JP2017055092A - 半導体発光素子 - Google Patents
半導体発光素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017055092A JP2017055092A JP2015180195A JP2015180195A JP2017055092A JP 2017055092 A JP2017055092 A JP 2017055092A JP 2015180195 A JP2015180195 A JP 2015180195A JP 2015180195 A JP2015180195 A JP 2015180195A JP 2017055092 A JP2017055092 A JP 2017055092A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor
- electrode
- semiconductor region
- layer
- metal layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Led Devices (AREA)
Abstract
【課題】光取り出し効率の高い半導体発光素子を提供する。
【解決手段】半導体発光素子110は、金属層20と、第1〜第3半導体層11〜13と、第1電極51と、第1絶縁層60とを含む。第1半導体層11は、第1〜第3半導体領域11a、11b、11cを含む。第1電極51は、第1、第2電極部分51a、51bを含む。第1絶縁層60は、第2電極部分51bと第3半導体領域11cとの間に設けられた第1絶縁部分60aを含む。第1電極部分51aの第1厚さt1は、第2電極部分51bの第2厚さt2よりも厚い。第1電極部分51aは、金属層20に対向する第1面s1を含む。第2電極部分51bは、第1面s1と連続し金属層20に対向する第2面s2を含む。金属層20は、第1面s1及び第2面s2に対向する第3面s3を含む。第1面s1及び第2面s2のそれぞれは、第3面s3に対して平行である。
【選択図】図1
【解決手段】半導体発光素子110は、金属層20と、第1〜第3半導体層11〜13と、第1電極51と、第1絶縁層60とを含む。第1半導体層11は、第1〜第3半導体領域11a、11b、11cを含む。第1電極51は、第1、第2電極部分51a、51bを含む。第1絶縁層60は、第2電極部分51bと第3半導体領域11cとの間に設けられた第1絶縁部分60aを含む。第1電極部分51aの第1厚さt1は、第2電極部分51bの第2厚さt2よりも厚い。第1電極部分51aは、金属層20に対向する第1面s1を含む。第2電極部分51bは、第1面s1と連続し金属層20に対向する第2面s2を含む。金属層20は、第1面s1及び第2面s2に対向する第3面s3を含む。第1面s1及び第2面s2のそれぞれは、第3面s3に対して平行である。
【選択図】図1
Description
本発明の実施形態は、半導体発光素子に関する。
発光ダイオード(LED:Light Emitting Diode)などの半導体発光素子において、光取り出し効率の向上が求められている。
本発明の実施形態は、光取り出し効率の高い半導体発光素子を提供する。
本発明の実施形態によれば、金属層と、第1半導体層と、第2半導体層と、第3半導体層と、第1電極と、第1絶縁層と、を含む半導体発光素子が提供される。前記第1半導体層は、第1導電形である。前記第1半導体層は、前記金属層と第1方向に離間する。前記第1半導体層は、第1半導体領域と、前記第1方向と交差する第2方向において前記第1半導体領域と並ぶ第2半導体領域と、前記第1半導体領域と前記第2半導体領域との間の第3半導体領域と、を含む。前記第2半導体層は、第2導電形である。前記第2半導体層は、前記第2半導体領域と前記金属層との間に設けられる。前記第3半導体層は、前記第2半導体領域と前記第2半導体層との間に設けられる。前記第1電極は、前記金属層と前記第1半導体領域との間、及び、前記金属層と前記第3半導体領域との間に設けられ、前記第1半導体領域と電気的に接続される。前記第1電極は、第1電極部分と、第2電極部分と、を含む。前記第1電極部分は、前記第1方向において前記第1半導体領域と重なる。前記第2電極部分は、前記第1方向において前記第3半導体領域と重なる。前記第1絶縁層は、第1絶縁部分を含む。前記第1絶縁部分は、前記第2電極部分と前記第3半導体領域との間に設けられる。前記第1電極部分の第1厚さは、前記第2電極部分の第2厚さよりも厚い。前記第1電極部分は、前記金属層に対向する第1面を含む。前記第2電極部分は、前記第1面と連続し前記金属層に対向する第2面を含む。前記金属層は、前記第1面及び前記第2面に対向する第3面を含む。前記第1面及び前記第2面のそれぞれは、前記第3面に対して平行である。
