JP2017063093A - Wiring board, electronic device, and electronic module - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、配線基板、電子装置および電子モジュールに関するものである。 The present invention relates to a wiring board, an electronic device, and an electronic module.
従来、配線基板は、複数の絶縁層からなる絶縁基体の内部または表面に配線導体が、また絶縁基体の側面から下面にかけて切欠き部およびその内面に配線導体に接続される内面電極が設けられたものがある。電子部品およびこのような配線基板を含む電子装置を半田等の接合材によって例えばモジュール用基板に接合する場合には、この内面電極が半田等の接合材を介してモジュール用基板に接合される。 Conventionally, a wiring board is provided with a wiring conductor inside or on the surface of an insulating base composed of a plurality of insulating layers, a notch from the side surface to the bottom surface of the insulating base, and an inner surface electrode connected to the wiring conductor on the inner surface. There is something. When an electronic component and an electronic device including such a wiring substrate are bonded to a module substrate, for example, by a bonding material such as solder, the inner surface electrode is bonded to the module substrate via a bonding material such as solder.
近年、電子装置の小型化および薄型化が求められている。このような配線基板において、複数の絶縁層の厚みが小さくなり、配線導体が、絶縁基体の厚み方向において絶縁基体の上面と切欠き部との間に設けられ、平面透視で配線導体の端部を跨ぐように切欠き部と重なっていると、複数の絶縁層を積層する場合に、積層時の応力が配線導体、特に配線導体の端部および配線導体の端部の外側の部分に伝わりにくく、絶縁基体の上面と切欠き部との間における配線導体の端部の周辺に空隙が形成され、配線導体における電気的導通が不十分なものとなり、配線基板の電気的特性を低下させてしまうことが懸念される。 In recent years, there has been a demand for downsizing and thinning electronic devices. In such a wiring board, the thickness of the plurality of insulating layers is reduced, and the wiring conductor is provided between the upper surface of the insulating base and the notch in the thickness direction of the insulating base, and the end of the wiring conductor is seen through in plan view. If it overlaps with the notch so as to straddle, when laminating a plurality of insulating layers, the stress at the time of lamination is difficult to be transmitted to the wiring conductor, especially the end of the wiring conductor and the outside of the end of the wiring conductor In addition, a gap is formed around the end of the wiring conductor between the upper surface of the insulating base and the notch, resulting in insufficient electrical continuity in the wiring conductor, which degrades the electrical characteristics of the wiring board. There is concern.
本発明の一つの態様によれば、配線基板は、一方主面および側面に開口する切欠き部を有している絶縁基体と、前記切欠き部の内面に設けられた内面電極と、前記絶縁基体の厚み方向において前記絶縁基体の他方主面と前記切欠き部との間に位置しており、平面透視で前記切欠き部と重ならない箇所に配置された配線導体とを有している。 According to one aspect of the present invention, the wiring board includes an insulating base having a notch opening on one main surface and side surfaces, an inner surface electrode provided on an inner surface of the notch, and the insulating A wiring conductor is located between the other main surface of the insulating base and the notch in the thickness direction of the base, and is disposed at a location that does not overlap the notch in a plan view.
本発明の一つの態様によれば、電子装置は、上記構成の配線基板と、該配線基板に搭載され、前記内面電極に電気的に接続された電子部品とを有している。 According to one aspect of the present invention, an electronic device includes the wiring board having the above configuration and an electronic component that is mounted on the wiring board and electrically connected to the inner surface electrode.
本発明の一つの態様によれば、電子モジュールは、接続パッドを有するモジュール用基板と、前記接続パッドにはんだを介して接続された上記構成の電子装置とを有している。 According to one aspect of the present invention, an electronic module includes a module substrate having a connection pad, and the electronic device configured as described above connected to the connection pad via solder.
