JP2017056070A - 描画装置及び描画装置の描画方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】簡易な構成により、ヒータの予熱及び乾燥動作を適切に行うことのできる描画装置及び描画装置の描画方法を提供する。【解決手段】ネイルプリント装置１に、インクを爪Ｔの表面に塗布して描画を施す描画部４０と、ヒータ９２とファン９３とファン９３によって生じた吹出口９６から吹き出す風の温度を検出する温度センサ９５とを備え、吹出口９６から風を吹き出させることにより爪Ｔの表面に塗布されたインクを乾燥させる乾燥動作を行う乾燥部９０と、乾燥部９０の乾燥動作を制御する乾燥制御部８１３とを備え、乾燥制御部８１３は、温度センサ９５によって取得された吹出口９６近傍の温度とヒータ９２を所定の温度まで加熱するために必要な加熱条件との関係を示す対応情報に基づいてヒータ９２の動作を制御する。【選択図】図１
Description
本発明は、描画装置及び描画装置の描画方法に関するものである。
従来、人の指の爪に好みのネイルデザインを描画する描画装置が知られている。
このような描画装置を用いてネイルプリントを行う場合、描画を行ったままで装置内から指を取り出すと、インクが装置内外やユーザの手や服等に付着して装置や手等を汚したり、せっかく描画したネイルデザインがこすれて取れたり崩れたりしてしまう。
このため、描画を施した後、ドライヤのような機構を用いてインクを乾燥させてから指を取り出すようにすることが好ましい。
また、1つのネイルデザインを仕上げるために、まず、白色インク等で下地を爪に塗布し、次にその上に絵柄等のデザインを描画し、さらにその上から透明インク等でトップコートを行うことがある。この場合、各工程ごとにインクを乾燥させなければ、前に塗布されたインクとその上に塗布されたインクとが混ざり合って滲んだり、描画された絵柄が流れたりしてしまい、美しい仕上がりとならない。
このような描画装置を用いてネイルプリントを行う場合、描画を行ったままで装置内から指を取り出すと、インクが装置内外やユーザの手や服等に付着して装置や手等を汚したり、せっかく描画したネイルデザインがこすれて取れたり崩れたりしてしまう。
このため、描画を施した後、ドライヤのような機構を用いてインクを乾燥させてから指を取り出すようにすることが好ましい。
また、1つのネイルデザインを仕上げるために、まず、白色インク等で下地を爪に塗布し、次にその上に絵柄等のデザインを描画し、さらにその上から透明インク等でトップコートを行うことがある。この場合、各工程ごとにインクを乾燥させなければ、前に塗布されたインクとその上に塗布されたインクとが混ざり合って滲んだり、描画された絵柄が流れたりしてしまい、美しい仕上がりとならない。
この点、例えば特許文献１には、風を発生させる送風機構を備えて、この送風機構によって発生させた風を記録ヘッドがシートにインクを吐出する記録領域に送り、シート上のインクの乾燥を行うインクジェット装置が開示されている。
しかしながら、一般のプリント装置の場合、特許文献１に記載のように描画対象はシートであり、送風機構の吹出口付近の温度はあまり重視されない。このため、一般のプリント装置では、ヒータの温度が上昇し過ぎたときにヒータをＯＦＦする機構は設けられていても、吹出口付近の温度管理は行われていない。
この点、人の爪Ｔに描画を施す描画装置に設けられる乾燥部では、指の爪Ｔに吹き付けられる温風の温度が重要であり、乾燥部の吹出口から送り出される風の温度制御を行う必要がある。
また、迅速な描画処理を行うためには、描画後、乾燥動作を行う際に速やかに適切な温度の温風が吹き出すようにヒータの予熱を行うことが好ましく、適切な予熱を行うための温度制御も必要となる。
他方で、正確な温度制御を行うために多くの温度センサを設けると装置構成が複雑化するとともに、温度制御も複雑となり、さらに装置コストも上昇するとの問題がある。
また、迅速な描画処理を行うためには、描画後、乾燥動作を行う際に速やかに適切な温度の温風が吹き出すようにヒータの予熱を行うことが好ましく、適切な予熱を行うための温度制御も必要となる。
他方で、正確な温度制御を行うために多くの温度センサを設けると装置構成が複雑化するとともに、温度制御も複雑となり、さらに装置コストも上昇するとの問題がある。
本発明は以上のような事情に鑑みてなされたものであり、簡易な構成により、ヒータの予熱動作及び乾燥動作の温度制御を適切に行うことのできる描画装置及び描画装置の描画方法を提供することを目的とするものである。
前記課題を解決するために、本発明の描画装置は、
液状材料を描画対象面に塗布して、該描画対象面に描画を施す描画部と、
ヒータとファンと前記ファンによって生じた風が吹き出す吹出口近傍の温度を検出する温度センサとを備え、前記吹出口から風を吹き出させることにより前記描画対象面に塗布された前記液状材料を乾燥させる乾燥動作を行う乾燥部と、
前記乾燥部の前記乾燥動作を制御する乾燥制御部と、
を備え、
前記乾燥制御部は、前記温度センサによって取得された前記吹出口近傍の温度と前記ヒータを所定の温度まで加熱するために必要な加熱条件との関係を示す対応情報に基づいて前記吹出口近傍における風の温度を調整するように前記ヒータの動作を制御することを特徴としている。
液状材料を描画対象面に塗布して、該描画対象面に描画を施す描画部と、
ヒータとファンと前記ファンによって生じた風が吹き出す吹出口近傍の温度を検出する温度センサとを備え、前記吹出口から風を吹き出させることにより前記描画対象面に塗布された前記液状材料を乾燥させる乾燥動作を行う乾燥部と、
前記乾燥部の前記乾燥動作を制御する乾燥制御部と、
を備え、
前記乾燥制御部は、前記温度センサによって取得された前記吹出口近傍の温度と前記ヒータを所定の温度まで加熱するために必要な加熱条件との関係を示す対応情報に基づいて前記吹出口近傍における風の温度を調整するように前記ヒータの動作を制御することを特徴としている。
本発明によれば、簡易な構成により、ヒータの予熱動作及び乾燥動作の温度制御を適切に行うことができる。
図１から図１０を参照しつつ、本発明に係るネイルプリント装置（描画装置）及びネイルプリント装置（描画装置）の描画方法の一実施形態について説明する。
なお、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲を以下の実施形態及び図示例に限定するものではない。
また、以下の実施形態では、ネイルプリント装置１は手の指の爪の表面を描画対象面として、これに描画するものとして説明するが、本発明の描画対象面は手の指の爪の表面に限るものではなく、例えば足の指の爪の表面を描画対象面としてもよい。
なお、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲を以下の実施形態及び図示例に限定するものではない。
また、以下の実施形態では、ネイルプリント装置１は手の指の爪の表面を描画対象面として、これに描画するものとして説明するが、本発明の描画対象面は手の指の爪の表面に限るものではなく、例えば足の指の爪の表面を描画対象面としてもよい。
図１（ａ）は、ネイルプリント装置の内部構成を示すネイルプリント装置の正面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）に示されたネイルプリント装置の内部構成を示す側面図である。
図１（ａ）及び図１（ｂ）に示すように、本実施形態におけるネイルプリント装置１は、描画ヘッド４３が描画用具であるペン４１とインクジェット描画部７１とを備え、プロッタ方式とインクジェット方式とを併用して印刷指Ｕ１の爪Ｔに描画を施す描画装置である。
このネイルプリント装置１は、ケース本体２と、このケース本体２に収容される装置本体１０とを備えている。
図１（ａ）及び図１（ｂ）に示すように、本実施形態におけるネイルプリント装置１は、描画ヘッド４３が描画用具であるペン４１とインクジェット描画部７１とを備え、プロッタ方式とインクジェット方式とを併用して印刷指Ｕ１の爪Ｔに描画を施す描画装置である。
このネイルプリント装置１は、ケース本体２と、このケース本体２に収容される装置本体１０とを備えている。
ケース本体２には、前面から上部にかけて、後述する描画部４０のペン４１及びインクジェット描画部７１を交換するために開閉可能に構成された蓋部２３が設けられている。蓋部２３は、例えばヒンジ等を介して、図１（ｂ）に示すように閉状態から開状態まで回動自在となっている。
ケース本体２の上面（天板）には操作部２５（図４参照）が設置されている。
操作部２５は、ユーザが各種入力を行う入力部である。
操作部２５には、例えば、ネイルプリント装置１の電源をＯＮする電源スイッチ釦、動作を停止させる停止スイッチ釦、爪Ｔに描画するデザイン画像を選択するデザイン選択釦、描画開始を指示する描画開始釦等、各種の入力を行うための図示しない操作釦が配置されている。
操作部２５は、ユーザが各種入力を行う入力部である。
操作部２５には、例えば、ネイルプリント装置１の電源をＯＮする電源スイッチ釦、動作を停止させる停止スイッチ釦、爪Ｔに描画するデザイン画像を選択するデザイン選択釦、描画開始を指示する描画開始釦等、各種の入力を行うための図示しない操作釦が配置されている。
また、ケース本体２の上面（天板）のほぼ中央部には表示部２６が設置されている。
表示部２６は、例えば液晶ディスプレイ（ＬＣＤ：Liquid Crystal Display）、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイその他のフラットディスプレイ等で構成されている。
本実施形態において、この表示部２６には、例えば、印刷指Ｕ１を撮影して得た爪画像（爪Ｔの画像を含む指画像）、この爪画像中に含まれる爪Ｔの輪郭線等の画像、爪Ｔに描画すべきデザイン画像を選択するためのデザイン選択画面、デザイン確認用のサムネイル画像、各種の指示を表示させる指示画面等が適宜表示される。
なお、表示部２６の表面に各種の入力を行うためのタッチパネルが一体的に構成されていてもよい。
表示部２６は、例えば液晶ディスプレイ（ＬＣＤ：Liquid Crystal Display）、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイその他のフラットディスプレイ等で構成されている。
本実施形態において、この表示部２６には、例えば、印刷指Ｕ１を撮影して得た爪画像（爪Ｔの画像を含む指画像）、この爪画像中に含まれる爪Ｔの輪郭線等の画像、爪Ｔに描画すべきデザイン画像を選択するためのデザイン選択画面、デザイン確認用のサムネイル画像、各種の指示を表示させる指示画面等が適宜表示される。
なお、表示部２６の表面に各種の入力を行うためのタッチパネルが一体的に構成されていてもよい。
装置本体１０は、ほぼ箱状に形成され、ケース本体２の内部下方に設置された下部機枠１１と、この下部機枠１１の上方で且つケース本体２の内部上方に設置されている上部機枠１２とを備えている。
まず、下部機枠１１について説明する。
下部機枠１１は、背面板１１１、底板１１２、左右一対の側板１１３ａ，１１３ｂ、Ｘ方向移動ステージ収容部１１４、Ｙ方向移動ステージ収容部１１５及び隔壁１１６を有する。
側板１１３ａ，１１３ｂの下端部は、底板１１２の左右両端部にそれぞれ連結され、側板１１３ａ，１１３ｂが底板１１２に対して立てられた状態に設けられている。
背面板１１１の下部は、前方（指挿入方向手前側）に向かって２段に窪むように形成されている。背面板１１１の下端部は底板１１２の前端部に連結されており、背面板１１１は、底板１１２と側板１１３ａ，１１３ｂによって囲われた領域を前後に区切っている。
この窪んだ背面板１１１の後ろ側に形成される空間がＸ方向移動ステージ収容部１１４、Ｙ方向移動ステージ収容部１１５（図１（ｂ）参照）となっている。Ｘ方向移動ステージ収容部１１４内には、描画部４０が前方（指挿入方向手前側）に移動した際に描画部４０のＸ方向移動ステージ４５が収容される。また、Ｙ方向移動ステージ収容部１１５内には、描画部４０のＹ方向移動ステージ４７が配置されている。
また、隔壁１１６は、下部機枠１１の内部前方側の空間（背面板１１１、底板１１２及び側板１１３ａ，１１３ｂによって囲われた指挿入方向手前側の空間）を上下に区切るように下部機枠１１の内側に設けられている。隔壁１１６はほぼ水平に設けられ、隔壁１１６の左右両端部が側板１１３ａ，１１３ｂにそれぞれ連結され、隔壁１１６の後端部が背面板１１１に連結されている。
下部機枠１１は、背面板１１１、底板１１２、左右一対の側板１１３ａ，１１３ｂ、Ｘ方向移動ステージ収容部１１４、Ｙ方向移動ステージ収容部１１５及び隔壁１１６を有する。
側板１１３ａ，１１３ｂの下端部は、底板１１２の左右両端部にそれぞれ連結され、側板１１３ａ，１１３ｂが底板１１２に対して立てられた状態に設けられている。
