至30の置換または無置換のアリール基を表す。当該アリール基が置換基を有する場合、当該置換基としては、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至12の置換もしくは無置換のアリール基も置換基として選択することができる。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至12のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などを具体例として挙げることができる。
また、R11乃至R22は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至13のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フルオレニル基などを具体例として挙げることができる。さらに、上述したアリール基は置換基を有していてもよく、前記置換基は互いに結合して環を形成してもよい。当該置換基としては、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または炭素数6乃至12のアリール基も置換基として選択することができる。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至12のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などを具体例として挙げることができる。
<化合物の例2>
また、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物において、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格の7位において、少なくともアントラセン骨格を含むアリール基と結合した構成を有するジベンゾカルバゾール化合物は、バンドギャップが広くなるため、特に青色などエネルギーの高い発光を呈する発光素子に好適に用いることができるため、好ましい構成である。また、当該ジベンゾカルバゾール化合物はキャリア輸送性に優れるため、これを用いた発光素子は低い電圧で駆動できるため、好ましい構成である。上記ジベンゾカルバゾール化合物は、下記一般式(G2)で表されるジベンゾカルバゾール化合物である。
上記一般式(G2)において、Xは、炭素数6乃至13の置換または無置換のアリーレン基を表す。炭素数6乃至13のアリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、フルオレニレン基などを具体例として挙げることができる。また、当該アリーレン基が置換基を有する場合、当該置換基としては、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10の置換もしくは無置換のアリール基も置換基として選択することができる。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至10のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などを具体例として挙げることができる。
また、Yは、置換または無置換のアントリル基を表す。当該アントリル基が置換基を有する場合、当該置換基としては、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10の置換もしくは無置換のアリール基も置換基として選択することができる。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至10のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などを具体例として挙げることができる。
また、R11乃至R22は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至13のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フルオレニル基などを具体例として挙げることができる。さらに、上述したアリール基は置換基を有していてもよく、前記置換基は互いに結合して環を形成してもよい。当該置換基としては、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または炭素数6乃至12のアリール基も置換基として選択することができる。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至12のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などを具体例として挙げることができる。
なお、一般式(G2)において、XおよびYを構成する炭素数の合計が20乃至30である場合、当該ジベンゾカルバゾール化合物は、比較的低分子量の低分子化合物となるため、真空蒸着に適した(比較的低温で真空蒸着できる)構成となり好ましい。
また、一般式(G2)において、Xが置換または無置換のフェニレン基である場合、当該ジベンゾカルバゾール化合物は、安定であり分子量が低くなるため好ましい。
<化合物の例3>
また、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物において、ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格が7位においてアリーレン基を介してアントラセン骨格の9位と結合した構成を有するジベンゾカルバゾール化合物は、キャリア輸送性に優れるため、これを用いた発光素子は低い電圧で駆動できるため、好ましい構成である。上記ジベンゾカルバゾール化合物は、下記一般式(G3)で表されるジベンゾカルバゾール化合物である。
上記一般式(G3)において、Xは、炭素数6乃至13の置換または無置換のアリーレン基を表す。炭素数6乃至13のアリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、フルオレニレン基などを具体例として挙げることができる。なお、前記アリーレン基が置換基を有する場合、当該置換基としては、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10のアリール基も置換基として選択することができる。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至10のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などを具体例として挙げることができる。
また、R乃至Rは、それぞれ独立に、水素、または炭素数1乃至4のアルキル基を表す。炭素数1乃至4のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基などを挙げることができる。
また、Rは、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至10のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などを具体例として挙げることができる。さらに、上述したアリール基は置換基を有していてもよい。当該置換基としては、炭素数1乃至4のアルキル基を選択することができる。炭素数1乃至4のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基などを挙げることができる。
また、R11乃至R22は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至13のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フルオレニル基などを具体例として挙げることができる。さらに、上述したアリール基は置換基を有していてもよく、前記置換基は互いに結合して環を形成してもよい。当該置換基としては、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または炭素数6乃至12のアリール基も置換基として選択することができる。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至12のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などを具体例として挙げることができる。
なお、一般式(G3)において、R乃至RおよびXを構成する炭素数の合計が6乃至16である場合、当該ジベンゾカルバゾール化合物は、比較的低分子量の低分子化合物となるため、真空蒸着に適した(比較的低温で真空蒸着できる)構成となり好ましい。
また、一般式(G3)において、Xが置換または無置換のフェニレン基である場合、当該ジベンゾカルバゾール化合物は、安定であり分子量が低くなるため好ましい。
<化合物の例4>
また、上記一般式(G3)において、R乃至Rが、すべて水素である場合、合成の容易さや原料の価格の面でも有利であり、さらに、比較的低分子量の化合物となるため、真空蒸着に適した構成となり、特に好ましい。当該ジベンゾカルバゾール化合物は、下記一般式(G4)で表されるジベンゾカルバゾール化合物である。
上記一般式(G4)において、Xは、炭素数6乃至13の置換または無置換のアリーレン基を表す。炭素数6乃至13のアリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、フルオレニレン基などを具体例として挙げることができる。なお、前記アリーレン基が置換基を有する場合、当該置換基としては、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10のアリール基も置換基として選択することができる。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至10のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などを具体例として挙げることができる。
また、Rは、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至10のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などを具体例として挙げることができる。さらに、上述したアリール基は置換基を有していてもよい。当該置換基としては、炭素数1乃至4のアルキル基を選択することができる。炭素数1乃至4のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基などを挙げることができる。
また、R11乃至R22は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至13のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フルオレニル基などを具体例として挙げることができる。さらに、上述したアリール基は置換基を有していてもよく、前記置換基は互いに結合して環を形成してもよい。当該置換基としては、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または炭素数6乃至12のアリール基も置換基として選択することができる。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至12のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などを具体例として挙げることができる。
なお、一般式(G4)において、Xが置換または無置換のフェニレン基である場合、当該ジベンゾカルバゾール化合物は、安定であり分子量が低くなるため好ましい。
また、一般式(G4)において、RおよびXを構成する炭素数の合計が6乃至16である場合、当該ジベンゾカルバゾール化合物は、比較的低分子量の低分子化合物となるため、真空蒸着に適した(比較的低温で真空蒸着できる)構成となり好ましい。
<化合物の例5>
また、上記一般式(G4)において、R11乃至R22が、すべて水素である場合、合成の容易さや原料の価格の面でも有利であり、さらに、比較的低分子量の化合物となるため、真空蒸着に適した構成となり、特に好ましい。当該ジベンゾカルバゾール化合物は、下記一般式(G5)で表されるジベンゾカルバゾール化合物である。
上記一般式(G5)において、Xは、炭素数6乃至13の置換または無置換のアリーレン基を表す。炭素数6乃至13のアリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、フルオレニレン基などを具体例として挙げることができる。なお、前記アリーレン基が置換基を有する場合、当該置換基としては、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10のアリール基も置換基として選択することができる。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至10のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などを具体例として挙げることができる。
また、Rは、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至10のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などを具体例として挙げることができる。さらに、上述したアリール基は置換基を有していてもよい。当該置換基としては、炭素数1乃至4のアルキル基を選択することができる。炭素数1乃至4のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基などを挙げることができる。
なお、一般式(G5)において、Xが置換または無置換のフェニレン基である場合、当該ジベンゾカルバゾール化合物は、安定であり分子量が低くなるため好ましい。
また、一般式(G5)において、RおよびXを構成する炭素数の合計が6乃至16である場合、当該ジベンゾカルバゾール化合物は、比較的低分子量の低分子化合物となるため、真空蒸着に適した(比較的低温で真空蒸着できる)構成となり好ましい。
また、上記一般式(G5)において、R及びXがフェニレン基である場合、安定で分子量が低くなるため好ましい。また、合成の容易さや原料の価格の面でも有利である。
<化合物の例6>
また、上記で示した本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物は、下記一般式(G6)で表されるジベンゾカルバゾール化合物である。
上記一般式(G6)において、Arは、少なくともアントラセン骨格を含む炭素数14乃至30の置換または無置換のアリール基を表す。当該アリール基が置換基を有する場合、当該置換基としては、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至12の置換もしくは無置換のアリール基も置換基として選択することができる。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至12のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などを具体例として挙げることができる。
また、R31乃至R42は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至13のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フルオレニル基などを具体例として挙げることができる。さらに、上述したアリール基は置換基を有していてもよく、前記置換基は互いに結合して環を形成してもよい。当該置換基としては、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または炭素数6乃至12のアリール基も置換基として選択することができる。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至12のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などを具体例として挙げることができる。
<化合物の例7>
また、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物において、ジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格の11位において、少なくともアントラセン骨格を含むアリール基と結合した構成を有するジベンゾカルバゾール化合物は、バンドギャップが広くなるため、特に青色などエネルギーの高い発光を呈する発光素子に好適に用いることができるため、好ましい構成である。また、当該ジベンゾカルバゾール化合物はキャリア輸送性に優れるため、これを用いた発光素子は低い電圧で駆動できるため、好ましい構成である。上記ジベンゾカルバゾール化合物は、下記一般式(G7)で表されるジベンゾカルバゾール化合物である。
上記一般式(G7)において、Xは、炭素数6乃至13の置換または無置換のアリーレン基を表す。炭素数6乃至13のアリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、フルオレニレン基などを具体例として挙げることができる。また、当該アリーレン基が置換基を有する場合、当該置換基としては、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10の置換もしくは無置換のアリール基も置換基として選択することができる。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至10のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などを具体例として挙げることができる。
また、Yは、置換または無置換のアントリル基を表す。当該アントリル基が置換基を有する場合、当該置換基としては、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10の置換もしくは無置換のアリール基も置換基として選択することができる。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至10のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などを具体例として挙げることができる。
また、R31乃至R42は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至13のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フルオレニル基などを具体例として挙げることができる。さらに、上述したアリール基は置換基を有していてもよく、前記置換基は互いに結合して環を形成してもよい。当該置換基としては、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または炭素数6乃至12のアリール基も置換基として選択することができる。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至12のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などを具体例として挙げることができる。
なお、一般式(G7)において、XおよびYを構成する炭素数の合計が20乃至30である場合、当該ジベンゾカルバゾール化合物は、比較的低分子量の低分子化合物となるため、真空蒸着に適した(比較的低温で真空蒸着できる)構成となり好ましい。
また、一般式(G7)において、Xが置換または無置換のフェニレン基である場合、当該ジベンゾカルバゾール化合物は、安定であり分子量が低くなるため好ましい。
<化合物の例8>
また、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物において、ジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格が11位においてアリーレン基を介してアントラセン骨格の9位と結合した構成を有するジベンゾカルバゾール化合物は、キャリア輸送性に優れるため、これを用いた発光素子は低い電圧で駆動できるため、好ましい構成である。上記ジベンゾカルバゾール化合物は、下記一般式(G8)で表されるジベンゾカルバゾール化合物である。
上記一般式(G8)において、Xは、炭素数6乃至13の置換または無置換のアリーレン基を表す。炭素数6乃至13のアリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、フルオレニレン基などを具体例として挙げることができる。なお、前記アリーレン基が置換基を有する場合、当該置換基としては、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10のアリール基も置換基として選択することができる。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至10のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などを具体例として挙げることができる。
また、R乃至Rは、それぞれ独立に、水素、または炭素数1乃至4のアルキル基を表す。炭素数1乃至4のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基などを挙げることができる。
また、Rは、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至10のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などを具体例として挙げることができる。さらに、上述したアリール基は置換基を有していてもよい。当該置換基としては、炭素数1乃至4のアルキル基を選択することができる。炭素数1乃至4のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基などを挙げることができる。
また、R31乃至R42は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至13のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フルオレニル基などを具体例として挙げることができる。さらに、上述したアリール基は置換基を有していてもよく、前記置換基は互いに結合して環を形成してもよい。当該置換基としては、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または炭素数6乃至12のアリール基も置換基として選択することができる。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至12のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などを具体例として挙げることができる。
なお、一般式(G8)において、R乃至RおよびXを構成する炭素数の合計が6乃至16である場合、当該ジベンゾカルバゾール化合物は、比較的低分子量の低分子化合物となるため、真空蒸着に適した(比較的低温で真空蒸着できる)構成となり好ましい。
また、一般式(G8)において、Xが置換または無置換のフェニレン基である場合、当該ジベンゾカルバゾール化合物は、安定であり分子量が低くなるため好ましい。
<化合物の例9>
また、上記一般式(G8)において、R乃至Rが、すべて水素である場合、合成の容易さや原料の価格の面でも有利であり、さらに、比較的低分子量の化合物となるため、真空蒸着に適した構成となり、特に好ましい。当該ジベンゾカルバゾール化合物は、下記一般式(G9)で表されるジベンゾカルバゾール化合物である。
上記一般式(G9)において、Xは、炭素数6乃至13の置換または無置換のアリーレン基を表す。炭素数6乃至13のアリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、フルオレニレン基などを具体例として挙げることができる。なお、前記アリーレン基が置換基を有する場合、当該置換基としては、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10のアリール基も置換基として選択することができる。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至10のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などを具体例として挙げることができる。
また、Rは、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至10のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などを具体例として挙げることができる。さらに、上述したアリール基は置換基を有していてもよい。当該置換基としては、炭素数1乃至4のアルキル基を選択することができる。炭素数1乃至4のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基などを挙げることができる。
また、R31乃至R42は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至13のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、フルオレニル基などを具体例として挙げることができる。さらに、上述したアリール基は置換基を有していてもよく、前記置換基は互いに結合して環を形成してもよい。当該置換基としては、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または炭素数6乃至12のアリール基も置換基として選択することができる。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至12のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などを具体例として挙げることができる。
なお、一般式(G9)において、Xが置換または無置換のフェニレン基である場合、当該ジベンゾカルバゾール化合物は、安定であり分子量が低くなるため好ましい。
また、一般式(G9)において、RおよびXを構成する炭素数の合計が6乃至16である場合、当該ジベンゾカルバゾール化合物は、比較的低分子量の低分子化合物となるため、真空蒸着に適した(比較的低温で真空蒸着できる)構成となり好ましい。
<化合物の例10>
また、上記一般式(G9)において、R31乃至R42が、すべて水素である場合、合成の容易さや原料の価格の面でも有利であり、さらに、比較的低分子量の化合物となるため、真空蒸着に適した構成となり、特に好ましい。当該ジベンゾカルバゾール化合物は、下記一般式(G10)で表されるジベンゾカルバゾール化合物である。
上記一般式(G10)において、Xは、炭素数6乃至13の置換または無置換のアリーレン基を表す。炭素数6乃至13のアリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、フルオレニレン基などを具体例として挙げることができる。なお、前記アリーレン基が置換基を有する場合、当該置換基としては、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10のアリール基も置換基として選択することができる。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至10のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などを具体例として挙げることができる。
また、Rは、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表す。炭素数1乃至6のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数3乃至6のシクロアルキル基、としては具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。また、炭素数6乃至10のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などを具体例として挙げることができる。さらに、上述したアリール基は置換基を有していてもよい。当該置換基としては、炭素数1乃至4のアルキル基を選択することができる。炭素数1乃至4のアルキル基としては具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基などを挙げることができる。
なお、一般式(G10)において、Xが置換または無置換のフェニレン基である場合、当該ジベンゾカルバゾール化合物は、安定であり分子量が低くなるため好ましい。
また、一般式(G10)において、RおよびXを構成する炭素数の合計が6乃至16である場合、当該ジベンゾカルバゾール化合物は、比較的低分子量の低分子化合物となるため、真空蒸着に適した(比較的低温で真空蒸着できる)構成となり好ましい。
また、上記一般式(G10)において、R及びXがフェニレン基である場合、安定で分子量が低くなるため好ましい。また、合成の容易さや原料の価格の面でも有利である。
<置換基の例>
一般式(G1)及び一般式(G6)において、Arとして表される少なくともアントラセン骨格を含む炭素数14乃至30のアリール基としては、例えば、下記構造式(Ant−1)乃至(Ant−53)で表される基を適用することができる。なお、Arとしては、置換基を有していても良く、Arとして用いることのできる基はこれらに限られない。
また、上記一般式(G2)及び一般式(G7)において、Yで表されるアントリル基は、例えば、上記構造式(Ant−1)乃至(Ant−16)及び(Ant−42)乃至(Ant−45)で表される基を適用することができる。なお、Yとしては置換基を有していても良く、Yとして用いることのできる基はこれらに限られない。
また、上記一般式(G2)乃至(G5)及び一般式(G7)乃至(G10)において、Xで表されるアリーレン基は、例えば、下記構造式(Ar−1)乃至(Ar−15)で表される基を適用することができる。なお、Xとしては置換基を有していても良く、Xとして用いることのできる基はこれらに限られない。
また、上記一般式(G1)乃至(G4)のR11乃至R22、一般式(G6)及び(G9)のR31乃至R42、で表される水素、アルキル基またはアリール基は、例えば、下記構造式(R−1)乃至(R−29)で表される基を適用することができる。なお、アルキル基またはアリール基は置換基を有していても良く、アルキル基またはアリール基として用いることのできる基はこれらに限られない。
また、上記一般式(G3)乃至(G5)及び一般式(G8)乃至(G10)のRで表されるアルキル基またはアリール基は、例えば、上記構造式(R−1)乃至(R−19)で表される基を適用することができる。なお、アルキル基またはアリール基は置換基を有していても良く、アルキル基またはアリール基として用いることのできる基はこれらに限られない。
また、上記一般式(G3)及び一般式(G8)のR乃至Rで表される水素またはアルキル基は、例えば、上記構造式(R−1)乃至(R−9)で表される基を適用することができる。なお、アルキル基として用いることのできる基はこれらに限られない。
<化合物の具体例>
上記一般式(G1)乃至(G10)として表されるジベンゾカルバゾール化合物の具体的な構造としては、下記構造式(100)乃至(171)で表される化合物などが挙げられる。なお、一般式(G1)乃至(G10)として表されるジベンゾカルバゾール化合物は下記例示に限られない。
以上のように、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物は、バンドギャップが広いことから、特に青色の発光素子のホスト材料やキャリア輸送材料として好適である。これにより、発光効率の良好な青色発光素子を作製することができる。また、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物は、キャリア輸送性に優れることから、発光素子のホスト材料やキャリア輸送材料として好適である。これにより、駆動電圧の小さい発光素子を作製することができる。また、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物は、酸化および還元の繰返しに良好な耐性を有することから、該ジベンゾカルバゾール化合物を発光素子に用いることで、寿命の良好な発光素子を作製することができる。以上のように、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物は、発光素子に用いるのに好適な材料である。
なお、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物は、蒸着法(真空蒸着法を含む)、インクジェット法、塗布法、グラビア印刷等の方法を用いて成膜することができる。
なお、本実施の形態に示す化合物は、他の実施の形態に示した構成と適宜組み合わせて用いることができる。
(実施の形態2)
本実施の形態では、一般式(G1)及び(G6)で表されるジベンゾカルバゾール化合物の合成方法について説明する。ジベンゾカルバゾール化合物の合成方法としては種々の反応を適用することができる。例えば、以下に示す合成反応を行うことによって、一般式(G1)及び(G6)で表されるジベンゾカルバゾール化合物を合成することができる。なお、本発明の一態様であるジベンゾカルバゾール化合物の合成方法は、以下の合成方法に限定されない。
<一般式(G1)で表されるジベンゾ[a,g]カルバゾール化合物の合成方法の例>
一般式(G1)で表されるジベンゾ[a,g]カルバゾール化合物は、下記合成スキーム(A−1)のように合成することができる。すなわち、アントラセン誘導体のハロゲン化物(a1)と、ジベンゾ[a,g]カルバゾール誘導体(a2)とを、塩基存在下で金属触媒、金属、または金属化合物によりカップリングさせることにより、一般式(G1)のジベンゾ[a,g]カルバゾール化合物を得ることができる。
合成スキーム(A−1)において、R11乃至R22は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、Arは、少なくともアントラセン骨格を含む炭素数14乃至30の置換または無置換のアリール基を表す。
また、合成スキーム(A−1)において、ハートウィック・ブッフバルト反応を行う場合、Zはハロゲン又はトリフラート基を表す。ハロゲンとしては、ヨウ素、臭素、または塩素が好ましい。当該反応では、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)、酢酸パラジウム(II)等のパラジウム錯体または化合物と、それに配位するトリ(tert−ブチル)ホスフィンや、トリ(n−ヘキシル)ホスフィンや、トリシクロヘキシルホスフィン等の配位子を用いるパラジウム触媒を利用する。塩基としては、ナトリウム tert−ブトキシド等の有機塩基や、炭酸カリウム等の無機塩基等が挙げられる。また、溶媒を使用する場合、トルエン、キシレン、ベンゼン、テトラヒドロフラン等を用いることができる。
また、合成スキーム(A−1)において、ウルマン反応を行う場合、Zはハロゲンを表す。ハロゲンとしては、ヨウ素、臭素、または塩素が好ましい。触媒としては、銅または銅化合物を用いる。銅化合物を触媒として用いる場合、合成スキーム(A−1)中における、R23、R24は、それぞれ、ハロゲンやアセチル基等を表し、ハロゲンとしては塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。なお、R23がヨウ素であるヨウ化銅(I)、またはR24がアセチル基である酢酸銅(II)を用いることが好ましい。用いる塩基としては、炭酸カリウム等の無機塩基が挙げられる。また、溶媒は、1,3−ジメチル−3,4,5,6−テトラヒドロ−2(1H)ピリミジノン(DMPU)、トルエン、キシレン、ベンゼン等を用いる。ただし、上記溶媒はこれらに限定されない。ウルマン反応では、反応温度が100℃以上の方がより短時間かつ高収率で目的物が得られるため、沸点の高いDMPU、キシレンを用いることが好ましい。また、反応温度は150℃以上のより高い温度が更に好ましいため、より好ましくはDMPUを用いることとする。
<一般式(G6)で表されるジベンゾ[a,i]カルバゾール化合物の合成方法の例>
一般式(G6)で表されるジベンゾ[a,i]カルバゾール化合物は、下記合成スキーム(B−1)のように合成することができる。すなわち、アントラセン誘導体のハロゲン化物(a1)と、ジベンゾ[a,i]カルバゾール誘導体(a3)とを、塩基存在下で金属触媒、金属、または金属化合物によりカップリングさせることにより、一般式(G6)のジベンゾ[a,i]カルバゾール化合物を得ることができる。
合成スキーム(B−1)において、R31乃至R42は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、Arは、少なくともアントラセン骨格を含む炭素数14乃至30の置換または無置換のアリール基を表す。
合成スキーム(B−1)において、ハートウィック・ブッフバルト反応を行う場合、Zはハロゲンまたはトリフラート基を表す。ハロゲンとしては、ヨウ素、臭素、または塩素が好ましい。当該反応では、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)、酢酸パラジウム(II)等のパラジウム錯体または化合物と、それに配位するトリ(tert−ブチル)ホスフィンや、トリ(n−ヘキシル)ホスフィンや、トリシクロヘキシルホスフィン等の配位子を用いるパラジウム触媒を利用する。塩基としては、ナトリウム tert−ブトキシド等の有機塩基や、炭酸カリウム等の無機塩基等が挙げられる。また、溶媒を使用する場合、トルエン、キシレン、ベンゼン、テトラヒドロフラン等を用いることができる。
また、合成スキーム(B−1)において、ウルマン反応を行う場合、Zはハロゲンを表す。ハロゲンとしては、ヨウ素、臭素または塩素が好ましい。触媒としては、銅または銅化合物を用いる。銅化合物を触媒として用いる場合、合成スキーム(B−1)中における、R23、R24は、それぞれ、ハロゲンやアセチル基等を表し、ハロゲンとしては塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。なお、R23がヨウ素であるヨウ化銅(I)、またはR24がアセチル基である酢酸銅(II)を用いることが好ましい。用いる塩基としては、炭酸カリウム等の無機塩基が挙げられる。また、溶媒は、1,3−ジメチル−3,4,5,6−テトラヒドロ−2(1H)ピリミジノン(DMPU)、トルエン、キシレン、ベンゼン等を用いる。但し、上記溶媒はこれらに限定されない。ウルマン反応では、反応温度が100℃以上の方がより短時間かつ高収率で目的物が得られるため、沸点の高いDMPU、キシレンを用いることが好ましい。また、反応温度は150℃以上のより高い温度が更に好ましいため、より好ましくはDMPUを用いることとする。
以上のように、一般式(G1)及び(G6)のジベンゾカルバゾール化合物を合成することができる。
なお、本実施の形態に示す化合物は、他の実施の形態に示した構成と適宜組み合わせて用いることができる。
(実施の形態3)
本実施の形態では、実施の形態1で説明したジベンゾカルバゾール化合物を用いた発光素子の構成例について、図2(A)(B)及び(C)を用いて以下説明する。
<発光素子の構成例1>
図2(A)は、本発明の一態様の発光素子150の断面模式図である。
発光素子150は、一対の電極(電極101及び電極102)を有し、該一対の電極間に設けられたEL層100を有する。EL層100のいずれかの層に、実施の形態1で説明したジベンゾカルバゾール化合物が用いられている発光素子である。
EL層100は、少なくとも発光層120を有する。
また、図2(A)に示すEL層100は、発光層120の他に、正孔注入層111、正孔輸送層112、電子輸送層113、及び電子注入層114等の機能層を有する。
なお、本実施の形態においては、一対の電極のうち、電極101を陽極として、電極102を陰極として説明するが、発光素子150の構成としては、その限りではない。つまり、電極101を陰極とし、電極102を陽極とし、当該電極間の各層の積層を、逆の順番にしてもよい。すなわち、陽極側から、正孔注入層111と、正孔輸送層112と、発光層120と、電子輸送層113と、電子注入層114と、が積層する順番としてもよい。
なお、EL層100の構成は、図2(A)に示す構成に限定されず、正孔注入層111、正孔輸送層112、電子輸送層113、及び電子注入層114の中から選ばれた少なくとも一つを有する構成とすればよい。または、EL層100は、正孔または電子の注入障壁を低減する、正孔または電子の輸送性を向上する、正孔または電子の輸送性を阻害する、または電極による消光現象を抑制する、ことができる等の機能を有する機能層を有する構成としてもよい。なお、発光層120、または機能層は、それぞれ単層であっても、複数の層が積層された構成であってもよい。