本発明の一つの態様による配線基板において、一方主面および側面に開口する切欠き部を有している絶縁基体と、切欠き部の内面に設けられた内面電極と、絶縁基体の厚み方向において絶縁基体の他方主面と切欠き部との間に位置しており、平面透視で切欠き部と重ならない箇所に配置された配線導体とを有している。このような構成により、複数の絶縁層を積層する場合に、積層時の応力が配線導体に良好に伝わり、配線導体の端部の周辺に空隙が形成されるのを抑制し、配線導体における電気的導通が良好なものとなって、配線基板の電気的特性が低下することを抑制することができる。 In a wiring board according to one aspect of the present invention, an insulating base having a notch opening on one main surface and side surfaces, an inner surface electrode provided on the inner surface of the notch, and a thickness direction of the insulating base It has a wiring conductor which is located between the other main surface of the insulating base and the notch, and is arranged at a location which does not overlap with the notch in plan view. With such a configuration, when a plurality of insulating layers are laminated, the stress at the time of lamination is transmitted well to the wiring conductor, and the formation of voids around the ends of the wiring conductor is suppressed. It is possible to suppress the deterioration of the electrical characteristics of the wiring board due to good electrical conduction.
本発明の一つの態様による電子装置は、上記構成の配線基板と、配線基板に搭載され、内面電極に電気的に接続された電子部品とを有していることによって、長期信頼性に優れ
た電子装置とすることができる。
An electronic device according to one aspect of the present invention has excellent long-term reliability by including a wiring board having the above-described configuration and an electronic component mounted on the wiring board and electrically connected to the inner surface electrode. It can be an electronic device.
本発明の一つの態様による電子モジュールは、接続パッドを有するモジュール用基板と、接続パッドにはんだを介して接続された上記構成の電子装置とを有していることによって、長期信頼性に優れたものとできる。 An electronic module according to an aspect of the present invention has excellent long-term reliability by including a module substrate having connection pads and the electronic device having the above-described configuration connected to the connection pads via solder. I can do it.
本発明のいくつかの例示的な実施形態について、添付の図面を参照しつつ説明する。 Several exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
(第1の実施形態)
本発明の第1の実施形態における電子装置は、図1〜図4に示すように、配線基板1と、配線基板1の上面に設けられた電子部品2とを含んでいる。電子装置は、図4に示すように、例えば電子モジュールを構成するモジュール用基板5上に接合材6を用いて接続される。
(First embodiment)
The electronic device according to the first embodiment of the present invention includes a
本実施形態における配線基板1は、一方主面および側面に開口する切欠き部12を有している絶縁基体11と、切欠き部12の内面に設けられた内面電極13と、絶縁基体11の表面および内部に設けられた配線導体14とを有している。配線導体14は、絶縁基体11の厚み方向において絶縁基体11の他方主面と切欠き部12との間に位置しており、平面透視で切欠き部12と重ならない箇所に配置されている。図1〜図3において、配線基板1および電子装置は仮想のxyz空間におけるxy平面に実装されている。図1〜図3において、上方向とは、仮想のz軸の正方向のことをいう。なお、以下の説明における上下の区別は便宜的なものであり、実際に配線基板1等が使用される際の上下を限定するものではない。
The