以下に、本発明の各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
なお、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
なお、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
(第1の実施形態)
図1(a)及び図1(b)は、第1の実施形態に係る半導体発光素子の一部を例示する模式的断面図である。
図1(b)は、図1(a)の一部APを拡大して示している。
図1(a)及び図1(b)は、第1の実施形態に係る半導体発光素子の一部を例示する模式的断面図である。
図1(b)は、図1(a)の一部APを拡大して示している。
本実施形態に係る半導体発光素子110は、金属層20と、基体30と、第1半導体層11と、第2半導体層12と、第3半導体層13と、第1電極51と、第2電極52と、第1絶縁層60と、第2絶縁層70と、を含む。
この例においては、p側パッド及びn側パッドの図示を省略する。
この例においては、p側パッド及びn側パッドの図示を省略する。
基体30としては、シリコン(Si)またはサファイアなどの半導体基板が用いられる。基体30は、例えば、導電性である。金属層20は、基体30の上に設けられる。金属層20には、例えば、錫(Sn)、金(Au)、ニッケル(Ni)、錫と金を含む合金、または、錫とニッケルを含む合金などが用いられる。
第1半導体層11は、第1導電形である。第1半導体層11は、第1方向において金属層20と離間する。第1半導体層11は、第1半導体領域11aと、第1方向と交差する第2方向において第1半導体領域11aと並ぶ第2半導体領域11bと、第1半導体領域11aと第2半導体領域11bとの間の第3半導体領域11cと、を含む。
第2半導体層12は、第2導電形である。第2半導体層12は、第2半導体領域11bと金属層20との間に設けられる。
例えば、第1導電形はn形であり、第2導電形はp形である。第1導電形がp形であり、第2導電形がn形でも良い。以下の例では、第1導電形がn形、第2導電形がp形とする。
第1方向は、例えば、Z軸方向とする。Z軸方向は、第2半導体層12と第1半導体層11とが積層される方向である。Z軸方向に対して垂直な1つの方向をX軸方向とする。第2方向は、例えば、X軸方向である。Z軸方向とX軸方向とに対して垂直な1つの方向をY軸方向とする。
第3半導体層13は、第2半導体領域11bと第2半導体層12との間に設けられる。第3半導体層13は、例えば、活性層を含む。第3半導体層13は、例えば、発光部である。
第1半導体層11、第2半導体層12及び第3半導体層13は、積層体10に含まれる。積層体10は、X−Y平面に広がっている。積層体10は、メサ形状の凸部10aを含む。凸部10aは、第2半導体領域11bの一部、第3半導体層13及び第2半導体層12を含む。積層体10には、X軸方向において凸部10aと並ぶ凹部10bが設けられている。これらの凸部10a及び凹部10bは、メサの段差構造を構成する。
第1半導体層11、第2半導体層12及び第3半導体層13は、例えば、窒化物半導体を含む。第1半導体層11には、例えば、n形不純物を含むGaN層が用いられる。n形不純物には、Si、O、Ge、Te及びSnの少なくともいずれかが用いられる。第1半導体層11は、例えば、n側コンタクト層を含む。第2半導体層12には、例えば、p形不純物を含むGaN層が用いられる。p形不純物には、Mg、Zn及びCの少なくともいずれかが用いられる。第2半導体層12は、例えば、p側コンタクト層を含む。
第1電極51は、金属層20と第1半導体領域11aとの間、及び、金属層20と第3半導体領域11cとの間に設けられる。第1電極51は、第1半導体領域11aと電気的に接続される。第1電極51は、第1電極部分51aと、第2電極部分51bと、を含む。第1電極部分51aは、Z軸方向において第1半導体領域11aと重なる。第2電極部分51bは、Z軸方向において第3半導体領域11cと重なる。重なるとは、例えば、Z軸方向と直交する平面に投影したときに、少なくとも一部が重なる状態をいう。第1電極51は、例えば、n電極である。第1電極51には、例えば、アルミニウム(Al)またはアルミニウム系合金及びこれら金属を含む積層構造膜などの光反射性の材料が用いられる。