図2(B)は、図2(A)に示す発光層120の一例を示す断面模式図である。図2(B)に示す発光層120は、少なくともホスト材料121と、ゲスト材料122と、を有する。
実施の形態1で説明したジベンゾカルバゾール化合物は、キャリア輸送性に優れていることから、正孔輸送層112または電子輸送層113に好適である。また、該ジベンゾカルバゾール化合物は、キャリア輸送性に優れ、バンドギャップが広いことから、ホスト材料121として好適である。すなわち、実施の形態1で説明したジベンゾカルバゾール化合物を発光素子150のホスト材料121、正孔輸送層112、及び電子輸送層113の少なくとも一に用いることで、駆動電圧の小さい発光素子を作製することができる。また、該ジベンゾカルバゾール化合物を発光素子150のホスト材料121として用いることで、発光効率の良好な発光素子を作製することができる。なお、該ジベンゾカルバゾール化合物は、バンドギャップが広いことから、青色の発光素子のホスト材料やキャリア輸送材料に好適である。したがって、本実施の形態に例示する構成を用いることにより、発光効率が良好で、青色の発光を呈する発光素子を作製することができる。また、該ジベンゾカルバゾール化合物は、酸化および還元の繰返しに良好な耐性を有することから、駆動寿命の良好な発光素子を作製することができる。
なお、実施の形態1で説明したジベンゾカルバゾール化合物は、バンドギャップが広いことから、特に深い青色を呈する発光素子に好適である。本明細書等において、深い青色とは、CIE1931色度座標における色度yが0.01以上0.15以下の色である。
<発光素子の構成例2>
次に、図2(A)(B)に示す発光素子として、特に好ましい構成について、図2(C)を用いて、以下説明する。
図2(A)に示す発光素子150は、少なくともホスト材料121に実施の形態1で説明したジベンゾカルバゾール化合物を有する発光素子である。
ホスト材料121は、三重項励起エネルギーを三重項−三重項消滅(TTA:triplet−triplet annihilation)によって一重項励起エネルギーに変換する機能を有すると好ましい。そうすることで、発光層120で生成した三重項励起エネルギーの一部を、ホスト材料121におけるTTAによって一重項励起エネルギーに変換し、ゲスト材料122に移動することで、蛍光発光として取り出すことが可能となる。そのためには、ホスト材料121の一重項励起エネルギーの最も低い準位(S1準位)は、ゲスト材料122のS1準位より高いことが好ましい。また、ホスト材料121の三重項励起エネルギーの最も低い準位(T1準位)は、ゲスト材料122のT1準位より低いことが好ましい。
なお、ホスト材料121は単一の化合物で構成されていても良く、複数の化合物から構成されていても良い。また、ゲスト材料122としては、発光性の有機材料を用いればよく、該発光性の有機材料としては、蛍光を発することができる材料(以下、蛍光材料ともいう)であると好適である。以下の説明においては、ゲスト材料122として、蛍光材料を用いる構成について説明する。なお、ゲスト材料122を蛍光材料として読み替えてもよい。
<発光素子の発光機構>
まず、発光素子150の発光機構について、以下説明を行う。
本発明の一態様の発光素子150においては、一対の電極(電極101及び電極102)間に電圧を印加することにより、陰極から電子が、陽極から正孔(ホール)が、それぞれEL層100に注入され、電流が流れる。そして、注入された電子及び正孔が再結合することによって、励起子が形成される。キャリアの再結合によって生じる励起子のうち、一重項励起子と三重項励起子の比(以下、励起子生成確率)は、統計的確率により、1:3となる。したがって、一重項励起子の生成確率は25%である。
なお、励起子とは、キャリア(電子及び正孔)対のことである。励起子は励起エネルギーを有するため、励起子が形成された材料は、励起状態となる。
また、以下の2つの過程により、EL層100において一重項励起子が生成し、ゲスト材料122からの発光が得られる。
(α)直接生成過程
(β)TTA過程
≪(α)直接生成過程≫
まず、EL層100が有する発光層120においてキャリア(電子または正孔)が再結合し、一重項励起子が形成される場合を説明する。
ホスト材料121においてキャリアが再結合した場合、励起子の生成によってホスト材料121の励起状態(一重項励起状態または三重項励起状態)が形成される。このとき、ホスト材料121の励起状態が一重項励起状態であるとき、ホスト材料121のS1準位から、ゲスト材料122のS1準位へ、一重項励起エネルギーがエネルギー移動し、ゲスト材料122の一重項励起状態が形成される。なお、ホスト材料121の励起状態が三重項励起状態であるときは、後述の(β)TTA過程にて説明する。
また、キャリアが、ゲスト材料122において再結合する場合、励起子の生成によってゲスト材料122の励起状態(一重項励起状態または三重項励起状態)が形成される。
形成されたゲスト材料122の励起状態が一重項励起状態であるとき、ゲスト材料122の一重項励起状態から発光が得られる。このとき、高い発光効率を得るためには、ゲスト材料122の蛍光量子収率は、高いことが好ましい。具体的には、ゲスト材料122の蛍光量子収率は、好ましくは50%以上、より好ましくは70%以上、さらに好ましくは90%以上であるとよい。
一方、ゲスト材料122の三重項励起状態が形成されたとき、ゲスト材料122は蛍光材料であるため、ゲスト材料122の三重項励起状態は、熱失活し発光に寄与しない。しかしながら、ホスト材料121のT1準位が、ゲスト材料122のT1準位より低い場合、ゲスト材料122の三重項励起エネルギーは、ゲスト材料122のT1準位から、ホスト材料121のT1準位へ、エネルギー移動することが可能となる。その場合、後述の(β)TTA過程によって、三重項励起エネルギーから一重項励起エネルギーへの変換が可能となる。
≪(β)TTA過程≫
次に、発光層120におけるキャリアの再結合過程において形成された三重項励起子によって、一重項励起子が形成される場合について、説明する。
ここでは、ホスト材料121のT1準位がゲスト材料122のT1準位よりも低い場合について説明する。このときのエネルギー準位の相関を表す模式図を図2(C)に示す。また、図2(C)における表記及び符号は、以下の通りである。なお、ホスト材料121のT1準位がゲスト材料122のT1準位よりも高くても構わない。
・Host(121):ホスト材料121
・Guest(122):ゲスト材料122(蛍光材料)
・SFH:ホスト材料121のS1準位
・TFH:ホスト材料121のT1準位
・SFG:ゲスト材料122(蛍光材料)のS1準位
・TFG:ゲスト材料122(蛍光材料)のT1準位
キャリアがホスト材料121において再結合し、励起子の生成によってホスト材料121の励起状態が形成される。このとき、生成した励起子が三重項励起子であるとき、生成した2つの三重項励起子同士が近接することにより、それらの三重項励起エネルギーの一部が一重項励起エネルギーに変換され、ホスト材料121のS1準位(SFH)のエネルギーを有する一重項励起子に変換される反応が生じる場合がある(図2(C) TTA参照)。これは、以下の一般式(G11)または(G12)で表される。
H+H → H (G11)
H+H → H (G12)
一般式(G11)は、ホスト材料121において、スピン量子数の合計が0である2つの三重項励起子(H)から一重項励起子()が生成する反応である。また、一般式(G12)は、ホスト材料121において、スピン量子数の合計が1(原子単位)である2つの三重項励起子(H)から、電子的または振動的に励起された三重項励起子()が生成する反応である。なお、一般式(G11)(G12)中、Hはホスト材料121における一重項基底状態を表す。
一般式(G11)と一般式(G12)とは、同じ確率で生じるが、スピン量子数の合計が1(原子単位)の三重項励起子のペアは、スピン量子数の合計が0のペアと比べて3倍多く存在する。すなわち、2つの三重項励起子から生成される励起子のうち、新たに生成される一重項励起子と三重項励起子の比は、統計的確率により、1:3となる。また、発光層120における三重項励起子の密度が十分に高い場合(例えば、1×10−12cm−3以上)では、三重項励起子単体の失活を無視し、2つの近接した三重項励起子による反応のみを考えることができる。
したがって、一般式(G11)の1つの反応と、一般式(G12)の3つの反応とにより、一般式(G13)のように、8個の三重項励起子(H)から、1個の一重項励起子()と3個の電子的または振動的に励起された三重項励起子()が生成することになる。
H → +3+4H (G13)
一般式(G13)で生成した電子的または振動的に励起された三重項励起子()は、緩和により三重項励起子(H)となり、その後に再び他の三重項励起子と一般式(G13)の反応を繰り返す。そのため、一般式(G13)において、三重項励起子(H)の全てが一重項励起子()に変換されるとすると、5個の三重項励起子(H)から1個の一重項励起子()が生成することになる(一般式(G14))。
H → +4H (G14)
一方、一対の電極から注入されたキャリアの再結合により直接生成する一重項励起子()と三重項励起子(H)の統計的な生成比率は、H=1:3である。すなわち、一対の電極から注入されたキャリアの再結合によって一重項励起子が直接生成する確率は、25%である。
したがって、一対の電極から注入されたキャリアの再結合により直接生成した一重項励起子と、TTAにより生成した一重項励起子とをあわせることで、一対の電極から注入されたキャリアの再結合により直接生成した20個の励起子(一重項励起子および三重項励起子の合計)から8個の一重項励起子が生成可能となる(一般式(G15))。すなわち、TTAによって、一重項励起子生成確率を従来の25%から、最大で40%(=8個/20個)まで向上させることが可能となる。
+15H → 5+(3+12H) (G15)
上記過程により生成した一重項励起子によって形成されたホスト材料121の一重項励起状態においては、ホスト材料121のS1準位(SFH)から、それよりも低いエネルギー準位であるゲスト材料122のS1準位(SFG)へ、エネルギー移動が生じる(図2(C) ルートE参照)。そして、一重項励起状態となったゲスト材料122が蛍光発光する。
なお、ゲスト材料122においてキャリアが再結合し、生成した励起子によって形成される励起状態が三重項励起状態であるとき、ホスト材料121のT1準位(TFH)がゲスト材料122のT1準位(TFG)よりも低い場合、TFGの三重項励起エネルギーは失活することなくTFHにエネルギー移動(図2(C) ルートE参照)し、TTAに利用される。
また、ゲスト材料122のT1準位(TFG)がホスト材料121のT1準位(TFH)よりも低い場合においては、ホスト材料121とゲスト材料122との重量比は、ゲスト材料122の重量比が低い方が好ましい。具体的には、ホスト材料121が1に対するゲスト材料122の重量比としては、0より大きく0.05以下が好ましい。そうすることで、ゲスト材料122でキャリアが再結合する確率を低減させることができる。また、ホスト材料121のT1準位(TFH)からゲスト材料122のT1準位(TFG)へのエネルギー移動が生じる確率を低減させることができる。
また、青色の発光を呈するゲスト材料を用いる場合、ホスト材料121が1に対するゲスト材料122の重量比は、0より大きく0.03未満であると好ましい。そうすることで、より深い青色の発光を得ることができる。
以上のように、TTAによって、発光層120で形成する三重項励起子は、一重項励起子へと変換されるため、ゲスト材料122からの発光を、効率よく得ることが可能となる。
上記のように、TTAによって、一重項励起子の生成確率を向上させ、発光素子の発光効率を向上させることが可能となるが、高い発光効率を得るためには、TTAが生じる確率(TTA効率ともいう)を高めることが重要である。すなわち、発光素子が呈する発光のうち、TTAによる遅延蛍光成分の占める割合が高いことが重要である。
TTAが生じる確率を高めるためには、ホスト材料121はゲスト材料122より一重項励起状態のエネルギーが高く、三重項励起状態のエネルギーが低いことが好ましい。そのような化合物としてホスト材料121は、縮合芳香環骨格を有する事が好ましく、少なくともアントラセン骨格を有するアリール基を有することが、さらに好ましい。
また、青色の発光を呈する発光素子においては、大きな励起エネルギーを有する化合物をホスト材料121として用いる必要がある。すなわち、青色の発光を呈する発光素子においては発光材料またはホスト材料121として用いることができ、且つ、TTAによる遅延蛍光を示す化合物としては、少なくともアントラセン骨格を有するアリール基を有する化合物が好ましい。
また、陽極から正孔が、陰極から電子が、それぞれEL層に注入され、電流が流れる際、正孔及び電子は、それぞれEL層が有する化合物のHOMO(Highest Occupied Molecular Orbital、最高被占軌道ともいう)及びLUMO(Lowest Unoccupied Molecular Orbital、最低空軌道ともいう)に注入され、輸送される。
注入された正孔及び電子がホスト材料で再結合する場合において、例えば、ホスト材料におけるHOMO軌道とLUMO軌道とが同じ領域に分子軌道を有するときには、HOMO準位とLUMO準位とのエネルギーギャップに相当するエネルギーを有する励起子が生成される。
したがって、化合物が有する骨格としては、正孔輸送性骨格および電子輸送性骨格ともにバンドギャップが大きい骨格が好ましい。
上記のような化合物としては、実施の形態1で説明したジベンゾカルバゾール化合物が好適である。
また、ベンゾ[a]アントラセン骨格は4環の芳香族炭化水素でありながら、3環の芳香族炭化水素であるアントラセンと同程度のS1準位およびT1準位を有する。したがって、ベンゾ[a]アントラセン骨格を有するジベンゾカルバゾール化合物は、高いTTA効率を示す発光素子に好適である。
なお、遅延蛍光を示す発光素子において、遅延蛍光が生じる要因としては、TTAの他に、三重項励起状態から一重項励起状態への逆項間交差が生じることによる熱活性化遅延蛍光があり得る。逆項間交差が効率よく生じるためには、S1準位とT1準位とのエネルギー差が0.2eV以下であることが好ましい。換言すると、S1準位とT1準位とのエネルギー差が0.2eVより大きいと、逆項間交差が生じにくくなる。したがって、TTAが効率よく生じるためには、TTAが生じる化合物において、最低励起一重項エネルギー準位と、最低励起三重項エネルギー準位と、のエネルギー差が0.2eVより大きいことが好ましく、0.5eV以上であるとさらに好ましい。
なお、最低励起一重項エネルギー準位は、有機化合物が一重項基底状態から最低励起一重項状態へ遷移する際の吸収スペクトルから観測することができる。もしくは、有機化合物の蛍光発光スペクトルのピーク波長から最低励起一重項エネルギー準位を推定しても良い。また、最低励起三重項エネルギー準位は、有機化合物が一重項基底状態から最低励起三重項状態へ遷移する際の吸収スペクトルから観測することができるが、該遷移が禁制であることから、観測することが困難な場合がある。その場合には、有機化合物の燐光発光スペクトルのピーク波長より、最低励起三重項エネルギー準位を推定しても良い。したがって、有機化合物における、蛍光発光スペクトルのピーク波長と、燐光発光スペクトルのピーク波長と、のエネルギー換算値差が0.2eVより大きいと好ましく、0.5eV以上であるとさらに好ましい。
<材料>
次に、本発明の一態様に係わる発光素子の構成要素の詳細について、以下説明を行う。
≪発光層≫
発光層120中では、ホスト材料121が少なくともゲスト材料122より重量比で多く存在し、ゲスト材料122(蛍光材料)は、ホスト材料121中に分散される。発光層120において、ホスト材料121に用いることができる材料としては、実施の形態1で説明したジベンゾカルバゾール化合物が好ましい。なお、発光層120において、ホスト材料121は、一種の化合物から構成されていても良く、複数の化合物から構成されていても良い。
また、発光層120において、ゲスト材料122としては、特に限定はないが、アントラセン誘導体、テトラセン誘導体、クリセン誘導体、フェナントレン誘導体、ピレン誘導体、ペリレン誘導体、スチルベン誘導体、アクリドン誘導体、クマリン誘導体、フェノキサジン誘導体、フェノチアジン誘導体などが好ましく、例えば以下の材料を用いることができる。
具体的には、5,6−ビス[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−2,2’−ビピリジン(略称:PAP2BPy)、5,6−ビス[4’−(10−フェニル−9−アントリル)ビフェニル−4−イル]−2,2’−ビピリジン(略称:PAPP2BPy)、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス[4−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル]ピレン−1,6−ジアミン(略称:1,6FLPAPrn)、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス[3−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル]ピレン−1,6−ジアミン(略称:1,6mMemFLPAPrn)、N,N’−ビス[4−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル]−N,N’−ビス(4−tert−ブチルフェニル)−ピレン−1,6−ジアミン(略称:1,6tBu−FLPAPrn)、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス[4−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル]−3,8−ジシクロヘキシルピレン−1,6−ジアミン(略称:ch−1,6FLPAPrn)、N,N’−ビス[4−(9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]−N,N’−ジフェニルスチルベン−4,4’−ジアミン(略称:YGA2S)、4−(9H−カルバゾール−9−イル)−4’−(10−フェニル−9−アントリル)トリフェニルアミン(略称:YGAPA)、4−(9H−カルバゾール−9−イル)−4’−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)トリフェニルアミン(略称:2YGAPPA)、N,9−ジフェニル−N−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:PCAPA)、ペリレン、2,5,8,11−テトラ(tert−ブチル)ペリレン(略称:TBP)、4−(10−フェニル−9−アントリル)−4’−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)トリフェニルアミン(略称:PCBAPA)、N,N’’−(2−tert−ブチルアントラセン−9,10−ジイルジ−4,1−フェニレン)ビス[N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジアミン](略称:DPABPA)、N,9−ジフェニル−N−[4−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:2PCAPPA)、N−[4−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)フェニル]−N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジアミン(略称:2DPAPPA)、N,N,N’,N’,N’’,N’’,N’’’,N’’’−オクタフェニルジベンゾ[g,p]クリセン−2,7,10,15−テトラアミン(略称:DBC1)、クマリン30、N−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)−N,9−ジフェニル−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:2PCAPA)、N−[9,10−ビス(1,1’−ビフェニル−2−イル)−2−アントリル]−N,9−ジフェニル−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:2PCABPhA)、N−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)−N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジアミン(略称:2DPAPA)、N−[9,10−ビス(1,1’−ビフェニル−2−イル)−2−アントリル]−N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジアミン(略称:2DPABPhA)、9,10−ビス(1,1’−ビフェニル−2−イル)−N−[4−(9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]−N−フェニルアントラセン−2−アミン(略称:2YGABPhA)、N,N,9−トリフェニルアントラセン−9−アミン(略称:DPhAPhA)、クマリン6、クマリン545T、N,N’−ジフェニルキナクリドン(略称:DPQd)、ルブレン、2,8−ジ−tert−ブチル−5,11−ビス(4−tert−ブチルフェニル)−6,12−ジフェニルテトラセン(略称:TBRb)、ナイルレッド、5,12−ビス(1,1’−ビフェニル−4−イル)−6,11−ジフェニルテトラセン(略称:BPT)、2−(2−{2−[4−(ジメチルアミノ)フェニル]エテニル}−6−メチル−4H−ピラン−4−イリデン)プロパンジニトリル(略称:DCM1)、2−{2−メチル−6−[2−(2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベンゾ[ij]キノリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン−4−イリデン}プロパンジニトリル(略称:DCM2)、N,N,N’,N’−テトラキス(4−メチルフェニル)テトラセン−5,11−ジアミン(略称:p−mPhTD)、7,14−ジフェニル−N,N,N’,N’−テトラキス(4−メチルフェニル)アセナフト[1,2−a]フルオランテン−3,10−ジアミン(略称:p−mPhAFD)、2−{2−イソプロピル−6−[2−(1,1,7,7−テトラメチル−2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベンゾ[ij]キノリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン−4−イリデン}プロパンジニトリル(略称:DCJTI)、2−{2−tert−ブチル−6−[2−(1,1,7,7−テトラメチル−2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベンゾ[ij]キノリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン−4−イリデン}プロパンジニトリル(略称:DCJTB)、2−(2,6−ビス{2−[4−(ジメチルアミノ)フェニル]エテニル}−4H−ピラン−4−イリデン)プロパンジニトリル(略称:BisDCM)、2−{2,6−ビス[2−(8−メトキシ−1,1,7,7−テトラメチル−2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベンゾ[ij]キノリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン−4−イリデン}プロパンジニトリル(略称:BisDCJTM)、5,10,15,20−テトラフェニルビスベンゾ[5,6]インデノ[1,2,3−cd:1’,2’,3’−lm]ペリレン、などが挙げられる。
なお、発光層120において、ホスト材料121およびゲスト材料122以外の材料を有していても良い。
なお、発光層120に用いることが可能な材料としては、特に限定はないが、例えば、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(III)(略称:Alq)、トリス(4−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(III)(略称:Almq)、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリナト)ベリリウム(II)(略称:BeBq)、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(4−フェニルフェノラト)アルミニウム(III)(略称:BAlq)、ビス(8−キノリノラト)亜鉛(II)(略称:Znq)、ビス[2−(2−ベンゾオキサゾリル)フェノラト]亜鉛(II)(略称:ZnPBO)、ビス[2−(2−ベンゾチアゾリル)フェノラト]亜鉛(II)(略称:ZnBTZ)などの金属錯体、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(略称:PBD)、1,3−ビス[5−(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル]ベンゼン(略称:OXD−7)、3−(4−ビフェニリル)−4−フェニル−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,2,4−トリアゾール(略称:TAZ)、2,2’,2’’−(1,3,5−ベンゼントリイル)トリス(1−フェニル−1H−ベンゾイミダゾール)(略称:TPBI)、バソフェナントロリン(略称:BPhen)、バソキュプロイン(略称:BCP)、9−[4−(5−フェニル−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CO11)などの複素環化合物、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:NPBまたはα−NPD)、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ジフェニル−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(略称:TPD)、4,4’−ビス[N−(スピロ−9,9’−ビフルオレン−2−イル)−N―フェニルアミノ]ビフェニル(略称:BSPB)などの芳香族アミン化合物が挙げられる。また、アントラセン誘導体、フェナントレン誘導体、ピレン誘導体、クリセン誘導体、ジベンゾ[g,p]クリセン誘導体等の縮合多環芳香族化合物が挙げられ、具体的には、9,10−ジフェニルアントラセン(略称:DPAnth)、N,N−ジフェニル−9−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:CzA1PA)、4−(10−フェニル−9−アントリル)トリフェニルアミン(略称:DPhPA)、4−(9H−カルバゾール−9−イル)−4’−(10−フェニル−9−アントリル)トリフェニルアミン(略称:YGAPA)、N,9−ジフェニル−N−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:PCAPA)、N,9−ジフェニル−N−{4−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]フェニル}−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:PCAPBA)、N,9−ジフェニル−N−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:2PCAPA)、6,12−ジメトキシ−5,11−ジフェニルクリセン、N,N,N’,N’,N’’,N’’,N’’’,N’’’−オクタフェニルジベンゾ[g,p]クリセン−2,7,10,15−テトラアミン(略称:DBC1)、9−フェニル−3−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:PCzPA)、3,6−ジフェニル−9−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:DPCzPA)、9,10−ビス(3,5−ジフェニルフェニル)アントラセン(略称:DPPA)、9,10−ジ(2−ナフチル)アントラセン(略称:DNA)、2−tert−ブチル−9,10−ジ(2−ナフチル)アントラセン(略称:t−BuDNA)、9,9’−ビアントリル(略称:BANT)、9,9’−(スチルベン−3,3’−ジイル)ジフェナントレン(略称:DPNS)、9,9’−(スチルベン−4,4’−ジイル)ジフェナントレン(略称:DPNS2)、1,3,5−トリ(1−ピレニル)ベンゼン(略称:TPB3)などを挙げることができる。また、実施の形態1で説明したジベンゾカルバゾール化合物が複数含まれていても良い。また、これら及び公知の物質の中から、上記ゲスト材料122のエネルギーギャップより大きなエネルギーギャップを有する物質を、一種もしくは複数種選択して用いればよい。
なお、発光層120は2層以上の複数層でもって構成することもできる。例えば、第1の発光層と第2の発光層を正孔輸送層側から順に積層して発光層120とする場合、第1の発光層のホスト材料として正孔輸送性を有する物質を用い、第2の発光層のホスト材料として電子輸送性を有する物質を用いる構成などがある。この場合においても、少なくとも一つの発光層に実施の形態1で説明したジベンゾカルバゾール化合物が含まれていることが好ましい。
次に、図2(A)に示す発光素子150のその他の構成の詳細について、以下説明する。
≪正孔注入層≫
正孔注入層111は、一対の電極の一方(電極101または電極102)からのホール注入障壁を低減することでホール注入を促進する機能を有し、例えば遷移金属酸化物、フタロシアニン誘導体、あるいは芳香族アミンなどによって形成される。遷移金属酸化物としては、モリブデン酸化物やバナジウム酸化物、ルテニウム酸化物、タングステン酸化物、マンガン酸化物などが挙げられる。フタロシアニン誘導体としては、フタロシアニンや金属フタロシアニンなどが挙げられる。芳香族アミンとしてはベンジジン誘導体やフェニレンジアミン誘導体などが挙げられる。ポリチオフェンやポリアニリンなどの高分子化合物を用いることもでき、例えば自己ドープされたポリチオフェンであるポリ(エチレンジオキシチオフェン)/ポリ(スチレンスルホン酸)などがその代表例である。
正孔注入層111として、正孔輸送性材料と、これに対して電子受容性を示す材料の複合材料を有する層を用いることもできる。あるいは、電子受容性を示す材料を含む層と正孔輸送性材料を含む層の積層を用いても良い。これらの材料間では定常状態、あるいは電界存在下において電荷の授受が可能である。電子受容性を示す材料としては、キノジメタン誘導体やクロラニル誘導体、ヘキサアザトリフェニレン誘導体などの有機アクセプターを挙げることができる。具体的には、7,7,8,8−テトラシアノ−2,3,5,6−テトラフルオロキノジメタン(略称:F−TCNQ)、クロラニル、2,3,6,7,10,11−ヘキサシアノ−1,4,5,8,9,12−ヘキサアザトリフェニレン(略称:HAT−CN)等の電子吸引基(ハロゲン基やシアノ基)を有する化合物である。また、遷移金属酸化物、例えば第4族から第8族金属の酸化物を用いることができる。具体的には、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化マンガン、酸化レニウムなどである。中でも酸化モリブデンは大気中でも安定であり、吸湿性が低く、扱いやすいため好ましい。
正孔輸送性材料としては、電子よりも正孔の輸送性の高い材料を用いることができ、1×10−6cm/Vs以上の正孔移動度を有する材料であることが好ましい。具体的には、芳香族アミン、カルバゾール誘導体、芳香族炭化水素、スチルベン誘導体などを用いることができる。また、該正孔輸送性材料は高分子化合物であっても良い。
これら正孔輸送性の高い材料として、例えば、芳香族アミン化合物としては、N,N’−ジ(p−トリル)−N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン(略称:DTDPPA)、4,4’−ビス[N−(4−ジフェニルアミノフェニル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:DPAB)、N,N’−ビス{4−[ビス(3−メチルフェニル)アミノ]フェニル}−N,N’−ジフェニル−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン(略称:DNTPD)、1,3,5−トリス[N−(4−ジフェニルアミノフェニル)−N−フェニルアミノ]ベンゼン(略称:DPA3B)等を挙げることができる。
また、カルバゾール誘導体としては、具体的には、3−[N−(4−ジフェニルアミノフェニル)−N−フェニルアミノ]−9−フェニルカルバゾール(略称:PCzDPA1)、3,6−ビス[N−(4−ジフェニルアミノフェニル)−N−フェニルアミノ]−9−フェニルカルバゾール(略称:PCzDPA2)、3,6−ビス[N−(4−ジフェニルアミノフェニル)−N−(1−ナフチル)アミノ]−9−フェニルカルバゾール(略称:PCzTPN2)、3−[N−(9−フェニルカルバゾール−3−イル)−N−フェニルアミノ]−9−フェニルカルバゾール(略称:PCzPCA1)、3,6−ビス[N−(9−フェニルカルバゾール−3−イル)−N−フェニルアミノ]−9−フェニルカルバゾール(略称:PCzPCA2)、3−[N−(1−ナフチル)−N−(9−フェニルカルバゾール−3−イル)アミノ]−9−フェニルカルバゾール(略称:PCzPCN1)等を挙げることができる。
また、カルバゾール誘導体としては、他に、4,4’−ジ(N−カルバゾリル)ビフェニル(略称:CBP)、1,3,5−トリス[4−(N−カルバゾリル)フェニル]ベンゼン(略称:TCPB)、9−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CzPA)、1,4−ビス[4−(N−カルバゾリル)フェニル]−2,3,5,6−テトラフェニルベンゼン等を用いることができる。
また、芳香族炭化水素としては、例えば、2−tert−ブチル−9,10−ジ(2−ナフチル)アントラセン(略称:t−BuDNA)、2−tert−ブチル−9,10−ジ(1−ナフチル)アントラセン、9,10−ビス(3,5−ジフェニルフェニル)アントラセン(略称:DPPA)、2−tert−ブチル−9,10−ビス(4−フェニルフェニル)アントラセン(略称:t−BuDBA)、9,10−ジ(2−ナフチル)アントラセン(略称:DNA)、9,10−ジフェニルアントラセン(略称:DPAnth)、2−tert−ブチルアントラセン(略称:t−BuAnth)、9,10−ビス(4−メチル−1−ナフチル)アントラセン(略称:DMNA)、2−tert−ブチル−9,10−ビス[2−(1−ナフチル)フェニル]アントラセン、9,10−ビス[2−(1−ナフチル)フェニル]アントラセン、2,3,6,7−テトラメチル−9,10−ジ(1−ナフチル)アントラセン、2,3,6,7−テトラメチル−9,10−ジ(2−ナフチル)アントラセン、9,9’−ビアントリル、10,10’−ジフェニル−9,9’−ビアントリル、10,10’−ビス(2−フェニルフェニル)−9,9’−ビアントリル、10,10’−ビス[(2,3,4,5,6−ペンタフェニル)フェニル]−9,9’−ビアントリル、アントラセン、テトラセン、ルブレン、ペリレン、2,5,8,11−テトラ(tert−ブチル)ペリレン等が挙げられる。また、この他、ペンタセン、コロネン等も用いることができる。このように、1×10−6cm/Vs以上の正孔移動度を有し、炭素数14乃至炭素数42である芳香族炭化水素を用いることがより好ましい。
なお、芳香族炭化水素は、ビニル骨格を有していてもよい。ビニル基を有している芳香族炭化水素としては、例えば、4,4’−ビス(2,2−ジフェニルビニル)ビフェニル(略称:DPVBi)、9,10−ビス[4−(2,2−ジフェニルビニル)フェニル]アントラセン(略称:DPVPA)等が挙げられる。
また、ポリ(N−ビニルカルバゾール)(略称:PVK)やポリ(4−ビニルトリフェニルアミン)(略称:PVTPA)、ポリ[N−(4−{N’−[4−(4−ジフェニルアミノ)フェニル]フェニル−N’−フェニルアミノ}フェニル)メタクリルアミド](略称:PTPDMA)、ポリ[N,N’−ビス(4−ブチルフェニル)−N,N’−ビス(フェニル)ベンジジン](略称:Poly−TPD)等の高分子化合物を用いることもできる。
さらに、正孔輸送性の高い材料としては、例えば、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:NPBまたはα−NPD)やN,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ジフェニル−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(略称:TPD)、4,4’,4’’−トリス(カルバゾール−9−イル)トリフェニルアミン(略称:TCTA)、4,4’,4’’−トリス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]トリフェニルアミン(略称:1’−TNATA)、4,4’,4’’−トリス(N,N−ジフェニルアミノ)トリフェニルアミン(略称:TDATA)、4,4’,4’’−トリス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ]トリフェニルアミン(略称:MTDATA)、4,4’−ビス[N−(スピロ−9,9’−ビフルオレン−2−イル)−N―フェニルアミノ]ビフェニル(略称:BSPB)、4−フェニル−4’−(9−フェニルフルオレン−9−イル)トリフェニルアミン(略称:BPAFLP)、4−フェニル−3’−(9−フェニルフルオレン−9−イル)トリフェニルアミン(略称:mBPAFLP)、N−(9,9−ジメチル−9H−フルオレン−2−イル)−N−{9,9−ジメチル−2−[N’−フェニル−N’−(9,9−ジメチル−9H−フルオレン−2−イル)アミノ]−9H−フルオレン−7−イル}フェニルアミン(略称:DFLADFL)、N−(9,9−ジメチル−2−ジフェニルアミノ−9H−フルオレン−7−イル)ジフェニルアミン(略称:DPNF)、2−[N−(4−ジフェニルアミノフェニル)−N−フェニルアミノ]スピロ−9,9’−ビフルオレン(略称:DPASF)、4−フェニル−4’−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)トリフェニルアミン(略称:PCBA1BP)、4,4’−ジフェニル−4’’−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)トリフェニルアミン(略称:PCBBi1BP)、4−(1−ナフチル)−4’−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)トリフェニルアミン(略称:PCBANB)、4,4’−ジ(1−ナフチル)−4’’−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)トリフェニルアミン(略称:PCBNBB)、4−フェニルジフェニル−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)アミン(略称:PCA1BP)、N,N’−ビス(9−フェニルカルバゾール−3−イル)−N,N’−ジフェニルベンゼン−1,3−ジアミン(略称:PCA2B)、N,N’,N’’−トリフェニル−N,N’,N’’−トリス(9−フェニルカルバゾール−3−イル)ベンゼン−1,3,5−トリアミン(略称:PCA3B)、N−(4−ビフェニル)−N−(9,9−ジメチル−9H−フルオレン−2−イル)−9−フェニル−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:PCBiF)、N−(1,1’−ビフェニル−4−イル)−N−[4−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)フェニル]−9,9−ジメチル−9H−フルオレン−2−アミン(略称:PCBBiF)、9,9−ジメチル−N−フェニル−N−[4−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)フェニル]フルオレン−2−アミン(略称:PCBAF)、N−フェニル−N−[4−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)フェニル]スピロ−9,9’−ビフルオレン−2−アミン(略称:PCBASF)、2−[N−(9−フェニルカルバゾール−3−イル)−N−フェニルアミノ]スピロ−9,9’−ビフルオレン(略称:PCASF)、2,7−ビス[N−(4−ジフェニルアミノフェニル)−N−フェニルアミノ]−スピロ−9,9’−ビフルオレン(略称:DPA2SF)、N−[4−(9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]−N−(4−フェニル)フェニルアニリン(略称:YGA1BP)、N,N’−ビス[4−(カルバゾール−9−イル)フェニル]−N,N’−ジフェニル−9,9−ジメチルフルオレン−2,7−ジアミン(略称:YGA2F)などの芳香族アミン化合物等を用いることができる。また、3−[4−(1−ナフチル)−フェニル]−9−フェニル−9H−カルバゾール(略称:PCPN)、3−[4−(9−フェナントリル)−フェニル]−9−フェニル−9H−カルバゾール(略称:PCPPn)、3,3’−ビス(9−フェニル−9H−カルバゾール)(略称:PCCP)、1,3−ビス(N−カルバゾリル)ベンゼン(略称:mCP)、3,6−ビス(3,5−ジフェニルフェニル)−9−フェニルカルバゾール(略称:CzTP)、3,6−ジ(9H−カルバゾール−9−イル)−9−フェニル−9H−カルバゾール(略称:PhCzGI)、2,8−ジ(9H−カルバゾール−9−イル)−ジベンゾチオフェン(略称:Cz2DBT)、4−{3−[3−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル]フェニル}ジベンゾフラン(略称:mmDBFFLBi−II)、4,4’,4’’−(ベンゼン−1,3,5−トリイル)トリ(ジベンゾフラン)(略称:DBF3P−II)、1,3,5−トリ(ジベンゾチオフェン−4−イル)−ベンゼン(略称:DBT3P−II)、2,8−ジフェニル−4−[4−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル]ジベンゾチオフェン(略称:DBTFLP−III)、4−[4−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル]−6−フェニルジベンゾチオフェン(略称:DBTFLP−IV)、4−[3−(トリフェニレン−2−イル)フェニル]ジベンゾチオフェン(略称:mDBTPTp−II)等のアミン化合物、カルバゾール化合物、チオフェン化合物、フラン化合物、フルオレン化合物、トリフェニレン化合物、フェナントレン化合物等を用いることができる。上述した化合物の中でも、ピロール骨格、フラン骨格、チオフェン骨格、および芳香族アミン骨格の少なくとも一を有する化合物は、安定で信頼性が良好であり好ましい。また、当該骨格を有する化合物は、正孔輸送性が高く、駆動電圧低減にも寄与する。