絶縁基体11は、一方主面(図1〜図3では下面)および他方主面(図1〜図3では上面)と、側面とを有している。絶縁基体11は、複数の絶縁層11aからなり、電子部品2の搭載領域を含む上面を有しており、平面視すなわち主面に垂直な方向から見ると矩形の板状の形状を有している。絶縁基体11は電子部品2を支持するための支持体として機能し、上
面中央部の搭載領域上に、電子部品2が低融点ろう材または導電性樹脂等の接合部材を介して接着されて固定される。
The
絶縁基体11は、例えば、酸化アルミニウム質焼結体(アルミナセラミックス),窒化アルミニウム質焼結体,窒化珪素質焼結体、ムライト質焼結体またはガラスセラミックス焼結体等のセラミックスを用いることができる。絶縁基体11は、例えば酸化アルミニウム質焼結体である場合であれば、酸化アルミニウム(Al2O3),酸化珪素(SiO2),酸化マグネシウム(MgO),酸化カルシウム(CaO)等の原料粉末に適当な有機バインダーおよび溶剤等を添加混合して泥漿物を作製する。この泥漿物を、従来周知のドクターブレード法またはカレンダーロール法等を採用してシート状に成形することによってセラミックグリーンシートを作製する。次に、このセラミックグリーンシートに適当な打ち抜き加工を施すとともに、セラミックグリーンシートを複数枚積層して生成形体を形成し、この生成形体を高温(約1600℃)で焼成することによって絶縁基体11が製作される。
As the
切欠き部12は、絶縁基体11の一方主面および側面に開口している。切欠き部12は、図1〜図3において、絶縁基体11の下側主面(下面)と側面とに開口しており、上側主面側(上面側)には開口しておらず、閉塞している。切欠き部12は、図1〜図3に示す例においては、平面視にて角部が円弧状の矩形状(四角形状)に形成されており、絶縁基体11の外辺に沿って長く形成されている。なお、切欠き部12は、平面視において、半円形状、半楕円形状または半長円形状、あるいは切欠き部12の幅より大きい幅の切欠きを介して開口されている、すなわち複数の大きさの切欠きが重なっていても構わない。このような切欠き部12は、絶縁基体11用のセラミックグリーンシートのいくつかに、レーザー加工または金型による打抜き加工等により、切欠き部12となる貫通孔を形成しておくことによって形成される。
The
内面電極13は、切欠き部12の内面に設けられている。配線導体14は、絶縁基体11の表面および内部に設けられている。主面電極15は、絶縁基体11の一方主面(図1〜図3では下面)に設けられている。なお、内面電極13と主面電極15とを含む構成で外部電極となっている。内面電極13と配線導体14とは、図3に示した例では、切欠き部12の奥底部で接続されている。内面電極13は、配線導体14との接続部において、断面視で内面電極13の端部を絶縁基体11の内部に0.05〜0.1mm程度の長さで延出させ、内面電極13と配線導体14とが
重なるように設けていても構わない。なお、内面電極13は、配線導体14との接続部だけでなく、平面視で切欠き部12を囲むように絶縁基体11の内部に内面電極13の端部を延出させてもよい。また、配線導体14は、内面電極13との接続部において、断面視で配線導体14の端部を切欠き部12の内面に0.01〜0.5mm程度の長さで延出させ、切欠き部12の奥底部に
おいて、内面電極13と配線導体14とが重なるように設けていても構わない。また、内面電極13と配線導体14とを互いに絶縁基体11の内部と切欠き部12とにそれぞれ延出させ、絶縁基体11の内部と切欠き部12の奥底部において内面電極13と配線導体14とが互いに重なるように設けていても構わない。このように、内面電極13または配線導体14を延出させ、内面電極13と配線導体14とが重なるように設けておくと、切欠き部12の奥底部近傍における内面電極13と配線導体14との接続を良好なものとし、内面電極13と配線導体14との間の電気的接続を良好なものとすることができる。内面電極13と主面電極15とを含む外部電極は、モジュール用基板5に接合するためのものである。内面電極13、配線導体14および主面電極15は、配線基板1に搭載された電子部品2とモジュール用基板5とを電気的に接続するためのものである。配線導体14は、絶縁基体11の表面または内部に設けられた配線導体14と、絶縁基体11を構成する絶縁層11aを貫通して上下に位置する配線導体同士を電気的に接続する貫通導体とを含んでいる。
The
内面電極13、配線導体14、主面電極15の材料は、例えばタングステン(W),モリブデン(Mo),マンガン(Mn),銀(Ag)または銅(Cu)等を主成分とする金属粉末
メタライズである。例えば、絶縁基体11が酸化アルミニウム質焼結体から成る場合であれば、W,MoまたはMn等の高融点金属粉末に適当な有機バインダーおよび溶媒等を添加混合して得たメタライズペーストを、絶縁基体11用のセラミックグリーンシートに予めスクリーン印刷法によって所定のパターンに印刷塗布して、絶縁基体11用のセラミックグリーンシートと同時に焼成することによって、絶縁基体11の所定位置に被着形成される。内面電極13は、例えば、切欠き部12となる貫通孔の内側面となる領域に内面電極13用のメタライズペーストを印刷塗布し、絶縁基体11用のセラミックグリーンシートとともに焼成することによって形成される。主面電極15は、絶縁基体11となるセラミックグリーンシートに主面電極15となるメタライズペーストを印刷塗布し、絶縁基体11用のセラミックグリーンシートとともに焼成することによって形成される。配線導体14は、例えば、絶縁基体11用のセラミックグリーンシートに配線導体14用のメタライズペーストをスクリーン印刷法等の印刷手段によって印刷塗布し、絶縁基体11用のセラミックグリーンシートとともに焼成することによって形成される。また、配線導体14が貫通導体である場合は、例えば、絶縁基体11用のセラミックグリーンシートに金型またはパンチングによる打ち抜き加工またはレーザー加工等の加工方法によって貫通導体用の貫通孔を形成し、この貫通孔に貫通導体用のメタライズペーストを上記印刷手段によって充填しておき、絶縁基体11用のセラミックグリーンシートとともに焼成することによって形成される。メタライズペーストは、上述の金属粉末に適当な溶剤およびバインダーを加えて混練することによって、適度な粘度に調整して作製される。なお、絶縁基体11との接合強度を高めるために、ガラス粉末、セラミック粉末を含んでいても構わない。