第2電極52は、第2半導体層12と金属層20との間に設けられている。第2電極52は、第2半導体層12と電気的に接続される。第2電極52は、金属層20と電気的に接続される。第2電極52は、例えば、p電極である。第2電極52には、例えば、銀(Ag)または銀系合金などの光反射性の材料が用いられる。
第1電極51の光反射率は、金属層20の光反射率よりも高い。第2電極52の光反射率は、金属層20の光反射率よりも高い。光反射率とは、例えば、第3半導体層13から放出される発光光のピーク波長における光反射率である。ピーク波長とは、光強度が最大となるときの波長である。
本明細書において、電気的に接続されている状態は、第1導体と第2導体とが直接接している状態を含む。さらに、電気的に接続されている状態は、第1導体と第2導体との間に第3導体が挿入されて、第3導体を介して第1導体と第2導体の間に電流が流れる状態を含む。重なる状態は、Z軸方向と直交する平面(X−Y平面)上に投影したときに、少なくとも一部が重なる状態を含む。
第1絶縁層60は、第1絶縁部分60aを含む。第1絶縁部分60aは、第2電極部分51bと第3半導体領域11cとの間に設けられる。第1絶縁層60は、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、または、酸窒化シリコンなどを含む。
第2絶縁層70は、第1電極51と金属層20との間に設けられている。第2絶縁層70は、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、または、酸窒化シリコンなどを含む。
第2絶縁層70と金属層20との間、及び、第2電極52と金属層20との間にバリアメタル80が設けられる。バリアメタル80は、光反射性であることが好ましい。バリアメタル80には、例えば、チタン(Ti)、白金(Pt)、チタンと白金を含む合金、銀、または、銀系合金などが用いられる。
基体30は、バリアメタル80及び金属層20を介して第2電極52と電気的に接続される。基体30は、金属層20と裏面電極40との間に設けられている。裏面電極40は、基体30、金属層20及びバリアメタル80を介して第2電極52と電気的に接続される。
半導体発光素子110は、LEDである。第3半導体層13から放出された光(発光光)は、半導体発光素子110の外部に出射される。第3半導体層13の発光光は、第2電極52及び第1電極51で反射される。第1半導体層11の表面が、光出射面となる。
上記において、基体30は、裏面電極40の上に設けられる。金属層20は、基体30の上に設けられる。バリアメタル80は、金属層20の上に設けられる。第2絶縁層70及び第2電極52のそれぞれは、バリアメタル80の上に設けられる。第1電極51は、第2絶縁層70の上に設けられる。第1電極51は、第1電極部分51aと、第2電極部分51bと、を含む。第1絶縁層60は、第2電極部分51bの上に設けられる。第2半導体層12は、第2電極52の上に設けられる。第3半導体層13は、第2半導体層12の上に設けられる。第1半導体層11は、第3半導体層13の上と、第1絶縁層60の上と、第1電極部分51aの上と、にそれぞれ設けられる。
実施形態においては、第1絶縁層60の第1絶縁部分60aは、第3半導体領域11cと第2電極部分51bとの間に設けられている。第1電極51は、凹部10bの略全体に渡って設けられている。第1電極部分51aの第1厚さt1は、第2電極部分51bの第2厚さt2よりも厚い。
第1電極51は、金属層20に対向する面BS1を含む。面BS1は、例えば、第1電極51の下面である。第1電極部分51aは、第1面s1を含む。第1面s1は、金属層20に対向する。第2電極部分51bは、第2面s2を含む。第2面s2は、第1面s1と連続し、金属層20に対向する。面BS1は、第1面s1及び第2面s2を含む。金属層20は、第3面s3を含む。第3面s3は、第1面s1及び第2面s2に対向する。第1面s1及び第2面s2のそれぞれは、第3面s3に対して平行である。
第3面s3の上には、バリアメタル80及び第2絶縁層70が設けられる。これらバリアメタル80及び第2絶縁層70は、第3面s3に対して平行である。第1電極部分51a及び第2電極部分51bは、第2絶縁層70の上に設けられている。第1面s1及び第2面s2のそれぞれは、第3面s3に対して平行となる。ここで、平行とは、厳密な平行だけではなく、例えば、製造工程におけるばらつきなどを含むものであり、実質的に平行であれば良い。