背面板１１１の下部は、前方（指挿入方向手前側）に向かって２段に窪むように形成されている。背面板１１１の下端部は底板１１２の前端部に連結されており、背面板１１１は、底板１１２と側板１１３ａ，１１３ｂによって囲われた領域を前後に区切っている。
この窪んだ背面板１１１の後ろ側に形成される空間がＸ方向移動ステージ収容部１１４、Ｙ方向移動ステージ収容部１１５（図１（ｂ）参照）となっている。Ｘ方向移動ステージ収容部１１４内には、描画部４０が前方（指挿入方向手前側）に移動した際に描画部４０のＸ方向移動ステージ４５が収容される。また、Ｙ方向移動ステージ収容部１１５内には、描画部４０のＹ方向移動ステージ４７が配置されている。
また、隔壁１１６は、下部機枠１１の内部前方側の空間（背面板１１１、底板１１２及び側板１１３ａ，１１３ｂによって囲われた指挿入方向手前側の空間）を上下に区切るように下部機枠１１の内側に設けられている。隔壁１１６はほぼ水平に設けられ、隔壁１１６の左右両端部が側板１１３ａ，１１３ｂにそれぞれ連結され、隔壁１１６の後端部が背面板１１１に連結されている。
この下部機枠１１には、指固定部３０（図１（ｂ）参照）が一体的に設けられている。
指固定部３０は、描画を施す爪Ｔ（すなわち描画対象）に対応する指（以下、これを「印刷指Ｕ１」という。）を受け入れる指受入部３１と、この印刷指Ｕ１以外の指（以下、これを「非印刷指Ｕ２」という。）を退避させる指退避部３２と、から構成されている。
指受入部３１は、隔壁１１６の上側であって、例えば、下部機枠１１の幅方向の中央より少し右に配置されている。また、隔壁１１６によって下部機枠１１の下側に区分けられた空間が指退避部３２を構成している。
例えば、薬指の爪Ｔに描画を施す場合には、指受入部３１に印刷指Ｕ１としての薬指を挿入し、非印刷指Ｕ２であるその他の４指（親指、人差し指、中指、小指）を指退避部３２に挿入する。
指受入部３１は、下部機枠１１の前面側（印刷指挿入方向の手前側）に開口しており、下側が隔壁１１６の一部を構成する指載置部となっている。指載置部は、描画を施す爪Ｔの指（印刷指Ｕ１）をＸＹ平面上に載置するものである。
また、指受入部３１の上側は、開口しており、指受入部３１に挿入された印刷指Ｕ１の爪Ｔの表面（すなわち、描画対象面）が露出するようになっている。
指固定部３０は、描画を施す爪Ｔ（すなわち描画対象）に対応する指（以下、これを「印刷指Ｕ１」という。）を受け入れる指受入部３１と、この印刷指Ｕ１以外の指（以下、これを「非印刷指Ｕ２」という。）を退避させる指退避部３２と、から構成されている。
指受入部３１は、隔壁１１６の上側であって、例えば、下部機枠１１の幅方向の中央より少し右に配置されている。また、隔壁１１６によって下部機枠１１の下側に区分けられた空間が指退避部３２を構成している。
例えば、薬指の爪Ｔに描画を施す場合には、指受入部３１に印刷指Ｕ１としての薬指を挿入し、非印刷指Ｕ２であるその他の４指（親指、人差し指、中指、小指）を指退避部３２に挿入する。
指受入部３１は、下部機枠１１の前面側（印刷指挿入方向の手前側）に開口しており、下側が隔壁１１６の一部を構成する指載置部となっている。指載置部は、描画を施す爪Ｔの指（印刷指Ｕ１）をＸＹ平面上に載置するものである。
また、指受入部３１の上側は、開口しており、指受入部３１に挿入された印刷指Ｕ１の爪Ｔの表面（すなわち、描画対象面）が露出するようになっている。
また、隔壁１１６の上面であって下部機枠１１の前面側の両側部には、下部機枠１１の前面側を塞ぐ前壁３１ｆ（図１（ａ）参照）が立設されている。また、隔壁１１６の上面には、この前壁３１ｆの中央部寄りの端部から前記指受入部３１に向けて狭窄し、印刷指Ｕ１を指受入部３１内に案内する一対のガイド壁３１ｇ（図１（ａ）参照）が立設されている。
ユーザは指受入部３１に挿入した印刷指Ｕ１と指退避部３２に挿入した非印刷指Ｕ２との間に隔壁１１６を挟むことができる。そのため、指受入部３１内に挿入された印刷指Ｕ１が安定して固定される。
ユーザは指受入部３１に挿入した印刷指Ｕ１と指退避部３２に挿入した非印刷指Ｕ２との間に隔壁１１６を挟むことができる。そのため、指受入部３１内に挿入された印刷指Ｕ１が安定して固定される。
下部機枠１１の上面であって、指受入部３１の横（ケース本体２の媒体挿出口２４に対応する位置であり、本実施形態では、図１（ａ）において左側）には、後述する描画ヘッド４３による描画可能範囲内に、後述するペン４１のペン先（先端部）４１３の書き出し時のかすれ等を無くすための慣らし書きを行う慣書部６１が設けられている。
慣書部６１は、平板状の部分であり、前述のケース本体２の媒体挿出口２４から挿入された図示しない描画媒体が載置されるようになっている。
慣書部６１に載置される描画媒体は、ペン先（先端部）４１３の慣らし書きを行うことができるものであればよく、例えば紙片である。
慣書部６１は、平板状の部分であり、前述のケース本体２の媒体挿出口２４から挿入された図示しない描画媒体が載置されるようになっている。
慣書部６１に載置される描画媒体は、ペン先（先端部）４１３の慣らし書きを行うことができるものであればよく、例えば紙片である。
下部機枠１１の上面であって、指受入部３１を挟んで慣書部６１の逆側（本実施形態では、図１（ａ）において右側）には、後述する描画ヘッド４３の移動可能範囲内に、後述するペンホルダ４２に対応する数（本実施形態では１つ）だけペンキャップ６２が設置されている。
ペンキャップ６２は、例えばゴムによって形成されており、描画部４０にペン４１が装着されている状態で描画を行っていないとき（ホーム位置時）には、インクジェットのキャップ機構と連動して、ペン先４１３をペンキャップ６２に収容することにより、ペン先４１３の乾燥を防止するようになっている。
また、ペン先４１３がペンキャップ６２に収容されたときにインクジェット描画部７１が配置される位置に対応する位置には、インクジェット保守部６３が設けられている。インクジェット保守部６３は、例えば後述するインクジェット描画部７１のインク吐出部（ノズル面）をクリーニングするためのクリーニング機構やインク吐出部（ノズル面）の乾燥を防ぐためのキャップ機構等（いずれも図示せず）で構成されている。
なお、ペンキャップ６２、インクジェット保守部６３等の配置はここで例示したものに限定されない。
ペンキャップ６２は、例えばゴムによって形成されており、描画部４０にペン４１が装着されている状態で描画を行っていないとき（ホーム位置時）には、インクジェットのキャップ機構と連動して、ペン先４１３をペンキャップ６２に収容することにより、ペン先４１３の乾燥を防止するようになっている。
また、ペン先４１３がペンキャップ６２に収容されたときにインクジェット描画部７１が配置される位置に対応する位置には、インクジェット保守部６３が設けられている。インクジェット保守部６３は、例えば後述するインクジェット描画部７１のインク吐出部（ノズル面）をクリーニングするためのクリーニング機構やインク吐出部（ノズル面）の乾燥を防ぐためのキャップ機構等（いずれも図示せず）で構成されている。
なお、ペンキャップ６２、インクジェット保守部６３等の配置はここで例示したものに限定されない。
描画部４０は、描画ヘッド４３、描画ヘッド４３を支持するユニット支持部材４４、描画ヘッド４３をＸ方向（図１（ａ）におけるＸ方向、ネイルプリント装置１の左右方向）に移動させるためのＸ方向移動ステージ４５、Ｘ方向移動モータ４６、描画ヘッド４３をＹ方向（図１（ｂ）におけるＹ方向、ネイルプリント装置１の前後方向）に移動させるためのＹ方向移動ステージ４７、Ｙ方向移動モータ４８等を備えて構成されている。
図２（ａ）は、本実施形態における描画ヘッドの上面図であり、図２（ｂ）は、描画ヘッドの側面図である。
図２（ａ）及び図２（ｂ）に示すように、本実施形態の描画ヘッド４３には、ペン４１を保持するペンホルダ４２とインクジェット描画部７１を保持するインクジェットホルダ７２とが隣り合って配置されている。
インクジェット描画部７１は、例えば、イエロー（Ｙ；YELLOW）、マゼンタ（Ｍ；MAGENTA）、シアン（Ｃ；CYAN）のインクに対応する図示しないインクカートリッジと各インクカートリッジにおける描画対象（爪Ｔ）に対向する面（本実施形態では、図１（ａ）等における下面）に設けられた図示しないインク吐出部とが一体に形成されたインクカートリッジ一体型のヘッドである。インク吐出部は、それぞれの色のインクを噴射する複数のノズルからなるノズルアレイを備えており、インクジェット描画部７１は、インクを微滴化し、インク吐出部から描画対象（爪Ｔ）の被描画面に対して直接にインクを吹き付けて描画を行う。なお、インクジェット描画部７１は、上記３色のインクを吐出させるものに限定されない。その他のインクを貯留するインクカートリッジ及びインク吐出部を備えていてもよい。
図２（ａ）及び図２（ｂ）に示すように、本実施形態の描画ヘッド４３には、ペン４１を保持するペンホルダ４２とインクジェット描画部７１を保持するインクジェットホルダ７２とが隣り合って配置されている。
インクジェット描画部７１は、例えば、イエロー（Ｙ；YELLOW）、マゼンタ（Ｍ；MAGENTA）、シアン（Ｃ；CYAN）のインクに対応する図示しないインクカートリッジと各インクカートリッジにおける描画対象（爪Ｔ）に対向する面（本実施形態では、図１（ａ）等における下面）に設けられた図示しないインク吐出部とが一体に形成されたインクカートリッジ一体型のヘッドである。インク吐出部は、それぞれの色のインクを噴射する複数のノズルからなるノズルアレイを備えており、インクジェット描画部７１は、インクを微滴化し、インク吐出部から描画対象（爪Ｔ）の被描画面に対して直接にインクを吹き付けて描画を行う。なお、インクジェット描画部７１は、上記３色のインクを吐出させるものに限定されない。その他のインクを貯留するインクカートリッジ及びインク吐出部を備えていてもよい。
本実施形態のペンホルダ４２には、１本のペン４１が装着可能となっている。
ペン４１は、爪Ｔの表面を描画対象面とし、先端部が描画対象面である爪Ｔの表面に接触して描画を施す筆記具である。
図２（ｂ）等に示すように、ペン４１は、棒状のペン軸部４１１の先端側（図２（ｂ）において下側）にペン先４１３が設けられたものである。
ペン軸部４１１の内部は、各種インクを収容するインク収容部となっている。
ペン軸部４１１の内部に収容されるインクとしては、各種のインクが適用可能である。インクの粘度や色材の粒径（粒子の大きさ）等は特に限定されず、例えば、金銀のラメ入りのインクや白色のインク、ＵＶ硬化型のインクやジェルネイル、アンダーコート用インク、トップコート用インクやマニキュア液等も用いることができる。
ペン４１は、爪Ｔの表面を描画対象面とし、先端部が描画対象面である爪Ｔの表面に接触して描画を施す筆記具である。
図２（ｂ）等に示すように、ペン４１は、棒状のペン軸部４１１の先端側（図２（ｂ）において下側）にペン先４１３が設けられたものである。
ペン軸部４１１の内部は、各種インクを収容するインク収容部となっている。
ペン軸部４１１の内部に収容されるインクとしては、各種のインクが適用可能である。インクの粘度や色材の粒径（粒子の大きさ）等は特に限定されず、例えば、金銀のラメ入りのインクや白色のインク、ＵＶ硬化型のインクやジェルネイル、アンダーコート用インク、トップコート用インクやマニキュア液等も用いることができる。
本実施形態において、ペン４１は、例えばペン先４１３を爪Ｔの表面に押し当てることでペン軸部４１１内に収容されているインクが染み出して描画する、ペン先４１３がボールペンタイプとなったペンである。
なお、ペン４１は、ボールペンタイプのものに限定されない。例えばフェルト状のペン先にインクを染み込ませて描画するサインペンタイプや、束ねた毛にインクを染み込ませて描画する筆ペンタイプのもの等であってもよい。
また、ペン先４１３の太さも各種のものを用意することができる。
ペンホルダ４２に保持されるペン４１は、全て同じタイプのペン先４１３を有するペンでもよいし、異なるタイプのペン先４１３を有するペンであってもよい。
ペン４１はペンホルダ４２に上方から挿通するだけで保持されている。このため、ケース本体２に設けられている蓋部２３を開けて、例えば手やピンセットでペン軸部４１１の上端部を摘み上げ引き出す等により、容易に交換が可能である。
これにより、ユーザは、ペンホルダ４２に装着するペン４１を、描画したいネイルデザインに応じて色やペン先４１３の種類やインクの種類の異なるペン４１に適宜入れ替えることで、幅広いネイルデザインを実現することができる。
なお、ペン４１は、ボールペンタイプのものに限定されない。例えばフェルト状のペン先にインクを染み込ませて描画するサインペンタイプや、束ねた毛にインクを染み込ませて描画する筆ペンタイプのもの等であってもよい。
また、ペン先４１３の太さも各種のものを用意することができる。
ペンホルダ４２に保持されるペン４１は、全て同じタイプのペン先４１３を有するペンでもよいし、異なるタイプのペン先４１３を有するペンであってもよい。
ペン４１はペンホルダ４２に上方から挿通するだけで保持されている。このため、ケース本体２に設けられている蓋部２３を開けて、例えば手やピンセットでペン軸部４１１の上端部を摘み上げ引き出す等により、容易に交換が可能である。