The material of the
配線導体14は、図2および図3に示すように、絶縁基体11の厚み方向において絶縁基体11の他方主面と切欠き部12との間に位置しており、平面透視で切欠き部12と重ならない箇所に配置されている。このような構成とすることによって、複数の絶縁層11aを積層する場合に、積層時の応力が配線導体14に良好に伝わり、配線導体14の端部の周辺に空隙が形成されるのを抑制し、配線導体14における電気的導通が良好なものとなって、配線基板1の電気的特性が低下することを抑制することができる。すなわち、絶縁基体11用のセラミックグリーンシート同士を積層する際に、配線導体14用のメタライズペーストが平面透視で切欠き部12に重ならないように配置されているので、配線導体14用のメタライズペーストの周囲のセラミックグリーンシート同士の密着を良好なものとし、配線導体14の端部の周辺に空隙が形成されるのを抑制することができる。
As shown in FIGS. 2 and 3, the
なお、配線導体14が絶縁基体11の厚み方向において絶縁基体11の他方主面と切欠き部12との間に位置するとは、配線導体14が絶縁基体11の他方主面と切欠き12が設けられた絶縁層11aとに挟まれた部分、すなわち切欠き部12が設けられていない絶縁層11a(絶縁基体11)の内部に設けられていることを示しており、他方主面に設けられた配線導体14については、平面透視で切欠き部12と重なる箇所に配置されていても構わない。絶縁基体11aは、絶縁基体11の他方主面と切欠き部12との間に少なくとも2つの絶縁層11aを有している。また、切欠き部12が設けられた絶縁層11a、あるいはこの絶縁層11aに積層する絶縁層11aに配線導体14が設けられた場合において、配線導体14は、内面電極13と接続するために平面透視で切欠き部12と重なる位置に設けられていても構わない。
Note that the
また、配線導体14は、図2に示すように、平面透視で切欠き部12に沿った形状を有していると、配線導体14用のメタライズペーストと切欠き部12との間の配線導体14用のメタライズペーストの周囲のセラミックグリーンシート同士の密着を良好なものとし、絶縁基体11の他方主面と切欠き部12との間における配線導体14の端部の周辺に空隙が形成されるのを良好に抑制することができる。なお、平面透視で切欠き部12に沿った形状とは、平面透視において、切欠き部12の内壁と配線導体14の外縁とが平行に配置されていることを示している。なお、配線導体14が、図2に示すように、平面透視で切欠き部12の一部を取り囲む形状を有していると、配線導体14を配置する領域がより大きいものとなり、配線基板1
の電気的特性が向上しやすいものとなり好ましい。
In addition, as shown in FIG. 2, when the
It is preferable because the electrical characteristics of the material are easily improved.
なお、配線導体14と切欠き部12との間隔Wは、W≧50μmとしておくと、配線導体14の端部の周辺に空隙が形成されるのをより良好に抑制することができる。なお、切欠き部12と配線導体14との間の絶縁層の厚みが150μm以下の場合に、良好に空隙が発生すること
を抑制することができる。
In addition, if the interval W between the
内面電極13、配線導体14、主面電極15の絶縁基体11から露出する表面には、電気めっき法または無電解めっき法によって金属めっき層が被着される。金属めっき層は、ニッケル,銅,金または銀等の耐食性および接続部材との接続性に優れる金属から成るものであり、例えば厚さ0.5〜5μm程度のニッケルめっき層と0.1〜3μm程度の金めっき層とが、あるいは厚さ1〜10μm程度のニッケルめっき層と0.1〜1μm程度の銀めっき層とが、
順次被着される。これによって、内面電極13および配線導体14、主面電極15が腐食することを効果的に抑制できるとともに、配線導体14と電子部品2との固着および配線導体14とボンディングワイヤ等の接続部材3との接合、ならびに内面電極13および主面電極15とモジュール用基板5に形成された接続用の接続パッド51との接合を強固にできる。
A metal plating layer is applied to the surfaces of the
Sequentially deposited. As a result, corrosion of the
また、金属めっき層は、ニッケルめっき層/金めっき層に限られるものではなく、ニッケルめっき層/金めっき層/銀めっき層、あるいはニッケルめっき層/パラジウムめっき層/金めっき層等を含むその他の金属めっき層であっても構わない。 In addition, the metal plating layer is not limited to the nickel plating layer / gold plating layer, but may include nickel plating layer / gold plating layer / silver plating layer or other nickel plating layer / palladium plating layer / gold plating layer. It may be a metal plating layer.