≪正孔輸送層≫
正孔輸送層112は正孔輸送性材料を含む層であり、正孔注入層111の材料として例示した正孔輸送性材料を使用することができる。正孔輸送層112は正孔注入層111に注入された正孔を発光層120へ輸送する機能を有するため、正孔注入層111のHOMO(Highest Occupied Molecular Orbital、最高被占軌道ともいう)準位と同じ、あるいは近いHOMO準位を有することが好ましい。
また、1×10−6cm/Vs以上の正孔移動度を有する物質であることが好ましい。但し、電子よりも正孔の輸送性の高い物質であれば、これら以外のものを用いてもよい。なお、正孔輸送性の高い物質を含む層は、単層だけでなく、上記物質からなる層が二層以上積層してもよい。
また、実施の形態1で説明したジベンゾカルバゾール化合物を、正孔輸送層112を構成する材料として用いても良い。
≪電子輸送層≫
電子輸送層113は、電子注入層114を経て一対の電極の他方(電極101または電極102)から注入された電子を発光層120へ輸送する機能を有する。電子輸送性材料としては、正孔よりも電子の輸送性の高い材料を用いることができ、1×10−6cm/Vs以上の電子移動度を有する材料であることが好ましい。電子を受け取りやすい化合物(電子輸送性を有する材料)としては、含窒素複素芳香族化合物のようなπ電子不足型複素芳香族や金属錯体などを用いることができる。具体的には、キノリン配位子、ベンゾキノリン配位子、オキサゾール配位子、あるいはチアゾール配位子を有する金属錯体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、キノキサリン誘導体、ジベンゾキノキサリン誘導体、フェナントロリン誘導体、ピリジン誘導体、ビピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体などが挙げられる。なお、正孔よりも電子の輸送性の高い物質であれば、上記以外の物質を電子輸送層として用いても構わない。また、電子輸送層113は、単層だけでなく、上記物質からなる層を二層以上積層してもよい。
具体的には、例えば、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(III)(略称:Alq)、トリス(4−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(III)(略称:Almq)、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリナト)ベリリウム(II)(略称:BeBq)、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(4−フェニルフェノラト)アルミニウム(III)(略称:BAlq)、ビス(8−キノリノラト)亜鉛(II)(略称:Znq)など、キノリン骨格またはベンゾキノリン骨格を有する金属錯体等が挙げられる。また、この他ビス[2−(2−ベンゾオキサゾリル)フェノラト]亜鉛(II)(略称:ZnPBO)、ビス[2−(2−ベンゾチアゾリル)フェノラト]亜鉛(II)(略称:ZnBTZ)などのオキサゾール系、またはチアゾール系配位子を有する金属錯体なども用いることができる。さらに、金属錯体以外にも、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(略称:PBD)や、1,3−ビス[5−(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル]ベンゼン(略称:OXD−7)、9−[4−(5−フェニル−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CO11)、3−(4−ビフェニリル)−4−フェニル−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,2,4−トリアゾール(略称:TAZ)、9−[4−(4,5−ジフェニル−4H−1,2,4−トリアゾール−3−イル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CzTAZ1)、2,2’,2’’−(1,3,5−ベンゼントリイル)トリス(1−フェニル−1H−ベンゾイミダゾール)(略称:TPBI)、2−[3−(ジベンゾチオフェン−4−イル)フェニル]−1−フェニル−1H−ベンゾイミダゾール(略称:mDBTBIm−II)、バソフェナントロリン(略称:BPhen)、バソキュプロイン(略称:BCP)などの複素環化合物や、2−[3−(ジベンゾチオフェン−4−イル)フェニル]ジベンゾ[f,h]キノキサリン(略称:2mDBTPDBq−II)、2−[3’−(ジベンゾチオフェン−4−イル)ビフェニル−3−イル]ジベンゾ[f,h]キノキサリン(略称:2mDBTBPDBq−II)、2−[3’−(9H−カルバゾール−9−イル)ビフェニル−3−イル]ジベンゾ[f,h]キノキサリン(略称:2mCzBPDBq)、2−[4−(3,6−ジフェニル−9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]ジベンゾ[f,h]キノキサリン(略称:2CzPDBq−III)、7−[3−(ジベンゾチオフェン−4−イル)フェニル]ジベンゾ[f,h]キノキサリン(略称:7mDBTPDBq−II)、及び、6−[3−(ジベンゾチオフェン−4−イル)フェニル]ジベンゾ[f,h]キノキサリン(略称:6mDBTPDBq−II)、2−[3−(3,9’−ビ−9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]ジベンゾ[f,h]キノキサリン(略称:2mCzCzPDBq)、4,6−ビス[3−(フェナントレン−9−イル)フェニル]ピリミジン(略称:4,6mPnP2Pm)、4,6−ビス[3−(4−ジベンゾチエニル)フェニル]ピリミジン(略称:4,6mDBTP2Pm−II)、4,6−ビス[3−(9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]ピリミジン(略称:4,6mCzP2Pm)などのジアジン骨格を有する複素環化合物や、2−{4−[3−(N−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)−9H−カルバゾール−9−イル]フェニル}−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン(略称:PCCzPTzn)などのトリアジン骨格を有する複素環化合物や、3,5−ビス[3−(9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]ピリジン(略称:35DCzPPy)、1,3,5−トリ[3−(3−ピリジル)フェニル]ベンゼン(略称:TmPyPB)などのピリジン骨格を有する複素環化合物、4,4’−ビス(5−メチルベンゾオキサゾール−2−イル)スチルベン(略称:BzOs)などの複素芳香族化合物も用いることができる。上述した複素環化合物の中でも、トリアジン骨格、ジアジン(ピリミジン、ピラジン、ピリダジン)骨格、およびピリジン骨格の少なくとも一を有する複素環化合物は、安定で信頼性が良好であり好ましい。また、当該骨格を有する複素環化合物は、電子輸送性が高く、駆動電圧低減にも寄与する。また、ポリ(2,5−ピリジンジイル)(略称:PPy)、ポリ[(9,9−ジヘキシルフルオレン−2,7−ジイル)−co−(ピリジン−3,5−ジイル)](略称:PF−Py)、ポリ[(9,9−ジオクチルフルオレン−2,7−ジイル)−co−(2,2’−ビピリジン−6,6’−ジイル)](略称:PF−BPy)のような高分子化合物を用いることもできる。ここに述べた物質は、主に1×10−6cm/Vs以上の電子移動度を有する物質である。
また、実施の形態1で説明したジベンゾカルバゾール化合物も好適に用いることができる。なお、正孔よりも電子の輸送性の高い物質であれば、上記以外の物質を電子輸送層として用いても構わない。また、電子輸送層113は、単層だけでなく、上記物質からなる層を二層以上積層してもよい。
また、電子輸送層113と発光層120との間に電子キャリアの移動を制御する層を設けても良い。これは上述したような電子輸送性の高い材料に、電子トラップ性の高い物質を少量添加した層であって、電子キャリアの移動を抑制することによって、キャリアバランスを調節することが可能となる。このような構成は、発光層を電子が突き抜けてしまうことにより発生する問題(例えば素子寿命の低下)の抑制に大きな効果を発揮する。
また、n型の化合物半導体を用いても良く、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ケイ素、酸化錫、酸化タングステン、酸化タンタル、チタン酸バリウム、ジルコン酸バリウム、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化アルミニウム、酸化イットリウム、ケイ酸ジルコニウムのような酸化物、窒化ケイ素のような窒化物、硫化カドミウム、セレン化亜鉛及び硫化亜鉛等も用いることができる。
≪電子注入層≫
電子注入層114は電極102からの電子注入障壁を低減することで電子注入を促進する機能を有し、例えば第1族金属、第2族金属、あるいはこれらの酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩などを用いることができる。また、先に示す電子輸送性材料と、これに対して電子供与性を示す材料の複合材料を用いることもできる。電子供与性を示す材料としては、第1族金属、第2族金属、あるいはこれらの酸化物などを挙げることができる。具体的には、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化セシウム、フッ化カルシウム、リチウム酸化物等のようなアルカリ金属、アルカリ土類金属、またはそれらの化合物を用いることができる。また、フッ化エルビウムのような希土類金属化合物を用いることができる。また、電子注入層114にエレクトライドを用いてもよい。該エレクトライドとしては、例えば、カルシウムとアルミニウムの混合酸化物に電子を高濃度添加した物質等が挙げられる。また、電子注入層114に、電子輸送層113で用いることが出来る物質を用いても良い。
また、電子注入層114に、有機化合物と電子供与体(ドナー)とを混合してなる複合材料を用いてもよい。このような複合材料は、電子供与体によって有機化合物に電子が発生するため、電子注入性および電子輸送性に優れている。この場合、有機化合物としては、発生した電子の輸送に優れた材料であることが好ましく、具体的には、例えば上述した電子輸送層113を構成する物質(金属錯体や複素芳香族化合物等)を用いることができる。電子供与体としては、有機化合物に対し電子供与性を示す物質であればよい。具体的には、アルカリ金属やアルカリ土類金属や希土類金属が好ましく、リチウム、ナトリウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、エルビウム、イッテルビウム等が挙げられる。また、アルカリ金属酸化物やアルカリ土類金属酸化物が好ましく、リチウム酸化物、カルシウム酸化物、バリウム酸化物等が挙げられる。また、酸化マグネシウムのようなルイス塩基を用いることもできる。また、テトラチアフルバレン(略称:TTF)等の有機化合物を用いることもできる。
なお、上述した、発光層、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、及び電子注入層は、それぞれ、蒸着法(真空蒸着法を含む)、インクジェット法、塗布法、グラビア印刷等の方法で形成することができる。また、上述した、発光層、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、及び電子注入層には、上述した材料の他、量子ドットなどの無機化合物や、高分子化合物(オリゴマー、デンドリマー、ポリマー等)を用いてもよい。
≪量子ドット≫
量子ドットは、数nmから数十nmサイズの半導体ナノ結晶であり、1×10個から1×10個程度の原子から構成されている。量子ドットはサイズに依存してエネルギーシフトするため、同じ物質から構成される量子ドットであっても、サイズによって発光波長が異なる。そのため、用いる量子ドットのサイズを変更することによって、容易に発光波長を変更することができる。
また、量子ドットは、発光スペクトルのピーク幅が狭いため、色純度のよい発光を得ることができる。さらに、量子ドットの理論的な内部量子効率は100%であると言われており、蛍光発光を呈する有機化合物の25%を大きく上回り、燐光発光を呈する有機化合物と同等となっている。このことから、量子ドットを発光材料として用いることによって発光効率の高い発光素子を得ることができる。その上、無機材料である量子ドットは、その本質的な安定性にも優れているため、寿命の観点からも好ましい発光素子を得ることができる。
量子ドットを構成する材料としては、第14族元素、第15族元素、第16族元素、複数の第14族元素からなる化合物、第4族から第14族に属する元素と第16族元素との化合物、第2族元素と第16族元素との化合物、第13族元素と第15族元素との化合物、第13族元素と第17族元素との化合物、第14族元素と第15族元素との化合物、第11族元素と第17族元素との化合物、酸化鉄類、酸化チタン類、カルコゲナイドスピネル類、半導体クラスターなどを挙げることができる。
具体的には、セレン化カドミウム、硫化カドミウム、テルル化カドミウム、セレン化亜鉛、酸化亜鉛、硫化亜鉛、テルル化亜鉛、硫化水銀、セレン化水銀、テルル化水銀、砒化インジウム、リン化インジウム、砒化ガリウム、リン化ガリウム、窒化インジウム、窒化ガリウム、アンチモン化インジウム、アンチモン化ガリウム、リン化アルミニウム、砒化アルミニウム、アンチモン化アルミニウム、セレン化鉛、テルル化鉛、硫化鉛、セレン化インジウム、テルル化インジウム、硫化インジウム、セレン化ガリウム、硫化砒素、セレン化砒素、テルル化砒素、硫化アンチモン、セレン化アンチモン、テルル化アンチモン、硫化ビスマス、セレン化ビスマス、テルル化ビスマス、ケイ素、炭化ケイ素、ゲルマニウム、錫、セレン、テルル、ホウ素、炭素、リン、窒化ホウ素、リン化ホウ素、砒化ホウ素、窒化アルミニウム、硫化アルミニウム、硫化バリウム、セレン化バリウム、テルル化バリウム、硫化カルシウム、セレン化カルシウム、テルル化カルシウム、硫化ベリリウム、セレン化ベリリウム、テルル化ベリリウム、硫化マグネシウム、セレン化マグネシウム、硫化ゲルマニウム、セレン化ゲルマニウム、テルル化ゲルマニウム、硫化錫、セレン化錫、テルル化錫、酸化鉛、フッ化銅、塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅、酸化銅、セレン化銅、酸化ニッケル、酸化コバルト、硫化コバルト、四酸化三鉄、硫化鉄、酸化マンガン、硫化モリブデン、酸化バナジウム、酸化タングステン、酸化タンタル、酸化チタン、酸化ジルコニウム、窒化ケイ素、窒化ゲルマニウム、酸化アルミニウム、チタン酸バリウム、セレンと亜鉛とカドミウムの化合物、インジウムと砒素とリンの化合物、カドミウムとセレンと硫黄の化合物、カドミウムとセレンとテルルの化合物、亜鉛とカドミウムとセレンの化合物、インジウムとガリウムと砒素の化合物、インジウムとガリウムとセレンの化合物、インジウムとセレンと硫黄の化合物、銅とインジウムと硫黄の化合物、およびこれらの組合せなどを挙げることができるが、これらに限定されない。また、組成が任意の比率で表される、いわゆる合金型量子ドットを用いても良い。例えば、カドミウムとセレンと硫黄の合金型量子ドットは、元素の含有比率を変化させることで発光波長を変えることができるため、青色発光を得るには有効な手段の一つである。
量子ドットの構造としては、コア型、コア−シェル型、コア−マルチシェル型などがあり、そのいずれを用いても良いが、コアを覆ってより広いバンドギャップを持つ別の無機材料でシェルを形成することによって、ナノ結晶表面に存在する欠陥やダングリングボンドの影響を低減することができる。これにより、発光の量子効率が大きく改善するためコア−シェル型やコア−マルチシェル型の量子ドットを用いることが好ましい。シェルの材料の例としては、硫化亜鉛や酸化亜鉛が挙げられる。
また、量子ドットは、表面原子の割合が高いことから、反応性が高く、凝集が起こりやすい。そのため、量子ドットの表面には保護剤が付着している又は保護基が設けられていることが好ましい。当該保護剤が付着している又は保護基が設けられていることによって、凝集を防ぎ、溶媒への溶解性を高めることができる。また、反応性を低減させ、電気的安定性を向上させることも可能である。保護剤(又は保護基)としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、トリプロピルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリヘキシルホスフィン、トリオクチルホスフィン等のトリアルキルホスフィン類、ポリオキシエチレンn−オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンn−ノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、トリ(n−ヘキシル)アミン、トリ(n−オクチル)アミン、トリ(n−デシル)アミン等の第3級アミン類、トリプロピルホスフィンオキシド、トリブチルホスフィンオキシド、トリヘキシルホスフィンオキシド、トリオクチルホスフィンオキシド、トリデシルホスフィンオキシド等の有機リン化合物、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレングリコールジエステル類、また、ピリジン、ルチジン、コリジン、キノリン類等の含窒素芳香族化合物等の有機窒素化合物、ヘキシルアミン、オクチルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、テトラデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン等のアミノアルカン類、ジブチルスルフィド等のジアルキルスルフィド類、ジメチルスルホキシドやジブチルスルホキシド等のジアルキルスルホキシド類、チオフェン等の含硫黄芳香族化合物等の有機硫黄化合物、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸等の高級脂肪酸、アルコール類、ソルビタン脂肪酸エステル類、脂肪酸変性ポリエステル類、3級アミン変性ポリウレタン類、ポリエチレンイミン類等が挙げられる。
量子ドットは、サイズが小さくなるに従いバンドギャップが大きくなるため、所望の波長の光が得られるように、そのサイズを適宜調整する。結晶のサイズが小さくなるにつれて、量子ドットの発光は青色側へ、つまり、高エネルギー側へシフトするため、量子ドットのサイズを変更させることにより、紫外領域、可視領域、赤外領域のスペクトルの波長領域にわたって、その発光波長を調整することができる。量子ドットのサイズ(直径)は、0.5nm乃至20nm、好ましくは1nm乃至10nmの範囲のものが通常良く用いられる。なお、量子ドットはそのサイズ分布が狭いほど、より発光スペクトルが狭線化し、色純度の良好な発光を得ることができる。また、量子ドットの形状は特に限定されず、球場、棒状、円盤状、その他の形状であってもよい。なお、棒状の量子ドットである量子ロッドは、指向性を有する光を呈する機能を有するため、量子ロッドを発光材料として用いることにより、より外部量子効率が良好な発光素子を得ることができる。
ところで、有機EL素子では多くの場合、発光材料をホスト材料に分散し、発光材料の濃度消光を抑制することによって発光効率を高めている。ホスト材料は発光材料以上の一重項励起エネルギー準位または三重項励起エネルギー準位を有する材料であることが必要である。特に、青色燐光材料を発光材料に用いる場合においては、それ以上の三重項励起エネルギー準位を有し、且つ、寿命の観点で優れたホスト材料が必要であり、その開発は困難を極めている。ここで、量子ドットは、ホスト材料を用いずに量子ドットのみで発光層を構成しても発光効率を保つことができるため、この点でも寿命という観点から好ましい発光素子を得ることができる。量子ドットのみで発光層を形成する場合には、量子ドットはコア−シェル構造(コア−マルチシェル構造を含む)であることが好ましい。
発光層の発光材料に量子ドットを用いる場合、当該発光層の膜厚は3nm乃至100nm、好ましくは10nm乃至100nmとし、発光層中の量子ドットの含有率は1乃至100体積%とする。ただし、量子ドットのみで発光層を形成することが好ましい。なお、当該量子ドットを発光材料としてホストに分散した発光層を形成する場合は、ホスト材料に量子ドットを分散させる、またはホスト材料と量子ドットとを適当な液媒体に溶解または分散させてウェットプロセス(スピンコート法、キャスト法、ダイコート法、ブレードコート法、ロールコート法、インクジェット法、印刷法、スプレーコート法、カーテンコート法、ラングミュア・ブロジェット法など)により形成すればよい。燐光性の発光材料を用いた発光層については、上記ウェットプロセスの他、真空蒸着法も好適に利用することができる。
ウェットプロセスに用いる液媒体としては、たとえば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル等の脂肪酸エステル類、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、キシレン、メシチレン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、シクロヘキサン、デカリン、ドデカン等の脂肪族炭化水素類、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)等の有機溶媒を用いることができる。
≪一対の電極≫
電極101及び電極102は、発光素子の陽極または陰極としての機能を有する。電極101及び電極102は、金属、合金、導電性化合物、およびこれらの混合物や積層体などを用いて形成することができる。
電極101または電極102の一方は、光を反射する機能を有する導電性材料により形成されると好ましい。該導電性材料としては、アルミニウム(Al)またはAlを含む合金等が挙げられる。Alを含む合金としては、AlとL(Lは、チタン(Ti)、ネオジム(Nd)、ニッケル(Ni)、及びランタン(La)の一つまたは複数を表す)とを含む合金等が挙げられ、例えばAlとTi、またはAlとNiとLaを含む合金等である。アルミニウムは、抵抗値が低く、光の反射率が高い。また、アルミニウムは、地殻における存在量が多く、安価であるため、アルミニウムを用いることによる発光素子の作製コストを低減することができる。また、銀(Ag)、またはAgとN(Nは、イットリウム(Y)、Nd、マグネシウム(Mg)、イッテルビウム(Yb)、Al、Ti、ガリウム(Ga)、亜鉛(Zn)、インジウム(In)、タングステン(W)、マンガン(Mn)、スズ(Sn)、鉄(Fe)、Ni、銅(Cu)、パラジウム(Pd)、イリジウム(Ir)、または金(Au)の一つまたは複数を表す)とを含む合金等を用いても良い。銀を含む合金としては、例えば、銀とパラジウムと銅を含む合金、銀と銅を含む合金、銀とマグネシウムを含む合金、銀とニッケルを含む合金、銀と金を含む合金、銀とイッテルビウムを含む合金等が挙げられる。その他、タングステン、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)、銅、チタンなどの遷移金属を用いることができる。
また、発光層から得られる発光は、電極101及び電極102の一方または双方を通して取り出される。したがって、電極101及び電極102の少なくとも一方は、光を透過する機能を有する導電性材料により形成されると好ましい。該導電性材料としては、可視光の透過率が40%以上100%以下、好ましくは60%以上100%以下であり、かつその抵抗率が1×10−2Ω・cm以下の導電性材料が挙げられる。
また、電極101及び電極102は、光を透過する機能と、光を反射する機能と、を有する導電性材料により形成されても良い。該導電性材料としては、可視光の反射率が20%以上80%以下、好ましくは40%以上70%以下であり、かつその抵抗率が1×10−2Ω・cm以下の導電性材料が挙げられる。例えば、導電性を有する金属、合金、導電性化合物などを1種又は複数種用いて形成することができる。具体的には、例えば、インジウム錫酸化物(Indium Tin Oxide、以下ITO)、珪素または酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(略称:ITSO)、酸化インジウム−酸化亜鉛(Indium Zinc Oxide)、チタンを含有した酸化インジウム−錫酸化物、インジウム−チタン酸化物、酸化タングステン及び酸化亜鉛を含有した酸化インジウムなどの金属酸化物を用いることができる。また、光を透過する程度(好ましくは、1nm以上30nm以下の厚さ)の金属薄膜を用いることができる。金属としては、例えば、Ag、またはAgとAl、AgとMg、AgとAu、AgとYbなどの合金等を用いることができる。
なお、本明細書等において、光を透過する機能を有する材料は、可視光を透過する機能を有し、且つ導電性を有する材料であればよく、例えば上記のようなITOに代表される酸化物導電体に加えて、酸化物半導体、または有機物を含む有機導電体を含む。有機物を含む有機導電体としては、例えば、有機化合物と電子供与体(ドナー)とを混合してなる複合材料、有機化合物と電子受容体(アクセプター)とを混合してなる複合材料等が挙げられる。また、グラフェンなどの無機炭素系材料を用いても良い。また、当該材料の抵抗率としては、好ましくは1×10Ω・cm以下、さらに好ましくは1×10Ω・cm以下である。
また、上記の材料の複数を積層することによって電極101及び電極102の一方または双方を形成してもよい。
また、光取り出し効率を向上させるため、光を透過する機能を有する電極と接して、該電極より屈折率の高い材料を形成してもよい。このような材料としては、可視光を透過する機能を有する材料であればよく、導電性を有する材料であっても有さない材料であってもよい。例えば、上記のような酸化物導電体に加えて、酸化物半導体、有機物が挙げられる。有機物としては、例えば、発光層、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、または電子注入層に例示した材料が挙げられる。また、無機炭素系材料や光が透過する程度の薄膜の金属も用いることができる。これら屈折率の高い材料を用いて、数nm乃至数十nmの層を複数積層させてもよい。
電極101または電極102が陰極としての機能を有する場合には、仕事関数が小さい(3.8eV以下)材料を有することが好ましい。例えば、元素周期表の第1族又は第2族に属する元素(リチウム、ナトリウム、セシウム等のアルカリ金属、カルシウム、ストロンチウム等のアルカリ土類金属、マグネシウム等)、これら元素を含む合金(例えば、AgとMg、AlとLi)、ユーロピウム(Eu)、Yb等の希土類金属、これら希土類金属を含む合金、アルミニウム、銀を含む合金等を用いることができる。
また、電極101または電極102を陽極として用いる場合、仕事関数の大きい(4.0eV以上)材料を用いることが好ましい。
また、電極101及び電極102は、光を反射する機能を有する導電性材料と、光を透過する機能を有する導電性材料との積層としてもよい。その場合、電極101及び電極102は、各発光層からの所望の波長の光を共振させ、所望の波長の光を強めることができるように、光学距離を調整する機能を有することができるため好ましい。
電極101及び電極102の成膜方法は、スパッタリング法、蒸着法、印刷法、塗布法、MBE(Molecular Beam Epitaxy)法、CVD法、パルスレーザ堆積法、ALD(Atomic Layer Deposition)法等を適宜用いることができる。
≪基板≫
また、本発明の一態様に係る発光素子は、ガラス、プラスチックなどからなる基板上に作製すればよい。基板上に作製する順番としては、電極101側から順に積層しても、電極102側から順に積層しても良い。
なお、本発明の一態様に係る発光素子を形成できる基板としては、例えばガラス、石英、又はプラスチックなどを用いることができる。また可撓性基板を用いてもよい。可撓性基板とは、曲げることができる(フレキシブル)基板のことであり、例えば、ポリカーボネート、ポリアリレート、からなるプラスチック基板等が挙げられる。また、フィルム、無機蒸着フィルムなどを用いることもできる。なお、発光素子、及び光学素子の作製工程において支持体として機能するものであれば、これら以外のものでもよい。あるいは、発光素子、及び光学素子を保護する機能を有するものであればよい。
例えば、本発明等においては、様々な基板を用いて発光素子を形成することが出来る。基板の種類は、特定のものに限定されることはない。その基板の一例としては、半導体基板(例えば単結晶基板又はシリコン基板)、SOI基板、ガラス基板、石英基板、プラスチック基板、金属基板、ステンレス・スチル基板、ステンレス・スチル・ホイルを有する基板、タングステン基板、タングステン・ホイルを有する基板、可撓性基板、貼り合わせフィルム、繊維状の材料を含む紙、又は基材フィルムなどがある。ガラス基板の一例としては、バリウムホウケイ酸ガラス、アルミノホウケイ酸ガラス、又はソーダライムガラスなどがある。可撓性基板、貼り合わせフィルム、基材フィルムなどの一例としては、以下のものがあげられる。例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)に代表されるプラスチックがある。または、一例としては、アクリル等の樹脂などがある。または、一例としては、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリフッ化ビニル、又はポリ塩化ビニルなどがある。または、一例としては、ポリアミド、ポリイミド、アラミド、エポキシ、無機蒸着フィルム、又は紙類などがある。
また、基板として、可撓性基板を用い、可撓性基板上に直接、発光素子を形成してもよい。または、基板と発光素子との間に剥離層を設けてもよい。剥離層は、その上に発光素子を一部あるいは全部完成させた後、基板より分離し、他の基板に転載するために用いることができる。その際、耐熱性の劣る基板や可撓性の基板にも発光素子を転載できる。なお、上述の剥離層には、例えば、タングステン膜と酸化シリコン膜との無機膜の積層構造の構成や、基板上にポリイミド等の樹脂膜が形成された構成等を用いることができる。
つまり、ある基板を用いて発光素子を形成し、その後、別の基板に発光素子を転置し、別の基板上に発光素子を配置してもよい。発光素子が転置される基板の一例としては、上述した基板に加え、セロファン基板、石材基板、木材基板、布基板(天然繊維(絹、綿、麻)、合成繊維(ナイロン、ポリウレタン、ポリエステル)若しくは再生繊維(アセテート、キュプラ、レーヨン、再生ポリエステル)などを含む)、皮革基板、又はゴム基板などがある。これらの基板を用いることにより、壊れにくい発光素子、耐熱性の高い発光素子、軽量化された発光素子、または薄型化された発光素子とすることができる。
また、上述した基板上に、例えば電界効果トランジスタ(FET)を形成し、FETと電気的に接続された電極上に発光素子150を作製してもよい。これにより、FETによって発光素子150の駆動を制御するアクティブマトリクス型の表示装置を作製できる。
なお、本実施の形態において、本発明の一態様について述べた。または、他の実施の形態において、本発明の一態様について述べる。ただし、本発明の一態様は、これらに限定されない。つまり、本実施の形態および他の実施の形態では、様々な発明の態様が記載されているため、本発明の一態様は、特定の態様に限定されない。例えば、本発明の一態様として、発光素子に適用した場合の例を示したが、本発明の一態様は、これに限定されない。例えば、場合によっては、または、状況に応じて、本発明の一態様は、発光素子に適用しなくてもよい。例えば、本発明の一態様では、EL層は、ジベンゾカルバゾール化合物を有する場合の例を示したが、本発明の一態様は、これに限定されない。場合によっては、EL層は、ジベンゾカルバゾール化合物を有さなくても良い。
以上、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態と適宜組み合わせて用いることができる。
(実施の形態4)
本実施の形態においては、実施の形態3に示す発光素子の構成と異なる構成の発光素子について、図3及び図4を用いて、以下説明を行う。なお、図3及び図4において、図2(A)に示す符号と同様の機能を有する箇所には、同様のハッチパターンとし、符号を省略する場合がある。また、同様の機能を有する箇所には、同様の符号を付し、その詳細な説明は省略する場合がある。
<発光素子の構成例1>
図3(A)は、発光素子250の断面模式図である。
図3(A)に示す発光素子250は、一対の電極(電極101及び電極102)の間に、複数の発光ユニット(図3(A)においては、発光ユニット106及び発光ユニット108)を有する。複数の発光ユニットのうちいずれか一つの発光ユニットは、図2で示すEL層100と同様な構成を有すると好ましい。つまり、図2で示した発光素子150は、1つの発光ユニットを有し、発光素子250は、複数の発光ユニットを有すると好ましい。なお、発光素子250において、電極101が陽極として機能し、電極102が陰極として機能するとして、以下説明するが、発光素子250の構成としては、逆であっても構わない。
また、図3(A)に示す発光素子250において、発光ユニット106と発光ユニット108とが積層されており、発光ユニット106と発光ユニット108との間には電荷発生層115が設けられる。なお、発光ユニット106と発光ユニット108は、同じ構成でも異なる構成でもよい。例えば、発光ユニット106に、図2で示すEL層100を用いると好ましい。
また、発光素子250は、発光層120と、発光層140と、を有する。また、発光ユニット106は、発光層120の他に、正孔注入層111、正孔輸送層112、電子輸送層113、及び電子注入層114を有する。また、発光ユニット108は、発光層140の他に、正孔注入層116、正孔輸送層117、電子輸送層118、及び電子注入層119を有する。
電荷発生層115は、正孔輸送性材料に電子受容体であるアクセプター性物質が添加された構成であっても、電子輸送性材料に電子供与体であるドナー性物質が添加された構成であってもよい。また、これらの両方の構成が積層されていても良い。
電荷発生層115に、有機化合物とアクセプター性物質の複合材料が含まれる場合、該複合材料には実施の形態3に示す正孔注入層111に用いることができる複合材料を用いればよい。有機化合物としては、芳香族アミン化合物、カルバゾール化合物、芳香族炭化水素、高分子化合物(オリゴマー、デンドリマー、ポリマー等)など、種々の化合物を用いることができる。なお、有機化合物としては、正孔移動度が1×10−6cm/Vs以上であるものを適用することが好ましい。ただし、電子よりも正孔の輸送性の高い物質であれば、これら以外のものを用いてもよい。有機化合物とアクセプター性物質の複合材料は、キャリア注入性、キャリア輸送性に優れているため、低電圧駆動、低電流駆動を実現することができる。なお、発光ユニット108のように、発光ユニットの陽極側の面が電荷発生層115に接している場合は、電荷発生層115が該発光ユニットの正孔注入層または正孔輸送層の役割も担うことができるため、該発光ユニットには正孔注入層または正孔輸送層を設けない構成であっても良い。
なお、電荷発生層115は、有機化合物とアクセプター性物質の複合材料を含む層と他の材料により構成される層を組み合わせた積層構造として形成してもよい。例えば、有機化合物とアクセプター性物質の複合材料を含む層と、電子供与性物質の中から選ばれた一の化合物と電子輸送性の高い化合物とを含む層とを組み合わせて形成してもよい。また、有機化合物とアクセプター性物質の複合材料を含む層と、透明導電膜を含む層とを組み合わせて形成してもよい。
なお、発光ユニット106と発光ユニット108とに挟まれる電荷発生層115は、電極101と電極102とに電圧を印加したときに、一方の発光ユニットに電子を注入し、他方の発光ユニットに正孔を注入するものであれば良い。例えば、図3(A)において、電極101の電位の方が電極102の電位よりも高くなるように電圧を印加した場合、電荷発生層115は、発光ユニット106に電子を注入し、発光ユニット108に正孔を注入する。
なお、電荷発生層115は、光取出し効率の点から、可視光に対して透光性(具体的には、電荷発生層115に対する可視光の透過率が40%以上)を有することが好ましい。また、電荷発生層115は、一対の電極(電極101及び電極102)よりも低い導電率であっても機能する。
上述した材料を用いて電荷発生層115を形成することにより、発光層が積層された場合における駆動電圧の上昇を抑制することができる。
また、図3(A)においては、2つの発光ユニットを有する発光素子について説明したが、3つ以上の発光ユニットを積層した発光素子についても、同様に適用することが可能である。発光素子250に示すように、一対の電極間に複数の発光ユニットを電荷発生層で仕切って配置することで、電流密度を低く保ったまま、高輝度発光を可能とし、さらに長寿命な発光素子を実現できる。また、消費電力が低い発光素子を実現することができる。
なお、複数のユニットのうち、少なくとも一つのユニットに、実施の形態3で示した構成を適用することによって、発光効率の高い、発光素子を提供することができる。
また、少なくとも一つの発光層に実施の形態1で説明したジベンゾカルバゾール化合物を用いることで、発光効率の高い発光素子を提供することができる。
また、本実施の形態において、発光ユニット106が有する発光層120は、図2(B)に示す発光層120と同様の構成とする。すなわち、発光層120は、ホスト材料121と、ゲスト材料122とを有する。
また、発光ユニット108が有する発光層140は、図3(B)に示すように、ホスト材料141と、ゲスト材料142とを有する。また、ホスト材料141は、有機化合物141_1と、有機化合物141_2とを有する。なお、ゲスト材料142は、燐光材料として、以下説明する。
≪発光層140の発光機構≫
発光層140の発光機構について、以下説明を行う。
発光層140が有する、有機化合物141_1と、有機化合物141_2とは励起錯体を形成する。
有機化合物141_1と有機化合物141_2との組み合わせは、互いに励起錯体を形成することが可能な組み合わせであればよいが、一方が正孔輸送性を有する化合物であり、他方が電子輸送性を有する化合物であることが、より好ましい。
発光層140における有機化合物141_1と、有機化合物141_2と、ゲスト材料142とのエネルギー準位の相関を図3(C)に示す。なお、図3(C)における表記及び符号は、以下の通りである。
・Host(141_1):有機化合物141_1(ホスト材料)
・Host(141_2):有機化合物141_2(ホスト材料)
・Guest(142):ゲスト材料142(燐光材料)
・SPH1:有機化合物141_1(ホスト材料)のS1準位
・TPH1:有機化合物141_1(ホスト材料)のT1準位
・SPH2:有機化合物141_2(ホスト材料)のS1準位
