JP2017079268A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】大型化を抑制することができるとともに放熱効率が良い半導体装置を提供する。
【解決手段】多層基板には表面から裏面にかけて貫通する貫通孔54,55からなる開口部が形成されている。多層基板の裏面パターンには開口部と重なる金属板56,57が半田で実装されている。パワー素子37,38の一方の電極はリード37c,38cを介して表面パターン125aに半田で実装されるとともにパワー素子37,38の他方の電極37b,38bは金属板56,57の実装パッドに対して半田で実装されている。表面パターンまたは裏面パターンにはパワー素子38を制御する制御ICが半田で実装されている。パワー素子37,38とアルミケース30とは金属板56,57を介して熱的に繋がっている。
【選択図】図12
【解決手段】多層基板には表面から裏面にかけて貫通する貫通孔54,55からなる開口部が形成されている。多層基板の裏面パターンには開口部と重なる金属板56,57が半田で実装されている。パワー素子37,38の一方の電極はリード37c,38cを介して表面パターン125aに半田で実装されるとともにパワー素子37,38の他方の電極37b,38bは金属板56,57の実装パッドに対して半田で実装されている。表面パターンまたは裏面パターンにはパワー素子38を制御する制御ICが半田で実装されている。パワー素子37,38とアルミケース30とは金属板56,57を介して熱的に繋がっている。
【選択図】図12
Description
本発明は、半導体装置に関するものである。
放熱部材を用いてパワー素子の熱を放熱することが行われている。具体的には例えば、パワー素子が絶縁基板の上面に搭載され、当該絶縁基板における前記パワー素子の配置箇所での下面に放熱部材が配置され、パワー素子で発生する熱は絶縁基板を介して放熱部材に伝達して放熱する(例えば特許文献1等)
ところが、パワー素子が実装される基板と制御素子が実装される基板とを別々に設けると、コネクタ等が必要になり、大型化を招く。また、特許文献1の構造であると、絶縁基板を介してパワー素子の熱を放熱しているため、放熱効率が悪い。
本発明の目的は、大型化を抑制することができるとともに放熱効率が良い半導体装置を提供することにある。
請求項1に記載の発明では、複数の絶縁層と複数のパターンとを積層してなる多層基板と、前記多層基板に実装されるパワー素子と、前記パワー素子の熱を放熱する放熱部材と、を備える半導体装置であって、前記多層基板の表面には表面パターンを露出させる第1のレジストが形成されており、前記多層基板の裏面には裏面パターンを露出させる第2のレジストが形成されており、前記多層基板には表面から裏面にかけて貫通する貫通孔または切欠きからなる開口部が形成されており、前記多層基板の裏面パターンには前記開口部と重なる金属板が半田で実装され、前記パワー素子の一方の電極は前記表面パターンに半田で実装されるとともに前記パワー素子の他方の電極は前記金属板の実装パッドに対して半田で実装され、前記表面パターンまたは前記裏面パターンには前記パワー素子を制御する制御素子が半田で実装され、前記パワー素子と前記放熱部材とは前記金属板を介して熱的に繋がっていることを要旨とする。
請求項1に記載の発明によれば、パワー素子が実装される基板と制御素子が実装される基板とを一体化することによりコネクタ等を不要にして大型化を抑制することができる。また、パワー素子で発生する熱は金属板を介して放熱部材に逃がされ、パワー素子で発生する熱を絶縁基板を介して放熱部材に逃がす場合に比べ放熱性に優れている。よって、大型化を抑制することができるとともに放熱効率が良いものとすることができる。
請求項2に記載のように、請求項1に記載の半導体装置において、前記金属板には凸部が形成され、前記凸部が前記開口部内に配置されているとよい。
請求項3に記載のように、請求項1または2に記載の半導体装置において、前記金属板と前記放熱部材との間には放熱シートまたは放熱グリスが介在されているとよい。
請求項3に記載のように、請求項1または2に記載の半導体装置において、前記金属板と前記放熱部材との間には放熱シートまたは放熱グリスが介在されているとよい。
請求項4に記載のように、請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体装置において、前記多層基板の裏面にはトランスの二次巻線が配置され、前記多層基板の表面には前記トランスの一次巻線が配置されているとよい。
本発明によれば、大型化を抑制することができるとともに放熱効率が良いものとすることができる。
以下、絶縁型DC−DCコンバータに具体化した一実施形態を図面に従って説明する。
図3に示すように、絶縁型DC−DCコンバータ10は、フォワード形DC−DCコンバータであって、トランス11を備えている。トランス11は一次巻線11aと二次巻線11bを備えている。絶縁型DC−DCコンバータ10は自動車用であり、車両に搭載される。絶縁型DC−DCコンバータ10は、トランス11の一次側の入力電圧を降圧してトランス11の二次側に出力する。例えば、300ボルトを入力して12ボルトに降圧して出力する。