また、電子部品2が搭載される配線導体14上では、例えば上述のニッケルめっき層と金めっき層の下地層に、例えば、厚さ10〜80μm程度の銅めっき層を金属めっき層として被着させておくことにより、電子部品2の熱を銅めっき層を介して配線基板1側に良好に放熱させやすくしてもよい。
Further, on the
配線基板1の上面に電子部品2を搭載することによって、電子装置を作製できる。配線基板1に搭載される電子部品2は、ICチップまたはLSIチップ等の半導体素子,発光素子,水晶振動子または圧電振動子等の圧電素子および各種センサ等である。例えば、電子部品2がワイヤボンディング型の半導体素子である場合には、半導体素子は、低融点ろう材または導電性樹脂等の接合部材によって、配線導体14上に固定された後、ボンディングワイヤ等の接続部材3を介して半導体素子の電極と配線導体14とが電気的に接続されることによって配線基板1に搭載される。これにより、電子部品2は内面電極13に電気的に接続される。また、例えば電子部品2がフリップチップ型の半導体素子である場合には、半導体素子は、はんだバンプ、金バンプまたは導電性樹脂(異方性導電樹脂等)等の接続部材3を介して、半導体素子の電極と配線導体14とが電気的および機械的に接続されることによって配線基板1に搭載される。また、配線基板1には、複数の電子部品2を搭載してもよいし、必要に応じて、抵抗素子または容量素子等の小型の電子部品を搭載してもよい。また、電子部品2は必要に応じて、樹脂またはガラス等からなる封止材4を用いて、樹脂、ガラス、セラミックスまたは金属等からなる蓋体等により封止される。
By mounting the
本実施形態の電子装置の内面電極13を含む外部電極が、図4に示すように、モジュール用基板5の接続パッド51に半田等の接合材6を介して接続されて、電子モジュールとなる。接合材6は、切欠き部12内にて内面電極13に、また、絶縁基体11の下面にて主面電極15に接合されていることから、外部からの応力が加わった場合に、外部電極または接合材6にかかる応力を分散することが可能となる。また、接合材6は内面電極13の切欠き部12の内側の端部から接続パッド51の外側の端部にかけて広がるように傾斜している。このような構成とすることにより、取り扱い時の外力等によって電子装置に応力が発生しても、広がるように傾斜している接合材6によって応力が分散されるものとなり、電子装置がモジュール用基板5に強固に接続されるものとなって、接続信頼性が向上した電子モジュール
とすることができる。この場合に、平面透視すなわち他方主面に垂直な方向から透視すると、接続パッド51の外側の端部は内面電極13の切欠き部12の内側の端部よりも外側に位置している。また、接続パッド51の内側の端部は主面電極15の内側の端部と同等の箇所に位置している。
As shown in FIG. 4, the external electrodes including the
本実施形態の配線基板1によれば、一方主面および側面に開口する切欠き部12を有している絶縁基体11と、切欠き部12の内面に設けられ、内面電極13と、絶縁基体11の厚み方向において、絶縁基体11の他方主面と切欠き部12との間に位置しており、平面透視で切欠き部12と重ならない箇所に配置された配線導体14とを有している。このような構成により、複数の絶縁層11aを積層する場合に、積層時の応力が配線導体14に良好に伝わり、配線導体14の端部の周辺に空隙が形成されるのを抑制し、配線導体14における電気的導通が良好なものとなって、配線基板1の電気的特性が低下することを抑制することができる。
According to the
本実施形態における配線基板1は、小型で高出力の電子装置において好適に使用することができ、配線基板1における電気的接続を良好に図ることができる。例えば、電子部品2として、高発光の発光素子を搭載する発光素子搭載用の小型の配線基板1として好適に用いることができる。
The
(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態による電子装置について、図5〜図8を参照しつつ説明する。
(Second Embodiment)
Next, an electronic device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
本発明の第2の実施形態における電子装置において、上記した第1の実施形態の電子装置と異なる点は、配線導体14は、絶縁基体11の厚み方向に複数の箇所で設けられており、これらの配線導体14は、切欠き部12側の外縁が平面透視で互いに重ならない箇所に配置されている点である。なお、本発明の第2の実施形態における配線基板1では、図6に示した絶縁層11aは、図7に示した絶縁層11aよりも絶縁基体11の上面側に設けられている。
The electronic device according to the second embodiment of the present invention is different from the electronic device according to the first embodiment described above in that the
本発明の第2の実施形態における配線基板1によれば、第1の実施形態の配線基板1と同様に、配線導体14の端部の周辺に空隙が形成されるのを抑制することができ、配線基板1の電気的特性が低下することを抑制することができる。
According to the
なお、これらの配線導体14において、切欠き部12側の外縁が平面透視で互いに重ならない箇所に配置されているとは、それぞれの配線導体14の切欠き部12側の外縁が平面透視で重ならないようにずれて配置されているものであり、切欠き部12に沿って設けられているとより好ましい。配線導体14は、図6では、平面透視において、切欠き部12の長辺側の内壁に沿って設けている。