・TPH2:有機化合物141_2(ホスト材料)のT1準位
・TPG:ゲスト材料142(燐光材料)のT1準位
・S:励起錯体のS1準位
・T:励起錯体のT1準位
有機化合物141_1と有機化合物141_2とは励起錯体を形成し、該励起錯体のS1準位(S)とT1準位(T)は互いに隣接するエネルギー準位となる(図3(C) ルートE参照)。
有機化合物141_1及び有機化合物141_2は、一方がホールを、他方が電子を受け取ることで速やかに励起錯体を形成する。あるいは、一方が励起状態となると、速やかに他方と相互作用することで励起錯体を形成する。したがって、発光層140における励起子のほとんどが励起錯体として存在する。励起錯体の励起エネルギー準位(SまたはT)は、励起錯体を形成するホスト材料(有機化合物141_1及び有機化合物141_2)のS1準位(SPH1及びSPH2)より低くなるため、より低い励起エネルギーでホスト材料141の励起状態を形成することが可能となる。これによって、発光素子の駆動電圧を下げることができる。
そして、励起錯体の(S)と(T)の双方のエネルギーを、ゲスト材料142(燐光材料)のT1準位へ移動させて発光が得られる(図3(C) ルートE、E参照)。
なお、励起錯体のT1準位(T)は、ゲスト材料142のT1準位(TPG)より大きいことが好ましい。そうすることで、生成した励起錯体の一重項励起エネルギーおよび三重項励起エネルギーを、励起錯体のS1準位(S)およびT1準位(T)からゲスト材料142のT1準位(TPG)へエネルギー移動することができる。
また、励起錯体からゲスト材料142へ効率よく励起エネルギーを移動させるためには、励起錯体のT1準位(T)が、励起錯体を形成する各有機化合物(有機化合物141_1および有機化合物141_2)のT1準位(TPH1およびTPH2)と同等か、より小さいことが好ましい。これにより、各有機化合物(有機化合物141_1及び有機化合物141_2)による励起錯体の三重項励起エネルギーのクエンチが生じにくくなり、効率よく励起錯体からゲスト材料142へエネルギー移動が発生する。
また、有機化合物141_1と有機化合物141_2とが、効率よく励起錯体を形成するためには、有機化合物141_1および有機化合物141_2の一方のHOMO準位が他方のHOMO準位より高く、一方のLUMO準位が他方のLUMO準位より高いことが好ましい。例えば、有機化合物141_1が正孔輸送性を有し、有機化合物141_2が電子輸送性を有する場合、有機化合物141_1のHOMO準位が有機化合物141_2のHOMO準位より高いことが好ましく、有機化合物141_1のLUMO準位が有機化合物141_2のLUMO準位より高いことが好ましい。あるいは、有機化合物141_2が正孔輸送性を有し、有機化合物141_1が電子輸送性を有する場合、有機化合物141_2のHOMO準位が有機化合物141_1のHOMO準位より高いことが好ましく、有機化合物141_2のLUMO準位が有機化合物141_1のLUMO準位より高いことが好ましい。具体的には、有機化合物141_1のHOMO準位と有機化合物141_2のHOMO準位とのエネルギー差は、好ましくは0.05eV以上であり、より好ましくは0.1eV以上であり、さらに好ましくは0.2eV以上である。また、有機化合物141_1のLUMO準位と有機化合物141_2のLUMO準位とのエネルギー差は、好ましくは0.05eV以上であり、より好ましくは0.1eV以上であり、さらに好ましくは0.2eV以上である。
また、有機化合物141_1と有機化合物141_2との組み合わせが、正孔輸送性を有する化合物と電子輸送性を有する化合物との組み合わせである場合、その混合比によってキャリアバランスを容易に制御することが可能となる。具体的には、正孔輸送性を有する化合物:電子輸送性を有する化合物=1:9から9:1(重量比)の範囲が好ましい。また、該構成を有することで、容易にキャリアバランスを制御することができることから、キャリア再結合領域の制御も簡便に行うことができる。
<エネルギー移動機構>
次に、ホスト材料141と、ゲスト材料142との分子間のエネルギー移動過程の支配因子について説明する。分子間のエネルギー移動の機構としては、フェルスター機構(双極子−双極子相互作用)と、デクスター機構(電子交換相互作用)の2つの機構が提唱されている。ここでは、ホスト材料141とゲスト材料142との分子間のエネルギー移動過程について説明するが、ホスト材料141が励起錯体の場合も同様である。
≪フェルスター機構≫
フェルスター機構では、エネルギー移動に、分子間の直接的接触を必要とせず、ホスト材料141及びゲスト材料142間の双極子振動の共鳴現象を通じてエネルギー移動が起こる。双極子振動の共鳴現象によってホスト材料141がゲスト材料142にエネルギーを受け渡し、励起状態のホスト材料141が基底状態になり、基底状態のゲスト材料142が励起状態になる。なお、フェルスター機構の速度定数kh*→gを数式(1)に示す。
数式(1)において、νは、振動数を表し、f’(ν)は、ホスト材料141の規格化された発光スペクトル(一重項励起状態からのエネルギー移動を論じる場合は蛍光スペクトル、三重項励起状態からのエネルギー移動を論じる場合は燐光スペクトル)を表し、ε(ν)は、ゲスト材料142のモル吸光係数を表し、Nは、アボガドロ数を表し、nは、媒体の屈折率を表し、Rは、ホスト材料141とゲスト材料142の分子間距離を表し、τは、実測される励起状態の寿命(蛍光寿命や燐光寿命)を表し、cは、光速を表し、φは、発光量子収率(一重項励起状態からのエネルギー移動を論じる場合は蛍光量子収率、三重項励起状態からのエネルギー移動を論じる場合は燐光量子収率)を表し、Kは、ホスト材料141とゲスト材料142の遷移双極子モーメントの配向を表す係数(0から4)である。なお、ランダム配向の場合はK=2/3である。
≪デクスター機構≫
デクスター機構では、ホスト材料141とゲスト材料142が軌道の重なりを生じる接触有効距離に近づき、励起状態のホスト材料141の電子と、基底状態のゲスト材料142との電子の交換を通じてエネルギー移動が起こる。なお、デクスター機構の速度定数kh*→gを数式(2)に示す。
数式(2)において、hは、プランク定数であり、Kは、エネルギーの次元を持つ定数であり、νは、振動数を表し、f’(ν)は、ホスト材料141の規格化された発光スペクトル(一重項励起状態からのエネルギー移動を論じる場合は蛍光スペクトル、三重項励起状態からのエネルギー移動を論じる場合は燐光スペクトル)を表し、ε’(ν)は、ゲスト材料142の規格化された吸収スペクトルを表し、Lは、実効分子半径を表し、Rは、ホスト材料141とゲスト材料142の分子間距離を表す。
ここで、ホスト材料141からゲスト材料142へのエネルギー移動効率φETは、数式(3)で表される。kは、ホスト材料141の発光過程(一重項励起状態からのエネルギー移動を論じる場合は蛍光、三重項励起状態からのエネルギー移動を論じる場合は燐光)の速度定数を表し、kは、ホスト材料141の非発光過程(熱失活や項間交差)の速度定数を表し、τは、実測されるホスト材料141の励起状態の寿命を表す。
数式(3)より、エネルギー移動効率φETを高くするためには、エネルギー移動の速度定数kh*→gを大きくし、他の競合する速度定数k+k(=1/τ)が相対的に小さくなれば良いことがわかる。
≪エネルギー移動を高めるための概念≫
フェルスター機構によるエネルギー移動においては、エネルギー移動効率φETは、発光量子収率φ(一重項励起状態からのエネルギー移動を論じている場合は蛍光量子収率、三重項励起状態からのエネルギー移動を論じる場合は燐光量子収率)が高い方が良い。また、ホスト材料141の発光スペクトル(一重項励起状態からのエネルギー移動を論じる場合は蛍光スペクトル)とゲスト材料142の吸収スペクトル(一重項基底状態から三重項励起状態への遷移に相当する吸収)との重なりが大きいことが好ましい。さらに、ゲスト材料142のモル吸光係数も高い方が好ましい。このことは、ホスト材料141の発光スペクトルと、ゲスト材料142の最も長波長側に現れる吸収帯とが重なることを意味する。
また、デクスター機構によるエネルギー移動において、速度定数kh*→gを大きくするにはホスト材料141の発光スペクトル(一重項励起状態からのエネルギー移動を論じる場合は蛍光スペクトル、三重項励起状態からのエネルギー移動を論じる場合は燐光スペクトル)とゲスト材料142の吸収スペクトル(一重項基底状態から三重項励起状態への遷移に相当する吸収)との重なりが大きい方が良い。したがって、エネルギー移動効率の最適化は、ホスト材料141の発光スペクトルと、ゲスト材料142の最も長波長側に現れる吸収帯とが重なることによって実現される。
なお、ホスト材料141からゲスト材料142へのエネルギー移動と同様に、励起錯体からゲスト材料142へのエネルギー移動過程についても、フェルスター機構、及びデクスター機構の双方の機構によるエネルギー移動が生じる。
すなわち、ホスト材料141は、ゲスト材料142に効率的にエネルギー移動が可能なエネルギードナーとしての機能を有する励起錯体を形成する組み合わせの有機化合物141_1および有機化合物141_2を有する。有機化合物141_1および有機化合物141_2が形成する励起錯体は、有機化合物141_1および有機化合物141_2単体の励起状態より低い励起エネルギーで形成が可能となる。したがって、発光素子の駆動電圧を低減することができる。
さらに、励起錯体のS1準位からエネルギーアクセプターとなるゲスト材料142のT1準位へのエネルギー移動が生じやすくするためには、励起錯体の発光スペクトルと、ゲスト材料142の最も長波長側(低エネルギー側)に現れる吸収帯と、が重なると好ましい。そうすることで、ゲスト材料142の三重項励起状態の生成効率を高めることができる。
なお、発光層140において生成する励起錯体は、一重項励起エネルギー準位と三重項励起エネルギー準位とが近接しているという特徴を有するため、励起錯体の発光スペクトルとゲスト材料142の最も長波長側(低エネルギー側)に現れる吸収帯を重ねることで、励起錯体の三重項励起エネルギー準位からゲスト材料142の三重項励起エネルギー準位へのエネルギー移動も生じやすくすることが可能となる。
発光層140を上述の構成とすることで、発光層140のゲスト材料142(燐光材料)からの発光を、効率よく得ることが可能となる。
なお、上記に示すルートE乃至Eの過程を、本明細書等においてExTET(Exciplex−Triplet Energy Transfer)と呼称する場合がある。別言すると、発光層140は、励起錯体からゲスト材料142への励起エネルギーの供与がある。なお、この場合は必ずしもTからSへの逆項間交差効率が高い必要はなく、Sからの発光量子収率が高い必要もないため、材料を幅広く選択することが可能となる。
なお、上記各構成において、発光ユニット106および発光ユニット108に用いるゲスト材料が呈する発光色としては、同じであっても異なっていてもよい。発光ユニット106と発光ユニット108とで同じ色の発光を呈する機能を有するゲスト材料を有する場合、発光素子250は少ない電流値で高い発光輝度を呈する発光素子となり好ましい。また、発光ユニット106と発光ユニット108とで互いに異なる色の発光を呈する機能を有するゲスト材料を有する場合、発光素子250は多色発光を呈する発光素子となり好ましい。この場合、発光層120及び発光層140のいずれか一方または双方に発光波長の異なる複数の発光材料を用いることによって、発光素子250が呈する発光スペクトルは異なる発光ピークを有する発光が合成された光となるため、少なくとも二つの極大値を有する発光スペクトルとなる。
上記の構成は白色発光を得るためにも好適である。発光層120と発光層140との光を互いに補色の関係とすることによって、白色発光を得ることができる。特に、演色性の高い白色発光、あるいは少なくとも赤色と緑色と青色とを有する発光、になるようゲスト材料を選択することが好適である。
また、発光層120及び発光層140のいずれか一方または双方を層状にさらに分割し、当該分割した層ごとに異なる発光材料を含有させるようにしても良い。すなわち、発光層120及び発光層140のいずれか一方または双方は、2層以上の複数層でもって構成することもできる。例えば、第1の発光層と第2の発光層を正孔輸送層側から順に積層して発光層とする場合、第1の発光層のホスト材料として正孔輸送性を有する物質を用い、第2の発光層のホスト材料として電子輸送性を有する物質を用いる構成などがある。この場合、第1の発光層と第2の発光層とが有する発光材料は、同じ材料であっても異なる材料であってもよく、同じ色の発光を呈する機能を有する材料であっても、異なる色の発光を呈する機能を有する材料であってもよい。互いに異なる色の発光を呈する機能を有する複数の発光材料を有する構成により、三原色や、4色以上の発光色からなる演色性の高い白色発光を得ることもできる。
また、発光ユニット106と発光ユニット108とで発光色が異なるゲスト材料を有する場合、発光層120からの発光が、発光層140からの発光よりも短波長側に発光のピークを有する構成とすることが好ましい。高い三重項励起エネルギー準位を有する材料を用いた発光素子は輝度劣化が早い傾向がある。そこで、短波長な発光を呈する発光層に実施の形態1で説明したジベンゾカルバゾール化合物を有する構成を用いることによって、輝度劣化の小さい発光素子を提供することができる。
<発光素子の構成例2>
次に、図3に示す発光素子と異なる構成例について、図4(A)(B)(C)を用いて、以下説明を行う。
図4(A)は、発光素子252の断面模式図である。
図4(A)に示す発光素子252は、一対の電極(電極101及び電極102)の間にEL層110が挟まれた構造である。なお、発光素子252において、電極101が陽極として機能し、電極102が陰極として機能するとして、以下説明するが、発光素子252の構成としては、逆であっても構わない。
また、EL層110は、発光層180を有し、発光層180は、発光層120と、発光層140と、を有する。また、発光素子252において、EL層110として、発光層の他に、正孔注入層111、正孔輸送層112、電子輸送層113、及び電子注入層114が図示されているが、これらの積層構造は一例であり、発光素子252におけるEL層110の構成はこれらに限定されない。例えば、EL層110において、上記各層の積層順を変えてもよい。または、EL層110において、上記各層以外の機能層を設けてもよい。該機能層としては、例えば、正孔または電子の注入障壁を低減する機能、正孔または電子の輸送性を向上する機能、正孔または電子の輸送性を阻害する機能、正孔または電子を発生する機能、を有する構成であってもよい。
また、図4(B)に示すように、発光層120は、ホスト材料121と、ゲスト材料122とを有する。また、発光層140は、ホスト材料141と、ゲスト材料142とを有する。ホスト材料141は、有機化合物141_1と、有機化合物141_2とを有する。なお、ゲスト材料122が蛍光材料、ゲスト材料142が燐光材料として、以下説明する。
≪発光層180の発光機構≫
発光層120の発光機構としては、図2(B)(C)に示す発光層120と同様の発光機構である。また、発光層140の発光機構としては、図3(B)(C)に示す発光層140と同様の発光機構である。
図4(A)に示すように、発光層120と、発光層140とが互いに接する構成を有する場合、発光層120と発光層140との界面において、発光層140の励起錯体から発光層120のホスト材料121へのエネルギー移動(とくに三重項励起エネルギーのエネルギー移動)が起こったとしても、発光層120にて上記三重項励起エネルギーを発光に変換することができる。
なお、発光層120のホスト材料121のT1準位が、発光層140が有する有機化合物141_1及び有機化合物141_2のT1準位よりも低いと好ましい。また、発光層120において、ホスト材料121のS1準位がゲスト材料122(蛍光材料)のS1準位よりも高く、且つ、ホスト材料121のT1準位がゲスト材料122(蛍光材料)のT1準位よりも低いと好ましい。
具体的には、発光層120にTTAを用い、発光層140にExTETを用いる場合のエネルギー準位の相関を図4(C)に示す。なお、図4(C)における表記及び符号は、以下の通りである。
・Fluorescence EML(120):発光層120(蛍光発光層)
・Phosphorescence EML(140):発光層140(燐光発光層)
・Host(121):ホスト材料121
・Guest(122):ゲスト材料122(蛍光材料)
・Host(141_1):ホスト材料(有機化合物141_1)
・Guest(142):ゲスト材料142(燐光材料)
・Exciplex:励起錯体(有機化合物141_1及び有機化合物141_2)
・SFH:ホスト材料121のS1準位
・TFH:ホスト材料121のT1準位
・SFG:ゲスト材料122(蛍光材料)のS1準位
・TFG:ゲスト材料122(蛍光材料)のT1準位
・SPH:ホスト材料(有機化合物141_1)のS1準位
・TPH:ホスト材料(有機化合物141_1)のT1準位
・TPG:ゲスト材料142(燐光材料)のT1準位
・S:励起錯体のS1準位
・T:励起錯体のT1準位
図4(C)に示すように、励起錯体は励起状態でしか存在しないため、励起錯体と励起錯体との間の励起子拡散は生じにくい。また、励起錯体の励起エネルギー準位(S、T)は、発光層140の有機化合物141_1(すなわち、燐光材料のホスト材料)の励起エネルギー準位(SPH、TPH)よりも低いので、励起錯体から有機化合物141_1へのエネルギーの拡散も生じない。すなわち、燐光発光層(発光層140)内において、励起錯体の励起子拡散距離は短いため、燐光発光層(発光層140)の効率を保つことが可能となる。また、蛍光発光層(発光層120)と燐光発光層(発光層140)の界面において、燐光発光層(発光層140)の励起錯体の三重項励起エネルギーの一部が、蛍光発光層(発光層120)に拡散したとしても、その拡散によって生じた蛍光発光層(発光層120)の三重項励起エネルギーは、TTAを通じて発光に変換されるため、エネルギー損失を低減することが可能となる。
以上のように、発光素子252は、発光層140にExTETを利用し、且つ発光層120にTTAを利用することで、エネルギー損失が低減されるため、高い発光効率の発光素子とすることができる。また、発光素子252に示すように、発光層120と、発光層140とが互いに接する構成とする場合、上記エネルギー損失が低減されるとともに、EL層110の層数を低減させることができる。したがって、製造コストの少ない発光素子とすることができる。
なお、発光層120と発光層140とは互いに接していない構成であっても良い。この場合、発光層140中で生成する、有機化合物141_1、有機化合物141_2、またはゲスト材料142(燐光材料)の励起状態から発光層120中のホスト材料121、またはゲスト材料122(蛍光材料)へのデクスター機構によるエネルギー移動(特に三重項エネルギー移動)を防ぐことができる。したがって、発光層120と発光層140との間に設ける層は数nm程度の厚さがあればよい。具体的には、1nm以上5nm以下であると、駆動電圧の上昇を抑制することができ好適である。
発光層120と発光層140との間に設ける層は単一の材料で構成されていても良いが、正孔輸送性材料と電子輸送性材料の両方が含まれていても良い。単一の材料で構成する場合、バイポーラー性材料を用いても良い。ここでバイポーラー性材料とは、電子と正孔の移動度の比が100以下である材料を指す。また、正孔輸送性材料または電子輸送性材料などを使用しても良い。もしくは、そのうちの少なくとも一つは、発光層140のホスト材料(有機化合物141_1または有機化合物141_2)と同一の材料で形成しても良い。これにより、発光素子の作製が容易になり、また、駆動電圧が低減される。さらに、正孔輸送性材料と電子輸送性材料とで励起錯体を形成しても良く、これによって励起子の拡散を効果的に防ぐことができる。具体的には、発光層140のホスト材料(有機化合物141_1または有機化合物141_2)あるいはゲスト材料142(燐光材料)の励起状態から、発光層120のホスト材料121あるいはゲスト材料122(蛍光材料)へのエネルギー移動を防ぐことができる。
また、発光素子252においては、発光層120が正孔輸送層112側、発光層140が電子輸送層113側として説明したが、本発明の一態様の発光素子としては、これに限定されず、発光層120が電子輸送層113側、発光層140が正孔輸送層112側であっても構わない。
なお、発光素子252では、キャリアの再結合領域はある程度の分布を持って形成されることが好ましい。このため、発光層120または発光層140において、適度なキャリアトラップ性があることが好ましく、発光層140が有するゲスト材料142(燐光材料)が電子トラップ性を有していることが好ましい。または、発光層120が有するゲスト材料122(蛍光材料)が正孔トラップ性を有していることが好ましい。
なお、発光層120からの発光が、発光層140からの発光よりも短波長側に発光のピークを有する構成とすることが好ましい。短波長の発光を呈する燐光材料を用いた発光素子は輝度劣化が早い傾向がある。そこで、短波長の発光を蛍光発光とすることによって、輝度劣化の小さい発光素子を提供することができる。
また、発光層120と発光層140とで異なる発光波長の光を得ることによって、多色発光の素子とすることができる。この場合、発光スペクトルは異なる発光ピークを有する発光が合成された光となるため、少なくとも二つの極大値を有する発光スペクトルとなる。
また、上記の構成は白色発光を得るためにも好適である。発光層120と発光層140との光を互いに補色の関係とすることによって、白色発光を得ることができる。
また、発光層120及び発光層140のいずれか一方または双方に、発光波長の異なる複数の発光材料を用いることによって、三原色や、4色以上の発光色からなる演色性の高い白色発光を得ることもできる。この場合、発光層を層状にさらに分割し、当該分割した層ごとに異なる発光材料を含有させるようにしても良い。
<発光層に用いることができる材料の例>
次に、発光層120、及び発光層140に用いることのできる材料について、以下説明する。
≪発光層120に用いることのできる材料≫
発光層120中では、ホスト材料121が重量比で最も多く存在し、ゲスト材料122(蛍光材料)は、ホスト材料121中に分散される。ホスト材料121のS1準位は、ゲスト材料122(蛍光材料)のS1準位よりも高く、ホスト材料121のT1準位は、ゲスト材料122(蛍光材料)のT1準位よりも低いことが好ましい。
ホスト材料121として、実施の形態1で説明したジベンゾカルバゾール化合物を有することが好ましい。そうすることで、発光効率の高い発光素子を作製することができる。
発光層120において、ゲスト材料122としては、特に限定はないが、アントラセン誘導体、テトラセン誘導体、クリセン誘導体、フェナントレン誘導体、ピレン誘導体、ペリレン誘導体、スチルベン誘導体、アクリドン誘導体、クマリン誘導体、フェノキサジン誘導体、フェノチアジン誘導体などが好ましい。例えば、先の実施の形態3で例示した材料を用いることができる。
なお、発光層120は2層以上の複数層でもって構成することもできる。例えば、第1の発光層と第2の発光層を正孔輸送層側から順に積層して発光層120とする場合、第1の発光層のホスト材料として正孔輸送性を有する物質を用い、第2の発光層のホスト材料として電子輸送性を有する物質を用いる構成などがある。
また、発光層120において、ホスト材料121は、一種の化合物から構成されていても良く、複数の化合物から構成されていても良い。あるいは、発光層120において、ホスト材料121およびゲスト材料122以外の材料を有していても良い。
≪発光層140に用いることのできる材料≫
発光層140中では、ホスト材料141が重量比で最も多く存在し、ゲスト材料142(燐光材料)は、ホスト材料141中に分散される。発光層140のホスト材料141(有機化合物141_1及び有機化合物141_2)のT1準位は、ゲスト材料142のT1準位よりも高いことが好ましい。
有機化合物141_1としては、亜鉛やアルミニウム系金属錯体の他、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、キノキサリン誘導体、ジベンゾキノキサリン誘導体、ジベンゾチオフェン誘導体、ジベンゾフラン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体、ピリジン誘導体、ビピリジン誘導体、フェナントロリン誘導体などが挙げられる。他の例としては、芳香族アミンやカルバゾール誘導体などが挙げられる。具体的には、実施の形態3で示した電子輸送性材料および正孔輸送性材料を用いることができる。
有機化合物141_2としては、有機化合物141_1と励起錯体を形成できる組み合わせが好ましい。具体的には、実施の形態3で示した電子輸送性材料および正孔輸送性材料を用いることができる。この場合、有機化合物141_1と有機化合物141_2とで形成される励起錯体の発光ピークが、ゲスト材料142(燐光材料)の三重項MLCT(Metal to Ligand Charge Transfer)遷移の吸収帯、より具体的には、最も長波長側の吸収帯と重なるように、有機化合物141_1、有機化合物141_2、およびゲスト材料142(燐光材料)を選択することが好ましい。これにより、発光効率が飛躍的に向上した発光素子とすることができる。ただし、燐光材料に替えて熱活性化遅延蛍光材料を用いる場合においては、最も長波長側の吸収帯は一重項の吸収帯であることが好ましい。
ゲスト材料142(燐光材料)としては、イリジウム、ロジウム、または白金系の有機金属錯体、あるいは金属錯体が挙げられ、中でも有機イリジウム錯体、例えばイリジウム系オルトメタル錯体が好ましい。オルトメタル化する配位子としては4H−トリアゾール配位子、1H−トリアゾール配位子、イミダゾール配位子、ピリジン配位子、ピリミジン配位子、ピラジン配位子、あるいはイソキノリン配位子などが挙げられる。金属錯体としては、ポルフィリン配位子を有する白金錯体などが挙げられる。
また、青色または緑色に発光ピークを有する物質としては、例えば、トリス{2−[5−(2−メチルフェニル)−4−(2,6−ジメチルフェニル)−4H−1,2,4−トリアゾール−3−イル−κN2]フェニル−κC}イリジウム(III)(略称:Ir(mpptz−dmp))、トリス(5−メチル−3,4−ジフェニル−4H−1,2,4−トリアゾラト)イリジウム(III)(略称:Ir(Mptz))、トリス[4−(3−ビフェニル)−5−イソプロピル−3−フェニル−4H−1,2,4−トリアゾラト]イリジウム(III)(略称:Ir(iPrptz−3b))、トリス[3−(5−ビフェニル)−5−イソプロピル−4−フェニル−4H−1,2,4−トリアゾラト]イリジウム(III)(略称:Ir(iPr5btz))、のような4H−トリアゾール骨格を有する有機金属イリジウム錯体や、トリス[3−メチル−1−(2−メチルフェニル)−5−フェニル−1H−1,2,4−トリアゾラト]イリジウム(III)(略称:Ir(Mptz1−mp))、トリス(1−メチル−5−フェニル−3−プロピル−1H−1,2,4−トリアゾラト)イリジウム(III)(略称:Ir(Prptz1−Me))のような1H−トリアゾール骨格を有する有機金属イリジウム錯体や、fac−トリス[1−(2,6−ジイソプロピルフェニル)−2−フェニル−1H−イミダゾール]イリジウム(III)(略称:Ir(iPrpmi))、トリス[3−(2,6−ジメチルフェニル)−7−メチルイミダゾ[1,2−f]フェナントリジナト]イリジウム(III)(略称:Ir(dmpimpt−Me))のようなイミダゾール骨格を有する有機金属イリジウム錯体や、ビス[2−(4’,6’−ジフルオロフェニル)ピリジナト−N,C2’]イリジウム(III)テトラキス(1−ピラゾリル)ボラート(略称:FIr6)、ビス[2−(4’,6’−ジフルオロフェニル)ピリジナト−N,C2’]イリジウム(III)ピコリナート(略称:FIrpic)、ビス{2−[3’,5’−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ピリジナト−N,C2’}イリジウム(III)ピコリナート(略称:Ir(CFppy)(pic))、ビス[2−(4’,6’−ジフルオロフェニル)ピリジナト−N,C2’]イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:FIr(acac))のような電子吸引基を有するフェニルピリジン誘導体を配位子とする有機金属イリジウム錯体が挙げられる。
緑色または黄色に発光ピークを有する物質としては、例えば、トリス(4−メチル−6−フェニルピリミジナト)イリジウム(III)(略称:Ir(mppm))、トリス(4−t−ブチル−6−フェニルピリミジナト)イリジウム(III)(略称:Ir(tBuppm))、(アセチルアセトナト)ビス(6−メチル−4−フェニルピリミジナト)イリジウム(III)(略称:Ir(mppm)(acac))、(アセチルアセトナト)ビス(6−tert−ブチル−4−フェニルピリミジナト)イリジウム(III)(略称:Ir(tBuppm)(acac))、(アセチルアセトナト)ビス[4−(2−ノルボルニル)−6−フェニルピリミジナト]イリジウム(III)(略称:Ir(nbppm)(acac))、(アセチルアセトナト)ビス[5−メチル−6−(2−メチルフェニル)−4−フェニルピリミジナト]イリジウム(III)(略称:Ir(mpmppm)(acac))、(アセチルアセトナト)ビス{4,6−ジメチル−2−[6−(2,6−ジメチルフェニル)−4−ピリミジニル−κN3]フェニル−κC}イリジウム(III)(略称:Ir(dmppm−dmp)(acac))、(アセチルアセトナト)ビス(4,6−ジフェニルピリミジナト)イリジウム(III)(略称:Ir(dppm)(acac))のようなピリミジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体や、(アセチルアセトナト)ビス(3,5−ジメチル−2−フェニルピラジナト)イリジウム(III)(略称:Ir(mppr−Me)(acac))、(アセチルアセトナト)ビス(5−イソプロピル−3−メチル−2−フェニルピラジナト)イリジウム(III)(略称:Ir(mppr−iPr)(acac))のようなピラジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体や、トリス(2−フェニルピリジナト−N,C2’)イリジウム(III)(略称:Ir(ppy))、ビス(2−フェニルピリジナト−N,C2’)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:Ir(ppy)(acac))、ビス(ベンゾ[h]キノリナト)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:Ir(bzq)(acac))、トリス(ベンゾ[h]キノリナト)イリジウム(III)(略称:Ir(bzq))、トリス(2−フェニルキノリナト−N,C2’)イリジウム(III)(略称:Ir(pq))、ビス(2−フェニルキノリナト−N,C2’)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:Ir(pq)(acac))のようなピリジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体や、ビス(2,4−ジフェニル−1,3−オキサゾラト−N,C2’)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:Ir(dpo)(acac))、ビス{2−[4’−(パーフルオロフェニル)フェニル]ピリジナト−N,C2’}イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:Ir(p−PF−ph)(acac))、ビス(2−フェニルベンゾチアゾラト−N,C2’)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:Ir(bt)(acac))など有機金属イリジウム錯体の他、トリス(アセチルアセトナト)(モノフェナントロリン)テルビウム(III)(略称:Tb(acac)(Phen))のような希土類金属錯体が挙げられる。上述した中でも、ピリミジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体は、信頼性や発光効率にも際だって優れるため、特に好ましい。
また、黄色または赤色に発光ピークを有する物質としては、例えば、(ジイソブチリルメタナト)ビス[4,6−ビス(3−メチルフェニル)ピリミジナト]イリジウム(III)(略称:Ir(5mdppm)(dibm))、ビス[4,6−ビス(3−メチルフェニル)ピリミジナト](ジピバロイルメタナト)イリジウム(III)(略称:Ir(5mdppm)(dpm))、ビス[4,6−ジ(ナフタレン−1−イル)ピリミジナト](ジピバロイルメタナト)イリジウム(III)(略称:Ir(d1npm)(dpm))のようなピリミジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体や、(アセチルアセトナト)ビス(2,3,5−トリフェニルピラジナト)イリジウム(III)(略称:Ir(tppr)(acac))、ビス(2,3,5−トリフェニルピラジナト)(ジピバロイルメタナト)イリジウム(III)(略称:Ir(tppr)(dpm))、(アセチルアセトナト)ビス[2,3−ビス(4−フルオロフェニル)キノキサリナト]イリジウム(III)(略称:Ir(Fdpq)(acac))のようなピラジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体や、トリス(1−フェニルイソキノリナト−N,C2’)イリジウム(III)(略称:Ir(piq))、ビス(1−フェニルイソキノリナト−N,C2’)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:Ir(piq)(acac))のようなピリジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体の他、2,3,7,8,12,13,17,18−オクタエチル−21H,23H−ポルフィリン白金(II)(略称:PtOEP)のような白金錯体や、トリス(1,3−ジフェニル−1,3−プロパンジオナト)(モノフェナントロリン)ユーロピウム(III)(略称:Eu(DBM)(Phen))、トリス[1−(2−テノイル)−3,3,3−トリフルオロアセトナト](モノフェナントロリン)ユーロピウム(III)(略称:Eu(TTA)(Phen))のような希土類金属錯体が挙げられる。上述した中でも、ピリミジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体は、信頼性や発光効率にも際だって優れるため、特に好ましい。また、ピラジン骨格を有する有機金属イリジウム錯体は、色度の良い赤色発光が得られる。
また、発光層に含まれる発光性の有機材料としては、三重項励起エネルギーを発光に変換できる材料であればよい。該三重項励起エネルギーを発光に変換できる材料としては、燐光材料の他に、熱活性化遅延蛍光材料が挙げられる。したがって、燐光材料と記載した部分に関しては、熱活性化遅延蛍光材料と読み替えても構わない。なお、熱活性化遅延蛍光材料は、一重項励起エネルギー準位と三重項励起エネルギー準位のエネルギー差が小さく、三重項励起エネルギーを逆項間交差によって一重項励起エネルギーに変換することができる機能を有する材料である。そのため、三重項励起状態をわずかな熱エネルギーによって一重項励起状態に逆項間交差が可能で、一重項励起状態からの発光(蛍光)を効率よく呈することができる。また、熱活性化遅延蛍光が効率良く得られる条件としては、三重項励起エネルギー準位と一重項励起エネルギー準位のエネルギー差が、好ましくは0eVより大きく0.2eV以下、さらに好ましくは0eVより大きく0.1eV以下であることが挙げられる。
熱活性化遅延蛍光材料としては、例えば以下の材料を用いることができる。まず、フラーレンやその誘導体、プロフラビン等のアクリジン誘導体、エオシン等が挙げられる。また、マグネシウム(Mg)、亜鉛(Zn)、カドミウム(Cd)、スズ(Sn)、白金(Pt)、インジウム(In)、もしくはパラジウム(Pd)等を含む金属含有ポルフィリンが挙げられる。該金属含有ポルフィリンとしては、例えば、プロトポルフィリン−フッ化スズ錯体(略称:SnF(Proto IX))、メソポルフィリン−フッ化スズ錯体(略称:SnF(Meso IX))、ヘマトポルフィリン−フッ化スズ錯体(略称:SnF(Hemato IX))、コプロポルフィリンテトラメチルエステル−フッ化スズ錯体(略称:SnF(Copro III−4Me))、オクタエチルポルフィリン−フッ化スズ錯体(略称:SnF(OEP))、エチオポルフィリン−フッ化スズ錯体(略称:SnF(Etio I))、オクタエチルポルフィリン−塩化白金錯体(略称:PtClOEP)等が挙げられる。
また、一種の材料から構成される熱活性化遅延蛍光材料としては、π電子過剰型複素芳香環及びπ電子不足型複素芳香環を有する複素環化合物も用いることができる。具体的には、2−(ビフェニル−4−イル)−4,6−ビス(12−フェニルインドロ[2,3−a]カルバゾール−11−イル)−1,3,5−トリアジン(略称:PIC−TRZ)、2−{4−[3−(N−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)−9H−カルバゾール−9−イル]フェニル}−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン(略称:PCCzPTzn)、2−[4−(10H−フェノキサジン−10−イル)フェニル]−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン(略称:PXZ−TRZ)、3−[4−(5−フェニル−5,10−ジヒドロフェナジン−10−イル)フェニル]−4,5−ジフェニル−1,2,4−トリアゾール(略称:PPZ−3TPT)、3−(9,9−ジメチル−9H−アクリジン−10−イル)−9H−キサンテン−9−オン(略称:ACRXTN)、ビス[4−(9,9−ジメチル−9,10−ジヒドロアクリジン)フェニル]スルホン(略称:DMAC−DPS)、10−フェニル−10H,10’H−スピロ[アクリジン−9,9’−アントラセン]−10’−オン(略称:ACRSA)等が挙げられる。該複素環化合物は、π電子過剰型複素芳香環及びπ電子不足型複素芳香環を有するため、電子輸送性及び正孔輸送性が高く、好ましい。なお、π電子過剰型複素芳香環とπ電子不足型複素芳香環とが直接結合した物質は、π電子過剰型複素芳香環のドナー性とπ電子不足型複素芳香環のアクセプター性が共に強く、一重項励起状態の準位と三重項励起状態の準位の差が小さくなるため、特に好ましい。なお、π電子不足型複素芳香環の代わりに、シアノ基のような電子吸引基が結合した芳香環を用いても良い。
また、発光層120、及び発光層140に含まれる発光材料の発光色に限定は無く、それぞれ同じでも異なっていても良い。各々から得られる発光が混合されて素子外へ取り出されるので、例えば両者の発光色が互いに補色の関係にある場合、発光素子は白色の光を与えることができる。発光素子の信頼性を考慮すると、発光層120に含まれる発光材料の発光ピーク波長は発光層140に含まれる発光材料のそれよりも短いことが好ましい。
なお、発光ユニット106、発光ユニット108、及び電荷発生層115は、蒸着法(真空蒸着法を含む)、インクジェット法、塗布法、グラビア印刷等の方法で形成することができる。
以上、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示した構成と適宜組み合わせて用いることができる。
(実施の形態5)
本実施の形態では、実施の形態3及び実施の形態4に示す構成と異なる構成の発光素子の例について、図5乃至図8を用いて以下に説明する。
<発光素子の構成例1>
図5(A)(B)は、本発明の一態様の発光素子を示す断面図である。なお、図5(A)(B)において、図2(A)に示す符号と同様の機能を有する箇所には、同様のハッチパターンとし、符号を省略する場合がある。また、同様の機能を有する箇所には、同様の符号を付し、その詳細な説明は省略する場合がある。
図5(A)(B)に示す発光素子260a及び発光素子260bは、基板200側に光を取り出す下面射出(ボトムエミッション)型の発光素子であってもよく、基板200と反対方向に光を取り出す上面射出(トップエミッション)型の発光素子であってもよい。なお、本発明の一態様はこれに限定されず、発光素子が呈する光を基板200の上方および下方の双方に取り出す両面射出(デュアルエミッション)型の発光素子であっても良い。
発光素子260a及び発光素子260bが、ボトムエミッション型である場合、電極101は、光を透過する機能を有することが好ましい。また、電極102は、光を反射する機能を有することが好ましい。あるいは、発光素子260a及び発光素子260bが、トップエミッション型である場合、電極101は、光を反射する機能を有することが好ましい。また、電極102は、光を透過する機能を有することが好ましい。
発光素子260a及び発光素子260bは、基板200上に電極101と、電極102とを有する。また、電極101と電極102との間に、発光層123Bと、発光層123Gと、発光層123Rと、を有する。また、正孔注入層111と、正孔輸送層112と、電子輸送層113と、電子注入層114と、を有する。