これにより、ユーザは、ペンホルダ４２に装着するペン４１を、描画したいネイルデザインに応じて色やペン先４１３の種類やインクの種類の異なるペン４１に適宜入れ替えることで、幅広いネイルデザインを実現することができる。
ペンホルダ４２は、上下に開口し内部にペン４１が挿通される筒状部材４２１と、筒状部材４２１の下側（図２（ｂ）における下側）の開口を塞ぐように配置されたペン係止部材４２２と、ペン４１とともに上下動する補助軸部材４２３とを備えている。
ペン係止部材４２２には、ペン４１のペン軸部４１１における先端側を係止する係止孔４２２ａが形成されている。ペン４１は、ペン軸部４１１の先端側がペン係止部材４２２の係止孔４２２ａに嵌め込まれることによってペンホルダ４２内に係止される。なお、ペン軸部４１１の先端側の外周面に図示しないねじ溝を形成し、係止孔４２２ａの内周面に軸部のねじ溝と螺合可能な図示しないねじ溝を形成し、係止孔４２２ａ側のねじ溝にペン軸部４１１側のねじ溝を螺着させることでペン４１を係止孔４２２ａに係止させてもよい。
本実施形態において、補助軸部材４２３はペン４１を挟むように２本配置されている。各補助軸部材４２３の下端部はペン係止部材４２２に嵌め込まれており、これにより、補助軸部材４２３はペン４１のペン軸部４１１と平行するように固定されている。
補助軸部材４２３には、ペン４１の軸中心から離れる方向に突出する係止突起４２４が設けられている。
また、補助軸部材４２３の軸周りには、コイルバネ４２５が巻回されている。コイルバネ４２５は、外力が加わらない状態において補助軸部材４２３を上方向に付勢するものであり、非描画状態においてペン４１の位置を、ペン先４１３が爪Ｔに当接しない位置に保持する。
ペン係止部材４２２には、ペン４１のペン軸部４１１における先端側を係止する係止孔４２２ａが形成されている。ペン４１は、ペン軸部４１１の先端側がペン係止部材４２２の係止孔４２２ａに嵌め込まれることによってペンホルダ４２内に係止される。なお、ペン軸部４１１の先端側の外周面に図示しないねじ溝を形成し、係止孔４２２ａの内周面に軸部のねじ溝と螺合可能な図示しないねじ溝を形成し、係止孔４２２ａ側のねじ溝にペン軸部４１１側のねじ溝を螺着させることでペン４１を係止孔４２２ａに係止させてもよい。
本実施形態において、補助軸部材４２３はペン４１を挟むように２本配置されている。各補助軸部材４２３の下端部はペン係止部材４２２に嵌め込まれており、これにより、補助軸部材４２３はペン４１のペン軸部４１１と平行するように固定されている。
補助軸部材４２３には、ペン４１の軸中心から離れる方向に突出する係止突起４２４が設けられている。
また、補助軸部材４２３の軸周りには、コイルバネ４２５が巻回されている。コイルバネ４２５は、外力が加わらない状態において補助軸部材４２３を上方向に付勢するものであり、非描画状態においてペン４１の位置を、ペン先４１３が爪Ｔに当接しない位置に保持する。
ペンホルダ４２の近傍には、ステッピングモータからなるペン上下用モータ４２６と、ペン上下用モータ４２６の回転軸に取り付けられた歯車４２７に歯合するギア４２８と、このギア４２８の回転に追従して回動する板バネ４２９とが設けられている。本実施形態では、これらペン上下用モータ４２６、歯車４２７、ギア４２８、板バネ４２９等によりペン４１の昇降機構が構成されている。
ここで、板バネ４２９は、補助軸部材４２３に設けられた係止突起４２４に係合して、この係止突起４２４を押し下げることにより、ペン４１を下方向に押し下げることができるようになっている。
すなわち、ペン上下用モータ４２６の回転に伴って板バネ４２９が回動して、板バネ４２９が係止突起４２４に係合し、係止突起４２４を下方へと押し下げると、ペン４１はコイルバネ４２５の付勢力に抗して下方向へと押し下げられる。
このように本実施形態では、板バネ４２９で直接ペン４１を押し下げるのではなく、係止突起４２４を押し下げる構成とし、板バネ４２９がペン４１の上方を覆わないため、ペン４１の交換を容易に行うことができとともに、ペン４１の昇降機構の高さを比較的低く抑え、省スペース化を図ることができる。
ここで、板バネ４２９は、補助軸部材４２３に設けられた係止突起４２４に係合して、この係止突起４２４を押し下げることにより、ペン４１を下方向に押し下げることができるようになっている。
すなわち、ペン上下用モータ４２６の回転に伴って板バネ４２９が回動して、板バネ４２９が係止突起４２４に係合し、係止突起４２４を下方へと押し下げると、ペン４１はコイルバネ４２５の付勢力に抗して下方向へと押し下げられる。
このように本実施形態では、板バネ４２９で直接ペン４１を押し下げるのではなく、係止突起４２４を押し下げる構成とし、板バネ４２９がペン４１の上方を覆わないため、ペン４１の交換を容易に行うことができとともに、ペン４１の昇降機構の高さを比較的低く抑え、省スペース化を図ることができる。
ここで、ペン４１の昇降機構の動作について具体的に説明する。
まず、非描画時においては、係止突起４２４に対して板バネ４２９が外力を加えない状態となっている。このように外力（板バネ４２９による押圧力）が加わっていない状態では、ペン４１は、コイルバネ４２５の付勢力により、上方向（図１（ａ）及び図２（ｂ）において上方向）に押し上げられ、ペン４１の先端部であるペン先４１３は描画対象面である爪Ｔの表面から離れ、当該表面に当接しない高さに保持されている。
これに対して、描画時には、ペン上下用モータ４２６を所定のステップ数で回転させ、板バネ４２９によって係止突起４２４を押し下げる。これにより、ペン４１が下方向に押し下げられる。
ペン上下用モータ４２６を駆動させる際の所定のステップ数は、指受入部３１に挿入された印刷指Ｕ１の爪Ｔの高さ等に応じて適宜設定される。
すなわち、本実施形態のネイルプリント装置１では、後述の爪情報を事前に取得しておく。そして、当該爪情報に基づいて、ペン４１の先端部であるペン先４１３が爪Ｔに当接する当接位置の爪Ｔの高さを認識し、その高さに応じてペン上下用モータ４２６のステップ数を決定する。こうして決定したステップ数でペン上下用モータ４２６を駆動させ、板バネ４２９によってペン４１を押し下げることにより、ペン４１のであるペン先４１３を爪Ｔの表面に近づけて接触させ、適正な筆圧を印加する。
なお、描画の際に、描画する位置の変化に伴って、爪Ｔの描画を行う箇所の高さが変化したときは、その都度ペン上下用モータ４２６のステップ数を増減してペン４１の筆圧を調整し、筆圧が概ね一定になるように調整しながら描画を行う。ここで、ペン上下用モータ４２６のステップ数の増減による筆圧の調整は、爪Ｔの高さの変化が所定量（例えば、０．５ｍｍ）だけ変化する毎に行い、爪Ｔの高さの変化が所定量未満であるときには筆圧の調整を行わないが、このときには爪Ｔの形状に応じて板バネ４２９が撓み変形（弾性変形）することによって、ペン４１が自動的に上下動するため、ペン４１が爪Ｔに確実に当接すると同時に筆圧を適度な値に保つことができる。
なお、板バネ４２９のバネ定数はそれ程大きくなく、このバネ定数は、板バネ４２９による押圧力（外力）が爪Ｔにかかったときに爪Ｔに痛みなどを感じることがない程度の値に設定されている。また、描画を行う際には、板バネ４２９が適度に撓むことによりペン４１の上下動による衝撃が吸収されるとともに、ペン先４１３に概ね一定の適度な筆圧がかかった状態を維持したままペン４１が爪Ｔの高さに追従して上下動し、描画対象である爪Ｔの表面に所望のネイルデザインを綺麗に描画することができる。
まず、非描画時においては、係止突起４２４に対して板バネ４２９が外力を加えない状態となっている。このように外力（板バネ４２９による押圧力）が加わっていない状態では、ペン４１は、コイルバネ４２５の付勢力により、上方向（図１（ａ）及び図２（ｂ）において上方向）に押し上げられ、ペン４１の先端部であるペン先４１３は描画対象面である爪Ｔの表面から離れ、当該表面に当接しない高さに保持されている。
これに対して、描画時には、ペン上下用モータ４２６を所定のステップ数で回転させ、板バネ４２９によって係止突起４２４を押し下げる。これにより、ペン４１が下方向に押し下げられる。
ペン上下用モータ４２６を駆動させる際の所定のステップ数は、指受入部３１に挿入された印刷指Ｕ１の爪Ｔの高さ等に応じて適宜設定される。
すなわち、本実施形態のネイルプリント装置１では、後述の爪情報を事前に取得しておく。そして、当該爪情報に基づいて、ペン４１の先端部であるペン先４１３が爪Ｔに当接する当接位置の爪Ｔの高さを認識し、その高さに応じてペン上下用モータ４２６のステップ数を決定する。こうして決定したステップ数でペン上下用モータ４２６を駆動させ、板バネ４２９によってペン４１を押し下げることにより、ペン４１のであるペン先４１３を爪Ｔの表面に近づけて接触させ、適正な筆圧を印加する。
なお、描画の際に、描画する位置の変化に伴って、爪Ｔの描画を行う箇所の高さが変化したときは、その都度ペン上下用モータ４２６のステップ数を増減してペン４１の筆圧を調整し、筆圧が概ね一定になるように調整しながら描画を行う。ここで、ペン上下用モータ４２６のステップ数の増減による筆圧の調整は、爪Ｔの高さの変化が所定量（例えば、０．５ｍｍ）だけ変化する毎に行い、爪Ｔの高さの変化が所定量未満であるときには筆圧の調整を行わないが、このときには爪Ｔの形状に応じて板バネ４２９が撓み変形（弾性変形）することによって、ペン４１が自動的に上下動するため、ペン４１が爪Ｔに確実に当接すると同時に筆圧を適度な値に保つことができる。
なお、板バネ４２９のバネ定数はそれ程大きくなく、このバネ定数は、板バネ４２９による押圧力（外力）が爪Ｔにかかったときに爪Ｔに痛みなどを感じることがない程度の値に設定されている。また、描画を行う際には、板バネ４２９が適度に撓むことによりペン４１の上下動による衝撃が吸収されるとともに、ペン先４１３に概ね一定の適度な筆圧がかかった状態を維持したままペン４１が爪Ｔの高さに追従して上下動し、描画対象である爪Ｔの表面に所望のネイルデザインを綺麗に描画することができる。
また、ユニット支持部材４４は、Ｘ方向移動ステージ４５に取り付けられたＸ方向移動部４５１に固定されている。Ｘ方向移動部４５１は、Ｘ方向移動モータ４６の駆動によりＸ方向移動ステージ４５上を図示しないガイドに沿ってＸ方向に移動するようになっており、これにより、ユニット支持部材４４に取り付けられている描画ヘッド４３が、Ｘ方向（図１（ａ）におけるＸ方向、ネイルプリント装置１の左右方向）に移動するようになっている。
また、Ｘ方向移動ステージ４５は、Ｙ方向移動ステージ４７のＹ方向移動部４７１に固定されている。Ｙ方向移動部４７１は、Ｙ方向移動モータ４８の駆動によりＹ方向移動ステージ４７上を図示しないガイドに沿ってＹ方向に移動するようになっており、これにより、ユニット支持部材４４に取り付けられている描画ヘッド４３が、Ｙ方向（図１（ｂ）におけるＹ方向、ネイルプリント装置１の前後方向）に移動するようになっている。
なお、本実施形態において、Ｘ方向移動ステージ４５及びＹ方向移動ステージ４７は、Ｘ方向移動モータ４６、Ｙ方向移動モータ４８と、図示しないボールネジ及びガイドとを組み合わせることで構成されている。
本実施形態では、Ｘ方向移動モータ４６及びＹ方向移動モータ４８等により、ペン４１を備える描画ヘッド４３をＸ方向及びＹ方向に駆動するＸＹ駆動部としてのヘッド移動部４９が構成されている。
また、Ｘ方向移動ステージ４５は、Ｙ方向移動ステージ４７のＹ方向移動部４７１に固定されている。Ｙ方向移動部４７１は、Ｙ方向移動モータ４８の駆動によりＹ方向移動ステージ４７上を図示しないガイドに沿ってＹ方向に移動するようになっており、これにより、ユニット支持部材４４に取り付けられている描画ヘッド４３が、Ｙ方向（図１（ｂ）におけるＹ方向、ネイルプリント装置１の前後方向）に移動するようになっている。
なお、本実施形態において、Ｘ方向移動ステージ４５及びＹ方向移動ステージ４７は、Ｘ方向移動モータ４６、Ｙ方向移動モータ４８と、図示しないボールネジ及びガイドとを組み合わせることで構成されている。
本実施形態では、Ｘ方向移動モータ４６及びＹ方向移動モータ４８等により、ペン４１を備える描画ヘッド４３をＸ方向及びＹ方向に駆動するＸＹ駆動部としてのヘッド移動部４９が構成されている。
描画部４０におけるペン上下用モータ４２６、インクジェット描画部７１、Ｘ方向移動モータ４６、Ｙ方向移動モータ４８は、後述する制御装置８０の描画制御部８１６（図４参照）に接続され、該描画制御部８１６によって制御されるようになっている。
また、本実施形態では、描画ヘッド４３に保持されているインクジェット描画部７１の側方に、乾燥部９０が取り付けられている。これにより、乾燥部９０は、ヘッド移動部４９によって描画ヘッド４３とともに移動可能に構成されている。
図３（ａ）は、本実施形態の乾燥部９０の側面図であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）における矢視ｂ方向から見た乾燥部９０の正面図である。