図3に示すように、絶縁型DC−DCコンバータ10は、フォワード形DC−DCコンバータであって、トランス11を備えている。トランス11は一次巻線11aと二次巻線11bを備えている。絶縁型DC−DCコンバータ10は自動車用であり、車両に搭載される。絶縁型DC−DCコンバータ10は、トランス11の一次側の入力電圧を降圧してトランス11の二次側に出力する。例えば、300ボルトを入力して12ボルトに降圧して出力する。
トランス11の一次巻線11aには一次電流I1として15Aが流れるとともに二次巻線11bには二次電流I2として80Aが流れる。つまり、トランス11の一次側の電圧がトランス11の二次側の電圧より大きい場合、トランス11の二次側に流れる電流はトランス11の一次側に流れる電流より大きな電流になる。
一次巻線11aの一方の端子は入力端子と接続され、入力端子はバッテリ12の正極端子と接続される。一次巻線11aの他方の端子は一次側スイッチング素子14を介して接地されている。一次側スイッチング素子14としてパワーMOSFETが用いられている。
入力端子とトランス11の一次巻線11aとの間には平滑コンデンサ13の正極が接続され、平滑コンデンサ13の負極は接地されている。平滑コンデンサ13には電解コンデンサが使用される。平滑コンデンサ13によりトランス11の一次側電圧が平滑される。
トランス11の二次巻線11bにはダイオード16,17よりなる整流回路が接続されている。ダイオード16は、トランス11の二次側のグランドにアノードが接続され、トランス11の二次巻線11bの一方端にカソードが接続される。ダイオード17は、ダイオード16のアノードにアノードが接続され、トランス11の二次巻線11bの他方端にカソードが接続される。
さらに、コンデンサ19がダイオード17に並列接続されている。直列接続されたコイル18a,18bが、トランス11の二次巻線11bとコンデンサ19との間に設けられている。また、コンデンサ21がコンデンサ19に並列接続されている。コイル20が、コンデンサ19とコンデンサ21との間に設けられている。
一次側スイッチング素子14のゲート端子に制御IC15が接続されている。制御IC15から一次側スイッチング素子14のゲート端子にパルス信号が出力され、このパルス信号により一次側スイッチング素子14がスイッチングされる。一次側スイッチング素子14がオンしているときに一次側の電源からエネルギーを二次側へ供給する。一次側スイッチング素子14がオフしているときにコイル18a,18b,20に溜め込んだエネルギーを出力へ放出する。詳しくは、直流電圧が平滑コンデンサ13を通してトランス11の一次巻線11aに供給され、制御IC15により、一次側スイッチング素子14がオン/オフ制御され、このオン/オフ動作における、一次側スイッチング素子14のオン期間において一次巻線11aに一次電流が流れ、トランス11の起電力で二次電流が流れる。一次側スイッチング素子14がオフしているときにコイル18a,18b,20の電流がコイル18a,18b,20の逆起電力でダイオードD17経由で出力に流れる。
制御IC15には検出回路22が接続され、検出回路22により出力電圧Voutが検出される。検出回路22による出力電圧Voutの測定結果が制御IC15に送られる。制御IC15は検出回路22による出力電圧Voutの測定結果をフィードバック信号として出力電圧Voutが所望の一定値となるように一次側スイッチング素子14のデューティを制御する。
このように絶縁型DC−DCコンバータ10の駆動に伴いスイッチング損失や導通損失により一次側スイッチング素子14や整流素子(ダイオード16,17)は発熱する。
以下、具体的構造について説明する。
以下、具体的構造について説明する。
図1に絶縁型DC−DCコンバータ10の平面を、図2に絶縁型DC−DCコンバータ10の斜視を、図4に絶縁型DC−DCコンバータ10の分解斜視を示す。
図4に示すように、絶縁型DC−DCコンバータ10は、放熱部材としてのアルミケース30と、多層基板40と、上下一対のコア60と、上下一対のコア70と、上下一対のコア80と、を備える。多層基板40は、入力端子100,101と出力端子102を有する。
図4に示すように、絶縁型DC−DCコンバータ10は、放熱部材としてのアルミケース30と、多層基板40と、上下一対のコア60と、上下一対のコア70と、上下一対のコア80と、を備える。多層基板40は、入力端子100,101と出力端子102を有する。
多層基板40は、図11に示すように、複数の絶縁層120,121,122と複数のパターン123,124,125,126とが積層されている。詳しくは、絶縁層120の上面に内層の配線パターン123が形成されているとともに絶縁層120の下面に内層の配線パターン124が形成されている。絶縁層120の上面には絶縁層121が積層されている。絶縁層120の下面には絶縁層122が積層されている。絶縁層121の上面には配線パターン125が形成されている。絶縁層122の下面には配線パターン126が形成されている。