すなわち、第1面s1と第2面s2とは面一である。ここで、面一とは、厳密な面一だけではなく、例えば、製造工程におけるばらつきなどを含むものであり、実質的に面一であれば良い。
例えば、第1厚さt1と第2厚さt2との差の絶対値は、第1絶縁部分60aの第3厚さt3の0.8倍以上1.2倍以下である。第2厚さt2は、第3厚さt3よりも厚い。
メサ深さが、例えば、1.5マイクロメートル(μm)の場合、第1厚さt1は、例えば、1.5マイクロメートル(μm)以上2.5μm以下であることが好ましい。より好ましくは、第1厚さt1は、約2.0μmである。
第2厚さt2は、例えば、1.0μm以上、2.0μm以下であることが好ましい。より好ましくは、例えば、1.2μm以上、1.6μ以下である。
第3厚さt3は、例えば、0.2μm以上、1.0μm以下であることが好ましい。より好ましくは、例えば、0.4μm以上、0.8μm以下である。
第2厚さt2は、例えば、1.0μm以上、2.0μm以下であることが好ましい。より好ましくは、例えば、1.2μm以上、1.6μ以下である。
第3厚さt3は、例えば、0.2μm以上、1.0μm以下であることが好ましい。より好ましくは、例えば、0.4μm以上、0.8μm以下である。
実施形態においては、第1距離d1は、第1電極部分51aと金属層20との間のZ軸方向に沿った距離である。第2距離d2は、第2電極部分51bと金属層20との間のZ軸方向に沿った距離である。より具体的には、第1距離d1は、金属層20の面BS2(例えば、金属層20の下面)から第1電極部分51aの第1面s1までの距離である。第2距離d2は、金属層20の面BS2から第2電極部分51bの第2面s2までの距離である。
第1距離d1は、例えば、第2距離d2の0.8倍以上、1.2倍以下である。第1距離d1は、例えば、第2距離d2と実質的に等しいことが好ましい。第1距離d1を第2距離d2の0.8倍以上1.2倍以下とすることで、密着性の向上を図ることが可能となる。
第1電極51は、第1半導体領域11aに対向する第4面s4を含む。第4面s4は、例えば、第1電極51の上面である。第4面s4は、例えば、第1半導体領域11aと接する面である。第4面s4の反対の側には、面BS1、すなわち、第1面s1及び第2面s2が設けられている。第1面s1及び第2面s2は、例えば、CMP(Chemical Mechanical Polishing)処理などにより、平坦化されている。
第1面s1及び第2面s2は、第2絶縁層70に対して、実質的に平行であり、凹凸の少ない平坦(スムーズ)な面である。すなわち、第1面s1と第2面s2とは実質的に面一である。このため、第1電極51と第2絶縁層70との間において段差を低減することができる。
実施形態においては、第1半導体層11は、さらに、第2半導体領域11bと第3半導体領域11cとの間の第4半導体領域11dを含む。第2電極部分51bは、Z軸方向において第4半導体領域11dと重なる。すなわち、第1電極51が第2半導体層12の下まで延在している。このため、第3半導体層13の発光光をロスなく反射させることができる。
より具体的には、第2半導体層12は、第1延在部12aを含む。第1延在部12aは、第4半導体領域11dと金属層20との間に延在する。第3半導体層13は、第2延在部13aを含む。第2延在部13aは、第4半導体領域11dと第1延在部12aとの間に延在する。第2電極部分51bは、Z軸方向において第2半導体層12と重なる。第1絶縁層60は、第2絶縁部分60bをさらに含む。第2絶縁部分60bは、第2電極部分51bと第1延在部12aとの間、及び、第2電極部分51bと第2延在部13aとの間に設けられている。
第1延在部12aは、第1側面ss1を含む。第1側面ss1は、Z軸方向に対して傾斜する。第2電極部分51bは、第2側面ss2を含む。第2側面ss2は、Z軸方向に対して傾斜する。第2絶縁部分60bは、第1側面ss1と第2側面ss2との間に設けられている。第2側面ss2は、第2絶縁部分60bを介して第1側面ss1に対向している。
さらに、第2絶縁部分60bは、第2電極部分51bと第4半導体領域11dとの間に延在してもよい。
さらに、第2絶縁部分60bは、第1絶縁部分60aと連続していてもよい。
図2は、参考例に係る半導体発光素子の一部を例示する模式的断面図である。
参考例に係る半導体発光素子199は、凹部10bの一部に、n電極として、厚さ2μm程度の第1電極58が設けられている。この第1電極58により、凹部10bの表面に大きな段差が生じる。段差を有する表面に第2絶縁層79及びバリアメタル89が形成される。第2絶縁層79とバリアメタル89とが形成された段差部において品質の悪い界面が生じる。このような界面においては、密着性が悪く、剥離などが発生し易くなる。これにより、光取り出し効率を低下させる場合がある。