図３（ａ）及び図３（ｂ）に示すように、乾燥部９０は、描画対象面である爪Ｔの表面に塗布された液状材料であるインクを乾燥させる乾燥動作を行う。乾燥部９０は、加熱用のヒータ９２及び送風用のファン９３を備えており、ヒータ９２及びファン９３が、風洞筐体９１の内部に配置されていて、風洞筐体９１の吹出口（吹出口）９６から温風を送風することができるものである。
図３（ａ）及び図３（ｂ）に示すように、乾燥部９０は、描画対象面である爪Ｔの表面に塗布された液状材料であるインクを乾燥させる乾燥動作を行う。乾燥部９０は、加熱用のヒータ９２及び送風用のファン９３を備えており、ヒータ９２及びファン９３が、風洞筐体９１の内部に配置されていて、風洞筐体９１の吹出口（吹出口）９６から温風を送風することができるものである。
風洞筐体９１は、両端が開口する筒状の部材であり、例えば樹脂で形成されている。本実施形態の風洞筐体９１は、断面形状が矩形となっており、ネイルプリント装置１の奥に配置される側（図１（ｂ）及び図３（ａ）における右側）から手前に配置される側（図１（ｂ）及び図３（ａ）における左側）に向かって細くなるように形成されていて、細くなった手前側の開口が吹出口９６となっている。なお、風洞筐体９１の形状等はここに例示したものに限定されない。
ファン９３は、風洞筐体９１の奥側に配置されており、ヒータ９２は、ファン９３よりも手前側、すなわちファン９３の送風方向下流側に配置されている。
ファン９３は、風洞筐体９１の奥側に配置されており、ヒータ９２は、ファン９３よりも手前側、すなわちファン９３の送風方向下流側に配置されている。
ヒータ９２は、例えば、セラミックヒーターであり、ヒータ９２の電源がＯＮとなったときに発熱し、周囲の空気を加熱する。なお、ヒータ９２は、ネイルプリント装置１に組み込むことのできる小型のものであればニクロム線等の電熱線をコイル状にした電熱ヒータ等でも良く、その構成はここに例示したものに限定されない。ヒータ９２は、放熱板９４に固定されており、効率よく周囲の空気を加熱できるようになっている。
ヒータ９２は、後述するように、ネイルプリント装置１の電源がＯＮとなるとともにＯＮとされて加熱（予熱）が開始される。これにより、乾燥部９０は、乾燥動作時に吹出口９６から迅速に適温の温風を送風することができるようになっている。
ヒータ９２は、投入する電力によって加熱温度を制御（本実施形態では、後述するようにＰＷＭ値を変化させることにより制御）することができるようになっており、ネイルプリント装置１の電源がＯＮとなった際には、ヒータ９２が適切な予熱状態（例えば５０度から８０度）となる電力がヒータ９２に投入される。
また、風洞筐体９１の手前側でありファン９３によって生じた風が吹き出す吹出口９６の近傍には、吹出口９６近傍の温度（環境温度）を検出する為の温度センサ９５が設けられている。温度センサ９５の構成は特に限定されないが、例えば、熱容量の小さな熱電対等が好適に適用される。乾燥動作中には、ヒータ９２は、温度センサ９５の検出結果に応じて適宜加熱温度が調整、制御されるようになっている。
ヒータ９２は、後述するように、ネイルプリント装置１の電源がＯＮとなるとともにＯＮとされて加熱（予熱）が開始される。これにより、乾燥部９０は、乾燥動作時に吹出口９６から迅速に適温の温風を送風することができるようになっている。
ヒータ９２は、投入する電力によって加熱温度を制御（本実施形態では、後述するようにＰＷＭ値を変化させることにより制御）することができるようになっており、ネイルプリント装置１の電源がＯＮとなった際には、ヒータ９２が適切な予熱状態（例えば５０度から８０度）となる電力がヒータ９２に投入される。
また、風洞筐体９１の手前側でありファン９３によって生じた風が吹き出す吹出口９６の近傍には、吹出口９６近傍の温度（環境温度）を検出する為の温度センサ９５が設けられている。温度センサ９５の構成は特に限定されないが、例えば、熱容量の小さな熱電対等が好適に適用される。乾燥動作中には、ヒータ９２は、温度センサ９５の検出結果に応じて適宜加熱温度が調整、制御されるようになっている。
ファン９３は、例えばプロペラ形の羽根によって軸方向に風を送る軸流ファンであり、本実施形態では、風洞筐体９１の奥側の開口から外気を取り入れて風洞筐体９１の手前側の吹出口９６に向かって送風を行う。
ヒータ９２によって加熱された空気は、ファン９３が動作することにより風洞筐体９１の手前側の吹出口９６から、温風として指受入部３１内に配置された印刷指Ｕ１の爪Ｔに送風される。
ヒータ９２によって加熱された空気は、ファン９３が動作することにより風洞筐体９１の手前側の吹出口９６から、温風として指受入部３１内に配置された印刷指Ｕ１の爪Ｔに送風される。
図１（ａ）及び図１（ｂ）に示すように、撮影部５０は、上部機枠１２に設けられている。
すなわち、上部機枠１２には基板１３が設置されており、この基板１３の中央部下面には、撮影部５０の撮像装置５１が２つ設置されている。
撮像装置５１は、例えば、２００万画素程度以上の画素を有する固体撮像素子とレンズ等を備えて構成された小型カメラであることが好ましい。
撮像装置５１は、指受入部３１内に挿入されている印刷指Ｕ１の爪Ｔを撮影して、印刷指Ｕ１の爪Ｔの画像である爪画像（爪Ｔの画像を含む指画像）を得るものである。
本実施形態では、２つの撮像装置５１は、指受入部３１に挿入されている印刷指Ｕ１の爪Ｔの幅方向にほぼ並んで設けられている。２つの撮像装置５１のうち、一方の撮像装置５１は、指受入部３１の底面に対向して設けられており、爪Ｔを真上から撮影するものである。また、他方の撮像装置５１は、指受入部３１の底面に対して僅かに傾けて配置されており、爪Ｔを斜め上方向から撮影するものである。
また、基板１３には、撮像装置５１を囲むように白色ＬＥＤ等の照明装置（照明灯）５２が設置されている。照明装置５２は、撮像装置５１による撮影の際に、印刷指Ｕ１の爪Ｔを照明するものである。撮影部５０は、この撮像装置５１及び照明装置５２を備えて構成されている。
この撮影部５０は、後述する制御装置８０の撮影制御部８１１（図４参照）に接続され、該撮影制御部８１１によって制御されるようになっている。
撮影部５０によって撮影された画像の画像データは、後述する記憶部８２の爪画像記憶領域８２１に記憶される。
すなわち、上部機枠１２には基板１３が設置されており、この基板１３の中央部下面には、撮影部５０の撮像装置５１が２つ設置されている。
撮像装置５１は、例えば、２００万画素程度以上の画素を有する固体撮像素子とレンズ等を備えて構成された小型カメラであることが好ましい。
撮像装置５１は、指受入部３１内に挿入されている印刷指Ｕ１の爪Ｔを撮影して、印刷指Ｕ１の爪Ｔの画像である爪画像（爪Ｔの画像を含む指画像）を得るものである。
本実施形態では、２つの撮像装置５１は、指受入部３１に挿入されている印刷指Ｕ１の爪Ｔの幅方向にほぼ並んで設けられている。２つの撮像装置５１のうち、一方の撮像装置５１は、指受入部３１の底面に対向して設けられており、爪Ｔを真上から撮影するものである。また、他方の撮像装置５１は、指受入部３１の底面に対して僅かに傾けて配置されており、爪Ｔを斜め上方向から撮影するものである。
また、基板１３には、撮像装置５１を囲むように白色ＬＥＤ等の照明装置（照明灯）５２が設置されている。照明装置５２は、撮像装置５１による撮影の際に、印刷指Ｕ１の爪Ｔを照明するものである。撮影部５０は、この撮像装置５１及び照明装置５２を備えて構成されている。
この撮影部５０は、後述する制御装置８０の撮影制御部８１１（図４参照）に接続され、該撮影制御部８１１によって制御されるようになっている。
撮影部５０によって撮影された画像の画像データは、後述する記憶部８２の爪画像記憶領域８２１に記憶される。
本実施形態では、撮像装置としての２つの撮像装置５１によって少なくとも２つの異なった位置・角度から爪Ｔを撮影することができ、少なくとも２枚の爪画像が取得される。
そして、これらの爪画像に基づいて、後述する爪情報検出部８１２が、爪Ｔの輪郭（爪Ｔの形状）の他、爪Ｔの表面の、ＸＹ平面に対する傾斜角度（以下「爪Ｔの傾斜角度」又は「爪曲率」という。）や爪Ｔの垂直位置等の爪情報を検出できるようになっている。
そして、これらの爪画像に基づいて、後述する爪情報検出部８１２が、爪Ｔの輪郭（爪Ｔの形状）の他、爪Ｔの表面の、ＸＹ平面に対する傾斜角度（以下「爪Ｔの傾斜角度」又は「爪曲率」という。）や爪Ｔの垂直位置等の爪情報を検出できるようになっている。
制御装置８０は、例えば上部機枠１２に配置された基板１３等に設置されている。
図４は、本実施形態における制御構成を示す要部ブロック図である。
制御装置８０は、図４に示すように、図示しないＣＰＵ（Central Processing Unit）により構成される制御部８１と、ＲＯＭ（Read Only Memory）及びＲＡＭ（Random Access Memory）等（いずれも図示せず）で構成される記憶部８２とを備えるコンピュータである。
図４は、本実施形態における制御構成を示す要部ブロック図である。
制御装置８０は、図４に示すように、図示しないＣＰＵ（Central Processing Unit）により構成される制御部８１と、ＲＯＭ（Read Only Memory）及びＲＡＭ（Random Access Memory）等（いずれも図示せず）で構成される記憶部８２とを備えるコンピュータである。
記憶部８２には、ネイルプリント装置１を動作させるための各種プログラムや各種データ等が格納されている。
具体的には、記憶部８２のＲＯＭには、爪画像から爪Ｔの形状や爪Ｔの輪郭、爪の幅、爪の面積等の各種の爪情報を検出するための爪情報検出プログラム、乾燥部９０を制御するための乾燥制御プログラム、描画データを生成するための描画データ生成プログラム、描画処理を行うための描画プログラム等の各種プログラムが格納されており、これらのプログラムが制御装置８０によって実行されることによって、ネイルプリント装置１の各部が統括制御されるようになっている。
また、本実施形態において記憶部８２には、撮影部５０によって取得されたユーザの印刷指Ｕ１の爪Ｔの爪画像を記憶する爪画像記憶領域８２１、爪情報検出部８１２によって検出された爪情報（爪Ｔの輪郭や爪Ｔの傾斜角度等）が記憶される爪情報記憶領域８２２、及び爪Ｔに描画されるネイルデザインの画像データを記憶するネイルデザイン記憶領域８２３、乾燥部９０のヒータ９２に投入する電力に関する情報を記憶する投入電力情報記憶領域８２４等が設けられている。
具体的には、記憶部８２のＲＯＭには、爪画像から爪Ｔの形状や爪Ｔの輪郭、爪の幅、爪の面積等の各種の爪情報を検出するための爪情報検出プログラム、乾燥部９０を制御するための乾燥制御プログラム、描画データを生成するための描画データ生成プログラム、描画処理を行うための描画プログラム等の各種プログラムが格納されており、これらのプログラムが制御装置８０によって実行されることによって、ネイルプリント装置１の各部が統括制御されるようになっている。
また、本実施形態において記憶部８２には、撮影部５０によって取得されたユーザの印刷指Ｕ１の爪Ｔの爪画像を記憶する爪画像記憶領域８２１、爪情報検出部８１２によって検出された爪情報（爪Ｔの輪郭や爪Ｔの傾斜角度等）が記憶される爪情報記憶領域８２２、及び爪Ｔに描画されるネイルデザインの画像データを記憶するネイルデザイン記憶領域８２３、乾燥部９０のヒータ９２に投入する電力に関する情報を記憶する投入電力情報記憶領域８２４等が設けられている。
制御部８１は、機能的に見た場合、撮影制御部８１１、爪情報検出部８１２、乾燥制御部８１３、描画データ生成部８１４、表示制御部８１５、描画制御部８１６等を備えている。これら撮影制御部８１１、爪情報検出部８１２、乾燥制御部８１３、描画データ生成部８１４、表示制御部８１５、描画制御部８１６等としての機能は、制御部８１のＣＰＵと記憶部８２のＲＯＭに記憶されたプログラムとの協働によって実現される。
撮影制御部８１１は、撮影部５０の撮像装置５１及び照明装置５２を制御して撮像装置５１により、指受入部３１に挿入された印刷指Ｕ１の爪Ｔの画像を含む指の画像（以下「爪画像」という。）を撮影させるものである。
本実施形態では、撮影制御部８１１は、２つの撮像装置５１によって異なる位置・角度（例えば、爪Ｔの真上と爪Ｔの斜め上方等）から少なくとも２枚の爪画像を取得させる。
撮影部５０により取得された爪画像の画像データは、記憶部８２の爪画像記憶領域８２１に記憶される。
本実施形態では、撮影制御部８１１は、２つの撮像装置５１によって異なる位置・角度（例えば、爪Ｔの真上と爪Ｔの斜め上方等）から少なくとも２枚の爪画像を取得させる。
撮影部５０により取得された爪画像の画像データは、記憶部８２の爪画像記憶領域８２１に記憶される。
爪情報検出部８１２は、撮像装置５１によって撮影された指受入部３１に挿入された印刷指Ｕ１の爪Ｔの画像に基づいて、印刷指Ｕ１の爪Ｔについての爪情報を検出するものである。