絶縁層121の上面において配線パターン125がレジスト127で覆われている。また、絶縁層122の下面において配線パターン126がレジスト128で覆われている。即ち、多層基板40の表面にはレジスト127,128が形成されている。つまり、多層基板40の表面(上面)には表面パターンを露出させる第1のレジスト127が形成され、多層基板40の裏面(下面)には裏面パターンを露出させる第2のレジスト128が形成されている。
図4に示すように、コア60は、下コア61と上コア62よりなる。下コア61は、I型コアであり、下コア61は、水平方向に延設された板状をなしている。上コア62はE型コアであり、上コア62は、長方形の板状をなし、水平方向に延設された本体部62aと、本体部62aの一方の面(下面)の中央部から突出する中央磁脚62bと、本体部62aの一方の面(下面)の端部から突出する両側磁脚62c,62dとからなる。中央磁脚62bは円柱状をなしている。
同様に、コア70は下コア71と上コア72よりなる。下コア71は、I型コアであり、下コア71は、水平方向に延設された板状をなしている。上コア72はE型コアであり、上コア72は、長方形の板状をなし、水平方向に延設された本体部72aと、本体部72aの一方の面(下面)の中央部から突出する中央磁脚72bと、本体部72aの一方の面(下面)の端部から突出する両側磁脚72c,72dとからなる。中央磁脚72bおよび両側磁脚72c,72dは角柱状をなしている。
また、コア80は下コア81と上コア82よりなる。下コア81は、I型コアであり、下コア81は、水平方向に延設された板状をなしている。上コア82はU型コアであり、上コア82は、長方形の板状をなし、水平方向に延設された本体部82aと、本体部82aの一方の面(下面)の端部から突出する両側磁脚82b,82cとからなる。両側磁脚82b,82cは角柱状をなしている。
そして、アルミケース30の上に、下コア61,71,81が配置され、その上に多層基板40が配置され、その上に、上コア62,72,82が配置される。ここで、下コア61の上面と上コア62の中央磁脚62bとが突き合わされるとともに下コア61の上面と上コア62の両側磁脚62c,62dとが突き合わされる。同様に、下コア71の上面と上コア72の中央磁脚72bとが突き合わされるとともに下コア71の上面と上コア72の両側磁脚72c,72dとが突き合わされる。また、下コア81の上面と上コア82の両側磁脚82b,82cとが突き合わされる。
図8に示すように、放熱用のベース部材であるアルミケース30は、四角板状の本体部31を有し、その上面には、コア60の位置決め用の突部32a,32b,32c,32d、および、コア70,80の位置決め用の突部32e,32f,32g,32hが形成されている。そして、突部32a,32b,32c,32dにより図7に示すように下コア61が位置決めされた状態でアルミケース30上に配置される。また、図8の突部32e,32f,32g,32hにより図7に示すように下コア71および下コア81が位置決めされた状態でアルミケース30上に配置される。
また、図8に示すように、アルミケース30の本体部31の上面には、パワー素子載置用の突部33a,33b,33cが形成されている。突部33a,33b,33cの上面は平坦化されている。突部33aの上面には放熱シート36a(図7参照)を介して図6に示すようにパワー素子37が後記金属板56(図12参照)を介して配置される。パワー素子37は図3のダイオード16,17に相当する。図8の突部33bの上面には放熱シート36b(図7参照)を介して図6に示すようにパワー素子38が後記金属板57(図12参照)を介して配置される。パワー素子38は図3の一次側スイッチング素子14に相当する。図8の突部33cの上面には放熱シート36c(図7参照)を介して図6に示すように多層基板40上のパワー素子39が配置される。
図8に示すように、アルミケース30の本体部31の上面には、複数の基板載置用突起34が設けられている。そして、各基板載置用突起34の上に、図6に示すように多層基板40が載置される。そして、図2,4に示すように、ネジSc4を各基板載置用突起34に螺入することにより基板40がアルミケース30に固定される。
図8に示すように、アルミケース30の本体部31の上面における突部33aの両端にはネジ締結用突起35a,35bが形成されている。
図8に示すように、アルミケース30の本体部31の上面にはブラケット締結用突起35c,35d,35eが形成されている。
図8に示すように、アルミケース30の本体部31の上面にはブラケット締結用突起35c,35d,35eが形成されている。
そして、図2,4に示すように、コア60は上面に金属製押え板であるブラケット90が配置され、ブラケット90の一端部を貫通するネジSc1をアルミケース30のブラケット締結用突起35cに螺入することによりブラケット90の他端側によりコア60がアルミケース30に押圧および支持される。
同様に、コア70は上面に金属製押え板であるブラケット91が配置され、ブラケット91の一端部を貫通するネジSc2をアルミケース30のブラケット締結用突起35dに螺入することによりブラケット91の他端側によりコア70がアルミケース30に押圧および支持される。
また、コア80は上面に金属製押え板であるブラケット92が配置され、ブラケット92の一端部を貫通するネジSc3をアルミケース30のブラケット締結用突起35eに螺入することによりブラケット92の他端側によりコア80がアルミケース30に押圧および支持される。