参考例に係る半導体発光素子199は、凹部10bの一部に、n電極として、厚さ2μm程度の第1電極58が設けられている。この第1電極58により、凹部10bの表面に大きな段差が生じる。段差を有する表面に第2絶縁層79及びバリアメタル89が形成される。第2絶縁層79とバリアメタル89とが形成された段差部において品質の悪い界面が生じる。このような界面においては、密着性が悪く、剥離などが発生し易くなる。これにより、光取り出し効率を低下させる場合がある。
また、第1電極58による大きな段差は、第2絶縁層79及びバリアメタル89に、スリット及びボイドを発生させる。スリット及びボイドによってリークパスLp1が形成される。金属層29の金属(Snなど)が、リークパスLp1を介して、第2絶縁層79、バリアメタル89、または第2電極59に拡散することがある。
例えば、バリアメタル89及び第2電極59に、銀または銀系合金が用いられている場合には、金属層29から拡散された金属が、銀を変質させる。銀の変質は、光取り出し効率を低下させる場合がある。
すなわち、第1電極58による段差は、光取り出し効率を低下させる原因となる。
これに対して、本実施形態(図1)によれば、第1絶縁部分60aは、第3半導体領域11cと第2電極部分51bとの間に設けられている。第1電極部分51aの第1厚さt1は、第2電極部分51bの第2厚さt2よりも厚い。第1電極部分51aは、第1面s1を含む。第1面s1は、金属層20に対向する。第2電極部分51bは、第2面s2を含む。第2面s2は、第1面s1と連続し、金属層20に対向する。金属層20は、第3面s3を含む。第3面s3は、第1面s1及び第2面s2に対向する。第1面s1及び第2面s2のそれぞれは、第3面s3に対して実質的に平行である。第1面s1と第2面s2とは実質的に面一である。これにより、第1電極51の面BS1が平坦化される。
すなわち、第1電極51は、凹部10bの略全体に渡って設けられている。第1電極51の面BS1が第2絶縁層70及びバリアメタル80に対して平坦化されている。これにより、第1電極51の段差が低減される。このため、第2絶縁層70及びバリアメタル80の密着性が良好となり、剥離などの発生を抑制することができる。第2絶縁層70及びバリアメタル80のそれぞれにおけるリークパスLp1の発生を抑制することができる。
これにより、光取り出し効率を向上させることができる。
さらに、参考例の半導体発光素子199の場合、第1電極58による大きさ段差は、接合後の金属層29においてボイドBd1を発生させることがある。ボイドBd1の発生は、例えば、金属層29における接合剥がれなどを発生させ、歩留まりを低下させる。すなわち、第1電極58による大きな段差は、歩留まりを低下させ、生産性を悪化させる原因ともなる。
これに対して、本実施形態によれば、上記のように第1電極51による段差が低減される。このため、金属層20におけるボイドの発生を抑制することができる。これにより、歩留まりを向上させ、生産性を高めることができる。
さらに、参考例の半導体発光素子199の場合、第1電極58と第2電極59との間には、加工合わせ精度の関係で、数μm程度の間隔c1が必要となる。この間隔c1には、第1電極58が存在しない。このため、間隔c1では第3半導体層13の発光光を反射させることができず、間隔c1に入射する発光光はロスになっている。このため、光取り出し効率が低下してしまう。
これに対して、本実施形態においては、第1半導体層11は、さらに、第2半導体領域11bと第3半導体領域11cとの間の第4半導体領域11dを含む。第2電極部分51bは、Z軸方向において第4半導体領域11dと重なる。つまり、第1電極51が第2半導体層12の下まで延在している。図2の参考例と比べ、第2電極部分51bと第2電極52との間のX軸方向における距離d3が短くなっている。距離d3は、例えば、0.5μm以上3.0μm以下であることが好ましい。第1電極51で反射させた反射光L1は、第1半導体層11の上部から取り出すことができる。
すなわち、第2半導体層12は、第4半導体領域11dに延在する第1延在部12aを含む。第1延在部12aは、第1側面ss1を含む。第1側面ss1は、Z軸方向に対して傾斜する。第2電極部分51bは、第2側面ss2を含む。第2側面ss2は、Z軸方向に対して傾斜し、第2絶縁部分60bを介して第1側面ss1に対向している。このように、第2電極部分51bの第2側面ss2を傾斜させることで、第3半導体層13の発光光を、第2側面ss2で効率的に反射させることができる。