ここで、爪情報とは、例えば、爪Ｔの輪郭（爪形状、爪Ｔの水平位置のＸＹ座標等）、爪Ｔの高さ（爪Ｔの垂直方向の位置、以下「爪Ｔの垂直位置」又は単に「爪Ｔの位置」ともいう。）、爪Ｔの表面の、ＸＹ平面に対する傾斜角度（爪Ｔの傾斜角度、爪曲率）である。
爪情報検出部８１２は、異なる位置・角度（例えば、爪Ｔの真上と爪Ｔの斜め上方等）から撮影された複数の爪画像を用いて爪情報の検出を行うことにより、爪Ｔの曲率等についても正確に検出することができる。
ここで、爪情報とは、例えば、爪Ｔの輪郭（爪形状、爪Ｔの水平位置のＸＹ座標等）、爪Ｔの高さ（爪Ｔの垂直方向の位置、以下「爪Ｔの垂直位置」又は単に「爪Ｔの位置」ともいう。）、爪Ｔの表面の、ＸＹ平面に対する傾斜角度（爪Ｔの傾斜角度、爪曲率）である。
爪情報検出部８１２は、異なる位置・角度（例えば、爪Ｔの真上と爪Ｔの斜め上方等）から撮影された複数の爪画像を用いて爪情報の検出を行うことにより、爪Ｔの曲率等についても正確に検出することができる。
乾燥制御部８１３は、乾燥部９０の乾燥動作の制御を行う。
具体的には、乾燥制御部８１３は、温度センサ９５によって取得された吹出口９６近傍の温度とヒータ９２を所定の温度まで加熱するために必要な加熱条件との関係を示す対応情報に基づいてヒータ９２の動作を制御する。
本実施形態では、乾燥制御部８１３は、温度センサ９５によって検出された吹出口９６近傍の温度に基づいてヒータ９２に投入する電力を変化させることによりヒータ９２の動作を制御するようになっており、加熱条件とは、ヒータ９２に投入される投入電力を示す値である。
また、乾燥制御部８１３は、適宜ファン９３のＯＮ／ＯＦＦ制御を行う。
具体的には、乾燥制御部８１３は、温度センサ９５によって取得された吹出口９６近傍の温度とヒータ９２を所定の温度まで加熱するために必要な加熱条件との関係を示す対応情報に基づいてヒータ９２の動作を制御する。
本実施形態では、乾燥制御部８１３は、温度センサ９５によって検出された吹出口９６近傍の温度に基づいてヒータ９２に投入する電力を変化させることによりヒータ９２の動作を制御するようになっており、加熱条件とは、ヒータ９２に投入される投入電力を示す値である。
また、乾燥制御部８１３は、適宜ファン９３のＯＮ／ＯＦＦ制御を行う。
ここで、乾燥制御部８１３によるヒータ９２の動作制御について詳説する。
本実施形態では、乾燥制御部８１３は、一定期間ネイルプリント装置１を使用しなかった場合等に装置電源がＯＮとなった場合に、ヒータ９２に投入する初期電力の制御を行う。ここで、「初期電力」とは、未だヒータ９２等（すなわち、ヒータ９２及び放熱板９４）が所望の温度に温められていないときに、これを急速に温めるためにヒータ９２に投入される電力である。初期状態（すなわち、温められていない状態）のヒータ９２を所望の温度まで加熱するにはかなり時間がかかるため、「初期電力」としてはかなり大きな電力がヒータ９２に投入される。
また、乾燥部９０により乾燥動作を行う際に、ヒータ９２に投入する乾燥電力の制御を行う。「乾燥電力」とは、乾燥部９０により爪Ｔに塗布されたインクを乾燥させるのに適した温度（例えば４０度程度）の風を吹出口９６から送風させるために必要な温度をヒータ９２に維持させるためヒータ９２に投入される電力である。
さらに、本実施形態では、乾燥制御部８１３は、乾燥動作前にヒータを所定の予熱温度のまま待機させる予熱動作を乾燥部９０に行わせるようになっており、この予熱動作時にヒータ９２に投入する予熱電力を制御する。「予熱電力」とは、ヒータ９２等（すなわち、ヒータ９２及び放熱板９４）が所望の温度（例えば５０度から８０度程度）に温まった後にその温度を維持するためにヒータ９２に投入される電力である。予熱動作時において、乾燥制御部８１３は、温度センサ９５によって取得された吹出口近傍の温度とヒータ９２を所定の予熱温度のまま待機させるために必要な加熱条件との関係を示す対応情報に基づいてヒータ９２の動作を制御する。
本実施形態では、乾燥制御部８１３は、一定期間ネイルプリント装置１を使用しなかった場合等に装置電源がＯＮとなった場合に、ヒータ９２に投入する初期電力の制御を行う。ここで、「初期電力」とは、未だヒータ９２等（すなわち、ヒータ９２及び放熱板９４）が所望の温度に温められていないときに、これを急速に温めるためにヒータ９２に投入される電力である。初期状態（すなわち、温められていない状態）のヒータ９２を所望の温度まで加熱するにはかなり時間がかかるため、「初期電力」としてはかなり大きな電力がヒータ９２に投入される。
また、乾燥部９０により乾燥動作を行う際に、ヒータ９２に投入する乾燥電力の制御を行う。「乾燥電力」とは、乾燥部９０により爪Ｔに塗布されたインクを乾燥させるのに適した温度（例えば４０度程度）の風を吹出口９６から送風させるために必要な温度をヒータ９２に維持させるためヒータ９２に投入される電力である。
さらに、本実施形態では、乾燥制御部８１３は、乾燥動作前にヒータを所定の予熱温度のまま待機させる予熱動作を乾燥部９０に行わせるようになっており、この予熱動作時にヒータ９２に投入する予熱電力を制御する。「予熱電力」とは、ヒータ９２等（すなわち、ヒータ９２及び放熱板９４）が所望の温度（例えば５０度から８０度程度）に温まった後にその温度を維持するためにヒータ９２に投入される電力である。予熱動作時において、乾燥制御部８１３は、温度センサ９５によって取得された吹出口近傍の温度とヒータ９２を所定の予熱温度のまま待機させるために必要な加熱条件との関係を示す対応情報に基づいてヒータ９２の動作を制御する。
本実施形態では、記憶部８２の投入電力情報記憶領域８２４に、乾燥部９０の吹出口９６近傍の温度と装置の電源を入れた際に初期電力としてヒータ９２に投入すべき電力との対応付けを示す初期電力テーブル、吹出口９６近傍の温度と所定の予熱温度を得るためにヒータ９２に投入すべき電力との対応付けを示す予熱電力テーブル、吹出口９６近傍の温度と乾燥を行うのに適切な温度を得るためにヒータ９２に投入すべき電力との対応付けを示す乾燥電力テーブル等が予め記憶されている。
乾燥制御部８１３は、温度センサ９５によって検出された温度と所定の各テーブルとを参照することにより、初期電力制御時、予熱電力制御時、乾燥電力制御時の各場合について、ヒータ９２に投入すべき電力を決定し、当該電力をヒータ９２に投入する。
なお、本実施形態では、投入電力の制御はＰＷＭ制御（Pulese Width Modulation、パルス幅制御）によって行われ、投入電力情報記憶領域８２４に記憶されている投入電力の値は、ＰＷＭの設定値（以下においてＰＷＭ値という。）によって示されており、乾燥制御部８１３は、各テーブルから読み込んだＰＷＭ値をＰＷＭコントローラに書き込む（セットする）ことにより、ヒータ９２の制御を行う。
なお、投入電力の制御はＰＷＭ制御によるものに限定されず、電圧値を変化させることで行ってもよい。この場合には、吹出口９６近傍の温度と各温度においてヒータ９２に印加すべき印加電圧値を対応づけたテーブルを記憶部８２の投入電力情報記憶領域８２４に記憶させておく。
乾燥制御部８１３は、温度センサ９５によって検出された温度と所定の各テーブルとを参照することにより、初期電力制御時、予熱電力制御時、乾燥電力制御時の各場合について、ヒータ９２に投入すべき電力を決定し、当該電力をヒータ９２に投入する。
なお、本実施形態では、投入電力の制御はＰＷＭ制御（Pulese Width Modulation、パルス幅制御）によって行われ、投入電力情報記憶領域８２４に記憶されている投入電力の値は、ＰＷＭの設定値（以下においてＰＷＭ値という。）によって示されており、乾燥制御部８１３は、各テーブルから読み込んだＰＷＭ値をＰＷＭコントローラに書き込む（セットする）ことにより、ヒータ９２の制御を行う。
なお、投入電力の制御はＰＷＭ制御によるものに限定されず、電圧値を変化させることで行ってもよい。この場合には、吹出口９６近傍の温度と各温度においてヒータ９２に印加すべき印加電圧値を対応づけたテーブルを記憶部８２の投入電力情報記憶領域８２４に記憶させておく。
本実施形態において、初期電力テーブル、予熱電力テーブル、乾燥電力テーブルは、温度センサ９５によって検出された吹出口９６近傍の温度即ち環境温度が０度から５０度の場合について、それぞれヒータ９２に投入すべき電力としてＰＷＭ値が対応付けられたものである。
図５（ａ）は、初期電力テーブルの一例を示す図であり、図５（ｂ）は、予熱電力テーブルの一例を示す図であり、図５（ｃ）は、乾燥電力テーブルの一例を示す図である。
図５（ａ）〜図５（ｃ）に示すように、例えば、吹出口９６近傍の温度が０度、２７度、５０度のときを例とすると、初期電力テーブルでは、０度のときＰＷＭ値６５５３５Ｄ、２７度のときＰＷＭ値５４６０１Ｄ、５０度のときＰＷＭ値０Ｄがそれぞれ対応付けられている。また、予熱電力テーブルでは、０度のときＰＷＭ値８１９１Ｄ、２７度のときＰＷＭ値６９００Ｄ、５０度のときＰＷＭ値０Ｄがそれぞれ対応付けられている。また、乾燥電力テーブルは、０度のときＰＷＭ値６１４３９Ｄ、２７度のときＰＷＭ値５１５９７Ｄ、５０度のときＰＷＭ値０Ｄがそれぞれ対応付けられている。
なお、上記ＰＷＭ値は一例であり、具体的な値は適宜変更可能である。
また、予熱温度は８０度等、一定としてもよいが、環境温度に合せて５０度から８０度程度の間で変動させることが好ましい。この場合、予熱電力テーブルは、必ずしもヒータ９２等を一定の温度（例えば８０度等）に維持するための投入電力を示すものではなく、温度センサ９５によって検出された吹出口９６近傍の温度（例えば０度から５０度）に応じて予熱温度として必要とされる温度（例えば５０度から８０度等）にヒータ９２等の温度を維持するための電力を示す。
図５（ａ）は、初期電力テーブルの一例を示す図であり、図５（ｂ）は、予熱電力テーブルの一例を示す図であり、図５（ｃ）は、乾燥電力テーブルの一例を示す図である。
図５（ａ）〜図５（ｃ）に示すように、例えば、吹出口９６近傍の温度が０度、２７度、５０度のときを例とすると、初期電力テーブルでは、０度のときＰＷＭ値６５５３５Ｄ、２７度のときＰＷＭ値５４６０１Ｄ、５０度のときＰＷＭ値０Ｄがそれぞれ対応付けられている。また、予熱電力テーブルでは、０度のときＰＷＭ値８１９１Ｄ、２７度のときＰＷＭ値６９００Ｄ、５０度のときＰＷＭ値０Ｄがそれぞれ対応付けられている。また、乾燥電力テーブルは、０度のときＰＷＭ値６１４３９Ｄ、２７度のときＰＷＭ値５１５９７Ｄ、５０度のときＰＷＭ値０Ｄがそれぞれ対応付けられている。
なお、上記ＰＷＭ値は一例であり、具体的な値は適宜変更可能である。
また、予熱温度は８０度等、一定としてもよいが、環境温度に合せて５０度から８０度程度の間で変動させることが好ましい。この場合、予熱電力テーブルは、必ずしもヒータ９２等を一定の温度（例えば８０度等）に維持するための投入電力を示すものではなく、温度センサ９５によって検出された吹出口９６近傍の温度（例えば０度から５０度）に応じて予熱温度として必要とされる温度（例えば５０度から８０度等）にヒータ９２等の温度を維持するための電力を示す。
図６は、ヒータ９２に投入する初期電力及び予熱電力と電力投入時間との関係を示すグラフである。
図６において、破線は環境温度が低いときを示し、一点鎖線は環境温度が高いときを示し、実線は環境温度が両者の中間程度のときを示している。
図６に示すように、環境温度が低いときには、ヒータ９２に投入される「初期電力」も大きく、逆に環境温度が高いときには、ヒータ９２に投入される「初期電力」も小さくなる。そして、所定の時間（図６においては３０秒）経過後に、ヒータ９２に投入する電力を「予熱電力」に切り替える。図６に示すように、「予熱電力」についても、環境温度が低いときには大きく、環境温度が高いときには小さくなる。
図６において、破線は環境温度が低いときを示し、一点鎖線は環境温度が高いときを示し、実線は環境温度が両者の中間程度のときを示している。
図６に示すように、環境温度が低いときには、ヒータ９２に投入される「初期電力」も大きく、逆に環境温度が高いときには、ヒータ９２に投入される「初期電力」も小さくなる。そして、所定の時間（図６においては３０秒）経過後に、ヒータ９２に投入する電力を「予熱電力」に切り替える。図６に示すように、「予熱電力」についても、環境温度が低いときには大きく、環境温度が高いときには小さくなる。
なお、乾燥制御部８１３は、温度センサ９５によって取得された吹出口９６近傍の温度とヒータ９２を所定の温度まで加熱するために必要な加熱条件との関係を示す対応情報に基づいてヒータ９２の動作を制御するものであればよく、「加熱条件」は投入電力の値（ＰＷＭ値）に限定されない。
例えば、乾燥制御部８１３は、ヒータ９２をＯＮとする時間を変化させることによりヒータ９２の動作を制御してもよい。この場合、「加熱条件」はヒータ９２をＯＮとする時間となる。
図７は、ヒータ９２に「初期電力」を投入する場合の「加熱条件」がヒータ９２をＯＮとする時間である場合におけるヒータ９２に投入する初期電力及び予熱電力と電力投入時間との関係を示すグラフである。この場合には、温度センサ９５によって検出された吹出口９６近傍の温度と「初期電力」を投入する時間とを対応付けたテーブルを初期電力テーブルとして記憶部８２の投入電力情報記憶領域８２４に記憶させておく。