In these wiring
第2の実施形態の配線基板1において、切欠き部12は、図5に示すように、切欠き部12が切欠き部12の幅より大きい幅の切欠きを介して開口されている、すなわち複数の大きさの切欠きが重なっている。このような場合においても、配線導体14は、絶縁基体11の厚み方向において絶縁基体11の一方主面と切欠き部12との間に位置しており、平面透視で切欠き部12を含む切欠きと重ならない箇所に配置されている。
In the
また、絶縁基体11の厚み方向において絶縁基体11の他方主面と切欠き部12との間に位置しており、絶縁基体11の厚み方向に複数の箇所で設けられている配線導体14のうち、絶縁基体11の厚み方向において切欠き部12に近い側の配線導体14は、切欠き部12側から離れている側の配線導体14よりも、平面透視にて切欠き部12との間隔が離れて切欠き部12に沿って設けられていると、配線導体14が絶縁基体11の厚み方向に複数の箇所で設けられている場合においても、配線導体14の端部の周辺に空隙が形成されるのを抑制することができ、
配線基板1の電気的特性が低下することを抑制することができる。
Among the wiring
It can suppress that the electrical property of the
第2の実施形態の配線基板1は、上述の第1の実施形態の配線基板1と同様の製造方法を用いて製作することができる。
The
(第3の実施形態)
次に、本発明の第3の実施形態による電子装置について、図9〜図11を参照しつつ説明する。
(Third embodiment)
Next, an electronic device according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
本発明の第3の実施形態における電子装置において、上記した第1の実施形態の電子装置と異なる点は、電子部品2の搭載面と同じ他方主面(以下、上面ともいう)と側面とに開口している切欠き部12(12a)と配線基板1の一方主面(以下、下面)と側面とに開口している切欠き部12(12b)を有している点である。第3の実施形態の配線基板1において、絶縁基体11の内部に設けられた配線導体14は、平面透視で切欠き部12と重ならない箇所に設けられている。
The electronic device according to the third embodiment of the present invention differs from the electronic device according to the first embodiment described above in the other main surface (hereinafter also referred to as the upper surface) and side surfaces that are the same as the mounting surface of the
本発明の第3の実施形態における配線基板1によれば、第1の実施形態の配線基板1と同様に、配線導体14の端部の周辺に空隙が形成されるのを抑制することができ、配線基板1の電気的特性が低下することを抑制することができる。
According to the
第3の実施形態の配線基板1において、絶縁基体11の上面側に設けられた切欠き部12aと下面側に設けられた切欠き部12bは、平面視において同じ大きさおよび同じ形状であっても良いし、図9〜図11に示すように、平面視において、大きさを異ならせても良い。また、平面視において切欠き部12aの形状と切欠き部12bの形状とを異ならせても良い。例えば、一方の切欠き部12を、平面視にて角部が円弧状の矩形状(四角形状)に形成し、他方の切欠き部12を、切欠き部12が切欠き部12の幅より大きい幅の切欠きを介して開口されている、すなわち複数の大きさの切欠きが重なっている形状に形成してもよい。なお、一方の切欠き部12が、平面視において、他方の切欠き部12よりも大きくなるようにしておき、互いの切欠き部12の内壁同士が重ならないようにしておくことが好ましい。例えば、図9および図10に示した例では、絶縁基体11の下面側の切欠き部12bが、絶縁基体11の上面側の切欠き部12aよりも大きくなっている。 第3の実施形態の配線基板1のように、絶縁基体11の上面側および下面側とに切欠き部12が設けられている場合、絶縁基体11内部に設けられている配線導体14は、平面透視にて大きい形状の切欠き部12に沿って設けられることが好ましい。
In the
また、図9〜図11に示した例では、絶縁基体11の上面側に設けられた切欠き部12aと絶縁基体11の下面側に設けられた切欠き部12bのそれぞれに内面電極13を設けているが、絶縁基体11の上面側の切欠き部12のみまたは絶縁基体11の下面側の切欠き部12のみに内面電極13を設けた配線基板1であっても構わない。
Further, in the example shown in FIGS. 9 to 11, the
第3の実施形態の配線基板1は、第1の実施形態と同様に、小型で高出力の電子装置において好適に使用することができ、配線基板1における電気的接続を良好に図ることができる。例えば、電子部品2として、高発光の発光素子を搭載する発光素子搭載用の小型の配線基板1として好適に用いることができる。
Similar to the first embodiment, the
第3の実施形態の配線基板1は、上述の第1の製造方法または第2の製造方法と同様の製造方法を用いて製作することができる。