また、発光素子260bは、電極101の構成の一部として、導電層101aと、導電層101a上の導電層101bと、導電層101a下の導電層101cとを有する。すなわち、発光素子260bは、導電層101aが、導電層101bと、導電層101cとで挟持された電極101の構成を有する。
発光素子260bにおいて、導電層101bと、導電層101cとは、異なる材料で形成されてもよく、同じ材料で形成されても良い。導電層101bと導電層101cとが、同じ導電性材料で形成される場合、電極101の形成過程におけるエッチング工程によるパターン形成が容易になるため好ましい。
なお、発光素子260bにおいて、導電層101bまたは導電層101cにおいて、いずれか一方のみを有する構成としてもよい。
なお、電極101が有する導電層101a、101b、及び101cは、それぞれ実施の形態3で示した電極101または電極102と同様の構成および材料を用いることができる。
図5(A)(B)においては、電極101と電極102とで挟持された領域221B、領域221G、及び領域221R、の間に隔壁145を有する。隔壁145は、絶縁性を有する。隔壁145は、電極101の端部を覆い、該電極と重畳する開口部を有する。隔壁145を設けることによって、各領域の基板200上の電極101を、それぞれ島状に分離することが可能となる。
なお、発光層123Bと、発光層123Gとは、隔壁145と重畳する領域において、互いに重なる領域を有していてもよい。あるいは、発光層123Gと、発光層123Rとは、隔壁145と重畳する領域において、互いに重なる領域を有していてもよい。あるいは、発光層123Rと、発光層123Bとは、隔壁145と重畳する領域において、互いに重なる領域を有していてもよい。
隔壁145としては、絶縁性であればよく、無機材料または有機材料を用いて形成される。該無機材料としては、酸化シリコン、酸化窒化シリコン、窒化酸化シリコン、窒化シリコン、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム等が挙げられる。該有機材料としては、例えば、アクリル樹脂、またはポリイミド樹脂等の感光性の樹脂材料が挙げられる。
なお、酸化窒化シリコン膜とは、その組成として、窒素よりも酸素の含有量が多い膜を指し、好ましくは酸素が55原子%以上65原子%以下、窒素が1原子%以上20原子%以下、シリコンが25原子%以上35原子%以下、水素が0.1原子%以上10原子%以下の範囲で含まれるものをいう。窒化酸化シリコン膜とは、その組成として、酸素よりも窒素の含有量が多い膜を指し、好ましくは窒素が55原子%以上65原子%以下、酸素が1原子%以上20原子%以下、シリコンが25原子%以上35原子%以下、水素が0.1原子%以上10原子%以下の濃度範囲で含まれるものをいう。
また、発光層123R、発光層123G、発光層123Bは、それぞれ異なる色を呈する機能を有する発光材料を有することが好ましい。例えば、発光層123Rが赤色を呈する機能を有する発光材料を有することで、領域221Rは赤色の発光を呈し、発光層123Gが緑色を呈する機能を有する発光材料を有することで、領域221Gは緑色の発光を呈し、発光層123Bが青色を呈する機能を有する発光材料を有することで、領域221Bは青色の発光を呈する。このような構成を有する発光素子260aまたは発光素子260bを、表示装置の画素に用いることで、フルカラー表示が可能な表示装置を作製することができる。また、それぞれの発光層の膜厚は、同じであっても良いし、異なっていても良い。
また、発光層123B、発光層123G、発光層123R、のいずれか一つまたは複数の発光層は、実施の形態3で示した発光層120の構成を有することが好ましい。そうすることで、発光効率の良好な発光素子を作製することができる。
なお、発光層123B、発光層123G、発光層123R、のいずれか一つまたは複数の発光層は、2層以上が積層された構成としても良い。
以上のように、少なくとも一つの発光層が実施の形態3で示した発光層の構成を有し、該発光層を有する発光素子260aまたは発光素子260bを、表示装置の画素に用いることで、発光効率の高い表示装置を作製することができる。すなわち、発光素子260aまたは発光素子260bを有する表示装置は、消費電力を低減することができる。
なお、光を取り出す電極の光を取り出す方向に、光学素子(例えば、カラーフィルタ、偏光板、反射防止膜等)を設けることで、発光素子260a及び発光素子260bの色純度を向上させることができる。そのため、発光素子260aまたは発光素子260bを有する表示装置の色純度を高めることができる。あるいは、発光素子260a及び発光素子260bの外光反射を低減することができる。そのため、発光素子260aまたは発光素子260bを有する表示装置のコントラスト比を高めることができる。
なお、発光素子260a及び発光素子260bにおける他の構成については、実施の形態3、及び実施の形態4における発光素子の構成を参酌すればよい。
<発光素子の構成例2>
次に、図5(A)(B)に示す発光素子と異なる構成例について、図6(A)(B)を用いて、以下説明を行う。
図6(A)(B)は、本発明の一態様の発光素子を示す断面図である。なお、図6(A)(B)において、図5(A)(B)に示す符号と同様の機能を有する箇所には、同様のハッチパターンとし、符号を省略する場合がある。また、同様の機能を有する箇所には、同様の符号を付し、その詳細な説明は省略する場合がある。
図6(A)(B)は、一対の電極間に、発光層を有する発光素子の構成例である。図6(A)に示す発光素子262aは、基板200と反対の方向に光を取り出す上面射出(トップエミッション)型の発光素子、図6(B)に示す発光素子262bは、基板200側に光を取り出す下面射出(ボトムエミッション)型の発光素子である。ただし、本発明の一態様はこれに限定されず、発光素子が呈する光を発光素子が形成される基板200の上方および下方の双方に取り出す両面射出(デュアルエミッション)型であっても良い。
発光素子262a及び発光素子262bは、基板200上に電極101と、電極102と、電極103と、電極104とを有する。また、電極101と電極102との間、及び電極102と電極103との間、及び電極102と電極104との間に、少なくとも発光層170と、発光層190と、電荷発生層115とを有する。また、正孔注入層111と、正孔輸送層112と、電子輸送層113と、電子注入層114と、正孔注入層116と、正孔輸送層117と、電子輸送層118と、電子注入層119と、を有する。
また、電極101は、導電層101aと、導電層101a上に接する導電層101bと、を有する。また、電極103は、導電層103aと、導電層103a上に接する導電層103bと、を有する。電極104は、導電層104aと、導電層104a上に接する導電層104bと、を有する。
図6(A)に示す発光素子262a、及び図6(B)に示す発光素子262bは、電極101と電極102とで挟持された領域222B、電極102と電極103とで挟持された領域222G、及び電極102と電極104とで挟持された領域222R、の間に、隔壁145を有する。隔壁145は、絶縁性を有する。隔壁145は、電極101、電極103、及び電極104の端部を覆い、該電極と重畳する開口部を有する。隔壁145を設けることによって、各領域の基板200上の該電極を、それぞれ島状に分離することが可能となる。
また、電荷発生層115としては、正孔輸送性材料に電子受容体(アクセプター)が添加された材料、または電子輸送性材料に電子供与体(ドナー)が添加された材料により、形成することができる。なお、電荷発生層115の導電率が一対の電極と同程度に高い場合、電荷発生層115によって発生したキャリアが、隣接する画素に流れて、隣接する画素が発光してしまう場合がある。したがって、隣接する画素が不正に発光することを抑制するためには、電荷発生層115は、一対の電極よりも導電率が低い材料で形成されると好ましい。
また、発光素子262a及び発光素子262bは、領域222B、領域222G、及び領域222Rから呈される光が取り出される方向に、それぞれ光学素子224B、光学素子224G、及び光学素子224Rを有する基板220を有する。各領域から呈される光は、各光学素子を介して発光素子外部に射出される。すなわち、領域222Bから呈される光は、光学素子224Bを介して射出され、領域222Gから呈される光は、光学素子224Gを介して射出され、領域222Rから呈される光は、光学素子224Rを介して射出される。
また、光学素子224B、光学素子224G、及び光学素子224Rは、入射される光から特定の色を呈する光を選択的に透過する機能を有する。例えば、光学素子224Bを介して射出される領域222Bから呈される光は、青色を呈する光となり、光学素子224Gを介して射出される領域222Gから呈される光は、緑色を呈する光となり、光学素子224Rを介して射出される領域222Rから呈される光は、赤色を呈する光となる。
光学素子224R、光学素子224G、及び光学素子224Bには、例えば、着色層(カラーフィルタともいう)、バンドパスフィルタ、多層膜フィルタなどを適用できる。また、光学素子に色変換素子を適用することができる。色変換素子は、入射される光を、当該光の波長より長い波長の光に変換する光学素子である。色変換素子として、量子ドットを用いる素子であると好適である。量子ドットを用いることにより、表示装置の色再現性を高めることができる。
なお、光学素子224R、光学素子224G、及び光学素子224B上に他の光学素子を一または複数、重ねて設けてもよい。他の光学素子としては、例えば円偏光板や反射防止膜などを設けることができる。円偏光板を、表示装置の発光素子が発する光が取り出される側に設けると、表示装置の外部から入射した光が、表示装置の内部で反射されて、外部に射出される現象を防ぐことができる。また、反射防止膜を設けると、表示装置の表面で反射される外光を弱めることができる。これにより、表示装置が発する発光を、鮮明に観察できる。
なお、図6(A)(B)において、各光学素子を介して各領域から射出される光を、青色(B)を呈する光、緑色(G)を呈する光、赤色(R)を呈する光、として、それぞれ破線の矢印で模式的に図示している。
また、各光学素子の間には、遮光層223を有する。遮光層223は、隣接する領域から発せられる光を遮光する機能を有する。なお、遮光層223を設けない構成としても良い。
遮光層223としては、外光の反射を抑制する機能を有する。または、遮光層223としては、隣接する発光素子から発せられる光の混色を防ぐ機能を有する。遮光層223としては、金属、黒色顔料を含んだ樹脂、カーボンブラック、金属酸化物、複数の金属酸化物の固溶体を含む複合酸化物等を用いることができる。
なお、光学素子224Bと、光学素子224Gとは、遮光層223と重畳する領域において、互いに重なる領域を有していても良い。あるいは、光学素子224Gと、光学素子224Rとは、遮光層223と重畳する領域において、互いに重なる領域を有していても良い。あるいは、光学素子224Rと、光学素子224Bとは、遮光層223と重畳する領域において、互いに重なる領域を有していても良い。
また、基板200、及び光学素子を有する基板220の構成としては、実施の形態3を参酌すればよい。
さらに、発光素子262a及び発光素子262bは、マイクロキャビティ構造を有する。
≪マイクロキャビティ構造≫
発光層170、及び発光層190から射出される光は、一対の電極(例えば、電極101と電極102)の間で共振される。また、発光層170及び発光層190は、射出される光のうち所望の波長の光が強まる位置に形成される。例えば、電極101の反射領域から発光層170の発光領域までの光学距離と、電極102の反射領域から発光層170の発光領域までの光学距離と、を調整することにより、発光層170から射出される光のうち所望の波長の光を強めることができる。また、電極101の反射領域から発光層190の発光領域までの光学距離と、電極102の反射領域から発光層190の発光領域までの光学距離と、を調整することにより、発光層190から射出される光のうち所望の波長の光を強めることができる。すなわち、複数の発光層(ここでは、発光層170及び発光層190)を積層する発光素子の場合、発光層170及び発光層190のそれぞれの光学距離を最適化することが好ましい。
また、発光素子262a及び発光素子262bにおいては、各領域で導電層(導電層101b、導電層103b、及び導電層104b)の厚さを調整することで、発光層170及び発光層190から呈される光のうち所望の波長の光を強めることができる。なお、各領域で正孔注入層111及び正孔輸送層112のうち少なくとも一つ、あるいは電子注入層119及び電子輸送層118のうち少なくとも一つ、の厚さを異ならせることで、発光層170及び発光層190から呈される光を強めても良い。
例えば、電極101乃至電極104において、光を反射する機能を有する導電性材料の屈折率が、発光層170または発光層190の屈折率よりも小さい場合においては、電極101が有する導電層101bの膜厚を、電極101と電極102との間の光学距離がmλ/2(mは自然数、λは領域222Bで強める光の波長を、それぞれ表す)となるよう調整する。同様に、電極103が有する導電層103bの膜厚を、電極103と電極102との間の光学距離がmλ/2(mは自然数、λは領域222Gで強める光の波長を、それぞれ表す)となるよう調整する。さらに、電極104が有する導電層104bの膜厚を、電極104と電極102との間の光学距離がmλ/2(mは自然数、λは領域222Rで強める光の波長を、それぞれ表す)となるよう調整する。
なお、電極101乃至電極104の反射領域を厳密に決定することが困難な場合、電極101乃至電極104の任意の領域を反射領域と仮定することで、発光層170または発光層190から射出される光を強める光学距離を導出してもよい。また、発光層170および発光層190の発光領域を厳密に決定することは困難な場合、発光層170および発光層190の任意の領域を発光領域と仮定することで、発光層170および発光層190から射出される光を強める光学距離を導出してもよい。
上記のように、マイクロキャビティ構造を設け、各領域の一対の電極間の光学距離を調整することで、各電極近傍における光の散乱および光の吸収を抑制し、高い光取り出し効率を実現することができる。
なお、上記構成においては、導電層101b、導電層103b、導電層104bは、光を透過する機能を有することが好ましい。また、導電層101b、導電層103b、導電層104b、を構成する材料は、互いに同じであっても良いし、異なっていても良い。導電層101b、導電層103b、及び導電層104bに同じ材料を用いる場合、電極101、電極103、電極104の形成過程におけるエッチング工程によるパターン形成が容易になるため好ましい。また、導電層101b、導電層103b、導電層104bは、それぞれ2層以上の層が積層された構成であっても良い。
なお、図6(A)に示す発光素子262aは、上面射出型の発光素子であるため、導電層101a、導電層103a、及び導電層104aは、光を反射する機能を有することが好ましい。また、電極102は、光を透過する機能と、光を反射する機能とを有することが好ましい。
また、図6(B)に示す発光素子262bは、下面射出型の発光素子であるため、導電層101a、導電層103a、導電層104aは、光を透過する機能と、光を反射する機能と、を有することが好ましい。また、電極102は、光を反射する機能を有することが好ましい。
また、発光素子262a及び発光素子262bにおいて、導電層101a、導電層103a、または導電層104a、に同じ材料を用いても良いし、異なる材料を用いても良い。導電層101a、導電層103a、導電層104a、に同じ材料を用いる場合、発光素子262a及び発光素子262bの製造コストを低減できる。なお、導電層101a、導電層103a、導電層104aは、それぞれ2層以上の層が積層された構成であっても良い。
また、発光素子262a及び発光素子262bにおける発光層170及び発光層190の少なくとも一方には、実施の形態3及び実施の形態4で示した構成のうち少なくとも一を有することが好ましい。そうすることで、高い発光効率を示す発光素子を作製することができる。
また、発光層170及び発光層190は、例えば発光層190a及び発光層190bのように、一方または双方で2層が積層された構成としてもよい。2層の発光層に、第1の化合物及び第2の化合物という、異なる色を呈する機能を有する2種類の発光材料をそれぞれ用いることで、複数の発光を同時に得ることができる。特に発光層170と、発光層190と、が呈する発光により、白色となるよう、各発光層に用いる発光材料を選択すると好ましい。
また、発光層170または発光層190は、一方または双方で3層以上が積層された構成としても良く、発光材料を有さない層が含まれていても良い。
以上のように、実施の形態3及び実施の形態4で示した発光層の構成を少なくとも一つ有する発光素子262aまたは発光素子262bを、表示装置の画素に用いることで、発光効率の高い表示装置を作製することができる。すなわち、発光素子262aまたは発光素子262bを有する表示装置は、消費電力を低減することができる。
なお、発光素子262a及び発光素子262bにおける他の構成については、発光素子260aまたは発光素子260b、あるいは実施の形態3、及び実施の形態4で示した発光素子の構成を参酌すればよい。
<発光素子の作製方法>
次に、本発明の一態様の発光素子の作製方法について、図7及び図8を用いて以下説明を行う。なお、ここでは、図6(A)に示す発光素子262aの作製方法について説明する。
図7及び図8は、本発明の一態様の発光素子の作製方法を説明するための断面図である。
以下で説明する発光素子262aの作製方法は、第1乃至第7の7つのステップを有する。
≪第1のステップ≫
第1のステップは、発光素子の電極(具体的には、電極101を構成する導電層101a、電極103を構成する導電層103a、及び電極104を構成する導電層104a)を、基板200上に形成する工程である(図7(A)参照)。
本実施の形態においては、基板200上に、光を反射する機能を有する導電層を形成し、該導電層を所望の形状に加工することで、導電層101a、導電層103a、及び導電層104aを形成する。上記光を反射する機能を有する導電層としては、銀とパラジウムと銅の合金膜(Ag−Pd−Cu膜、またはAPCともいう)を用いる。このように、導電層101a、導電層103a、及び導電層104aを、同一の導電層を加工する工程を経て形成することで、製造コストを安くすることができるため好適である。
なお、第1のステップの前に、基板200上に複数のトランジスタを形成してもよい。また、該複数のトランジスタと、導電層101a、導電層103a、及び導電層104aとを、それぞれ電気的に接続させてもよい。
≪第2のステップ≫
第2のステップは、電極101を構成する導電層101a上に光を透過する機能を有する導電層101bを、電極103を構成する導電層103a上に光を透過する機能を有する導電層103bを、電極104を構成する導電層104a上に光を透過する機能を有する導電層104bを、形成する工程である(図7(B)参照)
本実施の形態においては、光を反射する機能を有する導電層101a、103a、及び104a、の上にそれぞれ、光を透過する機能を有する導電層101b、103b、及び104bを形成することで、電極101、電極103、及び電極104を形成する。上記の導電層101b、103b、及び104bとしては、ITSO膜を用いる。
なお、光を透過する機能を有する導電層101b、103b、及び104bは、複数回に分けて形成してもよい。複数回に分けて形成することで、各領域で適したマイクロキャビティ構造となる膜厚で、導電層101b、103b、及び104bを形成することができる。
≪第3のステップ≫
第3のステップは、発光素子の各電極の端部を覆う隔壁145を形成する工程である(図7(C)参照)。
隔壁145は、電極と重なるように開口部を有する。該開口部によって露出する導電膜が発光素子の陽極として機能する。本実施の形態では、隔壁145として、ポリイミド樹脂を用いる。
なお、第1乃至第3のステップにおいては、EL層(有機化合物を含む層)を損傷するおそれがないため、さまざまな成膜方法及び微細加工技術を適用できる。本実施の形態では、スパッタリング法を用いて反射性の導電層を成膜し、リソグラフィ法を用いて、該導電層にパターンを形成し、その後ドライエッチング法またはウエットエッチング法を用いて、該導電層を島状に加工することで、電極101を構成する導電層101a、電極103を構成する導電層103a、及び電極104を構成する導電層104a、を形成する。その後、スパッタリング法を用いて透明性を有する導電膜を成膜し、リソグラフィ法を用いて、該透明性を有する導電膜にパターンを形成し、その後ウエットエッチング法を用いて、該透明導電膜を島状に加工して、電極101、電極103、及び電極104を形成する。
≪第4のステップ≫
第4のステップは、正孔注入層111、正孔輸送層112、発光層190、電子輸送層113、電子注入層114、及び電荷発生層115を形成する工程である(図8(A)参照)。
正孔注入層111としては、正孔輸送性材料とアクセプター性物質を含む材料とを共蒸着することで形成することができる。なお、共蒸着とは、異なる複数の物質をそれぞれ異なる蒸発源から同時に蒸発させる蒸着法である。また、正孔輸送層112としては、正孔輸送性材料を蒸着することで形成することができる。
発光層190としては、紫色、青色、青緑色、緑色、黄緑色、黄色、橙色、または赤色の中から選ばれる少なくともいずれか一つの発光を呈するゲスト材料を蒸着することで形成することができる。ゲスト材料としては、蛍光または燐光を呈する発光性の有機材料を用いることができる。また、実施の形態3及び実施の形態4で示した発光層の構成を用いることが好ましい。また、発光層190として、2層の構成としてもよい。その場合、2層の発光層は、それぞれ互いに異なる発光色を呈する発光材料を有することが好ましい。
電子輸送層113としては、電子輸送性の高い物質を蒸着することで形成することができる。また、電子注入層114としては、電子注入性の高い物質を蒸着することで形成することができる。
電荷発生層115としては、正孔輸送性材料に電子受容体(アクセプター)が添加された材料、または電子輸送性材料に電子供与体(ドナー)が添加された材料を蒸着することで形成することができる。
≪第5のステップ≫
第5のステップは、正孔注入層116、正孔輸送層117、発光層170、電子輸送層118、電子注入層119、及び電極102を形成する工程である(図8(B)参照)。
正孔注入層116としては、先に示す正孔注入層111と同様の材料及び同様の方法により形成することができる。また、正孔輸送層117としては、先に示す正孔輸送層112と同様の材料及び同様の方法により形成することができる。
発光層170としては、紫色、青色、青緑色、緑色、黄緑色、黄色、橙色、または赤色の中から選ばれる少なくともいずれか一つの発光を呈するゲスト材料を蒸着することで形成することができる。ゲスト材料としては、蛍光または燐光を呈する発光性の有機化合物を用いることができる。また、実施の形態3及び実施の形態4で示した発光層の構成を用いることが好ましい。なお、発光層170及び発光層190の少なくとも一方が、実施の形態1で示したジベンゾカルバゾール化合物を有する構成であると好ましい。また、発光層170及び発光層190は、互いに異なる発光を呈する機能を有する発光性の有機化合物を有すると好ましい。
電子輸送層118としては、先に示す電子輸送層113と同様の材料及び同様の方法により形成することができる。また、電子注入層119としては、先に示す電子注入層114と同様の材料及び同様の方法により形成することができる。
電極102としては、反射性を有する導電膜と、透光性を有する導電膜を積層することで形成することができる。また、電極102としては、単層構造、または積層構造としてもよい。
上記工程を経て、電極101、電極103、及び電極104上に、それぞれ領域222B、領域222G、及び領域222Rを有する発光素子が基板200上に形成される。
≪第6のステップ≫
第6のステップは、基板220上に遮光層223、光学素子224B、光学素子224G、及び光学素子224Rを形成する工程である(図8(C)参照)。
遮光層223としては、黒色顔料の含んだ樹脂膜を所望の領域に形成する。その後、基板220及び遮光層223上に、光学素子224B、光学素子224G、及び光学素子224Rを形成する。光学素子224Bとしては、青色顔料の含んだ樹脂膜を所望の領域に形成する。また、光学素子224Gとしては、緑色顔料の含んだ樹脂膜を所望の領域に形成する。また、光学素子224Rとしては、赤色顔料の含んだ樹脂膜を所望の領域に形成する。
≪第7のステップ≫
第7のステップは、基板200上に形成された発光素子と、基板220上に形成された遮光層223、光学素子224B、光学素子224G、及び光学素子224Rと、を貼り合わせ、シール材を用いて封止する工程である(図示しない)。
以上の工程により、図6(A)に示す発光素子262aを形成することができる。
なお、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示した構成と適宜組み合わせて用いることができる。
(実施の形態6)
本実施の形態では、実施の形態1に記載のジベンゾカルバゾール化合物を有機半導体素子の一種である縦型トランジスタ(静電誘導トランジスタ:SIT)の活性層として用いる形態を例示する。
素子の構造としては、図9に示すように、実施の形態1に記載のジベンゾカルバゾール化合物を含む薄膜状の活性層330をソース電極301およびドレイン電極302で挟み、ゲート電極303が活性層330に埋め込まれた構造を有する。ゲート電極303は、ゲート電圧を印加するための手段に電気的に接続されており、ソース電極301およびドレイン電極302は、ソース電極−ドレイン電極間の電圧を制御するための手段に電気的に接続されている。
このような素子構造において、ゲート電極303に電圧を印加しない状態においてソース電極−ドレイン電極間に電圧を印加すると、電流が流れる(ON状態となる)。そして、その状態でゲート電極303に電圧を印加するとゲート電極303周辺に空乏層が発生し、電流が流れなくなる(OFF状態となる)。以上の機構により、有機半導体素子300はトランジスタとして動作する。
縦型トランジスタにおいては、発光素子と同様、キャリア輸送性と良好な膜質を兼ね備えた材料が活性層に求められるが、実施の形態1に記載のジベンゾカルバゾール化合物はその条件を十分に満たしており、好適に用いることができる。
なお、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示した構成と適宜組み合わせて用いることができる。
(実施の形態7)
本実施の形態では、本発明の一態様の表示装置について、図10乃至図18を用いて説明する。
<表示装置の構成例1>
図10(A)は表示装置600を示す上面図、図10(B)は図10(A)の一点鎖線A−B、及び一点鎖線C−Dで切断した断面図である。表示装置600は、駆動回路部(信号線駆動回路部601、及び走査線駆動回路部603)、並びに画素部602を有する。なお、信号線駆動回路部601、走査線駆動回路部603、及び画素部602は、発光素子の発光を制御する機能を有する。
また、表示装置600は、素子基板610と、封止基板604と、シール材605と、シール材605で囲まれた領域607と、引き回し配線608と、FPC609と、を有する。
なお、引き回し配線608は、信号線駆動回路部601及び走査線駆動回路部603に入力される信号を伝送するための配線であり、外部入力端子となるFPC609からビデオ信号、クロック信号、スタート信号、リセット信号等を受け取る。なお、ここではFPC609しか図示されていないが、FPC609にはプリント配線基板(PWB:Printed Wiring Board)が取り付けられていても良い。
また、信号線駆動回路部601は、Nチャネル型のトランジスタ623とPチャネル型のトランジスタ624とを組み合わせたCMOS回路が形成される。なお、信号線駆動回路部601または走査線駆動回路部603は、種々のCMOS回路、PMOS回路、またはNMOS回路を用いることが出来る。また、本実施の形態では、駆動回路部を形成したドライバと画素とを同一の表面上に設けた表示装置を示すが、必ずしもその必要はなく、駆動回路部を基板上ではなく外部に形成することもできる。
また、画素部602は、スイッチング用のトランジスタ611と、電流制御用のトランジスタ612と、電流制御用のトランジスタ612のドレインに電気的に接続された下部電極613と、を有する。なお、下部電極613の端部を覆って隔壁614が形成されている。隔壁614としては、ポジ型の感光性アクリル樹脂膜を用いることができる。
また、被覆性を良好にするため、隔壁614の上端部または下端部に曲率を有する曲面が形成されるようにする。例えば、隔壁614の材料としてポジ型の感光性アクリルを用いた場合、隔壁614の上端部のみに曲率半径(0.2μm以上3μm以下)を有する曲面を持たせることが好ましい。また、隔壁614として、ネガ型の感光性樹脂、またはポジ型の感光性樹脂のいずれも使用することができる。
なお、トランジスタ(トランジスタ611、612、623、624)の構造は、特に限定されない。例えば、スタガ型のトランジスタを用いてもよい。また、トランジスタの極性についても特に限定はなく、Nチャネル型およびPチャネル型のトランジスタを有する構造、及びNチャネル型のトランジスタまたはPチャネル型のトランジスタのいずれか一方のみからなる構造を用いてもよい。また、トランジスタに用いられる半導体膜の結晶性についても特に限定はない。例えば、非晶質半導体膜、結晶性半導体膜を用いることができる。また、半導体材料としては、14族(ケイ素等)半導体、化合物半導体(酸化物半導体を含む)、有機半導体等を用いることができる。トランジスタとしては、例えば、エネルギーギャップが2eV以上、好ましくは2.5eV以上、さらに好ましくは3eV以上の酸化物半導体を用いることで、トランジスタのオフ電流を低減することができるため好ましい。該酸化物半導体としては、In−Ga酸化物、In−M−Zn酸化物(Mは、アルミニウム(Al)、ガリウム(Ga)、イットリウム(Y)、ジルコニウム(Zr)、ランタン(La)、セリウム(Ce)、錫(Sn)、ハフニウム(Hf)、またはネオジム(Nd)を表す)等が挙げられる。
下部電極613上には、EL層616、および上部電極617がそれぞれ形成されている。なお、下部電極613は、陽極として機能し、上部電極617は、陰極として機能する。
また、EL層616は、蒸着マスクを用いた蒸着法、インクジェット法、スピンコート法等の種々の方法によって形成される。また、EL層616を構成する材料としては、低分子化合物、または高分子化合物(オリゴマー、デンドリマーを含む)であっても良い。
なお、下部電極613、EL層616、及び上部電極617により、発光素子618が形成される。発光素子618は、実施の形態3乃至実施の形態5の構成を有する発光素子であると好ましい。なお、画素部に複数の発光素子が形成される場合、実施の形態3乃至実施の形態5に記載の発光素子と、それ以外の構成を有する発光素子の両方が含まれていても良い。
また、シール材605で封止基板604を素子基板610と貼り合わせることにより、素子基板610、封止基板604、およびシール材605で囲まれた領域607に発光素子618が備えられた構造になっている。なお、領域607には、充填材が充填されており、不活性気体(窒素やアルゴン等)が充填される場合の他、シール材605に用いることができる紫外線硬化樹脂または熱硬化樹脂で充填される場合もあり、例えば、PVC(ポリビニルクロライド)系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、PVB(ポリビニルブチラル)系樹脂、またはEVA(エチレンビニルアセテート)系樹脂を用いることができる。封止基板には凹部を形成し、そこに乾燥剤を設けると水分の影響による劣化を抑制することができ、好ましい構成である。
また、発光素子618と互いに重なるように、光学素子621が封止基板604の下方に設けられる。また、封止基板604の下方には、遮光層622が設けられる。光学素子621及び遮光層622としては、それぞれ、実施の形態5に示す光学素子、及び遮光層と同様の構成とすればよい。
なお、シール材605にはエポキシ系樹脂やガラスフリットを用いるのが好ましい。また、これらの材料はできるだけ水分や酸素を透過しにくい材料であることが望ましい。また、封止基板604に用いる材料としてガラス基板や石英基板の他、FRP(Fiber Reinforced Plastics)、PVF(ポリビニルフロライド)、ポリエステルまたはアクリル等からなるプラスチック基板を用いることができる。
以上のようにして、実施の形態3乃至実施の形態5に記載の発光素子及び光学素子を有する表示装置を得ることができる。
<表示装置の構成例2>
次に、表示装置の別の一例について、図11(A)(B)及び図12を用いて説明を行う。なお、図11(A)(B)及び図12は、本発明の一態様の表示装置の断面図である。
図11(A)には基板1001、下地絶縁膜1002、ゲート絶縁膜1003、ゲート電極1006、1007、1008、第1の層間絶縁膜1020、第2の層間絶縁膜1021、周辺部1042、画素部1040、駆動回路部1041、発光素子の下部電極1024R、1024G、1024B、隔壁1025、EL層1028、発光素子の上部電極1026、封止層1029、封止基板1031、シール材1032などが図示されている。
また、図11(A)では、光学素子の一例として、着色層(赤色の着色層1034R、緑色の着色層1034G、及び青色の着色層1034B)を透明な基材1033に設けている。また、遮光層1035をさらに設けても良い。着色層及び遮光層が設けられた透明な基材1033は、位置合わせし、基板1001に固定する。なお、着色層、及び遮光層は、オーバーコート層1036で覆われている。また、図11(A)においては、着色層を透過する光は赤、緑、青となることから、3色の画素で映像を表現することができる。
図11(B)では、光学素子の一例として、着色層(赤色の着色層1034R、緑色の着色層1034G、青色の着色層1034B)をゲート絶縁膜1003と第1の層間絶縁膜1020との間に形成する例を示している。このように、着色層は基板1001と封止基板1031の間に設けられていても良い。
図12では、光学素子の一例として、着色層(赤色の着色層1034R、緑色の着色層1034G、青色の着色層1034B)を第1の層間絶縁膜1020と第2の層間絶縁膜1021との間に形成する例を示している。このように、着色層は基板1001と封止基板1031の間に設けられていても良い。
また、以上に説明した表示装置では、トランジスタが形成されている基板1001側に光を取り出す構造(ボトムエミッション型)の表示装置としたが、封止基板1031側に発光を取り出す構造(トップエミッション型)の表示装置としても良い。
<表示装置の構成例3>
トップエミッション型の表示装置の断面図の一例を図13(A)(B)に示す。図13(A)(B)は、本発明の一態様の表示装置を説明する断面図であり、図11(A)(B)及び図12に示す駆動回路部1041、周辺部1042等を省略して例示している。
この場合、基板1001は光を通さない基板を用いることができる。トランジスタと発光素子の陽極とを接続する接続電極を作製するまでは、ボトムエミッション型の表示装置と同様に形成する。その後、電極1022を覆うように、第3の層間絶縁膜1037を形成する。この絶縁膜は平坦化の役割を担っていても良い。第3の層間絶縁膜1037は第2の層間絶縁膜と同様の材料の他、他の様々な材料を用いて形成することができる。
発光素子の下部電極1024R、1024G、1024Bはここでは陽極とするが、陰極であっても構わない。また、図13(A)(B)のようなトップエミッション型の表示装置である場合、下部電極1024R、1024G、1024Bは光を反射する機能を有することが好ましい。また、EL層1028上に上部電極1026が設けられる。上部電極1026は光を反射する機能と、光を透過する機能を有し、下部電極1024R、1024G、1024Bと、上部電極1026との間で、マイクロキャビティ構造を採用し、特定波長における光強度を増加させると好ましい。
図13(A)のようなトップエミッションの構造では、着色層(赤色の着色層1034R、緑色の着色層1034G、及び青色の着色層1034B)を設けた封止基板1031で封止を行うことができる。封止基板1031には画素と画素との間に位置するように遮光層1035を設けても良い。なお、封止基板1031は透光性を有する基板を用いると好適である。
また、図13(A)においては、複数の発光素子と、該複数の発光素子にそれぞれ着色層を設ける構成を例示したが、これに限定されない。例えば、図13(B)に示すように、緑色の着色層を設けずに、赤色の着色層1034R、及び青色の着色層1034Bを設けて、赤、緑、青の3色でフルカラー表示を行う構成としてもよい。図13(A)に示すように、発光素子と、該発光素子にそれぞれ着色層を設ける構成とした場合、外光反射を抑制できるといった効果を奏する。一方で、図13(B)に示すように、発光素子に、緑色の着色層を設けずに、赤色の着色層、及び青色の着色層を設ける構成とした場合、緑色の発光素子から射出された光のエネルギー損失が少ないため、消費電力を低くできるといった効果を奏する。
<表示装置の構成例4>
以上に示す表示装置は、3色(赤色、緑色、青色)の副画素を有する構成を示したが、4色(赤色、緑色、青色、黄色、あるいは赤色、緑色、青色、白色)の副画素を有する構成としてもよい。図14乃至図16は、下部電極1024R、1024G、1024B、及び1024Yを有する表示装置の構成である。図14(A)(B)及び図15は、トランジスタが形成されている基板1001側に光を取り出す構造(ボトムエミッション型)の表示装置であり、図16(A)(B)は、封止基板1031側に発光を取り出す構造(トップエミッション型)の表示装置である。
図14(A)は、光学素子(着色層1034R、着色層1034G、着色層1034B、着色層1034Y)を透明な基材1033に設ける表示装置の例である。また、図14(B)は、光学素子(着色層1034R、着色層1034G、着色層1034B)をゲート絶縁膜1003と第1の層間絶縁膜1020との間に形成する表示装置の例である。また、図15は、光学素子(着色層1034R、着色層1034G、着色層1034B、着色層1034Y)を第1の層間絶縁膜1020と第2の層間絶縁膜1021との間に形成する表示装置の例である。
着色層1034Rは赤色の光を透過し、着色層1034Gは緑色の光を透過し、着色層1034Bは青色の光を透過する機能を有する。また、着色層1034Yは黄色の光を透過する機能、あるいは青色、緑色、黄色、赤色の中から選ばれる複数の光を透過する機能を有する。着色層1034Yが青色、緑色、黄色、赤色の中から選ばれる複数の光を透過する機能を有するとき、着色層1034Yを透過した光は白色であってもよい。黄色あるいは白色の発光を呈する発光素子は発光効率が高いため、着色層1034Yを有する表示装置は、消費電力を低減することができる。
また、図16に示すトップエミッション型の表示装置においては、下部電極1024Yを有する発光素子においても、図13(A)の表示装置と同様に、上部電極1026との間で、マイクロキャビティ構造を有する構成が好ましい。また、図16(A)の表示装置では、着色層(赤色の着色層1034R、緑色の着色層1034G、青色の着色層1034B、及び黄色の着色層1034Y)を設けた封止基板1031で封止を行うことができる。
マイクロキャビティ、及び黄色の着色層1034Yを介して呈される発光は、黄色の領域に発光スペクトルを有する発光となる。黄色は視感度が高い色であるため、黄色の発光を呈する発光素子は発光効率が高い。すなわち、図16(A)の構成を有する表示装置は、消費電力を低減することができる。
また、図16(A)においては、複数の発光素子と、該複数の発光素子にそれぞれ着色層を設ける構成を例示したが、これに限定されない。例えば、図16(B)に示すように、黄色の着色層を設けずに、赤色の着色層1034R、緑色の着色層1034G、及び青色の着色層1034Bを設けて、赤、緑、青、黄の4色、または赤、緑、青、白の4色でフルカラー表示を行う構成としてもよい。図16(A)に示すように、発光素子と、該発光素子にそれぞれ着色層を設ける構成とした場合、外光反射を抑制できるといった効果を奏する。一方で、図16(B)に示すように、発光素子に 、黄色の着色層を設けずに、赤色の着色層、緑色の着色層、及び青色の着色層を設ける構成とした場合、黄色または白色の発光素子から射出された光のエネルギー損失が少ないため、消費電力を低くできるといった効果を奏する。
<表示装置の構成例5>
次に、本発明の他の一態様の表示装置について、図17に示す。図17は、図10(A)の一点鎖線A−B、及び一点鎖線C−Dで切断した断面図である。なお、図17において、図10(B)に示す符号と同様の機能を有する箇所には同様の符号を付し、その詳細な説明は省略する。
図17に示す表示装置600は、素子基板610、封止基板604、及びシール材605で囲まれた領域607に、封止層607a、封止層607b、封止層607cを有する。封止層607a、封止層607b、封止層607cのいずれか一つまたは複数には、例えば、PVC(ポリビニルクロライド)系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、PVB(ポリビニルブチラル)系樹脂、またはEVA(エチレンビニルアセテート)系樹脂等の樹脂を用いることができる。また、酸化シリコン、酸化窒化シリコン、窒化酸化シリコン、窒化シリコン、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム等の無機材料を用いてもよい。封止層607a、封止層607b、封止層607cを形成することで、水などの不純物による発光素子618の劣化を抑制することができ好ましい。なお、封止層607a、封止層607b、封止層607cを形成する場合、シール材605を設けなくてもよい。