図9には多層基板40の上面を示すとともに図10には多層基板40の下面を示す。
図9に示すように、多層基板40の上面には、トランス11の一次側のパターンとしての巻回部41が実装されている。つまり、巻回部41により図3の一次巻線11aが構成されている。即ち、多層基板40の表面(上面)にはトランスの一次巻線が配置されている。巻回部41は、金属の断面円形の線材を渦巻状に成形したものである。この線材の表面は樹脂の絶縁材で被覆されている。一次巻線を構成する巻回部41の両端は多層基板40を貫通して多層基板40の下面に延びている。多層基板40における巻回部41の配置部分における巻回部41の中央には円形の貫通孔42が形成されている。つまり、貫通孔42の周囲に巻回部41が延設(実装)されている。また、多層基板40における巻回部41の配置部分における巻回部41の両側には貫通孔43および切欠き44が形成されている。貫通孔42にはコア60の上コア(E型コア)62の中央磁脚62bが挿通する。また、貫通孔43および切欠き44には上コア62の両側磁脚62c,62dが挿通する。
図9に示すように、多層基板40の上面には、トランス11の一次側のパターンとしての巻回部41が実装されている。つまり、巻回部41により図3の一次巻線11aが構成されている。即ち、多層基板40の表面(上面)にはトランスの一次巻線が配置されている。巻回部41は、金属の断面円形の線材を渦巻状に成形したものである。この線材の表面は樹脂の絶縁材で被覆されている。一次巻線を構成する巻回部41の両端は多層基板40を貫通して多層基板40の下面に延びている。多層基板40における巻回部41の配置部分における巻回部41の中央には円形の貫通孔42が形成されている。つまり、貫通孔42の周囲に巻回部41が延設(実装)されている。また、多層基板40における巻回部41の配置部分における巻回部41の両側には貫通孔43および切欠き44が形成されている。貫通孔42にはコア60の上コア(E型コア)62の中央磁脚62bが挿通する。また、貫通孔43および切欠き44には上コア62の両側磁脚62c,62dが挿通する。
図10に示すように、多層基板40の下面には、トランスの二次側のパターンとしての第1金属板45が実装されている。つまり、第1金属板45のパターンにより図3の二次巻線11bが構成されている。即ち、多層基板40の裏面(下面)にはトランスの二次巻線が配置されている。第1金属板45は、銅板を、プレス加工により、「Ω」字状に形成したものである。第1金属板45の一端および他端は多層基板40を貫通して多層基板40の上面に延びている。第1金属板45は、貫通孔42の周囲に延びている。即ち、貫通孔42の周囲に第1金属板45が延設(実装)されている。
図9に示すように、多層基板40の上面には、コイル18aの導線部を構成する第2金属板46が実装されている。つまり、第2金属板46のパターンにより図3のコイル18aが構成されている。第2金属板46は、銅板を、プレス加工により、四角環状に形成したものである。第2金属板46の一端および他端は多層基板40を貫通して多層基板40の下面に延びている。多層基板40における第2金属板46の配置部分における中央には矩形の貫通孔47が形成されている。また、多層基板40における第2金属板46の配置部分における両側には矩形の貫通孔48,49が形成されている。貫通孔47にはコア70の上コア(E型コア)72の中央磁脚72bが挿通する。また、貫通孔48,49には上コア72の両側磁脚72c,72dが挿通する。
図10に示すように、多層基板40の下面には、コイル18b,20の導線部等を構成する第3金属板50が実装されている。つまり、第3金属板50のパターンにより図3のコイル18b,20等が構成されている。第3金属板50は、銅板を、プレス加工により、所望の形状にしたものである。第3金属板50の端部C,D,Eは多層基板40を貫通して多層基板40の上面に延びている。第3金属板50は、貫通孔47の周囲および後記貫通孔52,53の間に延びている。
図10において端部Cに図3のコイル18aが繋がり、図10の端部Dに図3のコンデンサ19が繋がり、図10の端部Eに図3のコンデンサ21が繋がる。
図10に示すように、多層基板40の下面には制御素子としての制御IC51が多層基板40に実装されている。制御IC51は、樹脂部51aを有し、側面からリード51bが突設されている。制御IC51は図3の制御IC15に相当する。このように、表面パターンまたは裏面パターンにはパワー素子38を制御する制御IC51が半田で実装されている。
図10に示すように、多層基板40の下面には制御素子としての制御IC51が多層基板40に実装されている。制御IC51は、樹脂部51aを有し、側面からリード51bが突設されている。制御IC51は図3の制御IC15に相当する。このように、表面パターンまたは裏面パターンにはパワー素子38を制御する制御IC51が半田で実装されている。
また、図9,10に示すように、多層基板40には長方形の貫通孔52,53が形成されている。多層基板40における貫通孔52,53の間を第3金属板50が延設されている。貫通孔52,53にはコア80の上コア(U型コア)82の両側磁脚82b,82cが挿通する。