The
本発明は、上述の実施の形態の例に限定されるものではなく、種々の変更は可能である。上述の例では、切欠き部12および内面電極13は、絶縁基体11の対向する2側面にそれぞ
れ1つずつ設けた例を示しているが、切欠き部12および内面電極13を絶縁基体11の4側面全てに設けた配線基板1、あるいは複数の切欠き部12および内面電極13をそれぞれの辺に設けた配線基板1であってもよい。また、図1〜図11に示す例では、絶縁基体11は、3層または4層の絶縁層11aから形成しているが、5層以上の絶縁層11aからなるものであっても構わない。
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made. In the above-described example, the
また、図9および図10に示すように、配線基板1は、配線導体14に挟まれるように設けられた金属層16、電子部品搭載層17および中央端子層18等の配線以外の導体を有していても構わない。例えば、これらの導体は、上述の内面電極13、配線電極14および主面電極15と同様の材料および方法によって製作することができ、露出する表面には、内面電極13、配線導体14および主面電極15と同様の金属めっき層が被着されている。電子部品搭載層17は、例えば電子部品2の搭載用に用いられ、中央端子層18は、例えば内面電極13および主面電極15と同様に、モジュール用基板5との接合に用いられる。また、図9に示すように、中央端子層18についても、切欠き部12の内面に設けられた内面電極13に接続させていても構わない。
9 and 10, the
また、絶縁基体11の他方主面と切欠き部12との間に、絶縁基体11の厚み方向において配線導体14が設けられた絶縁層11a間とは異なる絶縁層11a間に、配線導体14と同様な方法により製作された金属層が設けられている場合、金属層は、配線導体14と同様に、平面透視で切欠き部12と重ならない箇所に配置されていることが好ましい。また、第2の実施形態の配線基板1のように、配線導体14の切欠き部12側の外縁と金属層の切欠き部12側の外縁とが平面透視で重ならないようにずれて配置されていると好ましい。なお、この場合においても、絶縁基体11の厚み方向において、配線導体14または金属層のうち、切欠き部12に近く設けられている導体が、平面透視にて切欠き部12との間隔が離れて切欠き部12に沿って設けられていると好ましい。
In addition, between the other main surface of the insulating
また、第2の実施形態の配線基板1においては、配線導体14は、絶縁層11aを貫通する貫通導体により主面電極15に直接接続されている。このような構成を、第1、第3の実施形態の配線基板1に適用しても構わない。
In the
また、第1〜第3の実施形態における配線基板1は、それぞれ平板状の配線基板1であっても構わないし、主面に電子部品2が収容されるキャビティを有する配線基板1であっても構わない。また、第1、第3の実施形態における配線基板1においては、第2の実施形態における配線基板1のように、切欠き部12を複数の大きさの切欠き部12が重なった形状としても構わないし、金属層16、電子部品搭載層17および中央端子層18を備えていても構わない。
Moreover, the
また、上述の例では、配線基板1には、1つの電子部品2が搭載されているが、複数の電子部品2、例えば、複数の発光素子が搭載される発光素子搭載用の配線基板1であっても構わない。
In the above example, one
また、配線基板1は多数個取り配線基板の形態で製作されていてもよい。
Further, the
1・・・・配線基板
11・・・・絶縁基体
11a・・・絶縁層
12・・・・切欠き部
13・・・・内面電極
14・・・・配線導体
15・・・・主面電極
16・・・・金属層
17・・・・電子部品搭載層
18・・・・中央端子層
2・・・・電子部品
3・・・・接続部材
4・・・・封止材
5・・・・モジュール用基板
51・・・・接続パッド
6・・・・接合材
1 ... Wiring board
11 ... Insulating substrate
11a ... Insulating layer
12 .... Notch
13 ... Inner electrode
14 ... Wiring conductor
15 ... Main surface electrode
16 ... Metal layer
17 ... Electronic component mounting layer
18 ... Central
51 ···
Claims (5)
前記切欠き部の内面に設けられた内面電極と、
前記絶縁基体の厚み方向において前記絶縁基体の他方主面と前記切欠き部との間に位置しており、平面透視で前記切欠き部と重ならない箇所に配置された配線導体とを有していることを特徴とする配線基板。 On the other hand, an insulating substrate having a notch opening on the main surface and side surfaces;
An inner surface electrode provided on the inner surface of the notch,
A wiring conductor located between the other main surface of the insulating base and the notch in the thickness direction of the insulating base and arranged at a location not overlapping the notch in a plan view. A wiring board characterized by comprising:
前記切欠き部側の外縁が平面透視で互いに重ならない箇所に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の配線基板。 The wiring conductor is provided at a plurality of locations in the thickness direction of the insulating base,
The wiring board according to claim 1, wherein the outer edge on the side of the notch is disposed at a location where the outer edges do not overlap with each other in a plan view.
該配線基板に搭載され、前記内面電極に電気的に接続された電子部品とを有することを特徴とする電子装置。 The wiring board according to claim 1;
And an electronic component mounted on the wiring board and electrically connected to the inner surface electrode.
前記接続パッドにはんだを介して接続された請求項4に記載の電子装置とを有することを特徴とする電子モジュール。 A module substrate having connection pads;
An electronic module comprising: the electronic device according to claim 4, wherein the electronic device is connected to the connection pad via solder.
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110622300A (en) * | 2017-05-26 | 2019-12-27 | 京瓷株式会社 | Electronic component mounting substrate, electronic device, and electronic module |
CN112586092A (en) * | 2018-08-28 | 2021-03-30 | 京瓷株式会社 | Wiring substrate and electronic device |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005159183A (en) * | 2003-11-27 | 2005-06-16 | Kyocera Corp | Manufacturing method of electronic apparatus |
JP2013247337A (en) * | 2012-05-29 | 2013-12-09 | Kyocera Corp | Coil built-in wiring board and electronic apparatus |
JP2014127678A (en) * | 2012-12-27 | 2014-07-07 | Kyocera Corp | Wiring board and electronic device |
-
2015
- 2015-09-24 JP JP2015186947A patent/JP6698301B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005159183A (en) * | 2003-11-27 | 2005-06-16 | Kyocera Corp | Manufacturing method of electronic apparatus |
JP2013247337A (en) * | 2012-05-29 | 2013-12-09 | Kyocera Corp | Coil built-in wiring board and electronic apparatus |
JP2014127678A (en) * | 2012-12-27 | 2014-07-07 | Kyocera Corp | Wiring board and electronic device |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110622300A (en) * | 2017-05-26 | 2019-12-27 | 京瓷株式会社 | Electronic component mounting substrate, electronic device, and electronic module |
CN110622300B (en) * | 2017-05-26 | 2024-03-12 | 京瓷株式会社 | Substrate for mounting electronic component, electronic device, and electronic module |
CN112586092A (en) * | 2018-08-28 | 2021-03-30 | 京瓷株式会社 | Wiring substrate and electronic device |
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