また、封止層607a、封止層607b、封止層607cは、いずれか一つまたは二つであってもよく、4つ以上の封止層が形成されてもよい。封止層を多層にすることで、水などの不純物が、表示装置600の外部から表示装置内部の発光素子618まで侵入するのを効果的に防ぐことができるため好ましい。なお、封止層が多層の場合、樹脂と無機材料とを積層させると好ましい構成である。
<表示装置の構成例6>
また、本実施の形態における構成例1乃至構成例4に示す表示装置は、光学素子を有する構成を例示したが、本発明の一態様としては、光学素子を設けなくてもよい。
図18(A)(B)に示す表示装置は、封止基板1031側に発光を取り出す構造(トップエミッション型)の表示装置である。図18(A)は、発光層1028R、発光層1028G、発光層1028B、を有する表示装置の例である。また、図18(B)は、発光層1028R、発光層1028G、発光層1028B、発光層1028Y、を有する表示装置の例である。
発光層1028Rは、赤色の発光を呈し、発光層1028Gは、緑色の発光を呈し、発光層1028Bは、青色の発光を呈する機能を有する。また、発光層1028Yは、黄色の発光を呈する機能、または青色、緑色、赤色の中から選ばれる複数の発光を呈する機能を有する。発光層1028Yが呈する発光は、白色であってもよい。黄色あるいは白色の発光を呈する発光素子は発光効率が高いため、発光層1028Yを有する表示装置は、消費電力を低減することができる。
図18(A)及び図18(B)に示す表示装置は、異なる色の発光を呈するEL層を副画素に有するため、光学素子となる着色層を設けなくてもよい。
また、封止層1029は、例えば、PVC(ポリビニルクロライド)系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、PVB(ポリビニルブチラル)系樹脂、またはEVA(エチレンビニルアセテート)系樹脂等の樹脂を用いることができる。また、酸化シリコン、酸化窒化シリコン、窒化酸化シリコン、窒化シリコン、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム等の無機材料を用いてもよい。封止層1029を形成することで、水などの不純物による発光素子の劣化を抑制することができ好ましい。
また、封止層1029は、いずれか一つまたは二つであってもよく、4つ以上の封止層が形成されてもよい。封止層を多層にすることで、水などの不純物が、表示装置の外部から表示装置内部まで侵入するのを効果的に防ぐことができるため好ましい。なお、封止層が多層の場合、樹脂と無機材料とを積層させると好ましい構成である。
なお、封止基板1031は、発光素子を保護する機能を有するものであればよい。そのため、封止基板1031には、可撓性を有する基板やフィルムを用いることができる。
なお、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態や本実施の形態中の他の構成と適宜組み合わせることが可能である。
(実施の形態8)
本実施の形態では、本発明の一態様の発光素子を有する表示装置について、図19乃至図21を用いて説明を行う。
なお、図19(A)は、本発明の一態様の表示装置を説明するブロック図であり、図19(B)は、本発明の一態様の表示装置が有する画素回路を説明する回路図である。
<表示装置に関する説明>
図19(A)に示す表示装置は、表示素子の画素を有する領域(以下、画素部802という)と、画素部802の外側に配置され、画素を駆動するための回路を有する回路部(以下、駆動回路部804という)と、素子の保護機能を有する回路(以下、保護回路806という)と、端子部807と、を有する。なお、保護回路806は、設けない構成としてもよい。
駆動回路部804の一部、または全部は、画素部802と同一基板上に形成されていることが望ましい。これにより、部品数や端子数を減らすことが出来る。駆動回路部804の一部、または全部が、画素部802と同一基板上に形成されていない場合には、駆動回路部804の一部、または全部は、COGやTAB(Tape Automated Bonding)によって、実装することができる。
画素部802は、X行(Xは2以上の自然数)Y列(Yは2以上の自然数)に配置された複数の表示素子を駆動するための回路(以下、画素回路801という)を有し、駆動回路部804は、画素を選択する信号(走査信号)を出力する回路(以下、走査線駆動回路804aという)、画素の表示素子を駆動するための信号(データ信号)を供給するための回路(以下、信号線駆動回路804b)などの駆動回路を有する。
走査線駆動回路804aは、シフトレジスタ等を有する。走査線駆動回路804aは、端子部807を介して、シフトレジスタを駆動するための信号が入力され、信号を出力する。例えば、走査線駆動回路804aは、スタートパルス信号、クロック信号等が入力され、パルス信号を出力する。走査線駆動回路804aは、走査信号が与えられる配線(以下、走査線GL_1乃至GL_Xという)の電位を制御する機能を有する。なお、走査線駆動回路804aを複数設け、複数の走査線駆動回路804aにより、走査線GL_1乃至GL_Xを分割して制御してもよい。または、走査線駆動回路804aは、初期化信号を供給することができる機能を有する。ただし、これに限定されず、走査線駆動回路804aは、別の信号を供給することも可能である。
信号線駆動回路804bは、シフトレジスタ等を有する。信号線駆動回路804bは、端子部807を介して、シフトレジスタを駆動するための信号の他、データ信号の元となる信号(画像信号)が入力される。信号線駆動回路804bは、画像信号を元に画素回路801に書き込むデータ信号を生成する機能を有する。また、信号線駆動回路804bは、スタートパルス、クロック信号等が入力されて得られるパルス信号に従って、データ信号の出力を制御する機能を有する。また、信号線駆動回路804bは、データ信号が与えられる配線(以下、データ線DL_1乃至DL_Yという)の電位を制御する機能を有する。または、信号線駆動回路804bは、初期化信号を供給することができる機能を有する。ただし、これに限定されず、信号線駆動回路804bは、別の信号を供給することも可能である。
信号線駆動回路804bは、例えば複数のアナログスイッチなどを用いて構成される。信号線駆動回路804bは、複数のアナログスイッチを順次オン状態にすることにより、画像信号を時分割した信号をデータ信号として出力できる。また、シフトレジスタなどを用いて信号線駆動回路804bを構成してもよい。
複数の画素回路801のそれぞれは、走査信号が与えられる複数の走査線GLの一つを介してパルス信号が入力され、データ信号が与えられる複数のデータ線DLの一つを介してデータ信号が入力される。また、複数の画素回路801のそれぞれは、走査線駆動回路804aによりデータ信号のデータの書き込み及び保持が制御される。例えば、m行n列目の画素回路801は、走査線GL_m(mはX以下の自然数)を介して走査線駆動回路804aからパルス信号が入力され、走査線GL_mの電位に応じてデータ線DL_n(nはY以下の自然数)を介して信号線駆動回路804bからデータ信号が入力される。
図19(A)に示す保護回路806は、例えば、走査線駆動回路804aと画素回路801の間の配線である走査線GLに接続される。または、保護回路806は、信号線駆動回路804bと画素回路801の間の配線であるデータ線DLに接続される。または、保護回路806は、走査線駆動回路804aと端子部807との間の配線に接続することができる。または、保護回路806は、信号線駆動回路804bと端子部807との間の配線に接続することができる。なお、端子部807は、外部の回路から表示装置に電源及び制御信号、及び画像信号を入力するための端子が設けられた部分をいう。
保護回路806は、自身が接続する配線に一定の範囲外の電位が与えられたときに、該配線と別の配線とを導通状態にする回路である。
図19(A)に示すように、画素部802と駆動回路部804にそれぞれ保護回路806を接続することにより、ESD(Electro Static Discharge:静電気放電)などにより発生する過電流に対する表示装置の耐性を高めることができる。ただし、保護回路806の構成はこれに限定されず、例えば、走査線駆動回路804aに保護回路806を接続した構成、または信号線駆動回路804bに保護回路806を接続した構成とすることもできる。あるいは、端子部807に保護回路806を接続した構成とすることもできる。
また、図19(A)においては、走査線駆動回路804aと信号線駆動回路804bによって駆動回路部804を形成している例を示しているが、この構成に限定されない。例えば、走査線駆動回路804aのみを形成し、別途用意された信号線駆動回路が形成された基板(例えば、単結晶半導体膜、多結晶半導体膜で形成された駆動回路基板)を実装する構成としても良い。
<画素回路の構成例>
図19(A)に示す複数の画素回路801は、例えば、図19(B)に示す構成とすることができる。
図19(B)に示す画素回路801は、トランジスタ852、854と、容量素子862と、発光素子872と、を有する。
トランジスタ852のソース電極及びドレイン電極の一方は、データ信号が与えられる配線(データ線DL_n)に電気的に接続される。さらに、トランジスタ852のゲート電極は、ゲート信号が与えられる配線(走査線GL_m)に電気的に接続される。
トランジスタ852は、データ信号のデータの書き込みを制御する機能を有する。
容量素子862の一対の電極の一方は、電位が与えられる配線(以下、電位供給線VL_aという)に電気的に接続され、他方は、トランジスタ852のソース電極及びドレイン電極の他方に電気的に接続される。
容量素子862は、書き込まれたデータを保持する保持容量としての機能を有する。
トランジスタ854のソース電極及びドレイン電極の一方は、電位供給線VL_aに電気的に接続される。さらに、トランジスタ854のゲート電極は、トランジスタ852のソース電極及びドレイン電極の他方に電気的に接続される。
発光素子872のアノード及びカソードの一方は、電位供給線VL_bに電気的に接続され、他方は、トランジスタ854のソース電極及びドレイン電極の他方に電気的に接続される。
発光素子872としては、実施の形態3乃至実施の形態5に示す発光素子を用いることができる。
なお、電位供給線VL_a及び電位供給線VL_bの一方には、高電源電位VDDが与えられ、他方には、低電源電位VSSが与えられる。
図19(B)の画素回路801を有する表示装置では、例えば、図19(A)に示す走査線駆動回路804aにより各行の画素回路801を順次選択し、トランジスタ852をオン状態にしてデータ信号のデータを書き込む。
データが書き込まれた画素回路801は、トランジスタ852がオフ状態になることで保持状態になる。さらに、書き込まれたデータ信号の電位に応じてトランジスタ854のソース電極とドレイン電極の間に流れる電流量が制御され、発光素子872は、流れる電流量に応じた輝度で発光する。これを行毎に順次行うことにより、画像を表示できる。
また、画素回路に、トランジスタのしきい値電圧等の変動の影響を補正する機能を持たせてもよい。図20(A)(B)及び図21(A)(B)に画素回路の一例を示す。
図20(A)に示す画素回路は、6つのトランジスタ(トランジスタ303_1乃至303_6)と、容量素子304と、発光素子305と、を有する。また、図20(A)に示す画素回路には、配線301_1乃至301_5、並びに配線302_1及び配線302_2が電気的に接続されている。なお、トランジスタ303_1乃至303_6については、例えばPチャネル型のトランジスタを用いることができる。
図20(B)に示す画素回路は、図20(A)に示す画素回路に、トランジスタ303_7を追加した構成である。また、図20(B)に示す画素回路には、配線301_6及び配線301_7が電気的に接続されている。ここで、配線301_5と配線301_6とは、それぞれ電気的に接続されていてもよい。なお、トランジスタ303_7については、例えばPチャネル型のトランジスタを用いることができる。
図21(A)に示す画素回路は、6つのトランジスタ(トランジスタ308_1乃至308_6)と、容量素子304と、発光素子305と、を有する。また、図21(A)に示す画素回路には、配線306_1乃至306_3、並びに配線307_1乃至307_3が電気的に接続されている。ここで配線306_1と配線306_3とは、それぞれ電気的に接続されていてもよい。なお、トランジスタ308_1乃至308_6については、例えばPチャネル型のトランジスタを用いることができる。
図21(B)に示す画素回路は、2つのトランジスタ(トランジスタ309_1及びトランジスタ309_2)と、2つの容量素子(容量素子304_1及び容量素子304_2)と、発光素子305と、を有する。また、図21(B)に示す画素回路には、配線311_1乃至配線311_3、配線312_1、及び配線312_2が電気的に接続されている。また、図21(B)に示す画素回路の構成とすることで、例えば、電圧入力−電流駆動方式(CVCC方式ともいう)とすることができる。なお、トランジスタ309_1及び309_2については、例えばPチャネル型のトランジスタを用いることができる。
また、本発明の一態様の発光素子は、表示装置の画素に能動素子を有するアクティブマトリクス方式、または、表示装置の画素に能動素子を有しないパッシブマトリクス方式のそれぞれの方式に適用することができる。
アクティブマトリクス方式では、能動素子(アクティブ素子、非線形素子)として、トランジスタだけでなく、さまざまな能動素子(アクティブ素子、非線形素子)を用いることが出来る。例えば、MIM(Metal Insulator Metal)、又はTFD(Thin Film Diode)などを用いることも可能である。これらの素子は、製造工程が少ないため、製造コストの低減、又は歩留まりの向上を図ることができる。または、これらの素子は、素子のサイズが小さいため、開口率を向上させることができ、低消費電力化や高輝度化をはかることが出来る。
アクティブマトリクス方式以外のものとして、能動素子(アクティブ素子、非線形素子)を用いないパッシブマトリクス型を用いることも可能である。能動素子(アクティブ素子、非線形素子)を用いないため、製造工程が少ないため、製造コストの低減、又は歩留まりの向上を図ることができる。または、能動素子(アクティブ素子、非線形素子)を用いないため、開口率を向上させることができ、低消費電力化、又は高輝度化などを図ることが出来る。
本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示す構成と適宜組み合わせて用いることができる。
(実施の形態9)
本実施の形態においては、本発明の一態様の発光素子を有する表示装置、及び該表示装置に入力装置を取り付けた電子機器について、図22乃至図26を用いて説明を行う。
<タッチパネルに関する説明1>
なお、本実施の形態において、電子機器の一例として、表示装置と、入力装置とを合わせたタッチパネル2000について説明する。また、入力装置の一例として、タッチセンサを有する場合について説明する。
図22(A)(B)は、タッチパネル2000の斜視図である。なお、図22(A)(B)において、明瞭化のため、タッチパネル2000の代表的な構成要素を示す。
タッチパネル2000は、表示装置2501とタッチセンサ2595とを有する(図22(B)参照)。また、タッチパネル2000は、基板2510、基板2570、及び基板2590を有する。なお、基板2510、基板2570、及び基板2590はいずれも可撓性を有する。ただし、基板2510、基板2570、及び基板2590のいずれか一つまたは全てが可撓性を有さない構成としてもよい。
表示装置2501は、基板2510上に複数の画素及び該画素に信号を供給することができる複数の配線2511を有する。複数の配線2511は、基板2510の外周部にまで引き回され、その一部が端子2519を構成している。端子2519はFPC2509(1)と電気的に接続する。また、複数の配線2511は、信号線駆動回路2503s(1)からの信号を複数の画素に供給することができる。
基板2590は、タッチセンサ2595と、タッチセンサ2595と電気的に接続する複数の配線2598とを有する。複数の配線2598は、基板2590の外周部に引き回され、その一部は端子を構成する。そして、該端子はFPC2509(2)と電気的に接続される。なお、図22(B)では明瞭化のため、基板2590の裏面側(基板2510と対向する面側)に設けられるタッチセンサ2595の電極や配線等を実線で示している。
タッチセンサ2595として、例えば静電容量方式のタッチセンサを適用できる。静電容量方式としては、表面型静電容量方式、投影型静電容量方式等がある。
投影型静電容量方式としては、主に駆動方式の違いから自己容量方式、相互容量方式などがある。相互容量方式を用いると同時多点検出が可能となるため好ましい。
なお、図22(B)に示すタッチセンサ2595は、投影型静電容量方式のタッチセンサを適用した構成である。
なお、タッチセンサ2595には、指等の検知対象の近接または接触を検知することができる、様々なセンサを適用することができる。
投影型静電容量方式のタッチセンサ2595は、電極2591と電極2592とを有する。電極2591は、複数の配線2598のいずれかと電気的に接続し、電極2592は複数の配線2598の他のいずれかと電気的に接続する。
電極2592は、図22(A)(B)に示すように、一方向に繰り返し配置された複数の四辺形が角部で接続される形状を有する。
電極2591は四辺形であり、電極2592が延在する方向と交差する方向に繰り返し配置されている。
配線2594は、電極2592を挟む二つの電極2591と電気的に接続する。このとき、電極2592と配線2594の交差部の面積ができるだけ小さくなる形状が好ましい。これにより、電極が設けられていない領域の面積を低減でき、透過率のバラツキを低減できる。その結果、タッチセンサ2595を透過する光の輝度のバラツキを低減することができる。
なお、電極2591及び電極2592の形状はこれに限定されず、様々な形状を取りうる。例えば、複数の電極2591をできるだけ隙間が生じないように配置し、絶縁層を介して電極2592を、電極2591と重ならない領域ができるように離間して複数設ける構成としてもよい。このとき、隣接する2つの電極2592の間に、これらとは電気的に絶縁されたダミー電極を設けると、透過率の異なる領域の面積を低減できるため好ましい。
<表示装置に関する説明>
次に、図23(A)を用いて、表示装置2501の詳細について説明する。図23(A)は、図22(B)に示す一点鎖線X1−X2間の断面図に相当する。
表示装置2501は、マトリクス状に配置された複数の画素を有する。該画素は表示素子と、該表示素子を駆動する画素回路とを有する。
以下の説明においては、白色の光を射出する発光素子を表示素子に適用する場合について説明するが、表示素子はこれに限定されない。例えば、隣接する画素毎に射出する光の色が異なるように、発光色が異なる発光素子を適用してもよい。
基板2510及び基板2570としては、例えば、水蒸気の透過率が1×10−5g・m−2・day−1以下、好ましくは1×10−6g・m−2・day−1以下である可撓性を有する材料を好適に用いることができる。または、基板2510の熱膨張率と、基板2570の熱膨張率とが、およそ等しい材料を用いると好適である。例えば、線膨張率が1×10−3/K以下、好ましくは5×10−5/K以下、より好ましくは1×10−5/K以下である材料を好適に用いることができる。
なお、基板2510は、発光素子への不純物の拡散を防ぐ絶縁層2510aと、可撓性基板2510bと、絶縁層2510a及び可撓性基板2510bを貼り合わせる接着層2510cと、を有する積層体である。また、基板2570は、発光素子への不純物の拡散を防ぐ絶縁層2570aと、可撓性基板2570bと、絶縁層2570a及び可撓性基板2570bを貼り合わせる接着層2570cと、を有する積層体である。
接着層2510c及び接着層2570cとしては、例えば、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド(ナイロン、アラミド等)、ポリイミド、ポリカーボネートまたはアクリル樹脂、ポリウレタン、エポキシ樹脂を用いることができる。もしくは、シリコーンなどのシロキサン結合を有する樹脂を含む材料を用いることができる。
また、基板2510と基板2570との間に封止層2560を有する。封止層2560は、空気より大きい屈折率を有すると好ましい。また、図23(A)に示すように、封止層2560側に光を取り出す場合は、封止層2560は光学的な接合層を兼ねることができる。
また、封止層2560の外周部にシール材を形成してもよい。当該シール材を用いることにより、基板2510、基板2570、封止層2560、及びシール材で囲まれた領域に発光素子2550Rを有する構成とすることができる。なお、封止層2560として、不活性気体(窒素やアルゴン等)を充填してもよい。また、当該不活性気体内に、乾燥剤を設けて、水分等を吸着させる構成としてもよい。あるいは、アクリルやエポキシ等の樹脂によって充填してもよい。また、上述のシール材としては、例えば、エポキシ系樹脂やガラスフリットを用いるのが好ましい。また、シール材に用いる材料としては、水分や酸素を透過しない材料を用いると好適である。
また、表示装置2501は、画素2502Rを有する。また、画素2502Rは発光モジュール2580Rを有する。
画素2502Rは、発光素子2550Rと、発光素子2550Rに電力を供給することができるトランジスタ2502tとを有する。なお、トランジスタ2502tは、画素回路の一部として機能する。また、発光モジュール2580Rは、発光素子2550Rと、着色層2567Rとを有する。
発光素子2550Rは、下部電極と、上部電極と、下部電極と上部電極の間にEL層とを有する。発光素子2550Rとして、例えば、実施の形態3乃至実施の形態5に示す発光素子を適用することができる。
また、下部電極と上部電極との間で、マイクロキャビティ構造を採用し、特定波長における光強度を増加させてもよい。
また、封止層2560が光を取り出す側に設けられている場合、封止層2560は、発光素子2550Rと着色層2567Rに接する。
着色層2567Rは、発光素子2550Rと重なる位置にある。これにより、発光素子2550Rが発する光の一部は着色層2567Rを透過して、図中に示す矢印の方向の発光モジュール2580Rの外部に射出される。
また、表示装置2501には、光を射出する方向に遮光層2567BMが設けられる。遮光層2567BMは、着色層2567Rを囲むように設けられている。
着色層2567Rとしては、特定の波長領域の光を透過する機能を有していればよく、例えば、赤色の波長領域の光を透過するカラーフィルタ、緑色の波長領域の光を透過するカラーフィルタ、青色の波長領域の光を透過するカラーフィルタ、黄色の波長領域の光を透過するカラーフィルタなどを用いることができる。各カラーフィルタは、様々な材料を用いて、印刷法、インクジェット法、フォトリソグラフィ技術を用いたエッチング方法などで形成することができる。
また、表示装置2501には、絶縁層2521が設けられる。絶縁層2521はトランジスタ2502tを覆う。なお、絶縁層2521は、画素回路に起因する凹凸を平坦化するための機能を有する。また、絶縁層2521に不純物の拡散を抑制できる機能を付与してもよい。これにより、不純物の拡散によるトランジスタ2502t等の信頼性の低下を抑制できる。
また、発光素子2550Rは、絶縁層2521の上方に形成される。また、発光素子2550Rが有する下部電極には、該下部電極の端部に重なる隔壁2528が設けられる。なお、基板2510と、基板2570との間隔を制御するスペーサを、隔壁2528上に形成してもよい。
走査線駆動回路2503g(1)は、トランジスタ2503tと、容量素子2503cとを有する。なお、駆動回路を画素回路と同一の工程で同一基板上に形成することができる。
また、基板2510上には、信号を供給することができる配線2511が設けられる。また、配線2511上には、端子2519が設けられる。また、端子2519には、FPC2509(1)が電気的に接続される。また、FPC2509(1)は、ビデオ信号、クロック信号、スタート信号、リセット信号等を供給する機能を有する。なお、FPC2509(1)にはプリント配線基板(PWB)が取り付けられていても良い。
また、表示装置2501には、様々な構造のトランジスタを適用することができる。図23(A)においては、ボトムゲート型のトランジスタを適用する場合について、例示しているが、これに限定されず、例えば、図23(B)に示す、トップゲート型のトランジスタを表示装置2501に適用する構成としてもよい。
また、トランジスタ2502t及びトランジスタ2503tの極性については、特に限定はなく、Nチャネル型およびPチャネル型のトランジスタを有する構造、Nチャネル型のトランジスタまたはPチャネル型のトランジスタのいずれか一方のみからなる構造を用いてもよい。また、トランジスタ2502t及び2503tに用いられる半導体膜の結晶性についても特に限定はない。例えば、非晶質半導体膜、結晶性半導体膜を用いることができる。また、半導体材料としては、14族の半導体(例えば、ケイ素を有する半導体)、化合物半導体(酸化物半導体を含む)、有機半導体等を用いることができる。トランジスタ2502t及びトランジスタ2503tのいずれか一方または双方に、エネルギーギャップが2eV以上、好ましくは2.5eV以上、さらに好ましくは3eV以上の酸化物半導体を用いることで、トランジスタのオフ電流を低減することができるため好ましい。当該酸化物半導体としては、In−Ga酸化物、In−M−Zn酸化物(Mは、Al、Ga、Y、Zr、La、Ce、Sn、Hf、またはNdを表す)等が挙げられる。
<タッチセンサに関する説明>
次に、図23(C)を用いて、タッチセンサ2595の詳細について説明する。図23(C)は、図22(B)に示す一点鎖線X3−X4間の断面図に相当する。
タッチセンサ2595は、基板2590上に千鳥状に配置された電極2591及び電極2592と、電極2591及び電極2592を覆う絶縁層2593と、隣り合う電極2591を電気的に接続する配線2594とを有する。
電極2591及び電極2592は、透光性を有する導電材料を用いて形成する。透光性を有する導電性材料としては、酸化インジウム、インジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物、酸化亜鉛、ガリウムを添加した酸化亜鉛などの導電性酸化物を用いることができる。なお、グラフェンを含む膜を用いることもできる。グラフェンを含む膜は、例えば膜状に形成された酸化グラフェンを含む膜を還元して形成することができる。還元する方法としては、熱を加える方法等を挙げることができる。
例えば、透光性を有する導電性材料を基板2590上にスパッタリング法により成膜した後、フォトリソグラフィ法等の様々なパターン形成技術により、不要な部分を除去して、電極2591及び電極2592を形成することができる。
また、絶縁層2593に用いる材料としては、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂などの樹脂、シリコーンなどのシロキサン結合を有する樹脂の他、酸化シリコン、酸化窒化シリコン、酸化アルミニウムなどの無機絶縁材料を用いることもできる。
また、電極2591に達する開口が絶縁層2593に設けられ、配線2594が隣接する電極2591と電気的に接続する。透光性の導電性材料は、タッチパネルの開口率を高めることができるため、配線2594に好適に用いることができる。また、電極2591及び電極2592より導電性の高い材料は、電気抵抗を低減できるため配線2594に好適に用いることができる。
電極2592は、一方向に延在し、複数の電極2592がストライプ状に設けられている。また、配線2594は電極2592と交差して設けられている。
一対の電極2591が1つの電極2592を挟んで設けられる。また、配線2594は一対の電極2591を電気的に接続している。
なお、複数の電極2591は、1つの電極2592と必ずしも直交する方向に配置される必要はなく、0度より大きく90度未満の角度をなすように配置されてもよい。
また、配線2598は、電極2591または電極2592と電気的に接続される。また、配線2598の一部は、端子として機能する。配線2598としては、例えば、アルミニウム、金、白金、銀、ニッケル、チタン、タングステン、クロム、モリブデン、鉄、コバルト、銅、またはパラジウム等の金属材料や、該金属材料を含む合金材料を用いることができる。
なお、絶縁層2593及び配線2594を覆う絶縁層を設けて、タッチセンサ2595を保護してもよい。
また、接続層2599は、配線2598とFPC2509(2)を電気的に接続させる。
接続層2599としては、異方性導電フィルム(ACF:Anisotropic Conductive Film)や、異方性導電ペースト(ACP:Anisotropic Conductive Paste)などを用いることができる。
<タッチパネルに関する説明2>
次に、図24(A)を用いて、タッチパネル2000の詳細について説明する。図24(A)は、図22(A)に示す一点鎖線X5−X6間の断面図に相当する。
図24(A)に示すタッチパネル2000は、図23(A)で説明した表示装置2501と、図23(C)で説明したタッチセンサ2595と、を貼り合わせた構成である。
また、図24(A)に示すタッチパネル2000は、図23(A)及び図23(C)で説明した構成の他、接着層2597と、反射防止層2567pと、を有する。
接着層2597は、配線2594と接して設けられる。なお、接着層2597は、タッチセンサ2595が表示装置2501に重なるように、基板2590を基板2570に貼り合わせている。また、接着層2597は、透光性を有すると好ましい。また、接着層2597としては、熱硬化性樹脂、または紫外線硬化樹脂を用いることができる。例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、またはシロキサン系樹脂を用いることができる。
反射防止層2567pは、画素に重なる位置に設けられる。反射防止層2567pとして、例えば円偏光板を用いることができる。
次に、図24(A)に示す構成と異なる構成のタッチパネルについて、図24(B)を用いて説明する。
図24(B)は、タッチパネル2001の断面図である。図24(B)に示すタッチパネル2001は、図24(A)に示すタッチパネル2000と、表示装置2501に対するタッチセンサ2595の位置が異なる。ここでは異なる構成について詳細に説明し、同様の構成を用いることができる部分は、タッチパネル2000の説明を援用する。
着色層2567Rは、発光素子2550Rと重なる位置にある。また、図24(B)に示す発光素子2550Rは、トランジスタ2502tが設けられている側に光を射出する。これにより、発光素子2550Rが発する光の一部は、着色層2567Rを透過して、図中に示す矢印の方向の発光モジュール2580Rの外部に射出される。
また、タッチセンサ2595は、表示装置2501の基板2510側に設けられている。
接着層2597は、基板2510と基板2590の間にあり、表示装置2501とタッチセンサ2595を貼り合わせる。
図24(A)(B)に示すように、発光素子から射出される光は、基板2510及び基板2570のいずれか一方または双方を通して射出されればよい。
<タッチパネルの駆動方法に関する説明>
次に、タッチパネルの駆動方法の一例について、図25(A)(B)を用いて説明を行う。
図25(A)は、相互容量方式のタッチセンサの構成を示すブロック図である。図25(A)では、パルス電圧出力回路2601、電流検出回路2602を示している。なお、図25(A)では、パルス電圧が与えられる電極2621をX1−X6として、電流の変化を検知する電極2622をY1−Y6として、それぞれ6本の配線で例示している。また、図25(A)は、電極2621と、電極2622とが重畳することで形成される容量2603を示している。なお、電極2621と電極2622とはその機能を互いに置き換えてもよい。
パルス電圧出力回路2601は、X1−X6の配線に順にパルスを印加するための回路である。X1−X6の配線にパルス電圧が印加されることで、容量2603を形成する電極2621と電極2622との間に電界が生じる。この電極間に生じる電界が遮蔽等により容量2603の相互容量に変化を生じさせることを利用して、被検知体の近接、または接触を検出することができる。
電流検出回路2602は、容量2603での相互容量の変化による、Y1−Y6の配線での電流の変化を検出するための回路である。Y1−Y6の配線では、被検知体の近接、または接触がないと検出される電流値に変化はないが、検出する被検知体の近接、または接触により相互容量が減少する場合には電流値が減少する変化を検出する。なお電流の検出は、積分回路等を用いて行えばよい。
次に、図25(B)には、図25(A)で示す相互容量方式のタッチセンサにおける入出力波形のタイミングチャートを示す。図25(B)では、1フレーム期間で各行列での被検知体の検出を行う。また図25(B)では、被検知体を検出しない場合(非タッチ)と被検知体を検出する場合(タッチ)との2つの場合について示している。なお、図25(B)では、Y1−Y6の配線で検出される電流値に対応する電圧値の波形を示している。
X1−X6の配線には、順にパルス電圧が与えられ、該パルス電圧にしたがってY1−Y6の配線での波形が変化する。被検知体の近接または接触がない場合には、X1−X6の配線の電圧の変化に応じてY1−Y6の波形が一様に変化する。一方、被検知体が近接または接触する箇所では、電流値が減少するため、これに対応する電圧値の波形も変化する。
このように、相互容量の変化を検出することにより、被検知体の近接または接触を検知することができる。
<センサ回路に関する説明>
また、図25(A)ではタッチセンサとして配線の交差部に容量2603のみを設けるパッシブマトリクス型のタッチセンサの構成を示したが、トランジスタと容量とを有するアクティブマトリクス型のタッチセンサとしてもよい。アクティブマトリクス型のタッチセンサに含まれるセンサ回路の一例を図26に示す。
図26に示すセンサ回路は、容量2603と、トランジスタ2611と、トランジスタ2612と、トランジスタ2613とを有する。
トランジスタ2613はゲートに信号G2が与えられ、ソースまたはドレインの一方に電圧VRESが与えられ、他方が容量2603の一方の電極およびトランジスタ2611のゲートと電気的に接続する。トランジスタ2611は、ソースまたはドレインの一方がトランジスタ2612のソースまたはドレインの一方と電気的に接続し、他方に電圧VSSが与えられる。トランジスタ2612は、ゲートに信号G1が与えられ、ソースまたはドレインの他方が配線MLと電気的に接続する。容量2603の他方の電極には電圧VSSが与えられる。
次に、図26に示すセンサ回路の動作について説明する。まず、信号G2としてトランジスタ2613をオン状態とする電位が与えられることで、トランジスタ2611のゲートが接続されるノードnに電圧VRESに対応した電位が与えられる。次に、信号G2としてトランジスタ2613をオフ状態とする電位が与えられることで、ノードnの電位が保持される。
続いて、指等の被検知体の近接または接触により、容量2603の相互容量が変化することに伴い、ノードnの電位がVRESから変化する。
読み出し動作は、信号G1にトランジスタ2612をオン状態とする電位を与える。ノードnの電位に応じてトランジスタ2611に流れる電流、すなわち配線MLに流れる電流が変化する。この電流を検出することにより、被検知体の近接または接触を検出することができる。
トランジスタ2611、トランジスタ2612、及びトランジスタ2613としては、酸化物半導体層をチャネル領域が形成される半導体層に用いることが好ましい。とくにトランジスタ2613にこのようなトランジスタを適用することにより、ノードnの電位を長期間に亘って保持することが可能となり、ノードnにVRESを供給しなおす動作(リフレッシュ動作)の頻度を減らすことができる。
本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示す構成と適宜組み合わせて用いることができる。
(実施の形態10)
本実施の形態では、本発明の一態様の発光素子を有する表示モジュール及び電子機器について、図27乃至図31を用いて説明を行う。
<表示モジュールに関する説明>
図27に示す表示モジュール8000は、上部カバー8001と下部カバー8002との間に、FPC8003に接続されたタッチセンサ8004、FPC8005に接続された表示装置8006、フレーム8009、プリント基板8010、バッテリ8011を有する。
本発明の一態様の発光素子は、例えば、表示装置8006に用いることができる。
上部カバー8001及び下部カバー8002は、タッチセンサ8004及び表示装置8006のサイズに合わせて、形状や寸法を適宜変更することができる。
タッチセンサ8004は、抵抗膜方式または静電容量方式のタッチセンサを表示装置8006に重畳して用いることができる。また、表示装置8006の対向基板(封止基板)に、タッチセンサ機能を持たせるようにすることも可能である。また、表示装置8006の各画素内に光センサを設け、光学式のタッチセンサとすることも可能である。
フレーム8009は、表示装置8006の保護機能の他、プリント基板8010の動作により発生する電磁波を遮断するための電磁シールドとしての機能を有する。またフレーム8009は、放熱板としての機能を有していてもよい。
プリント基板8010は、電源回路、ビデオ信号及びクロック信号を出力するための信号処理回路を有する。電源回路に電力を供給する電源としては、外部の商用電源であっても良いし、別途設けたバッテリ8011による電源であってもよい。バッテリ8011は、商用電源を用いる場合には、省略可能である。
また、表示モジュール8000は、偏光板、位相差板、プリズムシートなどの部材を追加して設けてもよい。
<電子機器に関する説明>
図28(A)乃至図28(G)は、電子機器を示す図である。これらの電子機器は、筐体9000、表示部9001、スピーカ9003、操作キー9005(電源スイッチ、又は操作スイッチを含む)、接続端子9006、センサ9007(力、変位、位置、速度、加速度、角速度、回転数、距離、光、液、磁気、温度、化学物質、音声、時間、硬度、電場、電流、電圧、電力、放射線、流量、湿度、傾度、振動、におい又は赤外線を測定する機能を含むもの)、マイクロフォン9008、等を有することができる。また、センサ9007は、脈拍センサや指紋センサ等のように生体情報を測定する機能を有してもよい。
図28(A)乃至図28(G)に示す電子機器は、様々な機能を有することができる。例えば、様々な情報(静止画、動画、テキスト画像など)を表示部に表示する機能、タッチセンサ機能、カレンダー、日付または時刻などを表示する機能、様々なソフトウェア(プログラム)によって処理を制御する機能、無線通信機能、無線通信機能を用いて様々なコンピュータネットワークに接続する機能、無線通信機能を用いて様々なデータの送信または受信を行う機能、記録媒体に記録されているプログラムまたはデータを読み出して表示部に表示する機能、等を有することができる。なお、図28(A)乃至図28(G)に示す電子機器が有することのできる機能はこれらに限定されず、様々な機能を有することができる。また、図28(A)乃至図28(G)には図示していないが、電子機器には、複数の表示部を有する構成としてもよい。また、該電子機器にカメラ等を設け、静止画を撮影する機能、動画を撮影する機能、撮影した画像を記録媒体(外部またはカメラに内蔵)に保存する機能、撮影した画像を表示部に表示する機能、等を有していてもよい。
図28(A)乃至図28(G)に示す電子機器の詳細について、以下説明を行う。
図28(A)は、携帯情報端末9100を示す斜視図である。携帯情報端末9100が有する表示部9001は、可撓性を有する。そのため、湾曲した筐体9000の湾曲面に沿って表示部9001を組み込むことが可能である。また、表示部9001はタッチセンサを備え、指やスタイラスなどで画面に触れることで操作することができる。例えば、表示部9001に表示されたアイコンに触れることで、アプリケーションを起動することができる。
図28(B)は、携帯情報端末9101を示す斜視図である。携帯情報端末9101は、例えば電話機、手帳又は情報閲覧装置等から選ばれた一つ又は複数の機能を有する。具体的には、スマートフォンとして用いることができる。なお、携帯情報端末9101は、スピーカ9003、接続端子9006、センサ9007等を省略して図示しているが、図28(A)に示す携帯情報端末9100と同様の位置に設けることができる。また、携帯情報端末9101は、文字や画像情報をその複数の面に表示することができる。例えば、3つの操作ボタン9050(操作アイコンまたは単にアイコンともいう)を表示部9001の一の面に表示することができる。また、破線の矩形で示す情報9051を表示部9001の他の面に表示することができる。なお、情報9051の一例としては、電子メールやSNS(ソーシャル・ネットワーキング・サービス)や電話などの着信を知らせる表示、電子メールやSNSなどの題名、電子メールやSNSなどの送信者名、日時、時刻、バッテリの残量、電波等の受信信号の強度を示す表示などがある。または、情報9051が表示されている位置に、情報9051の代わりに、操作ボタン9050などを表示してもよい。