このように必要な箇所のみ厚銅板である金属板45,46,50を用いており、小型化が図られている。
図9,10に示すように、多層基板40には長方形の貫通孔54が形成されている。即ち、多層基板40には表面から裏面にかけて貫通する貫通孔54からなる開口部が形成されている。多層基板40の下面における貫通孔54の形成箇所には、図12(a)に示すように、貫通孔54の開口部に重なるように帯板状の第4金属板56が実装されている。即ち、多層基板40の裏面パターンには開口部と重なる金属板56が半田で実装されている。詳しくは、第4金属板56は両端が多層基板40の下面に、はんだ付けにて固定されている。第4金属板56は銅板よりなる。第4金属板56には凸部56aが形成され、凸部56aが開口部(貫通孔54)内に配置されている。即ち、第4金属板56は貫通孔54において屈曲形成され、下面開口部から上面開口に延び、かつ、上面開口部において多層基板上面と面一となっている。この面一となっている部位にパワー素子(トランスの二次側のダイオード)37が多層基板40に接合(実装)されている。パワー素子37は樹脂部37aを有し、下面に下面電極37bが形成されているとともに、図12(b)に示すように側面から電極としてのリード37cが突設されている。パワー素子37の下面電極37bが第4金属板56に接合(実装)されている。多層基板40の上面においてパワー素子37のリード37cが多層基板40の上面のパターン125aと接合(実装)されている。このように、パワー素子37の一方の電極はリード37cを介して表面パターン125aに半田で実装されるとともにパワー素子37の他方の電極37bは金属板56の実装パッドに対して半田で実装されている。
図9,10に示すように、多層基板40には長方形の貫通孔54が形成されている。即ち、多層基板40には表面から裏面にかけて貫通する貫通孔54からなる開口部が形成されている。多層基板40の下面における貫通孔54の形成箇所には、図12(a)に示すように、貫通孔54の開口部に重なるように帯板状の第4金属板56が実装されている。即ち、多層基板40の裏面パターンには開口部と重なる金属板56が半田で実装されている。詳しくは、第4金属板56は両端が多層基板40の下面に、はんだ付けにて固定されている。第4金属板56は銅板よりなる。第4金属板56には凸部56aが形成され、凸部56aが開口部(貫通孔54)内に配置されている。即ち、第4金属板56は貫通孔54において屈曲形成され、下面開口部から上面開口に延び、かつ、上面開口部において多層基板上面と面一となっている。この面一となっている部位にパワー素子(トランスの二次側のダイオード)37が多層基板40に接合(実装)されている。パワー素子37は樹脂部37aを有し、下面に下面電極37bが形成されているとともに、図12(b)に示すように側面から電極としてのリード37cが突設されている。パワー素子37の下面電極37bが第4金属板56に接合(実装)されている。多層基板40の上面においてパワー素子37のリード37cが多層基板40の上面のパターン125aと接合(実装)されている。このように、パワー素子37の一方の電極はリード37cを介して表面パターン125aに半田で実装されるとともにパワー素子37の他方の電極37bは金属板56の実装パッドに対して半田で実装されている。
第4金属板56は図3の2つのダイオード16,17の共通のアノードとグランドを繋ぐラインを形成している。
第4金属板56の凸部56aの上面と多層基板40の上面とを面一にすることにより多層基板40の上面の配線のパターン125aとパワー素子(トランスの二次側のダイオード16,17)のリード37cとを接続しやすくしている。
第4金属板56の凸部56aの上面と多層基板40の上面とを面一にすることにより多層基板40の上面の配線のパターン125aとパワー素子(トランスの二次側のダイオード16,17)のリード37cとを接続しやすくしている。
同様に、図9,10に示すように、多層基板40には長方形の貫通孔55が形成されている。即ち、多層基板40には表面から裏面にかけて貫通する貫通孔55からなる開口部が形成されている。そして、図12を用いて説明したものと同様なパワー素子の放熱構成となっている。
つまり、多層基板40の下面における貫通孔55の形成箇所には、図12(a)に示すように、貫通孔55の開口部に重なるように帯板状の第5金属板57が実装されている。即ち、多層基板40の裏面パターンには開口部と重なる金属板57が半田で実装されている。詳しくは、第5金属板57は両端が多層基板40の下面に、はんだ付けにて固定されている。第5金属板57は銅板よりなる。第5金属板57には凸部57aが形成され、凸部57aが開口部(貫通孔55)内に配置されている。即ち、第5金属板57は貫通孔55において屈曲形成され、下面開口部から上面開口に延び、かつ、上面開口部において多層基板上面と面一となっている。この面一となっている部位にパワー素子(パワーMOSFET)38が多層基板40に接合(実装)されている。