図７では図６と同様に、破線は環境温度が低いときを示し、一点鎖線は環境温度が高いときを示し、実線は環境温度が両者の中間程度のときを示している。
この場合には、図７に示すように、ヒータ９２に投入する投入電力は一定（例えば最も高い値に設定）としつつ、環境温度が低いときには、ヒータ９２に電力を投入する時間を長くし、逆に環境温度が高いときには、ヒータ９２に電力を投入する時間を短くする。そして、各環境温度に対応した電力投入時間が経過した後に、ヒータ９２に投入する電力を「予熱電力」に切り替える。
この場合、図７に示すように、「予熱電力」については、図６と同様、環境温度が低いときには投入電力の値（ＰＷＭ値）が大きく、環境温度が高いときには投入電力の値（ＰＷＭ値）が小さくなる。
このように、「加熱条件」を、ヒータ９２をＯＮとする時間とした場合には、環境温度が高いときには、その分ヒータ９２が予熱状態に達するまでの時間を短くすることができ、迅速に乾燥処理に移行することが可能となる。
例えば、乾燥制御部８１３は、ヒータ９２をＯＮとする時間を変化させることによりヒータ９２の動作を制御してもよい。この場合、「加熱条件」はヒータ９２をＯＮとする時間となる。
図７は、ヒータ９２に「初期電力」を投入する場合の「加熱条件」がヒータ９２をＯＮとする時間である場合におけるヒータ９２に投入する初期電力及び予熱電力と電力投入時間との関係を示すグラフである。この場合には、温度センサ９５によって検出された吹出口９６近傍の温度と「初期電力」を投入する時間とを対応付けたテーブルを初期電力テーブルとして記憶部８２の投入電力情報記憶領域８２４に記憶させておく。
図７では図６と同様に、破線は環境温度が低いときを示し、一点鎖線は環境温度が高いときを示し、実線は環境温度が両者の中間程度のときを示している。
この場合には、図７に示すように、ヒータ９２に投入する投入電力は一定（例えば最も高い値に設定）としつつ、環境温度が低いときには、ヒータ９２に電力を投入する時間を長くし、逆に環境温度が高いときには、ヒータ９２に電力を投入する時間を短くする。そして、各環境温度に対応した電力投入時間が経過した後に、ヒータ９２に投入する電力を「予熱電力」に切り替える。
この場合、図７に示すように、「予熱電力」については、図６と同様、環境温度が低いときには投入電力の値（ＰＷＭ値）が大きく、環境温度が高いときには投入電力の値（ＰＷＭ値）が小さくなる。
このように、「加熱条件」を、ヒータ９２をＯＮとする時間とした場合には、環境温度が高いときには、その分ヒータ９２が予熱状態に達するまでの時間を短くすることができ、迅速に乾燥処理に移行することが可能となる。
図８は、乾燥動作時においてヒータ９２に投入する「乾燥電力」と時間との関係を示すグラフである。
図８に示すように、乾燥動作時において、それが装置の電源がＯＮとなった直後である場合には乾燥制御部８１３は、記憶部８２の投入電力情報記憶領域８２４に記憶されている乾燥電力テーブルの中から、予熱動作を行う際に温度センサ９５によって検出された環境温度に対応する投入電力値（ＰＷＭ値）を読み出してこれを「乾燥電力」の初期値としてヒータ９２に投入する。
そして吹出口９６から吹出す温風の温度を所定の時間（例えば０．５秒）ごとに温度センサ９５により検出し、検出された温度に対応じて投入電力（ＰＷＭ値）を増減する。これにより、乾燥部９０の吹出口９６から吹き出す温風の温度を所望の温度（４０℃等）になるように制御する。
なお、乾燥動作が装置の電源がＯＮとなった直後に行われるのではない場合（すなわち、前回の乾燥動作からの経過時間が短い場合）には、乾燥制御部８１３は、前回の乾燥動作において最後にヒータ９２に投入した投入電力である「最終投入電力」を「乾燥電力」の初期値としてヒータ９２に投入する。
なお、前回の乾燥動作からどの程度時間が経過した場合に前回の投入電力によらずに乾燥電力テーブルを参照するかについては、適宜設定が可能である。
乾燥動作が終了すると（すなわち、例えば３０秒間等、所定の乾燥時間が経過すると）、乾燥制御部８１３は、乾燥動作において最後にヒータ９２に投入した投入電力を「最終投入電力」（図７参照）として記憶部８２等に記憶させる。
そして、乾燥制御部８１３は、ファン９３をＯＦＦにし、ヒータ９２に投入する電力を「予熱電力」に切り替えて予熱状態とする。
なお、乾燥動作終了時の投入電力とヒータを予熱状態に維持するために必要な投入電力とを対応付けたテーブルを設けて予め記憶部８２に記憶させておき、このテーブルに基づいて乾燥動作終了後ヒータ９２に投入する「予熱電力」を補正するようにしてもよい。
図８に示すように、乾燥動作時において、それが装置の電源がＯＮとなった直後である場合には乾燥制御部８１３は、記憶部８２の投入電力情報記憶領域８２４に記憶されている乾燥電力テーブルの中から、予熱動作を行う際に温度センサ９５によって検出された環境温度に対応する投入電力値（ＰＷＭ値）を読み出してこれを「乾燥電力」の初期値としてヒータ９２に投入する。
そして吹出口９６から吹出す温風の温度を所定の時間（例えば０．５秒）ごとに温度センサ９５により検出し、検出された温度に対応じて投入電力（ＰＷＭ値）を増減する。これにより、乾燥部９０の吹出口９６から吹き出す温風の温度を所望の温度（４０℃等）になるように制御する。
なお、乾燥動作が装置の電源がＯＮとなった直後に行われるのではない場合（すなわち、前回の乾燥動作からの経過時間が短い場合）には、乾燥制御部８１３は、前回の乾燥動作において最後にヒータ９２に投入した投入電力である「最終投入電力」を「乾燥電力」の初期値としてヒータ９２に投入する。
なお、前回の乾燥動作からどの程度時間が経過した場合に前回の投入電力によらずに乾燥電力テーブルを参照するかについては、適宜設定が可能である。
乾燥動作が終了すると（すなわち、例えば３０秒間等、所定の乾燥時間が経過すると）、乾燥制御部８１３は、乾燥動作において最後にヒータ９２に投入した投入電力を「最終投入電力」（図７参照）として記憶部８２等に記憶させる。
そして、乾燥制御部８１３は、ファン９３をＯＦＦにし、ヒータ９２に投入する電力を「予熱電力」に切り替えて予熱状態とする。
なお、乾燥動作終了時の投入電力とヒータを予熱状態に維持するために必要な投入電力とを対応付けたテーブルを設けて予め記憶部８２に記憶させておき、このテーブルに基づいて乾燥動作終了後ヒータ９２に投入する「予熱電力」を補正するようにしてもよい。
描画データ生成部８１４は、爪情報検出部８１２により検出された爪情報に基づいて、描画ヘッド４３により印刷指Ｕ１の爪Ｔに描画される描画用のデータを生成する。
具体的には、描画データ生成部８１４は、爪情報検出部８１２により検出された爪Ｔの形状等に基づいてネイルデザインの画像データを拡大、縮小、切出し等による合せ込み処理を行い、爪Ｔに描画を施すためのデータを生成する。なお、爪情報検出部８１２が爪Ｔの傾斜角度（爪曲率）についても爪情報として取得している場合には、描画データ生成部８１４は、爪Ｔの傾斜角度（爪曲率）に応じて、適宜ネイルデザインの画像データの曲面補正を行う。
これにより、ペン４１やインクジェット描画部７１によって描画されるネイルデザインの描画用のデータが生成される。
具体的には、描画データ生成部８１４は、爪情報検出部８１２により検出された爪Ｔの形状等に基づいてネイルデザインの画像データを拡大、縮小、切出し等による合せ込み処理を行い、爪Ｔに描画を施すためのデータを生成する。なお、爪情報検出部８１２が爪Ｔの傾斜角度（爪曲率）についても爪情報として取得している場合には、描画データ生成部８１４は、爪Ｔの傾斜角度（爪曲率）に応じて、適宜ネイルデザインの画像データの曲面補正を行う。
これにより、ペン４１やインクジェット描画部７１によって描画されるネイルデザインの描画用のデータが生成される。
表示制御部８１５は、表示部２６を制御して表示部２６に各種の表示画面を表示させるものである。本実施形態では、表示制御部８１５は、例えばネイルデザインの選択画面やデザイン確認用のサムネイル画像、印刷指Ｕ１を撮影して取得した指画像、各種の指示画面等を表示部２６に表示させるようになっている。
描画制御部８１６は、描画データ生成部８１４によって生成された描画データに基づいて描画部４０に制御信号を出力し、爪Ｔに対してこの描画データにしたがった描画を施すように描画部４０のインクジェット描画部７１、ペン上下用モータ４２６、Ｘ方向移動モータ４６、Ｙ方向移動モータ４８を制御する制御部である。
次に、図９及び図１０を参照しつつ、本実施形態におけるネイルプリント装置１による描画方法及び乾燥動作について説明する。
図９に示すように、このネイルプリント装置１により描画を行う場合、ユーザはまず、装置の電源スイッチを入れて制御装置８０を起動させる（ステップＳ１）。
乾燥制御部８１３は、乾燥部９０のファン９３をＯＮとし（ステップＳ２）、所定時間（本実施形態では５秒間）経過したか否かを判断する（ステップＳ３）。なお、所定時間の長さは５秒間に限定されず、適宜設定可能である。
乾燥制御部８１３は、所定時間が経過するまでの間（ステップＳ３；ＮＯ）判断を繰り返し、所定時間が経過すると（ステップＳ３；ＹＥＳ）、温度センサ９５によって吹出口９６近傍の温度を測定する（ステップＳ４）。温度センサ９５によって温度が検出されると、乾燥制御部８１３は、記憶部８２の投入電力情報記憶領域８２４に記憶されている初期電力テーブル、予熱電力テーブル、乾燥電力テーブルから、温度センサ９５によって検出された吹出口９６近傍の温度に対応する「初期電力」「予熱電力」「乾燥電力」のＰＷＭ値を読み込む（ステップＳ５）。また、乾燥部９０のファン９３をＯＦＦする（ステップＳ６）。
なお、ステップ２におけるファン９３の動作は、吹出口９６近傍に滞留する空気の温度ではなくファン９３で攪拌してできるだけ正確な環境温度を測定するために行われるものである。したがって、ファン９３をＯＦＦするタイミングは、投入電力値（ＰＷＭ値）の読み込みを行った後に限定されず、例えば、所定時間の経過後（すなわち、ステップＳ３；ＹＥＳの後）や温度センサ９５によって環境温度の測定が行われた後（すなわち、ステップＳ４の後）等のタイミングであってもよい。
乾燥制御部８１３は、乾燥部９０のファン９３をＯＮとし（ステップＳ２）、所定時間（本実施形態では５秒間）経過したか否かを判断する（ステップＳ３）。なお、所定時間の長さは５秒間に限定されず、適宜設定可能である。
乾燥制御部８１３は、所定時間が経過するまでの間（ステップＳ３；ＮＯ）判断を繰り返し、所定時間が経過すると（ステップＳ３；ＹＥＳ）、温度センサ９５によって吹出口９６近傍の温度を測定する（ステップＳ４）。温度センサ９５によって温度が検出されると、乾燥制御部８１３は、記憶部８２の投入電力情報記憶領域８２４に記憶されている初期電力テーブル、予熱電力テーブル、乾燥電力テーブルから、温度センサ９５によって検出された吹出口９６近傍の温度に対応する「初期電力」「予熱電力」「乾燥電力」のＰＷＭ値を読み込む（ステップＳ５）。また、乾燥部９０のファン９３をＯＦＦする（ステップＳ６）。
なお、ステップ２におけるファン９３の動作は、吹出口９６近傍に滞留する空気の温度ではなくファン９３で攪拌してできるだけ正確な環境温度を測定するために行われるものである。したがって、ファン９３をＯＦＦするタイミングは、投入電力値（ＰＷＭ値）の読み込みを行った後に限定されず、例えば、所定時間の経過後（すなわち、ステップＳ３；ＹＥＳの後）や温度センサ９５によって環境温度の測定が行われた後（すなわち、ステップＳ４の後）等のタイミングであってもよい。
乾燥制御部８１３による「初期電力」「予熱電力」「乾燥電力」のＰＷＭ値を読み込みが完了すると、乾燥制御部８１３は、乾燥部９０のヒータ９２に「初期電力」を投入する（ステップＳ７）。そして、乾燥制御部８１３は、所定時間（本実施形態では３０秒間）経過したか否かを判断し（ステップＳ８）、経過していない場合（ステップＳ８；ＮＯ）には所定時間が経過するまでそのまま判断を繰り返す。なお、所定時間は、ヒータ９２が初期電力を投入されることで所望の温度（例えば８０度等）に達するまでの時間であり、その長さは３０秒間に限定されず、適宜設定可能である。
他方、所定時間が経過したと判断する場合（ステップＳ８；ＹＥＳ）には、乾燥制御部８１３は、乾燥部９０のヒータ９２に「予熱電力」を投入する（ステップＳ９）。
ヒータ９２はこのまま予熱状態で待機し、爪Ｔへの描画が終了すると、乾燥動作（ステップＳ１０）が開始される。
他方、所定時間が経過したと判断する場合（ステップＳ８；ＹＥＳ）には、乾燥制御部８１３は、乾燥部９０のヒータ９２に「予熱電力」を投入する（ステップＳ９）。
ヒータ９２はこのまま予熱状態で待機し、爪Ｔへの描画が終了すると、乾燥動作（ステップＳ１０）が開始される。