これにより、第3半導体層13の発光光を、第1電極51でロスなく反射させることができる。これにより、光取り出し効率をより高めることができる。
さらに、第1電極51を凹部10bの略全体に渡って設けることで、第1電極51と第2電極52との間における位置合わせを行う必要がなくなる。
なお、第1電極51による段差を低減するためには、第1電極51の厚さを薄くすることが考えられる。しかし、この場合、第1電極51における電流密度が低くなるため、好ましくない。
これに対して、本実施形態においては、第1電極51の厚さを薄くすることなく、第1電極51の面積を大きくしている。これにより、第1電極51における電流密度を高めることができる。
第1の実施形態の別の例について説明する。
図1(a)及び図1(b)に示すように、第2電極52は、第2半導体層12に対向する第5面s5と、金属層20に対向する第6面s6と、を有する。
図1(a)及び図1(b)に示すように、第2電極52は、第2半導体層12に対向する第5面s5と、金属層20に対向する第6面s6と、を有する。
第1電極部分51aと金属層20との間のZ軸方向に沿った第1距離d1は、第2電極52と金属層20との間のZ軸方向に沿った距離d4の0.8倍以上1.2倍以下である。第1距離d1は、例えば、第1電極部分51aの第1面s1と金属層20の面BS2との間の距離である。距離d4は、例えば、第2電極52の第6面s6と金属層20の面BS2との間の距離である。
第2電極部分51bと金属層20との間のZ軸方向に沿った第2距離d2は、第2電極52と金属層20との間のZ軸方向に沿った距離d4の0.8倍以上1.2倍以下である。第2距離d2は、例えば、第2電極部分51bの第2面s2と金属層20の面BS2との間の距離である。
第1電極51の第1面s1及び第2面s2と、第2電極52の第6面s6と、が実質的に面一であることが好ましい。これにより、第1電極51と第2電極52との間においても段差が低減される。
上記において、第5面s5の面積を、第4面s4の面積よりも大きくすることがより好ましい。第4面s4を含む部分には、例えば、アルミニウムが用いられる。第5面s5を含む部分には、例えば、銀が用いられる。一般に、銀の光反射率は、アルミニウムの光反射率よりも高い。このため、第5面s5の面積を大きくすることで、光取り出し効率をより高めることができる。
(第2の実施形態)
図3(a)〜図3(d)、図4(a)〜図4(d)、図5(a)〜図5(d)は、第2の実施形態に係る半導体発光素子の製造方法を例示する工程順模式的断面図である。
図3(a)〜図3(d)、図4(a)〜図4(d)、図5(a)〜図5(d)は、第2の実施形態に係る半導体発光素子の製造方法を例示する工程順模式的断面図である。
図3(a)に示すように、成長用基板90の下に、バッファ層(図示せず)を形成し、バッファ層の上(図3(a)では下)に、第1半導体層11となる第1半導体膜11fを形成する。第1半導体膜11fの上(図3(a)では下)に、第3半導体層13となる第3半導体膜13fを形成する。第3半導体膜13fの上(図3(a)では下)に、第2半導体層12となる第2半導体膜12fを形成する。これにより、積層膜10fが得られる。
これらの膜の形成においては、例えば、エピタキシャル結晶成長が行われる。例えば、有機金属気相堆積(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition:MOCVD)法、有機金属気相成長(Metal-Organic Vapor Phase Epitaxy:MOVPE)法、分子線エピタキシー(Molecular Beam Epitaxy:MBE)法、及び、ハライド気相エピタキシー(Halide Vapor Phase Epitaxy:HVPE)法などが用いられる。
成長用基板90には、例えば、Si、SiO2、AlO2、石英、サファイア、GaN、SiC及びGaAsのいずれかの基板が用いられる。成長用基板90には、それらを組み合わせた基板を用いても良い。成長用基板90の面方位は任意である。
図3(b)に示すように、積層膜10fに、メサ形状の積層体10を形成する。第2半導体膜12fの一部と、第3半導体膜13fの一部と、第1半導体膜11fの一部と、を除去して、積層体10を形成する。積層体10は、第1半導体層11、第2半導体層12及び第3半導体層13を含む。この除去の加工においては、例えば、RIE(Reactive Ion Etching)などが用いられる。このRIEにおいては、例えば、塩素を含むガスが用いられる。積層体10は、凸部10a及び凹部10bを含む。凸部10aは、第2半導体領域11bの一部、第2半導体層12及び第3半導体層13を含む。凹部10bには、第1半導体領域11aが含まれる。これにより、メサ段差構造の積層体10が形成される。