図12(a)に示すように、パワー素子38は樹脂部38aを有し、下面に下面電極38bが形成されているとともに、図12(b)に示すように側面から電極としてのリード38cが突設されている。パワー素子38の下面電極38bが第5金属板57に接合(実装)されている。多層基板40の上面においてパワー素子38のリード38cが多層基板40の上面のパターン125aと接合(実装)されている。このように、パワー素子38の一方の電極はリード38cを介して表面パターン125aに半田で実装されるとともにパワー素子38の他方の電極38bは金属板57の実装パッドに対して半田で実装されている。
図12(a),(b)に示すように、アルミケース30の本体部31の上面に形成された突部33aは、多層基板40の貫通孔54に向かって延びている。突部33aの平坦な上面と第4金属板56との間には放熱シート36aが介在されている。これにより、第4金属板56とアルミケース30とは熱的に繋がっている。つまり、パワー素子37は第4金属板56および放熱シート36aを介してアルミケース30と熱的に結合している。その結果、パワー素子37とアルミケース30とは金属板56を介して熱的に繋がっている。パワー素子37で発生する熱は第4金属板56および放熱シート36aを介してアルミケース30に放熱される。このとき、パワー素子37に発生する熱は、樹脂を介さずに逃がしやすくなっている。また、多層基板40の下面にパワー素子(ダイオード)37を配置すると樹脂部37aを介して放熱することになり放熱性が悪いが、本実施形態ではパワー素子(ダイオード)37の下面電極37bから放熱しており、放熱性に優れる。
同様に、アルミケース30の本体部31の上面に形成された突部33bは、多層基板40の貫通孔55に向かって延びている。突部33bの平坦な上面と第5金属板57との間には放熱シート36bが介在されている。これにより、第5金属板57とアルミケース30とは熱的に繋がっている。つまり、パワー素子38は第5金属板57および放熱シート36bを介してアルミケース30と熱的に結合している。その結果、パワー素子38とアルミケース30とは金属板57を介して熱的に繋がっている。パワー素子38で発生する熱は第5金属板57および放熱シート36bを介してアルミケース30に放熱される。
このように、絶縁型DC−DCコンバータ10は、多層基板40と、多層基板40に実装されるパワー素子37,38と、パワー素子37,38の熱を放熱するアルミケース30と、を備える。多層基板40の表面には表面パターンを露出させる第1のレジスト127が形成されている。多層基板40の裏面には裏面パターンを露出させる第2のレジスト128が形成されている。多層基板40には表面から裏面にかけて貫通する貫通孔54,55からなる開口部が形成されている。多層基板40の裏面パターンには開口部と重なる金属板56,57が半田で実装されている。パワー素子37,38の一方の電極はリード37c,38cを介して表面パターン125aに半田で実装されるとともにパワー素子37,38の他方の電極37b,38bは金属板56,57の実装パッドに対して半田で実装されている。表面パターンまたは裏面パターンにはパワー素子38を制御する制御IC51が半田で実装されている。パワー素子37,38とアルミケース30とは金属板56,57を介して熱的に繋がっている。また、多層基板40の裏面にはトランスの二次巻線(金属板45)が配置され、多層基板40の表面にはトランスの一次巻線(巻回部41)が配置されている。
次に、組み付け工程について説明する。
図8に示すようにアルミケース30を用意する。そして、図7に示すように、アルミケース30に各下コア61,71,81を嵌め込む。また、放熱シート36a,36b,36cを搭載する。
図8に示すようにアルミケース30を用意する。そして、図7に示すように、アルミケース30に各下コア61,71,81を嵌め込む。また、放熱シート36a,36b,36cを搭載する。
さらに、図6に示すように、アルミケース30の上に多層基板40を搭載する。そして、図5に示すように、上コア62,72,82を搭載する。そして、ネジSc4を多層基板40を貫通してアルミケース30に螺入して多層基板40をアルミケース30に固定する。
また、上コア62,72,82上に金属製押え板であるブラケット90,91,92を配置し、ネジSc1,Sc2,Sc3をアルミケース30に螺入してブラケット90,91,92によりコア60,70,80を押さえて固定する。
次に、作用について説明する。
図1,2,4において、パワー素子38(図3の一次側スイッチング素子14に相当)のスイッチング動作に伴いトランスの一次巻線を構成する巻回部41、二次巻線を構成する第1金属板45に電流が流れる。パワー素子37(ダイオード16,17に相当)およびパワー素子38(一次側スイッチング素子14に相当)に発生する熱は金属板56,57を介してアルミケース30に伝わり、アルミケース30から大気に逃がされる。
図1,2,4において、パワー素子38(図3の一次側スイッチング素子14に相当)のスイッチング動作に伴いトランスの一次巻線を構成する巻回部41、二次巻線を構成する第1金属板45に電流が流れる。パワー素子37(ダイオード16,17に相当)およびパワー素子38(一次側スイッチング素子14に相当)に発生する熱は金属板56,57を介してアルミケース30に伝わり、アルミケース30から大気に逃がされる。