図１０に示すように、乾燥動作を行う場合には、乾燥制御部８１３は、まず装置電源がＯＮされた直後であるか否かを判断する（ステップＳ２１）。そして、装置電源がＯＮされた直後である場合（ステップＳ２１；ＹＥＳ）には、乾燥制御部８１３は、乾燥部９０のヒータ９２に乾燥電力テーブルから読み込んだ「乾燥電力」を投入する（ステップＳ２２）。これに対して、装置電源がＯＮされた直後ではない場合（ステップＳ２１；ＮＯ）には、乾燥制御部８１３は、乾燥部９０のヒータ９２に前回の乾燥動作時の最終投入電力を投入する（ステップＳ２３）。そして、乾燥部９０のファン９３をＯＮとし（ステップＳ２４）、所定時間（本実施形態では０．５秒間）経過したか否かを判断する（ステップＳ２５）。なお、所定時間の長さは０．５秒間に限定されず、適宜設定可能である。
乾燥制御部８１３は、所定時間が経過するまでの間（ステップＳ２５；ＮＯ）判断を繰り返し、所定時間が経過すると（ステップＳ２５；ＹＥＳ）、温度センサ９５によって吹出口９６近傍の温度を測定する（ステップＳ２６）。温度センサ９５によって温度が検出されると、乾燥制御部８１３は、当該温度が４０度以下か否かを判断する（ステップＳ２７）。なお、ここでいう４０度は人の爪Ｔに吹きかけられる温風の温度として適当な温度の一例であって、人が過度な熱さを感じず、インクを乾燥させるのに適切な程度の温度であればよく、４０度に限定されるものではない。
温度センサ９５によって検出された温度が４０度以下である場合（ステップＳ２７；ＹＥＳ）には、乾燥制御部８１３は、ヒータ９２に投入する投入電力を増加させるように制御する（ステップＳ２８）。
他方、温度センサ９５によって検出された温度が４０度以下でない場合（ステップＳ２７；ＮＯ）には、乾燥制御部８１３は、さらに温度センサ９５によって検出された温度が４０度であるか否かを判断し（ステップＳ２９）、温度センサ９５によって検出された温度が４０度でない場合（ステップＳ２９；ＮＯ）には、吹出口９６近傍の温度が高すぎるため、ヒータ９２に投入する投入電力を減少させるように制御する（ステップＳ３０）。これに対して、温度センサ９５によって検出された温度が４０度である場合（ステップＳ２９；ＹＥＳ）には、吹出口９６近傍の温度が丁度よく調整されている場合であるため、乾燥制御部８１３は、当該状態を維持する。
そして、乾燥制御部８１３は、所定の乾燥時間（例えば３０秒間）が経過したか否かを判断し（ステップＳ３１）、経過していない場合（ステップＳ３１；ＮＯ）には、ステップＳ２５に戻って処理を繰り返す。
他方、所定の乾燥時間（例えば３０秒間）が経過した場合（ステップＳ３１；ＹＥＳ）には、乾燥制御部８１３は、ヒータ９２に投入した最終投入電力を記憶部８２等に記憶させ（ステップＳ３２）、乾燥部９０のファン９３をＯＦＦし（ステップＳ３３）、乾燥部９０のヒータ９２に「予熱電力」を投入して（ステップＳ３４）乾燥動作を終了する。
なお、当該爪Ｔについて種類の異なるペン４１等によってさらに描画を行う場合には、描画処理を行った後、ステップＳ２３に戻って乾燥動作を繰り返す。また、次の描画処理及び乾燥動作が行われるまで時間が開いてしまったような場合には、図９のステップＳ２に戻って処理を繰り返す。また、当該爪Ｔについての描画がすべて終了した場合には、ユーザに描画の終了を報知し、装置内から指を取り出すように指示する表示画面等を表示部２６に表示させる。
乾燥制御部８１３は、所定時間が経過するまでの間（ステップＳ２５；ＮＯ）判断を繰り返し、所定時間が経過すると（ステップＳ２５；ＹＥＳ）、温度センサ９５によって吹出口９６近傍の温度を測定する（ステップＳ２６）。温度センサ９５によって温度が検出されると、乾燥制御部８１３は、当該温度が４０度以下か否かを判断する（ステップＳ２７）。なお、ここでいう４０度は人の爪Ｔに吹きかけられる温風の温度として適当な温度の一例であって、人が過度な熱さを感じず、インクを乾燥させるのに適切な程度の温度であればよく、４０度に限定されるものではない。
温度センサ９５によって検出された温度が４０度以下である場合（ステップＳ２７；ＹＥＳ）には、乾燥制御部８１３は、ヒータ９２に投入する投入電力を増加させるように制御する（ステップＳ２８）。
他方、温度センサ９５によって検出された温度が４０度以下でない場合（ステップＳ２７；ＮＯ）には、乾燥制御部８１３は、さらに温度センサ９５によって検出された温度が４０度であるか否かを判断し（ステップＳ２９）、温度センサ９５によって検出された温度が４０度でない場合（ステップＳ２９；ＮＯ）には、吹出口９６近傍の温度が高すぎるため、ヒータ９２に投入する投入電力を減少させるように制御する（ステップＳ３０）。これに対して、温度センサ９５によって検出された温度が４０度である場合（ステップＳ２９；ＹＥＳ）には、吹出口９６近傍の温度が丁度よく調整されている場合であるため、乾燥制御部８１３は、当該状態を維持する。
そして、乾燥制御部８１３は、所定の乾燥時間（例えば３０秒間）が経過したか否かを判断し（ステップＳ３１）、経過していない場合（ステップＳ３１；ＮＯ）には、ステップＳ２５に戻って処理を繰り返す。
他方、所定の乾燥時間（例えば３０秒間）が経過した場合（ステップＳ３１；ＹＥＳ）には、乾燥制御部８１３は、ヒータ９２に投入した最終投入電力を記憶部８２等に記憶させ（ステップＳ３２）、乾燥部９０のファン９３をＯＦＦし（ステップＳ３３）、乾燥部９０のヒータ９２に「予熱電力」を投入して（ステップＳ３４）乾燥動作を終了する。
なお、当該爪Ｔについて種類の異なるペン４１等によってさらに描画を行う場合には、描画処理を行った後、ステップＳ２３に戻って乾燥動作を繰り返す。また、次の描画処理及び乾燥動作が行われるまで時間が開いてしまったような場合には、図９のステップＳ２に戻って処理を繰り返す。また、当該爪Ｔについての描画がすべて終了した場合には、ユーザに描画の終了を報知し、装置内から指を取り出すように指示する表示画面等を表示部２６に表示させる。
以上のように、本実施形態によれば、ヒータ９２とファン９３とファン９３によって生じた風が吹き出す吹出口９６近傍の温度を検出する温度センサ９５とを備え、吹出口９６から風を吹き出させることにより描画対象面である爪Ｔに塗布された液状材料であるインクを乾燥させる乾燥動作を行う乾燥部９０と、乾燥部９０の乾燥動作を制御する乾燥制御部８１３と、ネイルプリント装置１が備え、乾燥制御部８１３は、温度センサ９５によって取得された吹出口９６近傍の温度とヒータ９２を所定の温度まで加熱するために必要な加熱条件との関係を示す対応情報に基づいてヒータ９２の動作を制御する。このため、吹出口９６近傍に設けた温度センサ９５のみによって乾燥部９０の温度管理を行うことができ、簡易な構成で、適切にインクの乾燥動作を行うことができる。
また、乾燥制御部８１３は、乾燥動作前に前記ヒータを所定の予熱温度のまま待機させる予熱動作を乾燥部９０に行わせるようになっており、この予熱動作時において、乾燥制御部８１３は、温度センサ９５によって取得された環境温度とヒータ９２を所定の予熱温度のまま待機させるために必要な加熱条件との関係を示す対応情報に基づいてヒータ９２の動作を制御する。このため、温度センサ９５のみによってヒータ９２を適切な温度に予熱しておくことができ、描画処理終了後に速やかに乾燥動作を行うことができる。これにより、簡易な構成によりネイルプリントに要する時間の短縮を図ることができる。
また、乾燥制御部８１３は、ヒータ９２に投入する電力を変化させることによりヒータ９２の動作を制御する。これにより、環境温度に左右されずに適切な温度にヒータ９２を加熱して乾燥動作を行うことができる。
また、ヒータ９２の動作制御は、ヒータをＯＮとする時間を変化させることにより行ってもよく、この場合には、環境温度が高い場合には、短い時間でヒータ９２の加熱を行うことができ、ネイルプリントの処理時間の短縮を図ることができる。
また、乾燥制御部８１３は、乾燥動作前に前記ヒータを所定の予熱温度のまま待機させる予熱動作を乾燥部９０に行わせるようになっており、この予熱動作時において、乾燥制御部８１３は、温度センサ９５によって取得された環境温度とヒータ９２を所定の予熱温度のまま待機させるために必要な加熱条件との関係を示す対応情報に基づいてヒータ９２の動作を制御する。このため、温度センサ９５のみによってヒータ９２を適切な温度に予熱しておくことができ、描画処理終了後に速やかに乾燥動作を行うことができる。これにより、簡易な構成によりネイルプリントに要する時間の短縮を図ることができる。
また、乾燥制御部８１３は、ヒータ９２に投入する電力を変化させることによりヒータ９２の動作を制御する。これにより、環境温度に左右されずに適切な温度にヒータ９２を加熱して乾燥動作を行うことができる。
また、ヒータ９２の動作制御は、ヒータをＯＮとする時間を変化させることにより行ってもよく、この場合には、環境温度が高い場合には、短い時間でヒータ９２の加熱を行うことができ、ネイルプリントの処理時間の短縮を図ることができる。
なお、本発明を適用可能な実施形態は、上述した実施形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
例えば、上記実施形態では、１本のペン４１を保持するペンホルダ４２を１つ設けるとともに、必要に応じて適宜ユーザが手動でペン４１を交換する場合を例示したが、ペン４１を交換する手法はこれに限定されない。
例えば、描画ヘッド４３に装着されるペン４１を自動で交換する機構を実装してもよい。この場合には、例えば複数のペン４１をホームポジションの近傍等に設けた待機スペースに保持しておき、ここから自動でペン４１を選択して描画ヘッド４３に装着する。このような構成とすれば、ユーザの手を煩わせずにペン４１の交換を行うことができ、複数種類のペン４１を用いた描画を簡易に行うことが可能となる。
例えば、描画ヘッド４３に装着されるペン４１を自動で交換する機構を実装してもよい。この場合には、例えば複数のペン４１をホームポジションの近傍等に設けた待機スペースに保持しておき、ここから自動でペン４１を選択して描画ヘッド４３に装着する。このような構成とすれば、ユーザの手を煩わせずにペン４１の交換を行うことができ、複数種類のペン４１を用いた描画を簡易に行うことが可能となる。
また、上記実施形態では、描画ヘッド４３が、１本のペン４１を保持するペンホルダ４２を１つ備えている例を示したが、描画ヘッド４３に設けられるペンホルダ４２は１つに限定されず、２つ以上設けられていてもよい。
また、例えば、図１１に示すように、描画ヘッドは、それぞれ１本のペン２００を収容するペン保持部２０１を複数備える回転式のペンホルダ２０２を備えていてもよい。
この場合には、ペン保持部２０１の上にペン２００を押し下げることが可能なソレノイド２０３を設け、ソレノイド２０３によってペン２００を押し下げるとともに、ペン２００の内部等に設けた図示しないバネの反発力によりペン２００が上下動する構成としてもよい。
また、例えば、図１１に示すように、描画ヘッドは、それぞれ１本のペン２００を収容するペン保持部２０１を複数備える回転式のペンホルダ２０２を備えていてもよい。
この場合には、ペン保持部２０１の上にペン２００を押し下げることが可能なソレノイド２０３を設け、ソレノイド２０３によってペン２００を押し下げるとともに、ペン２００の内部等に設けた図示しないバネの反発力によりペン２００が上下動する構成としてもよい。
また、本実施形態では、ペン上下用モータ４２６を用いて板バネ４２９を動作させることによりペン４１を押し下げる構成としたが、ペン４１を上下動させる構成はこれに限定されない。
また、上記実施形態では、ペン４１とインクジェット描画部７１との両方を備えるインクジェット方式とプロッタ方式とのハイブリットタイプのネイルプリント装置１に対して本発明の構成を適用した場合を例示して説明したが、本発明の構成を適用可能なネイルプリント装置はこれに限定されない。
例えば、ペン４１のみを有するプロッタ方式の描画ヘッド４３を備えるネイルプリント装置やインクジェット描画部７１のみを有するインクジェット方式の描画ヘッド４３を備えるネイルプリント装置に対しても本発明の構成を適用可能である。
例えば、ペン４１のみを有するプロッタ方式の描画ヘッド４３を備えるネイルプリント装置やインクジェット描画部７１のみを有するインクジェット方式の描画ヘッド４３を備えるネイルプリント装置に対しても本発明の構成を適用可能である。
また、上記各実施形態では、描画データ生成部８１４が、ネイルデザインの画像データについて曲面補正を行い、描画データを生成する場合を例としたが、描画データ生成部８１４が描画データを生成することは本発明の必須の構成要素ではない。例えば、描画データを別途生成せずに、描画制御部８１６おいて、ネイルデザインの画像データをＬＵＴ（Lookup Table）等により適宜変換しつつ描画ヘッドに出力して爪形状に合った描画を行うように描画制御を行ってもよい。
また、上記各実施形態では、爪情報として爪Ｔの形状を検出し、これに基づいて描画データを生成する場合を例としたが、爪形状を検出することは本発明の必須の構成要素ではない。例えば、爪Ｔの中程にワンポイント柄を描画する場合のように、描画を行う上で爪Ｔの輪郭を抽出することが必須でない場合であれば、正確に爪Ｔの形状を認識する必要はなく、爪形状の検出を行うことなく描画を行うことができる。