筐体9000の材料としては、合金、プラスチック、セラミックス、炭素繊維を含む材料を用いることができる。炭素繊維を含む材料としては、炭素繊維強化樹脂複合材(Carbon Fiber Reinforced Plastics:CFRP)が軽量であり、且つ、腐食しない利点があるが黒色であり、外観やデザインが限られる。また、CFRPは強化プラスチックの一種とも言え、強化プラスチックはガラス繊維を用いてもよいし、アラミド繊維を用いてもよい。強い衝撃を受けた場合、繊維が樹脂から剥離する恐れがあるため、合金が好ましい。合金としては、アルミニウム合金やマグネシウム合金が挙げられるが、中でもジルコニウムと銅とニッケルとチタンを含む非晶質合金(金属ガラスとも呼ばれる)が弾性強度の点で優れている。この非晶質合金は、室温においてガラス遷移領域を有する非晶質合金であり、バルク凝固非晶質合金とも呼ばれ、実質的に非晶質原子構造を有する合金である。凝固鋳造法により、少なくとも一部の筐体の鋳型内に合金材料が鋳込まれ、凝固させて一部の筐体をバルク凝固非晶質合金で形成する。非晶質合金は、ジルコニウム、銅、ニッケル、チタン以外にもベリリウム、シリコン、ニオブ、ボロン、ガリウム、モリブデン、タングステン、マンガン、鉄、コバルト、イットリウム、バナジウム、リン、炭素などを含んでもよい。また、非晶質合金は、凝固鋳造法に限定されず、真空蒸着法、スパッタ法、電解めっき法、無電解メッキ法などによって形成してもよい。また、非晶質合金は、全体として長距離秩序(周期構造)を持たない状態を維持するのであれば、微結晶またはナノ結晶を含んでもよい。なお、合金とは、単一の固体相構造を有する完全固溶体合金と、2つ以上の相を有する部分溶体の両方を含むこととする。筐体9000に非晶質合金を用いることで高い弾性を有する筐体を実現できる。従って、携帯情報端末9101を落下させても、筐体9000が非晶質合金であれば、衝撃が加えられた瞬間には一時的に変形しても元に戻るため、携帯情報端末9101の耐衝撃性を向上させることができる。
図28(C)は、携帯情報端末9102を示す斜視図である。携帯情報端末9102は、表示部9001の3面以上に情報を表示する機能を有する。ここでは、情報9052、情報9053、情報9054がそれぞれ異なる面に表示されている例を示す。例えば、携帯情報端末9102の使用者は、洋服の胸ポケットに携帯情報端末9102を収納した状態で、その表示(ここでは情報9053)を確認することができる。具体的には、着信した電話の発信者の電話番号又は氏名等を、携帯情報端末9102の上方から観察できる位置に表示する。使用者は、携帯情報端末9102をポケットから取り出すことなく、表示を確認し、電話を受けるか否かを判断できる。
図28(D)は、腕時計型の携帯情報端末9200を示す斜視図である。携帯情報端末9200は、移動電話、電子メール、文章閲覧及び作成、音楽再生、インターネット通信、コンピュータゲームなどの種々のアプリケーションを実行することができる。また、表示部9001はその表示面が湾曲して設けられ、湾曲した表示面に沿って表示を行うことができる。また、携帯情報端末9200は、通信規格された近距離無線通信を実行することが可能である。例えば無線通信可能なヘッドセットと相互通信することによって、ハンズフリーで通話することもできる。また、携帯情報端末9200は、接続端子9006を有し、他の情報端末とコネクターを介して直接データのやりとりを行うことができる。また接続端子9006を介して充電を行うこともできる。なお、充電動作は接続端子9006を介さずに無線給電により行ってもよい。
図28(E)(F)(G)は、折り畳み可能な携帯情報端末9201を示す斜視図である。また、図28(E)が携帯情報端末9201を展開した状態の斜視図であり、図28(F)が携帯情報端末9201を展開した状態または折り畳んだ状態の一方から他方に変化する途中の状態の斜視図であり、図28(G)が携帯情報端末9201を折り畳んだ状態の斜視図である。携帯情報端末9201は、折り畳んだ状態では可搬性に優れ、展開した状態では、継ぎ目のない広い表示領域により表示の一覧性に優れる。携帯情報端末9201が有する表示部9001は、ヒンジ9055によって連結された3つの筐体9000に支持されている。ヒンジ9055を介して2つの筐体9000間を屈曲させることにより、携帯情報端末9201を展開した状態から折りたたんだ状態に可逆的に変形させることができる。例えば、携帯情報端末9201は、曲率半径1mm以上150mm以下で曲げることができる。
また、電子機器としては、例えば、テレビジョン装置(テレビ、又はテレビジョン受信機ともいう)、コンピュータ用などのモニタ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、デジタルフォトフレーム、携帯電話機(携帯電話、携帯電話装置ともいう)、ゴーグル型ディスプレイ(ヘッドマウントディスプレイ)、携帯型ゲーム機、携帯情報端末、音響再生装置、パチンコ機などの大型ゲーム機などが挙げられる。
また、本発明の一態様の電子機器は、二次電池を有していてもよく、非接触電力伝送を用いて、二次電池を充電することができると好ましい。
二次電池としては、例えば、ゲル状電解質を用いるリチウムポリマー電池(リチウムイオンポリマー電池)等のリチウムイオン二次電池、リチウムイオン電池、ニッケル水素電池、ニカド電池、有機ラジカル電池、鉛蓄電池、空気二次電池、ニッケル亜鉛電池、銀亜鉛電池などが挙げられる。
本発明の一態様の電子機器は、アンテナを有していてもよい。アンテナで信号を受信することで、表示部で映像や情報等の表示を行うことができる。また、電子機器が二次電池を有する場合、アンテナを、非接触電力伝送に用いてもよい。
図29(A)は携帯型ゲーム機であり、筐体7101、筐体7102、表示部7103、表示部7104、マイク7105、スピーカ7106、操作キー7107、スタイラス7108等を有する。表示部7103または表示部7104に本発明の一態様に係る発光装置を用いることで、ユーザーの使用感に優れ、品質の低下が起こりにくい携帯型ゲーム機を提供することができる。なお、図29(A)に示した携帯型ゲーム機は、2つの表示部7103と表示部7104とを有しているが、携帯型ゲーム機が有する表示部の数は、これに限定されない。
図29(B)はビデオカメラであり、筐体7701、筐体7702、表示部7703、操作キー7704、レンズ7705、接続部7706等を有する。操作キー7704およびレンズ7705は筐体7701に設けられており、表示部7703は筐体7702に設けられている。そして、筐体7701と筐体7702とは、接続部7706により接続されており、筐体7701と筐体7702の間の角度は、接続部7706により変更が可能である。表示部7703における映像を、接続部7706における筐体7701と筐体7702との間の角度にしたがって切り替える構成としてもよい。
図29(C)はノート型パーソナルコンピュータであり、筐体7121、表示部7122、キーボード7123、ポインティングデバイス7124等を有する。なお、表示部7122は、非常に画素密度が高く高精細とすることができるため、中小型でありながら8kの表示を行うことができ、非常に鮮明な画像を得ることができる。
図29(D)には、ヘッドマウントディスプレイ7200の外観を示している。
ヘッドマウントディスプレイ7200は、装着部7201、レンズ7202、本体7203、表示部7204、ケーブル7205等を有している。また装着部7201には、バッテリ7206が内蔵されている。
ケーブル7205は、バッテリ7206から本体7203に電力を供給する。本体7203は無線受信機等を備え、受信した画像データ等の映像情報を表示部7204に表示させることができる。また、本体7203に設けられたカメラで使用者の眼球やまぶたの動きを捉え、その情報をもとに使用者の視点の座標を算出することにより、使用者の視点を入力手段として用いることができる。
また、装着部7201には、使用者に触れる位置に複数の電極が設けられていてもよい。本体7203は使用者の眼球の動きに伴って電極に流れる電流を検知することにより、使用者の視点を認識する機能を有していてもよい。また、当該電極に流れる電流を検知することにより、使用者の脈拍をモニタする機能を有していてもよい。また、装着部7201には、温度センサ、圧力センサ、加速度センサ等の各種センサを有していてもよく、使用者の生体情報を表示部7204に表示する機能を有していてもよい。また、使用者の頭部の動きなどを検出し、表示部7204に表示する映像をその動きに合わせて変化させてもよい。
図29(E)に、カメラ7300の外観を示す。カメラ7300は、筐体7301、表示部7302、操作ボタン7303、シャッターボタン7304、結合部7305等を有する。またカメラ7300には、レンズ7306を取り付けることができる。
結合部7305は、電極を有し、後述するファインダー7400のほか、ストロボ装置等を接続することができる。
ここではカメラ7300として、レンズ7306を筐体7301から取り外して交換することが可能な構成としたが、レンズ7306と筐体7301が一体となっていてもよい。
シャッターボタン7304を押すことにより、撮像することができる。また、表示部7302はタッチセンサを有し、表示部7302を操作することにより撮像することも可能である。
表示部7302に、本発明の一態様の表示装置、またはタッチセンサを適用することができる。
図29(F)には、カメラ7300にファインダー7400を取り付けた場合の例を示している。
ファインダー7400は、筐体7401、表示部7402、ボタン7403等を有する。
筐体7401には、カメラ7300の結合部7305と係合する結合部を有しており、ファインダー7400をカメラ7300に取り付けることができる。また当該結合部には電極を有し、当該電極を介してカメラ7300から受信した映像等を表示部7402に表示させることができる。
ボタン7403は、電源ボタンとしての機能を有する。ボタン7403により、表示部7402の表示のオンとオフとを切り替えることができる。
なお、図29(E)(F)では、カメラ7300とファインダー7400とを別の電子機器とし、これらを脱着可能な構成としたが、カメラ7300の筐体7301に、本発明の一態様の表示装置、またはタッチセンサを備えるファインダーが内蔵されていてもよい。
図30(A)にテレビジョン装置の一例を示す。テレビジョン装置9300は、筐体9000に表示部9001が組み込まれている。ここでは、スタンド9301により筐体9000を支持した構成を示している。
図30(A)に示すテレビジョン装置9300の操作は、筐体9000が備える操作スイッチや、別体のリモコン操作機9311により行うことができる。または、表示部9001にタッチセンサを備えていてもよく、指等で表示部9001に触れることで操作してもよい。リモコン操作機9311は、当該リモコン操作機9311から出力する情報を表示する表示部を有していてもよい。リモコン操作機9311が備える操作キー又はタッチパネルにより、チャンネルや音量の操作を行うことができ、表示部9001に表示される映像を操作することができる。
なお、テレビジョン装置9300は、受信機やモデムなどを備えた構成とする。受信機により一般のテレビ放送の受信を行うことができる。また、モデムを介して有線又は無線による通信ネットワークに接続することにより、一方向(送信者から受信者)又は双方向(送信者と受信者間、あるいは受信者間同士など)の情報通信を行うことも可能である。
また、本発明の一態様の電子機器又は照明装置は可撓性を有するため、家屋やビルの内壁もしくは外壁、又は、自動車の内装もしくは外装の曲面に沿って組み込むことも可能である。
図30(B)に自動車9700の外観を示す。図30(C)に自動車9700の運転席を示す。自動車9700は、車体9701、車輪9702、ダッシュボード9703、ライト9704等を有する。本発明の一態様の表示装置又は発光装置等は、自動車9700の表示部などに用いることができる。例えば、図30(C)に示す表示部9710乃至表示部9715に本発明の一態様の表示装置又は発光装置等を設けることができる。
表示部9710と表示部9711は、自動車のフロントガラスに設けられた表示装置である。本発明の一態様の表示装置又は発光装置等は、電極や配線を、透光性を有する導電性材料で作製することによって、反対側が透けて見える、いわゆるシースルー状態とすることができる。表示部9710や表示部9711がシースルー状態であれば、自動車9700の運転時にも視界の妨げになることがない。よって、本発明の一態様の表示装置又は発光装置等を自動車9700のフロントガラスに設置することができる。なお、表示装置又は発光装置等を駆動するためのトランジスタなどを設ける場合には、有機半導体材料を用いた有機トランジスタや、酸化物半導体を用いたトランジスタなど、透光性を有するトランジスタを用いるとよい。
表示部9712はピラー部分に設けられた表示装置である。例えば、車体に設けられた撮像手段からの映像を表示部9712に映し出すことによって、ピラーで遮られた視界を補完することができる。表示部9713はダッシュボード部分に設けられた表示装置である。例えば、車体に設けられた撮像手段からの映像を表示部9713に映し出すことによって、ダッシュボードで遮られた視界を補完することができる。すなわち、自動車の外側に設けられた撮像手段からの映像を映し出すことによって、死角を補い、安全性を高めることができる。また、見えない部分を補完する映像を映すことによって、より自然に違和感なく安全確認を行うことができる。
また、図30(D)は、運転席と助手席にベンチシートを採用した自動車の室内を示している。表示部9721は、ドア部に設けられた表示装置である。例えば、車体に設けられた撮像手段からの映像を表示部9721に映し出すことによって、ドアで遮られた視界を補完することができる。また、表示部9722は、ハンドルに設けられた表示装置である。表示部9723は、ベンチシートの座面の中央部に設けられた表示装置である。なお、表示装置を座面や背もたれ部分などに設置して、当該表示装置を、当該表示装置の発熱を熱源としたシートヒーターとして利用することもできる。
表示部9714、表示部9715、または表示部9722はナビゲーション情報、スピードメーターやタコメーター、走行距離、給油量、ギア状態、エアコンの設定など、その他様々な情報を提供することができる。また、表示部に表示される表示項目やレイアウトなどは、使用者の好みに合わせて適宜変更することができる。なお、上記情報は、表示部9710乃至表示部9713、表示部9721、表示部9723にも表示することができる。また、表示部9710乃至表示部9715、表示部9721乃至表示部9723は照明装置として用いることも可能である。また、表示部9710乃至表示部9715、表示部9721乃至表示部9723は加熱装置として用いることも可能である。
図31(A)(B)に示す表示装置9500は、複数の表示パネル9501と、軸部9511と、軸受部9512と、を有する。また、複数の表示パネル9501は、表示領域9502と、透光性を有する領域9503と、を有する。
また、複数の表示パネル9501は、可撓性を有する。また、隣接する2つの表示パネル9501は、それらの一部が互いに重なるように設けられる。例えば、隣接する2つの表示パネル9501の透光性を有する領域9503を重ね合わせることができる。複数の表示パネル9501を用いることで、大画面の表示装置とすることができる。また、使用状況に応じて、表示パネル9501を巻き取ることが可能であるため、汎用性に優れた表示装置とすることができる。
また、図31(A)(B)においては、表示領域9502が隣接する表示パネル9501で離間する状態を図示しているが、これに限定されず、例えば、隣接する表示パネル9501の表示領域9502を隙間なく重ねあわせることで、連続した表示領域9502としてもよい。
本実施の形態において述べた電子機器は、何らかの情報を表示するための表示部を有する。ただし、本発明の一態様の発光素子は、表示部を有さない電子機器にも適用することができる。また、本実施の形態において述べた電子機器の表示部においては、可撓性を有し、湾曲した表示面に沿って表示を行うことができる構成、または折り畳み可能な表示部の構成について例示したが、これに限定されず、可撓性を有さず、平面部に表示を行う構成としてもよい。
本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示す構成と適宜組み合わせて用いることができる。
(実施の形態11)
本実施の形態では、本発明の一態様の発光素子を有する発光装置について、図32及び図33を用いて説明する。
本実施の形態で示す、発光装置3000の斜視図を図32(A)に、図32(A)に示す一点鎖線E−F間に相当する断面図を図32(B)に、それぞれ示す。なお、図32(A)において、図面の煩雑さを避けるために、構成要素の一部を破線で表示している。
図32(A)(B)に示す発光装置3000は、基板3001と、基板3001上の発光素子3005と、発光素子3005の外周に設けられた第1の封止領域3007と、第1の封止領域3007の外周に設けられた第2の封止領域3009と、を有する。
また、発光素子3005からの発光は、基板3001及び基板3003のいずれか一方または双方から射出される。図32(A)(B)においては、発光素子3005からの発光が下方側(基板3001側)に射出される構成について説明する。
また、図32(A)(B)に示すように、発光装置3000は、発光素子3005が第1の封止領域3007と、第2の封止領域3009とに、囲まれて配置される二重封止構造である。二重封止構造とすることで、発光素子3005側に入り込む外部の不純物(例えば、水、酸素など)を、好適に抑制することができる。ただし、第1の封止領域3007及び第2の封止領域3009を、必ずしも設ける必要はない。例えば、第1封止領域3007のみの構成としてもよい。
なお、図32(B)において、第1の封止領域3007及び第2の封止領域3009は、基板3001及び基板3003と接して設けられる。ただし、これに限定されず、例えば、第1の封止領域3007及び第2の封止領域3009の一方または双方は、基板3001の上方に形成される絶縁膜、あるいは導電膜と接して設けられる構成としてもよい。または、第1の封止領域3007及び第2の封止領域3009の一方または双方は、基板3003の下方に形成される絶縁膜、あるいは導電膜と接して設けられる構成としてもよい。
基板3001及び基板3003としては、それぞれ先の実施の形態に記載の基板200と、基板220と同様の構成とすればよい。発光素子3005としては、先の実施の形態に記載の発光素子と同様の構成とすればよい。
第1の封止領域3007としては、ガラスを含む材料(例えば、ガラスフリット、ガラスリボン等)を用いればよい。また、第2の封止領域3009としては、樹脂を含む材料を用いればよい。第1の封止領域3007として、ガラスを含む材料を用いることで、生産性や封止性を高めることができる。また、第2の封止領域3009として、樹脂を含む材料を用いることで、耐衝撃性や耐熱性を高めることができる。ただし、第1の封止領域3007と、第2の封止領域3009とは、これに限定されず、第1の封止領域3007が樹脂を含む材料で形成され、第2の封止領域3009がガラスを含む材料で形成されてもよい。
また、上述のガラスフリットとしては、例えば、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化セシウム、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化ホウ素、酸化バナジウム、酸化亜鉛、酸化テルル、酸化アルミニウム、二酸化珪素、酸化鉛、酸化スズ、酸化リン、酸化ルテニウム、酸化ロジウム、酸化鉄、酸化銅、二酸化マンガン、酸化モリブデン、酸化ニオブ、酸化チタン、酸化タングステン、酸化ビスマス、酸化ジルコニウム、酸化リチウム、酸化アンチモン、ホウ酸鉛ガラス、リン酸スズガラス、バナジン酸塩ガラス又はホウケイ酸ガラス等を含む。赤外光を吸収させるため、少なくとも一種類以上の遷移金属を含むことが好ましい。
また、上述のガラスフリットとしては、例えば、基板上にフリットペーストを塗布し、これに加熱処理、またはレーザ照射などを行う。フリットペーストには、上記ガラスフリットと、有機溶媒で希釈した樹脂(バインダとも呼ぶ)とが含まれる。また、ガラスフリットにレーザ光の波長の光を吸収する吸収剤を添加したものを用いても良い。また、レーザとして、例えば、Nd:YAGレーザや半導体レーザなどを用いることが好ましい。また、レーザ照射の際のレーザの照射形状は、円形でも四角形でもよい。
また、上述の樹脂を含む材料としては、例えば、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド(ナイロン、アラミド等)、ポリイミド、ポリカーボネートまたはアクリル樹脂、ポリウレタン、エポキシ樹脂を用いることができる。もしくは、シリコーンなどのシロキサン結合を有する樹脂を含む材料を用いることができる。
なお、第1の封止領域3007及び第2の封止領域3009のいずれか一方または双方にガラスを含む材料を用いる場合、当該ガラスを含む材料と、基板3001との熱膨張率が近いことが好ましい。上記構成とすることで、熱応力によりガラスを含む材料または基板3001にクラックが入るのを抑制することができる。
例えば、第1の封止領域3007にガラスを含む材料を用い、第2の封止領域3009に樹脂を含む材料を用いる場合、以下の優れた効果を有する。
第2の封止領域3009は、第1の封止領域3007よりも、発光装置3000の外周部に近い側に設けられる。発光装置3000は、外周部に向かうにつれ、外力等による歪みが大きくなる。よって、歪みが大きくなる発光装置3000の外周部側、すなわち第2の封止領域3009に、樹脂を含む材料によって封止し、第2の封止領域3009よりも内側に設けられる第1の封止領域3007にガラスを含む材料を用いて封止することで、外力等の歪みが生じても発光装置3000が壊れにくくなる。
また、図32(B)に示すように、基板3001、基板3003、第1の封止領域3007、及び第2の封止領域3009に囲まれた領域には、第1の領域3011が形成される。また、基板3001、基板3003、発光素子3005、及び第1の封止領域3007に囲まれた領域には、第2の領域3013が形成される。
第1の領域3011及び第2の領域3013としては、例えば、希ガスまたは窒素ガス等の不活性ガスが充填されていると好ましい。あるいは、アクリルやエポキシ等の樹脂が充填されていると好ましい。なお、第1の領域3011及び第2の領域3013としては、大気圧状態よりも減圧状態であると好ましい。
また、図32(B)に示す構成の変形例を図32(C)に示す。図32(C)は、発光装置3000の変形例を示す断面図である。
図32(C)は、基板3003の一部に凹部を設け、該凹部に乾燥剤3018を設ける構成である。それ以外の構成については、図32(B)に示す構成と同じである。
乾燥剤3018としては、化学吸着によって水分等を吸着する物質、または物理吸着によって水分等を吸着する物質を用いることができる。例えば、乾燥剤3018として用いることができる物質としては、アルカリ金属の酸化物、アルカリ土類金属の酸化物(酸化カルシウムや酸化バリウム等)、硫酸塩、金属ハロゲン化物、過塩素酸塩、ゼオライト、シリカゲル等が挙げられる。
次に、図32(B)に示す発光装置3000の変形例について、図33(A)(B)(C)(D)を用いて説明する。なお、図33(A)(B)(C)(D)は、図32(B)に示す発光装置3000の変形例を説明する断面図である。
図33(A)(B)(C)(D)に示す発光装置は、第2の封止領域3009を設けずに、第1の封止領域3007とした構成である。また、図33(A)(B)(C)(D)に示す発光装置は、図32(B)に示す第2の領域3013の代わりに領域3014を有する。
領域3014としては、例えば、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド(ナイロン、アラミド等)、ポリイミド、ポリカーボネートまたはアクリル樹脂、ポリウレタン、エポキシ樹脂を用いることができる。もしくは、シリコーンなどのシロキサン結合を有する樹脂を含む材料を用いることができる。
領域3014として、上述の材料を用いることで、いわゆる固体封止の発光装置とすることができる。
また、図33(B)に示す発光装置は、図33(A)に示す発光装置の基板3001側に、基板3015を設ける構成である。
基板3015は、図33(B)に示すように凹凸を有する。凹凸を有する基板3015を、発光素子3005の光を取り出す側に設ける構成とすることで、発光素子3005からの光の取出し効率を向上させることができる。なお、図33(B)に示すような凹凸を有する構造の代わりに、拡散板として機能する基板を設けてもよい。
また、図33(C)に示す発光装置は、図33(A)に示す発光装置が基板3001側から光を取り出す構造であったのに対し、基板3003側から光を取り出す構造である。
図33(C)に示す発光装置は、基板3003側に基板3015を有する。それ以外の構成は、図33(B)に示す発光装置と同様である。
また、図33(D)に示す発光装置は、図33(C)に示す発光装置の基板3003、3015を設けずに、基板3016を設ける構成である。
基板3016は、発光素子3005の近い側に位置する第1の凹凸と、発光素子3005の遠い側に位置する第2の凹凸と、を有する。図33(D)に示す構成とすることで、発光素子3005からの光の取出し効率をさらに、向上させることができる。
したがって、本実施の形態に示す構成を実施することにより、水分や酸素などの不純物による発光素子の劣化が抑制された発光装置を実現することができる。または、本実施の形態に示す構成を実施することにより、光取出し効率の高い発光装置を実現することができる。
なお、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示す構成と適宜組み合わせることができる。
(実施の形態12)
本実施の形態では、本発明の一態様の発光素子を様々な照明装置及び電子機器に適用する一例について、図34及び図35を用いて説明する。
本発明の一態様の発光素子を、可撓性を有する基板上に作製することで、曲面を有する発光領域を有する電子機器、照明装置を実現することができる。
また、本発明の一態様を適用した発光装置は、自動車の照明にも適用することができ、例えば、ダッシュボードや、フロントガラス、天井等に照明を設置することもできる。
図34(A)は、多機能端末3500の一方の面の斜視図を示し、図34(B)は、多機能端末3500の他方の面の斜視図を示している。多機能端末3500は、筐体3502に表示部3504、カメラ3506、照明3508等が組み込まれている。本発明の一態様の発光装置を照明3508に用いることができる。
照明3508は、本発明の一態様の発光装置を用いることで、面光源として機能する。したがって、LEDに代表される点光源と異なり、指向性が少ない発光が得られる。例えば、照明3508とカメラ3506とを組み合わせて用いる場合、照明3508を点灯または点滅させて、カメラ3506により撮像することができる。照明3508としては、面光源としての機能を有するため、自然光の下で撮影したような写真を撮影することができる。
なお、図34(A)、(B)に示す多機能端末3500は、図28(A)乃至図28(G)に示す電子機器と同様に、様々な機能を有することができる。
また、筐体3502の内部に、スピーカ、センサ(力、変位、位置、速度、加速度、角速度、回転数、距離、光、液、磁気、温度、化学物質、音声、時間、硬度、電場、電流、電圧、電力、放射線、流量、湿度、傾度、振動、におい又は赤外線を測定する機能を含むもの)、マイクロフォン等を有することができる。また、多機能端末3500の内部に、ジャイロ、加速度センサ等の傾きを検出するセンサを有する検出装置を設けることで、多機能端末3500の向き(縦か横か)を判断して、表示部3504の画面表示を自動的に切り替えるようにすることができる。
表示部3504は、イメージセンサとして機能させることもできる。例えば、表示部3504に掌や指で触れ、掌紋、指紋等を撮像することで、本人認証を行うことができる。また、表示部3504に近赤外光を発光するバックライト又は近赤外光を発光するセンシング用光源を用いれば、指静脈、掌静脈などを撮像することもできる。なお、表示部3504に本発明の一態様の発光装置を適用してもよい。
図34(C)は、防犯用のライト3600の斜視図を示している。ライト3600は、筐体3602の外側に照明3608を有し、筐体3602には、スピーカ3610等が組み込まれている。本発明の一態様の発光装置を照明3608に用いることができる。
ライト3600としては、例えば、照明3608を握持する、掴持する、または保持することで発光することができる。また、筐体3602の内部には、ライト3600からの発光方法を制御できる電子回路を備えていてもよい。該電子回路としては、例えば、1回または間欠的に複数回、発光が可能なような回路としてもよいし、発光の電流値を制御することで発光の光量が調整可能なような回路としてもよい。また、照明3608の発光と同時に、スピーカ3610から大音量の警報音が出力されるような回路を組み込んでもよい。
ライト3600としては、あらゆる方向に発光することが可能なため、例えば、暴漢等に向けて光、または光と音で威嚇することができる。また、ライト3600にデジタルスチルカメラ等のカメラ、撮影機能を有する機能を備えてもよい。
図35は、発光素子を室内の照明装置8501として用いた例である。なお、発光素子は大面積化も可能であるため、大面積の照明装置を形成することもできる。その他、曲面を有する筐体を用いることで、発光領域が曲面を有する照明装置8502を形成することもできる。本実施の形態で示す発光素子は薄膜状であり、筐体のデザインの自由度が高い。したがって、様々な意匠を凝らした照明装置を形成することができる。さらに、室内の壁面に大型の照明装置8503を備えても良い。また、照明装置8501、8502、8503に、タッチセンサを設けて、電源のオンまたはオフを行ってもよい。
また、発光素子をテーブルの表面側に用いることによりテーブルとしての機能を備えた照明装置8504とすることができる。なお、その他の家具の一部に発光素子を用いることにより、家具としての機能を備えた照明装置とすることができる。
以上のようにして、本発明の一態様の発光装置を適用して照明装置及び電子機器を得ることができる。なお、適用できる照明装置及び電子機器は、本実施の形態に示したものに限らず、あらゆる分野の電子機器に適用することが可能である。
また、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示した構成と適宜組み合わせて用いることができる。
本実施例では、実施の形態1で説明した一般式(G1)で表されるジベンゾカルバゾール化合物の一つである、7−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−7H−ジベンゾ[a,g]カルバゾール(略称:agDBCzPA、構造式(100))の合成方法について説明する。
<agDBCzPAの合成>
200mL三口フラスコに、3.0g(7.5mmol)の9−(4−ブロモフェニル)−10−フェニルアントラセンと、2.0g(7.5mol)の7H−ジベンゾ[a,g]カルバゾールと、1.4g(15mmol)のナトリウム tert−ブトキシドを入れた。フラスコ内を窒素置換してから、この混合物に38mLのメシチレンと、0.30mLのトリ−tert−ブチルホスフィン(10wt%ヘキサン溶液)を加えた。この混合物を減圧しながら攪拌することで脱気をした。脱気後、この混合物に43mg(0.075mol)のビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)を加えた。この混合物を窒素気流下、150℃で6時間攪拌した。攪拌後、この混合物を室温まで冷却し、約20mLの水を加えて攪拌した。攪拌後、この混合物を吸引ろ過して固体を回収した。回収した固体を約50mLの熱したトルエンに溶解し、この溶液をセライト、酸化アルミニウム、フロリジールを通して吸引ろ過した。得られたろ液を濃縮して得た固体をトルエンで再結晶したところ、目的物の淡黄色粉末を3.5g、収率78%で得た。本反応スキームを以下に示す。
得られた淡黄色粉末状固体3.5gをトレインサブリメーション法により昇華精製した。昇華精製条件は、圧力2.7Pa、アルゴンガスを流量5.0mL/minで流しながら、290℃でagDBCzPAを加熱した。昇華精製後、agDBCzPAの淡黄色固体を3.3g、回収率96%で得た。
得られた物質のH NMR(核磁気共鳴法)を測定した。以下に測定データを示す。
H NMR(CDCl,500MHz):δ=7.42−7.45(m,3H)、7.50−7.67(m,10H)、7.74(d,J=8.5z,1H)、7.74−7.83(m,3H)、7.84(s,4H)、7.92(t,J=9.0z,3H)、7.97(d,J=9.0z,1H)、8.10(dd,J=7.5z,J=2.5z,2H)、8.85(d,J=8.5Hz,1H)、9.04(d,J=8.5Hz,1H)。
また、H NMRチャートを図36(A)(B)に示す。なお、図36(B)は、図36(A)における7.00ppmから9.50ppmの範囲を拡大して表したチャートである。これにより、上述の構造式(100)で表される本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物であるagDBCzPAが得られたことがわかった。
<agDBCzPAの特性>
次に、得られたagDBCzPAを液体クロマトグラフ質量分析(Liquid Chromatography Mass Spectrometry,略称:LC/MS分析)によって分析した。
LC/MS分析は、ウォーターズ社製Acquity UPLCおよびウォーターズ社製Xevo G2 Tof MSを用いて行った。
MS分析では、エレクトロスプレーイオン化法(ElectroSpray Ionization、略称:ESI)によるイオン化を行った。このときのキャピラリー電圧は3.0kV、サンプルコーン電圧は30Vとし、検出はポジティブモードで行った。さらに、以上の条件でイオン化された成分を衝突室(コリジョンセル)内でアルゴンガスと衝突させてプロダクトイオンに解離させた。アルゴンを衝突させる際のエネルギー(コリジョンエネルギー)は70eVとした。なお、測定する質量範囲はm/z=100乃至1200とした。
測定結果を図37に示す。図37の結果から、構造式(100)で表される本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物であるagDBCzPAは、主としてm/z=596付近、m/z=330付近、m/z=266付近にプロダクトイオンが検出されることがわかった。なお、図37に示す結果は、agDBCzPAに由来する特徴的な結果を示すデータであることから、混合物中に含まれるagDBCzPAを同定する上での重要なデータであるといえる。
また、ジベンゾ[a,g]カルバゾールとフェニレン基のN−C結合が切れ、ジベンゾ[a,g]カルバゾール側に電荷が残るため、m/z=266付近のプロダクトイオンは、構造式(100)の化合物のジベンゾ[a,g]カルバゾールとフェニレン基のN−C結合が切れた状態の情報を含んでいると推測されるため、有用である。また、m/z=330付近はジフェニルアントラセンを含んだプロダクトイオンと推察でき、本発明の一態様であるジベンゾカルバゾール化合物、agDBCzPAが、ジベンゾ[a,g]カルバゾールとジフェニルアントラセンを含んでいることを示唆する結果である。
また、得られたagDBCzPAの熱重量測定−示差熱分析(TG−DTA:Thermogravimetry−Differential Thermal Analysis)を行った。測定には高真空差動型示差熱天秤(ブルカー・エイエックスエス株式会社製、TG−DTA2410SA)を用いた。常圧、昇温速度10℃/min、窒素気流下(流速:200mL/min)条件で測定したところ、重量と温度の関係(熱重量測定)から、agDBCzPAの5%重量減少温度は475℃であった。このことから、agDBCzPAの耐熱性が良好であることが示された。
次に、agDBCzPAの薄膜およびトルエン溶液の紫外可視吸収スペクトル(以下、単に「吸収スペクトル」という)、及び発光スペクトルを測定した。
トルエン溶液中のagDBCzPAの吸収スペクトルは、agDBCzPAのトルエン溶液を石英セルに入れて測定し、この吸収スペクトルから、石英セルを用いて測定したトルエンの吸収スペクトルを差し引いた吸収スペクトルを示す。また、薄膜の吸収スペクトルは、agDBCzPAを石英基板上に真空蒸着法にて成膜したサンプルを用い、このサンプルの吸収スペクトルから石英基板の吸収スペクトルを差し引いた吸収スペクトルを示す。なお、吸収スペクトルの測定には、紫外可視分光光度計((株)日本分光製 V550型)を用いた。
また、発光スペクトルの測定には、蛍光光度計((株)浜松ホトニクス製 FS920)を用いた。
得られたトルエン溶液中のagDBCzPAの吸収スペクトル及び発光スペクトルの測定結果を図38に、薄膜のagDBCzPAの吸収スペクトル及び発光スペクトルの測定結果を図39に示す。
図38より、agDBCzPAのトルエン溶液は、波長が292nm、305nm、341nm、354nm、372nm、及び396nm付近に吸収極大が見られた。また、発光のピーク波長は417nm、及び429nmであった。
また、図39よりagDBCzPAの薄膜は、波長が228nm、267nm、295nm、308nm、345nm、359nm、377nm、及び402nm付近に吸収極大が見られた。また、発光のピーク波長は433nm、及び447nm(励起波長371nm)であった。
また、薄膜のagDBCzPAのイオン化ポテンシャルの値を大気中にて光電子分光装置(理研計器社製、AC−3)で測定した。得られたイオン化ポテンシャルの値を、負の値に換算した結果、agDBCzPAのHOMO準位は−5.93eVであった。図39の薄膜の吸収スペクトルのデータより、直接遷移を仮定したTaucプロットから求めたagDBCzPAの吸収端は2.95eVであった。従って、agDBCzPAの固体状態の光学的エネルギーギャップは2.95eVと見積もられた。先に得たHOMO準位と、エネルギーギャップの値から、agDBCzPAのLUMO準位が−2.98eVと見積もることができる。このように、agDBCzPAは固体状態において2.95eVの広いエネルギーギャップを有していることがわかった。
次に、agDBCzPAの電気化学的特性(酸化反応特性および還元反応特性)をサイクリックボルタンメトリ(CV)測定によって測定した。なお測定には、電気化学アナライザー(ビー・エー・エス(株)製、型番:ALSモデル600Aまたは600C)を用い、agDBCzPAをN,N−ジメチルホルムアミド(略称:DMF)に溶解させた溶液を測定した。測定では、参照電極に対する作用電極の電位を適切な範囲で変化させて各々酸化ピーク電位、還元電位ピーク電位を得た。また、参照電極のレドックスポテンシャルが−4.94eVであることが見積もられているため、この数値と得られたピーク電位から、agDBCzPAのHOMO準位およびLUMO準位を算出した。
CV測定の結果、agDBCzPAの酸化電位は0.76V、還元電位は−2.21Vであった。また、CV測定より算出したagDBCzPAのHOMO準位は−5.70eV、LUMO準位は−2.74eVであった。このことからも、agDBCzPAは、HOMO準位とLUMO準位とのエネルギー差が大きいことが分かった。
本実施例では、実施の形態1で説明した一般式(G6)で表されるジベンゾカルバゾール化合物の一つである、11−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−11H−ジベンゾ[a,i]カルバゾール(略称:aiDBCzPA、構造式(136))の合成方法について説明する。
<aiDBCzPAの合成>
200mL三口フラスコに、3.0g(7.5mmol)の9−(4−ブロモフェニル)−10−フェニルアントラセンと、2.0g(7.5mol)の11H−ジベンゾ[a,i]カルバゾールと、1.4g(15mmol)のナトリウム tert−ブトキシドを入れた。フラスコ内を窒素置換してから、この混合物へ38mLのメシチレンと、0.30mLのトリ−tert−ブチルホスフィン(10wt%ヘキサン溶液)を加えた。この混合物を減圧しながら攪拌することで脱気をした。脱気後、この混合物へ43mg(0.075mol)のビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)を加えた。この混合物を窒素気流下、150℃で6時間攪拌した。攪拌後、この混合物の水層をトルエンで抽出し、抽出溶液と有機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムにより乾燥し、乾燥後、この混合物を自然濾過した。得られたろ液を濃縮して得た固体を約30mLのトルエンに溶解し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒 ヘキサン:トルエン=4:1)により精製した。精製後に得られた固体をトルエン/ヘキサンで再結晶したところ、目的物の淡黄色粉末を3.8g、収率85%で得た。本反応スキームを以下に示す。
得られた淡黄色粉末状固体3.7gをトレインサブリメーション法により昇華精製した。昇華精製条件は、圧力2.8Pa、アルゴンガスを流量5.0mL/minで流しながら、280℃でaiDBCzPAを加熱した。昇華精製後、aiDBCzPAの淡黄色固体を2.0g、回収率55%で得た。