また、パワー素子37,38の熱が金属板56,57および放熱シート36a,36bを介してアルミケース30に放熱される。よって、熱伝導性が劣る部材である絶縁基板を介さないので高放熱化が図られる。その結果、パワー素子の高放熱を併せ持つ一体構造基板を構築することができる。
上記実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
(1)半導体装置としての絶縁型DC−DCコンバータ10は、複数の絶縁層120,121,122と複数のパターン123,124,125.126とを積層してなる多層基板40と、多層基板40に実装されるパワー素子37,38と、パワー素子37,38の熱を放熱する放熱部材としてのアルミケース30と、を備える。多層基板40の表面には表面パターンを露出させる第1のレジスト127が形成されている。多層基板40の裏面には裏面パターンを露出させる第2のレジスト128が形成されている。多層基板40には表面から裏面にかけて貫通する貫通孔54,55からなる開口部が形成されている。多層基板40の裏面パターンには開口部と重なる金属板56,57が半田で実装されている。パワー素子37,38の一方の電極は表面パターン125aに半田で実装されるとともにパワー素子37,38の他方の電極37b,38bは金属板56,57の実装パッドに対して半田で実装されている。表面パターンまたは裏面パターンにはパワー素子38を制御する制御素子としての制御IC51が半田で実装されている。パワー素子37,38とアルミケース30とは金属板56,57を介して熱的に繋がっている。よって、大型化を抑制することができるとともに放熱効率が良いものとすることができる。
(1)半導体装置としての絶縁型DC−DCコンバータ10は、複数の絶縁層120,121,122と複数のパターン123,124,125.126とを積層してなる多層基板40と、多層基板40に実装されるパワー素子37,38と、パワー素子37,38の熱を放熱する放熱部材としてのアルミケース30と、を備える。多層基板40の表面には表面パターンを露出させる第1のレジスト127が形成されている。多層基板40の裏面には裏面パターンを露出させる第2のレジスト128が形成されている。多層基板40には表面から裏面にかけて貫通する貫通孔54,55からなる開口部が形成されている。多層基板40の裏面パターンには開口部と重なる金属板56,57が半田で実装されている。パワー素子37,38の一方の電極は表面パターン125aに半田で実装されるとともにパワー素子37,38の他方の電極37b,38bは金属板56,57の実装パッドに対して半田で実装されている。表面パターンまたは裏面パターンにはパワー素子38を制御する制御素子としての制御IC51が半田で実装されている。パワー素子37,38とアルミケース30とは金属板56,57を介して熱的に繋がっている。よって、大型化を抑制することができるとともに放熱効率が良いものとすることができる。
より詳しくは、パワー素子が実装される基板と制御素子が実装される基板とを別々に設けると、コネクタ等が必要になり、部品点数増加、大型化に繋がる。また、特許文献1の構造であると、絶縁基板を介してパワー素子の熱を放熱しているため、放熱効率が悪い。これに対し本実施形態では、パワー素子37,38が実装される基板と制御IC51が実装される基板とを一体化することによりコネクタ等を不要にして大型化を抑制することができる。また、パワー素子37,38で発生する熱は金属板56,57を介してアルミケース30に逃がされ、パワー素子37,38で発生する熱を絶縁基板を介してアルミケース30に逃がす場合に比べ放熱性に優れている。つまり、共通の基板にパワー素子と制御素子を実装する場合、絶縁基板を介さずに金属板を介して放熱しているので放熱効率が良い。
(2)金属板56,57には凸部56a,57aが形成され、凸部56a,56aが開口部(貫通孔54,55)内に配置されている。よって、金属板56,57の凸部56a,57aの上面と多層基板40の上面とを面一にすることができ、多層基板40の上面のパターン125aとパワー素子のリード37c,38cとを接続しやすくできる。
(3)金属板56,57とアルミケース30との間には放熱シート36a,36bが介在されている。よって、放熱性に優れている。
(4)多層基板40の裏面にはトランスの二次巻線(金属板45)が配置され、多層基板40の表面にはトランスの一次巻線(巻回部41)が配置されている。よって、実用的である。
(4)多層基板40の裏面にはトランスの二次巻線(金属板45)が配置され、多層基板40の表面にはトランスの一次巻線(巻回部41)が配置されている。よって、実用的である。
(5)パワー素子の樹脂部37a,38a側から放熱させる場合には放熱性が悪いが、本実施形態では貫通孔54,55を設けることによりパワー素子の下面電極37b,38b側から放熱でき放熱性に優れている。
(6)パワー素子が実装される基板と制御素子が実装される基板とを単に一体とする構成では、パワー素子が実装される部分のパターンの熱容量と制御素子が実装される部分のパターンの熱容量とが異なるため、パワー素子が実装される部分と制御素子が実装される部分とに、はんだを一括で塗布し、リフローして一括はんだ付けすることは困難である。しかし、本実施形態では、大電流が流れる金属板45,46,50を多層基板40に実装するため、パワー素子が実装される部分と制御素子が実装される部分とを一括はんだ付けすることが可能となる。