また、撮影部の撮像装置５１は、静止画を撮影する撮像装置５１に限定されず、動画を撮影可能なものであってもよい。この場合、撮像装置によって動画を撮影し、撮影された動画から、爪Ｔの上面の画像を適宜切り出して、爪情報の検出に用いる。
また、上記各実施形態では、指を１本ずつ装置に挿入して、挿入された１本の指の爪に描画を行うネイルプリント装置１を例としたが、例えば、複数本の指を装置に同時に挿入して、挿入された複数本の指の爪に対して連続的に印刷を行うことのできる装置に本発明を適用することも可能である。
例えば、ペン４１の稼動範囲を広げて描画可能範囲を大きくすることにより、複数の印刷指Ｕ１に連続的に描画を施すことも可能となる。
例えば、ペン４１の稼動範囲を広げて描画可能範囲を大きくすることにより、複数の印刷指Ｕ１に連続的に描画を施すことも可能となる。
以上本発明のいくつかの実施形態を説明したが、本発明の範囲は、上述の実施の形態に限定するものではなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲とその均等の範囲を含む。
以下に、この出願の願書に最初に添付した特許請求の範囲に記載した発明を付記する。付記に記載した請求項の項番は、この出願の願書に最初に添付した特許請求の範囲の通りである。
〔付記〕
＜請求項１＞
液状材料を描画対象面に塗布して、該描画対象面に描画を施す描画部と、
ヒータとファンと前記ファンによって生じた風が吹き出す風の温度を検出する温度センサとを備え、前記吹出口から風を吹き出させることにより前記描画対象面に塗布された前記液状材料を乾燥させる乾燥動作を行う乾燥部と、
前記乾燥部の前記乾燥動作を制御する乾燥制御部と、
を備え、
前記乾燥制御部は、前記温度センサによって取得された前記吹出口近傍の温度と前記ヒータを所定の温度まで加熱するために必要な加熱条件との関係を示す対応情報に基づいて前記吹出口近傍における風の温度を調整するように前記ヒータの動作を制御することを特徴とする描画装置。
＜請求項２＞
前記乾燥制御部は、前記乾燥動作前に前記ヒータを所定の予熱温度のまま待機させる予熱動作を前記乾燥部に行わせるようになっており、
前記予熱動作時において、前記乾燥制御部は、前記温度センサによって取得された前記吹出口近傍の温度と前記ヒータを所定の予熱温度のまま待機させるために必要な加熱条件との関係を示す対応情報に基づいて前記ヒータの動作を制御することを特徴とする請求項１に記載の描画装置。
＜請求項３＞
前記乾燥制御部は、前記ヒータに投入する電力を変化させることにより前記ヒータの動作を制御することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の描画装置。
＜請求項４＞
前記乾燥制御部は、前記ヒータをＯＮとする時間を変化させることにより前記ヒータの動作を制御することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の描画装置。
＜請求項５＞
描画装置の描画方法であって、
前記描画装置は、
液状材料を描画対象面に塗布して、該描画対象面に描画を施す描画部と、
ヒータとファンと前記ファンによって生じた風が吹き出す吹出口近傍の温度を検出する温度センサとを備え、前記吹出口から風を吹き出させることにより前記描画対象面に塗布された前記液状材料を乾燥させる乾燥動作を行う乾燥部と、
を備え、
前記温度センサによって取得された前記吹出口近傍の温度と前記ヒータを所定の温度まで加熱するために必要な加熱条件との関係を示す対応情報に基づいて前記吹出口近傍における風の温度を調整するように前記ヒータの動作を制御することを特徴とする描画装置の描画方法。
以下に、この出願の願書に最初に添付した特許請求の範囲に記載した発明を付記する。付記に記載した請求項の項番は、この出願の願書に最初に添付した特許請求の範囲の通りである。
〔付記〕
＜請求項１＞
液状材料を描画対象面に塗布して、該描画対象面に描画を施す描画部と、
ヒータとファンと前記ファンによって生じた風が吹き出す風の温度を検出する温度センサとを備え、前記吹出口から風を吹き出させることにより前記描画対象面に塗布された前記液状材料を乾燥させる乾燥動作を行う乾燥部と、
前記乾燥部の前記乾燥動作を制御する乾燥制御部と、
を備え、
前記乾燥制御部は、前記温度センサによって取得された前記吹出口近傍の温度と前記ヒータを所定の温度まで加熱するために必要な加熱条件との関係を示す対応情報に基づいて前記吹出口近傍における風の温度を調整するように前記ヒータの動作を制御することを特徴とする描画装置。
＜請求項２＞
前記乾燥制御部は、前記乾燥動作前に前記ヒータを所定の予熱温度のまま待機させる予熱動作を前記乾燥部に行わせるようになっており、
前記予熱動作時において、前記乾燥制御部は、前記温度センサによって取得された前記吹出口近傍の温度と前記ヒータを所定の予熱温度のまま待機させるために必要な加熱条件との関係を示す対応情報に基づいて前記ヒータの動作を制御することを特徴とする請求項１に記載の描画装置。
＜請求項３＞
前記乾燥制御部は、前記ヒータに投入する電力を変化させることにより前記ヒータの動作を制御することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の描画装置。
＜請求項４＞
前記乾燥制御部は、前記ヒータをＯＮとする時間を変化させることにより前記ヒータの動作を制御することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の描画装置。
＜請求項５＞
描画装置の描画方法であって、
前記描画装置は、
液状材料を描画対象面に塗布して、該描画対象面に描画を施す描画部と、
ヒータとファンと前記ファンによって生じた風が吹き出す吹出口近傍の温度を検出する温度センサとを備え、前記吹出口から風を吹き出させることにより前記描画対象面に塗布された前記液状材料を乾燥させる乾燥動作を行う乾燥部と、
を備え、
前記温度センサによって取得された前記吹出口近傍の温度と前記ヒータを所定の温度まで加熱するために必要な加熱条件との関係を示す対応情報に基づいて前記吹出口近傍における風の温度を調整するように前記ヒータの動作を制御することを特徴とする描画装置の描画方法。
１ ネイルプリント装置
３１ 指受入部
４０ 描画部
４１ ペン
４２ ペンホルダ
４３ 描画ヘッド
４９ ヘッド移動部
５０ 撮影部
７１ インクジェット描画部
８１ 制御部
８２ 記憶部
９０ 乾燥部
９２ ヒータ
９３ ファン
４２６ ペン上下用モータ
８１３ 乾燥制御部
８２４ 投入電力情報記憶領域
Ｔ 爪
Ｕ１ 印刷指
３１ 指受入部
４０ 描画部
４１ ペン
４２ ペンホルダ
４３ 描画ヘッド
４９ ヘッド移動部
５０ 撮影部
７１ インクジェット描画部
８１ 制御部
８２ 記憶部
９０ 乾燥部
９２ ヒータ
９３ ファン
４２６ ペン上下用モータ
８１３ 乾燥制御部
８２４ 投入電力情報記憶領域
Ｔ 爪
Ｕ１ 印刷指
Claims (5)
- 液状材料を描画対象面に塗布して、該描画対象面に描画を施す描画部と、
ヒータとファンと前記ファンによって生じた風が吹き出す吹出口近傍の温度を検出する温度センサとを備え、前記吹出口から風を吹き出させることにより前記描画対象面に塗布された前記液状材料を乾燥させる乾燥動作を行う乾燥部と、
前記乾燥部の前記乾燥動作を制御する乾燥制御部と、
を備え、
前記乾燥制御部は、前記温度センサによって取得された前記吹出口近傍の温度と前記ヒータを所定の温度まで加熱するために必要な加熱条件との関係を示す対応情報に基づいて前記吹出口近傍における風の温度を調整するように前記ヒータの動作を制御することを特徴とする描画装置。 - 前記乾燥制御部は、前記乾燥動作前に前記ヒータを所定の予熱温度のまま待機させる予熱動作を前記乾燥部に行わせるようになっており、
前記予熱動作時において、前記乾燥制御部は、前記温度センサによって取得された前記吹出口近傍の温度と前記ヒータを所定の予熱温度のまま待機させるために必要な加熱条件との関係を示す対応情報に基づいて前記ヒータの動作を制御することを特徴とする請求項１に記載の描画装置。 - 前記乾燥制御部は、前記ヒータに投入する電力を変化させることにより前記ヒータの動作を制御することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の描画装置。
- 前記乾燥制御部は、前記ヒータをＯＮとする時間を変化させることにより前記ヒータの動作を制御することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の描画装置。
- 描画装置の描画方法であって、
前記描画装置は、
液状材料を描画対象面に塗布して、該描画対象面に描画を施す描画部と、
ヒータとファンと前記ファンによって生じた風が吹き出す吹出口近傍の温度を検出する温度センサとを備え、前記吹出口から風を吹き出させることにより前記描画対象面に塗布された前記液状材料を乾燥させる乾燥動作を行う乾燥部と、
を備え、
前記温度センサによって取得された前記吹出口近傍の温度と前記ヒータを所定の温度まで加熱するために必要な加熱条件との関係を示す対応情報に基づいて前記吹出口近傍における風の温度を調整するように前記ヒータの動作を制御することを特徴とする描画装置の描画方法。
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|---|---|---|---|
| JP2015184636A JP2017056070A (ja) | 2015-09-18 | 2015-09-18 | 描画装置及び描画装置の描画方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2015184636A JP2017056070A (ja) | 2015-09-18 | 2015-09-18 | 描画装置及び描画装置の描画方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2015184636A Pending JP2017056070A (ja) | 2015-09-18 | 2015-09-18 | 描画装置及び描画装置の描画方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP2017056070A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10556449B2 (en) | 2017-09-29 | 2020-02-11 | Ricoh Company, Ltd. | Liquid discharge apparatus and image forming method |
| JP7444195B2 (ja) | 2022-06-20 | 2024-03-06 | カシオ計算機株式会社 | 塗布システム、塗布支援方法及びプログラム |
Citations (4)
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| JP2001058398A (ja) * | 1999-08-19 | 2001-03-06 | Fuji Xerox Co Ltd | インク乾燥装置及びインクジェット記録装置 |
| JP2001096727A (ja) * | 1999-09-29 | 2001-04-10 | Fuji Xerox Co Ltd | インク乾燥装置およびインクジェット記録装置 |
| JP2009234103A (ja) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Noritsu Koki Co Ltd | インクジェットプリンタ及びその制御方法 |
| JP2012013297A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Seiko Epson Corp | 乾燥装置及び液体噴射装置 |
-
2015
- 2015-09-18 JP JP2015184636A patent/JP2017056070A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US10556449B2 (en) | 2017-09-29 | 2020-02-11 | Ricoh Company, Ltd. | Liquid discharge apparatus and image forming method |
| JP7444195B2 (ja) | 2022-06-20 | 2024-03-06 | カシオ計算機株式会社 | 塗布システム、塗布支援方法及びプログラム |
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