図3(c)に示すように、積層体10の上(図3(c)では下)に、第1絶縁層60となる第1絶縁膜60fを形成する。第1絶縁膜60fとしては、例えば、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、スパッタ法、または、SOG(Spin On Glass)法などが用いられる。第1絶縁膜60fには、例えば、SiO2などの酸化シリコンが用いられる。
図3(d)に示すように、第1絶縁膜60fの一部が除去されて露出した第1半導体層11の上(図3(d)では下)に、n側の第1電極51を形成する。第1電極51は、凹部10bの略全体に渡って形成される。第1電極51の面BS1(下面)には、例えば、CMP処理などを行う。研磨剤、添加物、研磨剤の含有量、及び、添加物の濃度などが適切に設定される。このCMP処理により、第1電極51の面BS1を平坦にすることができる。
図4(a)に示すように、第1電極51が形成された積層体10の上(図4(a)では下)に、第2絶縁層70となる第2絶縁膜70fが形成される。第2絶縁膜70fとしては、例えば、CVD法、スパッタ法、または、SOG法などが用いられる。第2絶縁膜70fには、例えば、SiO2などの酸化シリコンが用いられる。
図4(b)に示すように、第2絶縁膜70fの一部が除去されて露出した第2半導体層12の上(図4(b)では下)に、p側の第2電極52を形成する。そしてさらに、第2電極52及び第2絶縁層70の上(図4(b)では下)に、バリアメタル80を形成する。バリアメタル80には、例えば、Ti/Pt/Tiの積層膜が用いられる。
図4(c)に示すように、バリアメタル80の上(図4(c)では下)に、第1金属膜20aを形成する。また、予め準備された基体30の上に、第2金属膜20bを形成する。基体30は、例えば、Siなどの支持基板である。第1金属膜20aと第2金属膜20bとが接合されて金属層20が形成される。第1金属膜20a及び第2金属膜20bのそれぞれには、AuSn合金、NiSn合金などが用いられる。
図4(d)に示すように、第1半導体層11から成長用基板90が除去される。例えば、成長用基板90がシリコン基板の場合は、除去には、研削及びドライエッチング(例えばRIE)などが用いられる。例えば、成長用基板90がサファイア基板の場合は、除去には、LLO(Laser Lift Off)などが用いられる。この例では、第1半導体層11の表面が露出する。
図5(a)に示すように、第1半導体層11の上面に、凹凸11pを形成する。なお、凹凸11pを設けることで、積層体10から効率良く光を取り出すことができる。凹凸11pの高さ(深さ)は、例えば、ピーク波長の0.5倍以上30倍以下である。Z軸方向に対して垂直な方向(例えばX軸方向でもよい)における凹凸11pの凸の幅は、例えば、ピーク波長の0.5倍以上30倍以下である。第3半導体層13から放出される光の強度は、ピーク波長において実質的にピーク(最高)となる。
図5(b)に示すように、積層体10の分離処理(アイソレーション)を実施する。そしてさらに、凹凸11pが形成された第1半導体層11の上に、透明膜10cを形成する。
図5(c)に示すように、透明膜10cの一部と、第1絶縁層60の一部とを除去して第1電極51の一部を露出させる。第2絶縁層70及びバリアメタル80の一部を除去して金属層20を露出させる。そしてさらに、除去により露出した第1電極51の領域の上に、n側パッド53を形成する。第1電極51とn側パッド53とは、電気的に接続される。除去により露出した金属層20の領域の上に、p側パッド54を形成する。第2電極52とp側パッド54とは、金属層20及びバリアメタル80を介して電気的に接続される。
図5(d)に示すように、基体30(例えば、シリコン基板)の厚さを薄くする処理を行う。例えば、研削などの処理により基体30の厚さを薄くする。これにより、熱容量を縮小することができる。そしてさらに、基体30の下に、裏面電極40を形成する。そしてさらに、ウェーハを所定の形状に分断する。これにより、半導体発光素子110が得られる。
上記の製造工程において、技術的に可能な範囲で、処理の順序を入れ替えても良い。適宜、アニール処理を行っても良い。
上記の製造工程において、技術的に可能な範囲で、処理の順序を入れ替えても良い。適宜、アニール処理を行っても良い。