実施形態は前記に限定されるものではなく、例えば、次のように具体化してもよい。
・図14においては二次巻線としての金属板45bの厚さがt2であり、幅がW2である。これに対し、図13に示すように二次巻線としての金属板45aの厚さは、t2よりも厚いt1であり、幅がW2よりも狭いW1である。このように、図14に比べて図13に示すように巻線の小型化を図るようにしてもよい。つまり、金属板(45a,45b)の厚さt1を厚くして幅W1を狭くすることにより巻枠を小さくして小型化を図ることができる。即ち、上コア62における金属板によるパターンを入れるだけのスペースを狭くし巻枠を小さくすることにより小型化を図るようにしてもよい。
・図14においては二次巻線としての金属板45bの厚さがt2であり、幅がW2である。これに対し、図13に示すように二次巻線としての金属板45aの厚さは、t2よりも厚いt1であり、幅がW2よりも狭いW1である。このように、図14に比べて図13に示すように巻線の小型化を図るようにしてもよい。つまり、金属板(45a,45b)の厚さt1を厚くして幅W1を狭くすることにより巻枠を小さくして小型化を図ることができる。即ち、上コア62における金属板によるパターンを入れるだけのスペースを狭くし巻枠を小さくすることにより小型化を図るようにしてもよい。
・貫通孔54,55に代わり切欠きを用いてもよい。つまり、多層基板には切欠きからなる開口部が形成されており、多層基板の一方の面には開口部に重なるように金属板が実装され、金属板には凸部が形成され、凸部が切欠き内に配置されている構成としてもよい。
・パワー素子として、例えば低ON抵抗MOSを使用することで低損失化を図る上で好ましい。
・一次側スイッチング素子としてパワーMOSFET以外にも、例えばIGBT等を用いてもよい。
・一次側スイッチング素子としてパワーMOSFET以外にも、例えばIGBT等を用いてもよい。
・金属板45,46,50は銅板以外の金属板で構成してもよい。
・放熱シート36a,36bに代わり放熱グリスを用いてもよい。
・半導体装置は絶縁型DC−DCコンバータ10であったが、これに限るものではない。例えば、コンバータは、トランスの一次側の入力電圧を昇圧してトランスの二次側に出力する昇圧型であってもよい。また、DC−DCコンバータに限ることなく他の機器に適用してもよい。
・放熱シート36a,36bに代わり放熱グリスを用いてもよい。
・半導体装置は絶縁型DC−DCコンバータ10であったが、これに限るものではない。例えば、コンバータは、トランスの一次側の入力電圧を昇圧してトランスの二次側に出力する昇圧型であってもよい。また、DC−DCコンバータに限ることなく他の機器に適用してもよい。
10…絶縁型DC−DCコンバータ、30…アルミケース、36a…放熱シート、36b…放熱シート、37…パワー素子、37a…樹脂部、37b…下面電極、37c…リード、38…パワー素子、38a…樹脂部、38b…下面電極、38c…リード、40…多層基板、41…巻回部、45…金属板、51…制御IC、51a…樹脂部、54…貫通孔、55…貫通孔、56…金属板、56a…凸部、57…金属板、57a…凸部、120…絶縁層、121…絶縁層、122…絶縁層、123…パターン、124…パターン、125…パターン、125a…パターン、126…パターン、127…レジスト、128…レジスト。
Claims (4)
- 複数の絶縁層と複数のパターンとを積層してなる多層基板と、
前記多層基板に実装されるパワー素子と、
前記パワー素子の熱を放熱する放熱部材と、
を備える半導体装置であって、
前記多層基板の表面には表面パターンを露出させる第1のレジストが形成されており、
前記多層基板の裏面には裏面パターンを露出させる第2のレジストが形成されており、
前記多層基板には表面から裏面にかけて貫通する貫通孔または切欠きからなる開口部が形成されており、
前記多層基板の裏面パターンには前記開口部と重なる金属板が半田で実装され、
前記パワー素子の一方の電極は前記表面パターンに半田で実装されるとともに前記パワー素子の他方の電極は前記金属板の実装パッドに対して半田で実装され、
前記表面パターンまたは前記裏面パターンには前記パワー素子を制御する制御素子が半田で実装され、
前記パワー素子と前記放熱部材とは前記金属板を介して熱的に繋がっていることを特徴とする半導体装置。 - 前記金属板には凸部が形成され、前記凸部が前記開口部内に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記金属板と前記放熱部材との間には放熱シートまたは放熱グリスが介在されていることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
- 前記多層基板の裏面にはトランスの二次巻線が配置され、前記多層基板の表面には前記トランスの一次巻線が配置されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体装置。
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