得られた物質のH NMR(核磁気共鳴法)を測定した。以下に測定データを示す。
H NMR(CDCl,500MHz):δ=7.41−7.46(m,4H)、7.50−7.61(m,7H)、7.64−7.67(m,2H)、7.70(d,J=8.5z,2H)、7.80(d,J=8.5Hz,2H)、7.83(d,J=8.0Hz,2H)、7.89(d,J=8.0Hz,2H)、7.99(d,J=8.0Hz,2H)、8.03(d,J=8.5z,2H)、8.07(d,J=8.0Hz,2H)、8.35(d,J=8.5Hz,2H)。
また、H NMRチャートを図40(A)(B)に示す。なお、図40(B)は、図40(A)における7.00ppmから8.50ppmの範囲を拡大して表したチャートである。これにより、上述の構造式(136)で表される本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物であるaiDBCzPAが得られたことがわかった。
<aiDBCzPAの特性>
次に、得られたaiDBCzPAを液体クロマトグラフ質量分析(Liquid Chromatography Mass Spectrometry,略称:LC/MS分析)によって分析した。
LC/MS分析は、ウォーターズ社製Acquity UPLCおよびウォーターズ社製Xevo G2 Tof MSを用いて行った。
MS分析では、エレクトロスプレーイオン化法(ElectroSpray Ionization、略称:ESI)によるイオン化を行った。このときのキャピラリー電圧は3.0kV、サンプルコーン電圧は30Vとし、検出はポジティブモードで行った。さらに、以上の条件でイオン化された成分を衝突室(コリジョンセル)内でアルゴンガスと衝突させてプロダクトイオンに解離させた。アルゴンを衝突させる際のエネルギー(コリジョンエネルギー)は70eVとした。なお、測定する質量範囲はm/z=100乃至1200とした。
測定結果を図41に示す。図41の結果から、構造式(136)で表される本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物であるaiDBCzPAは、主としてm/z=596付近、m/z=330付近、m/z=266付近にプロダクトイオンが検出されることがわかった。なお、図41に示す結果は、aiDBCzPAに由来する特徴的な結果を示すデータであることから、混合物中に含まれるaiDBCzPAを同定する上での重要なデータであるといえる。
また、ジベンゾ[a,i]カルバゾールとフェニレン基のN−C結合が切れ、ジベンゾ[a,i]カルバゾール側に電荷が残るため、m/z=266付近のプロダクトイオンは、構造式(136)の化合物のジベンゾ[a,i]カルバゾールとフェニレン基のN−C結合が切れた状態の情報を含んでいると推測されるため、有用である。また、m/z=330付近はジフェニルアントラセンを含んだプロダクトイオンと推察でき、本発明の一態様であるジベンゾカルバゾール化合物であるaiDBCzPAが、ジベンゾ[a,i]カルバゾールとジフェニルアントラセンを含んでいることを示唆する結果である。
また、得られたaiDBCzPAの熱重量測定−示差熱分析(TG−DTA:Thermogravimetry−Differential Thermal Analysis)を行った。測定には高真空差動型示差熱天秤(ブルカー・エイエックスエス株式会社製、TG−DTA2410SA)を用いた。常圧、昇温速度10℃/min、窒素気流下(流速:200mL/min)条件で測定したところ、重量と温度の関係(熱重量測定)から、aiDBCzPAの5%重量減少温度は442℃であった。このことから、aiDBCzPAの耐熱性が良好であることが示された。
次に、aiDBCzPAの薄膜およびトルエン溶液の紫外可視吸収スペクトル(以下、単に「吸収スペクトル」という)、及び発光スペクトルを測定した。測定方法は、実施例1と同様である。
得られたトルエン溶液中のaiDBCzPAの吸収スペクトル及び発光スペクトルの測定結果を図42に、薄膜のaiDBCzPAの吸収スペクトル及び発光スペクトルの測定結果を図43に示す。
図42より、aiDBCzPAのトルエン溶液は、波長が291nm、321nm、335nm、352nm、375nm、及び396nm付近に吸収極大が見られた。また、発光のピーク波長は413nm、及び432nmであった。
また、図43よりaiDBCzPAの薄膜は、波長が228nm、264nm、294nm、324nm、335nm、381nm、及び402nm付近に吸収極大が見られた。また、発光のピーク波長は429nm、及び442nm(励起波長381nm)であった。
また、薄膜のaiDBCzPAのイオン化ポテンシャルの値を大気中にて光電子分光装置(理研計器社製、AC−3)で測定した。得られたイオン化ポテンシャルの値を、負の値に換算した結果、aiDBCzPAのHOMO準位は−5.91eVであった。図43の薄膜の吸収スペクトルのデータより、直接遷移を仮定したTaucプロットから求めたaiDBCzPAの吸収端は2.95eVであった。従って、aiDBCzPAの固体状態の光学的エネルギーギャップは2.95eVと見積もられた。先に得たHOMO準位と、エネルギーギャップの値から、aiDBCzPAのLUMO準位が−2.96eVと見積もることができる。このように、aiDBCzPAは固体状態において2.95eVの広いエネルギーギャップを有していることがわかった。
次に、aiDBCzPAの電気化学的特性(酸化反応特性および還元反応特性)をサイクリックボルタンメトリ(CV)測定によって測定した。なお測定方法は、実施例1で示した方法と同様である。
CV測定の結果、aiDBCzPAの酸化電位は0.73V、還元電位は−2.21Vであった。また、CV測定より算出したaiDBCzPAのHOMO準位は−5.77eV、LUMO準位は−2.74eVであった。このことからも、aiDBCzPAは、HOMO準位とLUMO準位とのエネルギー差が大きいことが分かった。
本実施例では、本発明の一態様の化合物を有する発光素子の作製例と、該発光素子の特性について、説明する。本実施例で作製した発光素子の断面模式図は、図2(A)を参酌すれば良い。また、素子構造の詳細を表1に示す。また、使用した化合物の構造と略称を以下に示す。なお、他の化合物については、先の実施例を参照すればよい。
<発光素子の作製>
≪発光素子1の作製≫
基板上に電極101として、ITSO膜を、厚さが70nmになるように形成した。なお、電極101の電極面積としては、4mm(2mm×2mm)とした。
次に、電極101上に正孔注入層111として、3−[4−(9−フェナントリル)−フェニル]−9−フェニル−9H−カルバゾール(略称:PCPPn)と、酸化モリブデン(MoO)とを、重量比(PCPPn:MoO)が1:0.5になるように、且つ厚さが10nmになるように共蒸着した。なお、共蒸着とは、異なる複数の物質をそれぞれ異なる蒸発源から同時に蒸発させる蒸着法である。
次に、正孔注入層111上に正孔輸送層112として、PCPPnを厚さが20nmになるように蒸着した。
次に、正孔輸送層112上に発光層120として、7−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−7H−ジベンゾ[a,g]カルバゾール(略称:agDBCzPA)と、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス[3−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル]ピレン−1,6−ジアミン(略称:1,6mMemFLPAPrn)とを、重量比(agDBCzPA:1,6mMemFLPAPrn)が1:0.01になるように、且つ厚さが25nmになるように共蒸着した。なお、発光層120において、agDBCzPAがホスト材料であり、1,6mMemFLPAPrnがゲスト材料(蛍光材料)である。
次に、発光層120上に、電子輸送層113として、agDBCzPAと、バソフェナントロリン(略称:BPhen)とを、厚さがそれぞれ10nmと15nmとになるよう順次蒸着した。次に、電子輸送層113上に、電子注入層114として、フッ化リチウム(LiF)を厚さが1nmになるように蒸着した。
次に、電子注入層114上に、電極102として、アルミニウム(Al)を厚さが200nmになるように形成した。
次に、窒素雰囲気のグローブボックス内において、有機EL用シール材を用いて封止基板を、有機材料を形成した基板に固定することで、発光素子1を封止した。以上の工程により発光素子1を得た。
≪発光素子2の作製≫
発光素子2は、先に示す発光素子1の作製と、発光層120の形成工程のみ異なり、それ以外の工程は、発光素子1と同様の作製方法とした。
発光素子2の発光層120としては、agDBCzPAと、1,6mMemFLPAPrnとを重量比(agDBCzPA:1,6mMemFLPAPrn)が1:0.03になるように、且つ厚さが25nmになるように共蒸着した。なお、発光層120において、agDBCzPAがホスト材料であり、1,6mMemFLPAPrnがゲスト材料(蛍光材料)である。
≪発光素子3の作製≫
発光素子3は、先に示す発光素子1の作製と、発光層120及び電子輸送層113の形成工程のみ異なり、それ以外の工程は、発光素子1と同様の作製方法とした。
発光素子3の発光層120としては、11−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−11H−ジベンゾ[a,i]カルバゾール(略称:aiDBCzPA)と、1,6mMemFLPAPrnとを重量比(aiDBCzPA:1,6mMemFLPAPrn)が1:0.01になるように、且つ厚さが25nmになるように共蒸着した。なお、発光層120において、aiDBCzPAがホスト材料であり、1,6mMemFLPAPrnがゲスト材料(蛍光材料)である。
また、発光素子3の電子輸送層113としては、aiDBCzPAと、BPhenとを、厚さがそれぞれ10nmと15nmとになるよう順次蒸着した。
≪発光素子4の作製≫
発光素子4は、先に示す発光素子3の作製と、発光層120の形成工程のみ異なり、それ以外の工程は、発光素子3と同様の作製方法とした。
発光素子4の発光層120としては、aiDBCzPAと、1,6mMemFLPAPrnとを重量比(aiDBCzPA:1,6mMemFLPAPrn)が1:0.03になるように、且つ厚さが25nmになるように共蒸着した。なお、発光層120において、aiDBCzPAがホスト材料であり、1,6mMemFLPAPrnがゲスト材料(蛍光材料)である。
<発光素子の発光特性>
次に、作製した発光素子1乃至発光素子4の発光特性について測定した。輝度およびCIE色度の測定には色彩輝度計(トプコン社製、BM−5A)を用い、電界発光スペクトルの測定にはマルチチャンネル分光器(浜松ホトニクス社製、PMA−11)を用いた。なお、測定は室温(25℃に保たれた雰囲気)で行った。
発光素子1乃至発光素子4の電流効率−輝度特性を図44に示す。また、輝度−電圧特性を図45に示す。また、外部量子効率−輝度特性を図46に示す。また、発光素子1乃至発光素子4に2.5mA/cmの電流密度で電流を流した際の電界発光スペクトルを図47に示す。
また、1000cd/m付近における発光素子の発光特性を表2に示す。
図47に示すように、発光素子1乃至発光素子4は、ゲスト材料(1,6mMemFLPAPrn)に由来する青色の発光を示した。
また、図44乃至図47、及び表2に示すように、発光素子1乃至発光素子4は、蛍光材料を発光材料として有する発光素子として、優れた電流効率及び外部量子効率を示した。また、発光素子1乃至発光素子4の外部量子効率は、いずれも9%を超える優れた値を示した。
一対の電極から注入されたキャリア(正孔及び電子)の再結合によって生成する一重項励起子の生成確率は、最大で25%であるため、外部への光取り出し効率を25%とした場合の外部量子効率は、最大で6.25%となる。発光素子1乃至発光素子4においては、外部量子効率が6.25%を超える高い値が得られている。これは、発光素子1乃至発光素子4において、一対の電極から注入されたキャリア(正孔及び電子)の再結合によって生成した一重項励起子に加えて、TTAによって生成した一重項励起子に基づいて、発光が得られているためである。
なお、発光素子1は、色度yが0.142と発光素子2より色度が深い青色であり、発光素子1は、発光素子2より高い外部量子効率を示している。また、発光素子3は、色度yが0.135と発光素子4より色度が深い青色であり、発光素子3は、発光素子4より高い外部量子効率を示している。
青色を呈する発光素子においては、高い発光エネルギーを発光層内に閉じ込める必要があるため、特に深い青色を呈する発光素子においては、高い発光効率を得ることが難しい。しかしながら、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物をホスト材料として有する発光素子は、深い青色を呈する発光素子で高い効率を示している。したがって、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物は、深い青色を呈する発光素子に好適に用いることができるといえる。
また、発光素子1乃至発光素子4は、低い電圧で駆動している。そのため、発光素子1乃至発光素子4は、消費電力が低い。すなわち、キャリア輸送性の優れた本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物をホスト材料及び電子輸送材料として用いることで、低い電圧で駆動する発光素子を作製することができる。
次に、発光素子1乃至発光素子4の駆動寿命を測定した。駆動寿命試験の測定結果を図48に示す。なお、駆動寿命試験は、発光素子1乃至発光素子4の初期輝度が5000cd/mになるよう各発光素子の電流密度を設定し、電流密度を一定の条件で発光素子を連続駆動させた。
図48に示すように、発光素子1乃至発光素子4は、青色の蛍光材料を発光材料として有する発光素子として、優れた駆動寿命を示した。さらに、発光素子1は、発光素子2より駆動寿命が良好であり、発光素子3は、発光素子4より駆動寿命が良好な結果であった。
青色を呈する発光素子においては、高い発光エネルギーを発光層内に閉じ込める必要があるため、特に深い青色を呈する発光素子においては、長い駆動寿命を得ることが難しい。しかしながら、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物をホスト材料として有する発光素子は、深い青色を呈する発光素子で長い駆動寿命を示している。したがって、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物は、深い青色を呈する発光素子に好適に用いることができるといえる。具体的には、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物は、色度yが0.01以上0.15以下の深い青色を呈する発光素子に、好適に用いることができる。
また、以上の結果から、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物をホスト材料として有する発光素子においては、ホスト材料とゲスト材料との重量比は、ゲスト材料の重量比が低い方が好ましく、具体的には、ホスト材料が1に対するゲスト材料の重量比としては、0より大きく0.03未満が好ましいことが示された。
以上のように、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物を有する発光素子は、深い青色を呈する発光素子に好適に用いることができる。また、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物を用いることで、発光効率が高い発光素子を作製することができる。また、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物を用いることで、消費電力の低減された発光素子を作製することができる。また、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物を用いることで、駆動寿命の優れた発光素子を作製することができる。
以上、本実施例に示す構成は、他の実施の形態と適宜組み合わせて用いる事ができる。
本実施例では、本発明の一態様の化合物を有する発光素子(発光素子5及び発光素子6)の作製例と、該発光素子の特性について、説明する。また、比較として本発明の一態様の化合物と異なる化合物を有する発光素子(発光素子7及び発光素子8)も作製した。本実施例で作製した発光素子の断面模式図は、図2(A)を参酌すれば良い。また、素子構造の詳細を表3に示す。また、使用した化合物の構造と略称を以下に示す。なお、他の化合物については、先の実施例を参照すればよい。
<発光素子の作製>
≪発光素子5の作製≫
基板上に電極101として、ITSO膜を、厚さが70nmになるように形成した。なお、電極101の電極面積としては、4mm(2mm×2mm)とした。
次に、電極101上に正孔注入層111として、9−フェニル−3−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:PCzPA)と、酸化モリブデン(MoO)とを、重量比(PCzPA:MoO)が1:0.5になるように、且つ厚さが10nmになるように共蒸着した。
次に、正孔注入層111上に正孔輸送層112として、PCzPAを厚さが20nmになるように蒸着した。
次に、正孔輸送層112上に発光層120として、agDBCzPAと、1,6mMemFLPAPrnとを、重量比(agDBCzPA:1,6mMemFLPAPrn)が1:0.01になるように、且つ厚さが25nmになるように共蒸着した。なお、発光層120において、agDBCzPAがホスト材料であり、1,6mMemFLPAPrnがゲスト材料(蛍光材料)である。
次に、発光層120上に、電子輸送層113として、agDBCzPAと、BPhenとを、厚さがそれぞれ10nmと15nmとになるよう順次蒸着した。次に、電子輸送層113上に、電子注入層114として、フッ化リチウム(LiF)を厚さが1nmになるように蒸着した。
次に、電子注入層114上に、電極102として、アルミニウム(Al)を厚さが200nmになるように形成した。
次に、窒素雰囲気のグローブボックス内において、有機EL用シール材を用いて封止基板を、有機材料を形成した基板に固定することで、発光素子5を封止した。以上の工程により発光素子5を得た。
≪発光素子6の作製≫
発光素子6は、先に示す発光素子5の作製と、発光層120及び電子輸送層113の形成工程のみ異なり、それ以外の工程は、発光素子5と同様の作製方法とした。
発光素子6の発光層120としては、aiDBCzPAと、1,6mMemFLPAPrnとを重量比(aiDBCzPA:1,6mMemFLPAPrn)が1:0.01になるように、且つ厚さが25nmになるように共蒸着した。なお、発光層120において、aiDBCzPAがホスト材料であり、1,6mMemFLPAPrnがゲスト材料(蛍光材料)である。
また、発光素子6の電子輸送層113としては、aiDBCzPAと、BPhenとを、厚さがそれぞれ10nmと15nmとになるよう順次蒸着した。
≪発光素子7の作製≫
比較として作製した発光素子7は、先に示す発光素子5の作製と、発光層120及び電子輸送層113の形成工程のみ異なり、それ以外の工程は、発光素子5と同様の作製方法とした。
発光素子7の発光層120としては、7−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−7H−ジベンゾ[c,g]カルバゾール(略称:cgDBCzPA)と、1,6mMemFLPAPrnとを重量比(cgDBCzPA:1,6mMemFLPAPrn)が1:0.03になるように、且つ厚さが25nmになるように共蒸着した。なお、発光層120において、cgDBCzPAがホスト材料であり、1,6mMemFLPAPrnがゲスト材料(蛍光材料)である。
また、発光素子7の電子輸送層113としては、cgDBCzPAと、BPhenとを、厚さがそれぞれ10nmと15nmとになるよう順次蒸着した。
≪発光素子8の作製≫
比較として作製した発光素子8は、先に示す発光素子5の作製と、発光層120及び電子輸送層113の形成工程のみ異なり、それ以外の工程は、発光素子5と同様の作製方法とした。
発光素子8の発光層120としては、9−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CzPA)と、1,6mMemFLPAPrnとを重量比(CzPA:1,6mMemFLPAPrn)が1:0.04になるように、且つ厚さが25nmになるように共蒸着した。なお、発光層120において、CzPAがホスト材料であり、1,6mMemFLPAPrnがゲスト材料(蛍光材料)である。
また、発光素子8の電子輸送層113としては、CzPAと、BPhenとを、厚さがそれぞれ10nmと15nmとになるよう順次蒸着した。
<発光素子の発光特性>
次に、作製した発光素子5乃至発光素子8の発光特性について測定した。なお、測定方法は実施例3と同様であり、室温(25℃に保たれた雰囲気)で行った。発光素子5乃至発光素子8の電流効率−輝度特性を図49に示す。また、輝度−電圧特性を図50に示す。また、外部量子効率−輝度特性を図51に示す。また、発光素子5乃至発光素子8に2.5mA/cmの電流密度で電流を流した際の電界発光スペクトルを図52に示す。
また、1000cd/m付近における発光素子の発光特性を表4に示す。
図52に示すように、発光素子5乃至発光素子8は、ゲスト材料(1,6mMemFLPAPrn)に由来する青色の発光を示した。
また、図49乃至図52、及び表4に示すように、発光素子5乃至発光素子8は、蛍光材料を発光材料として有する発光素子として、優れた電流効率及び外部量子効率を示した。
また、発光素子5及び発光素子6は、色度yが0.143及び0.135と深い青色を示しながら、高い電流効率及び外部量子効率を示した。すなわち、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物をホスト材料として有する発光素子は、深い青色を呈する発光素子に好適に用いることができるといえる。
また、発光素子5及び発光素子6は、低い電圧で駆動している。そのため、発光素子5及び発光素子6は、消費電力が低い。すなわち、キャリア輸送性の優れた本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物をホスト材料及び電子輸送材料として用いることで、低い電圧で駆動する発光素子を作製することができる。
次に、発光素子5乃至発光素子8の駆動寿命を測定した。駆動寿命試験の測定結果を図53に示す。なお、駆動寿命試験は、発光素子7の初期輝度が5000cd/mになるよう発光素子5乃至発光素子8の電流密度を44.87mA/cmに設定し、電流密度を一定の条件で発光素子を連続駆動させた。
図53に示すように、発光素子5及び発光素子6は、青色の蛍光材料を発光材料として有する発光素子として、優れた駆動寿命を示した。さらに、発光素子5は、発光素子7及び発光素子8より深い青色を呈する発光素子であるのにかかわらず、発光素子7と同等で、発光素子8より優れた駆動寿命を示した。また、発光素子6は、発光素子8より深い青色を呈する発光素子であるのにかかわらず、発光素子8より優れた駆動寿命を示した。
青色を呈する発光素子においては、高い発光エネルギーを発光層内に閉じ込める必要があるため、特に深い青色を呈する発光素子においては、高い駆動寿命を得ることが難しい。しかしながら、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物をホスト材料として有する発光素子は、深い青色を呈する発光素子で長い駆動寿命を示している。したがって、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物は、深い青色を呈する発光素子に好適に用いることができるといえる。具体的には、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物は、色度yが0.01以上0.15以下の深い青色を呈する発光素子に、好適に用いることができる。
以上のように、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物を有する発光素子は、深い青色を呈する発光素子に好適に用いることができる。また、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物を用いることで、発光効率が高い発光素子を作製することができる。また、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物を用いることで、消費電力の低減された発光素子を作製することができる。また、本発明の一態様のジベンゾカルバゾール化合物を用いることで、駆動寿命の優れた発光素子を作製することができる。
以上、本実施例に示す構成は、他の実施の形態と適宜組み合わせて用いる事ができる。
100 EL層
101 電極
101a 導電層
101b 導電層
101c 導電層
102 電極
103 電極
103a 導電層
103b 導電層
104 電極
104a 導電層
104b 導電層
106 発光ユニット
108 発光ユニット
110 EL層
111 正孔注入層
112 正孔輸送層
113 電子輸送層
114 電子注入層
115 電荷発生層
116 正孔注入層
117 正孔輸送層
118 電子輸送層
119 電子注入層
120 発光層
121 ホスト材料
122 ゲスト材料
123B 発光層
123G 発光層
123R 発光層
140 発光層
141 ホスト材料
141_1 有機化合物
141_2 有機化合物
142 ゲスト材料
145 隔壁
150 発光素子
170 発光層
180 発光層
190 発光層
190a 発光層
190b 発光層
200 基板
220 基板
221B 領域
221G 領域
221R 領域
222B 領域
222G 領域
222R 領域
223 遮光層
224B 光学素子
224G 光学素子
224R 光学素子
250 発光素子
252 発光素子
260a 発光素子
260b 発光素子
262a 発光素子
262b 発光素子
300 有機半導体素子
301 ソース電極
301_1 配線
301_5 配線
301_6 配線
301_7 配線
302 ドレイン電極
302_1 配線
302_2 配線
303 ゲート電極
303_1 トランジスタ
303_6 トランジスタ
303_7 トランジスタ
304 容量素子
304_1 容量素子
304_2 容量素子
305 発光素子
306_1 配線
306_3 配線
307_1 配線
307_3 配線
308_1 トランジスタ
308_6 トランジスタ
309_1 トランジスタ
309_2 トランジスタ
311_1 配線
311_3 配線
312_1 配線
312_2 配線
330 活性層
600 表示装置
601 信号線駆動回路部
602 画素部
603 走査線駆動回路部
604 封止基板
605 シール材
607 領域
607a 封止層
607b 封止層
607c 封止層
608 配線
609 FPC
610 素子基板
611 トランジスタ
612 トランジスタ
613 下部電極
614 隔壁
616 EL層
617 上部電極
618 発光素子
621 光学素子
622 遮光層
623 トランジスタ
624 トランジスタ
801 画素回路
802 画素部
804 駆動回路部
804a 走査線駆動回路
804b 信号線駆動回路
806 保護回路
807 端子部
852 トランジスタ
854 トランジスタ
862 容量素子
872 発光素子
1001 基板
1002 下地絶縁膜
1003 ゲート絶縁膜
1006 ゲート電極
1007 ゲート電極
1008 ゲート電極
1020 層間絶縁膜
1021 層間絶縁膜
1022 電極
1024B 下部電極
1024G 下部電極
1024R 下部電極
1024Y 下部電極
1025 隔壁
1026 上部電極
1028 EL層
1028B 発光層
1028G 発光層
1028R 発光層
1028Y 発光層
1029 封止層
1031 封止基板
1032 シール材
1033 基材
1034B 着色層
1034G 着色層
1034R 着色層
1034Y 着色層
1035 遮光層
1036 オーバーコート層
1037 層間絶縁膜
1040 画素部
1041 駆動回路部
1042 周辺部
2000 タッチパネル
2001 タッチパネル
2501 表示装置
2502R 画素
2502t トランジスタ
2503c 容量素子
2503g 走査線駆動回路
2503s 信号線駆動回路
2503t トランジスタ
2509 FPC
2510 基板
2510a 絶縁層
2510b 可撓性基板
2510c 接着層
2511 配線
2519 端子
2521 絶縁層
2528 隔壁
2550R 発光素子
2560 封止層
2567BM 遮光層
2567p 反射防止層
2567R 着色層
2570 基板
2570a 絶縁層
2570b 可撓性基板
2570c 接着層
2580R 発光モジュール
2590 基板
2591 電極
2592 電極
2593 絶縁層
2594 配線
2595 タッチセンサ
2597 接着層
2598 配線
2599 接続層
2601 パルス電圧出力回路
2602 電流検出回路
2603 容量
2611 トランジスタ
2612 トランジスタ
2613 トランジスタ
2621 電極
2622 電極
3000 発光装置
3001 基板
3003 基板
3005 発光素子
3007 封止領域
3009 封止領域
3011 領域
3013 領域
3014 領域
3015 基板
3016 基板
3018 乾燥剤
3500 多機能端末
3502 筐体
3504 表示部
3506 カメラ
3508 照明
3600 ライト
3602 筐体
3608 照明
3610 スピーカ
7101 筐体
7102 筐体
7103 表示部
7104 表示部
7105 マイク
7106 スピーカ
7107 操作キー
7108 スタイラス
7121 筐体
7122 表示部
7123 キーボード
7124 ポインティングデバイス
7200 ヘッドマウントディスプレイ
7201 装着部
7202 レンズ
7203 本体
7204 表示部
7205 ケーブル
7206 バッテリ
7300 カメラ
7301 筐体
7302 表示部
7303 操作ボタン
7304 シャッターボタン
7305 結合部
7306 レンズ
7400 ファインダー
7401 筐体
7402 表示部
7403 ボタン
7701 筐体
7702 筐体
7703 表示部
7704 操作キー
7705 レンズ
7706 接続部
8000 表示モジュール
8001 上部カバー
8002 下部カバー
8003 FPC
8004 タッチセンサ
8005 FPC
8006 表示装置
8009 フレーム
8010 プリント基板
8011 バッテリ
8501 照明装置
8502 照明装置
8503 照明装置
8504 照明装置
9000 筐体
9001 表示部
9003 スピーカ
9005 操作キー
9006 接続端子
9007 センサ
9008 マイクロフォン
9050 操作ボタン
9051 情報
9052 情報
9053 情報
9054 情報
9055 ヒンジ
9100 携帯情報端末
9101 携帯情報端末
9102 携帯情報端末
9200 携帯情報端末
9201 携帯情報端末
9300 テレビジョン装置
9301 スタンド
9311 リモコン操作機
9500 表示装置
9501 表示パネル
9502 表示領域
9503 領域
9511 軸部
9512 軸受部
9700 自動車
9701 車体
9702 車輪
9703 ダッシュボード
9704 ライト
9710 表示部
9711 表示部
9712 表示部
9713 表示部
9714 表示部
9715 表示部
9721 表示部
9722 表示部
9723 表示部

Claims (37)

  1. ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格と、アリール基と、が結合しており、
    前記アリール基が、少なくともアントラセン骨格を含む炭素数14乃至30のアリール基であるジベンゾカルバゾール化合物。
  2. ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格の7位またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格の11位に、アリール基が結合しており、
    前記アリール基が、少なくともアントラセン骨格を有する炭素数14乃至30のアリール基であるジベンゾカルバゾール化合物。
  3. ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格の7位またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格の11位と、アントラセン骨格とが、フェニレン基を介して結合しているジベンゾカルバゾール化合物。
  4. ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格の7位またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格の11位と、アントラセン骨格の9位とが、フェニレン基を介して結合しているジベンゾカルバゾール化合物。
  5. ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格の7位またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格の11位と、炭素数20乃至30の置換または無置換のアントリルフェニル基とが、結合しているジベンゾカルバゾール化合物。
  6. ジベンゾ[a,g]カルバゾール骨格の7位またはジベンゾ[a,i]カルバゾール骨格の11位と、炭素数20乃至30の置換または無置換の(9−アントリル)フェニル基とが、結合しているジベンゾカルバゾール化合物。
  7. 一般式(G1)で表されるジベンゾカルバゾール化合物。

    (一般式(G1)において、R11乃至R22は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、Arは、少なくともアントラセン骨格を含む炭素数14乃至30の置換または無置換のアリール基を表す。)
  8. 一般式(G2)で表されるジベンゾカルバゾール化合物。

    (一般式(G2)において、R11乃至R22は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、Xは、炭素数6乃至13の置換または無置換のアリーレン基を表し、Yは、置換または無置換のアントリル基を表す。)
  9. 請求項8に記載のXおよびYを構成する炭素数の合計が20乃至30であるジベンゾカルバゾール化合物。
  10. 一般式(G3)で表されるジベンゾカルバゾール化合物。

    (一般式(G3)において、R乃至Rは、それぞれ独立に、水素、または炭素数1乃至4のアルキル基を表し、Rは、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、R11乃至R22は、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、Xは、炭素数6乃至13の置換または無置換のアリーレン基を表す。)
  11. 請求項10に記載のR乃至RおよびXを構成する炭素数の合計が6乃至16であるジベンゾカルバゾール化合物。
  12. 請求項8乃至請求項11のいずれか一項に記載のXは、置換または無置換のフェニレン基を表すジベンゾカルバゾール化合物。
  13. 一般式(G4)で表されるジベンゾカルバゾール化合物。

    (一般式(G4)において、Rは、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、R11乃至R22は、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、Xは、置換または無置換のフェニレン基を表す。)
  14. 一般式(G5)で表されるジベンゾカルバゾール化合物。

    (一般式(G5)において、Rは、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、Xは置換または無置換のフェニレン基を表す。)
  15. 請求項13または請求項14に記載のRおよびXを構成する炭素数の合計が6乃至16であるジベンゾカルバゾール化合物。
  16. 構造式(100)で表されるジベンゾカルバゾール化合物。
  17. 一般式(G6)で表されるジベンゾカルバゾール化合物。

    (一般式(G6)において、R31乃至R42は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、Arは、少なくともアントラセン骨格を含む炭素数14乃至30の置換または無置換のアリール基を表す。)
  18. 一般式(G7)で表されるジベンゾカルバゾール化合物。

    (一般式(G7)において、R31乃至R42は、それぞれ独立に、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、Xは、炭素数6乃至13の置換または無置換のアリーレン基を表し、Yは、置換または無置換のアントリル基を表す。)
  19. 請求項18に記載のXおよびYを構成する炭素数の合計が20乃至30であるジベンゾカルバゾール化合物。
  20. 一般式(G8)で表されるジベンゾカルバゾール化合物。

    (一般式(G8)において、R乃至Rは、それぞれ独立に、水素、または炭素数1乃至4のアルキル基を表し、Rは、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、R31乃至R42は、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、Xは、炭素数6乃至13の置換または無置換のアリーレン基を表す。)
  21. 請求項20に記載のR乃至RおよびXを構成する炭素数の合計が6乃至16であるジベンゾカルバゾール化合物。
  22. 請求項18乃至請求項21のいずれか一項に記載のXは、置換または無置換のフェニレン基を表すジベンゾカルバゾール化合物。
  23. 一般式(G9)で表されるジベンゾカルバゾール化合物。

    (一般式(G9)において、Rは、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、R31乃至R42は、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至13の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、Xは、置換または無置換のフェニレン基を表す。)
  24. 一般式(G10)で表されるジベンゾカルバゾール化合物。

    (一般式(G10)において、Rは、水素、炭素数1乃至6のアルキル基、炭素数3乃至6の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、または炭素数6乃至10の置換もしくは無置換のアリール基のいずれかを表し、Xは置換または無置換のフェニレン基を表す。)
  25. 請求項23または請求項24に記載のRおよびXを構成する炭素数の合計が6乃至16であるジベンゾカルバゾール化合物。
  26. 構造式(136)で表されるジベンゾカルバゾール化合物。
  27. 請求項1乃至請求項26のいずれか一項に記載のジベンゾカルバゾール化合物を有する発光素子。
  28. 発光層と、電子輸送層と、を有し、
    前記発光層と、前記電子輸送層と、が請求項1乃至請求項26のいずれか一項に記載のジベンゾカルバゾール化合物を有する発光素子。
  29. ホスト材料と、ゲスト材料と、を有し、
    前記ホスト材料が、請求項1乃至請求項26のいずれか一項に記載のジベンゾカルバゾール化合物である発光素子。
  30. 請求項29において、
    前記ゲスト材料が、蛍光を呈する機能を有する発光素子。
  31. 請求項30において、
    前記ゲスト材料が呈する蛍光が、青色である発光素子。
  32. 請求項31において、
    ゲスト材料が、CIE1931色度座標における色度yが0.01以上0.15以下の発光を呈する、
    ことを特徴とする発光素子。
  33. 請求項29乃至請求項32のいずれか一項において、
    前記ホスト材料が1に対する前記ゲスト材料の重量比は、0より大きく0.03未満である、
    ことを特徴とする発光素子。
  34. 請求項27乃至請求項33のいずれか一項に記載の発光素子と、
    トランジスタと、
    を有する発光装置。
  35. 請求項27乃至請求項33のいずれか一項に記載の発光素子と、
    駆動回路と、
    を有する表示装置。
  36. 請求項27乃至請求項33のいずれか一項に記載の発光素子と、
    センサ、操作ボタン、スピーカ、及びマイクの少なくとも一と、
    を有する電子機器。
  37. 請求項27乃至請求項33のいずれか一項に記載の発光素子と、
    筐体またはタッチセンサの少なくとも一と、
    を有する照明装置。
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