実施形態によれば、光取り出し効率の高い半導体発光素子が提供できる。
本明細書において「窒化物半導体」とは、BxInyAlzGa1−x−y−zN(0≦x≦1,0≦y≦1,0≦z≦1,x+y+z≦1)なる化学式において組成比x、y及びzをそれぞれの範囲内で変化させた全ての組成の半導体を含むものとする。またさらに、上記化学式において、N(窒素)以外のV族元素もさらに含むもの、導電形などの各種の物性を制御するために添加される各種の元素をさらに含むもの、及び、意図せずに含まれる各種の元素をさらに含むものも、「窒化物半導体」に含まれるものとする。
以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、金属層、第1半導体層、第2半導体層、第3半導体層、第1電極及び第1絶縁層などの各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。
また、各具体例のいずれか2つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。
その他、本発明の実施の形態として上述した半導体発光素子を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての半導体発光素子も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。
その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
10…積層体、 10a…凸部、 10b…凹部、 10c…透明膜、 11…第1半導体層、 11a…第1半導体領域、 11b…第2半導体領域、 11c…第3半導体領域、 11d…第4半導体領域、 11p…凹凸、 12…第2半導体層、 12a…第1延在部、 13…第3半導体層、 13a…第2延在部、 20…金属層、 20a…第1金属膜、 20b…第2金属膜、 30…基体、 40…裏面電極、 51…第1電極、 51a…第1電極部分、 51b…第2電極部分、 52…第2電極、 53…n側パッド、 54…p側パッド、 60…第1絶縁層、 60a…第1絶縁部分、 60b…第2絶縁部分、 70…第2絶縁層、 80…バリアメタル、 90…成長用基板、 110、199…半導体発光素子、 L1…反射光、 Lp1…リークパス、 Bd1…ボイド、 BS1、BS2…面、 c1…間隔、 d1、d2…第1、第2距離、 d3、d4…距離、 s1〜s6…第1〜第6面、 t1〜t3…第1〜第3厚さ
Claims (20)
- 金属層と、
前記金属層と第1方向に離間し、第1半導体領域と、前記第1方向と交差する第2方向において前記第1半導体領域と並ぶ第2半導体領域と、前記第1半導体領域と前記第2半導体領域との間の第3半導体領域と、を含む第1導電形の第1半導体層と、
前記第2半導体領域と前記金属層との間に設けられた第2導電形の第2半導体層と、
前記第2半導体領域と前記第2半導体層との間に設けられた第3半導体層と、
前記金属層と前記第1半導体領域との間、及び、前記金属層と前記第3半導体領域との間に設けられ、前記第1半導体領域と電気的に接続された第1電極であって、前記第1方向において前記第1半導体領域と重なる第1電極部分と、前記第1方向において前記第3半導体領域と重なる第2電極部分と、を含む第1電極と、
前記第2電極部分と前記第3半導体領域との間に設けられた第1絶縁部分を含む第1絶縁層と、
を備え、
前記第1電極部分の第1厚さは、前記第2電極部分の第2厚さよりも厚く、
前記第1電極部分は、前記金属層に対向する第1面を含み、
前記第2電極部分は、前記第1面と連続し前記金属層に対向する第2面を含み、
前記金属層は、前記第1面及び前記第2面に対向する第3面を含み、
前記第1面及び前記第2面のそれぞれは、前記第3面に対して平行である、半導体発光素子。 - 前記第1面と前記第2面とは面一である、請求項1記載の半導体発光素子。
- 前記第1厚さと前記第2厚さとの差の絶対値は、前記第1絶縁部分の第3厚さの0.8倍以上1.2倍以下である、請求項1または2に記載の半導体発光素子。
- 前記第2厚さは、前記第3厚さよりも厚い、請求項3記載の半導体発光素子。
- 前記第1厚さは、1.5マイクロメートル以上2.5マイクロメートル以下である、請求項1〜4のいずれか1つに記載の半導体発光素子。
- 前記第2厚さは、1.0マイクロメートル以上2.0マイクロメートル以下である、請求項1〜5のいずれか1つに記載の半導体発光素子。
- 前記第3厚さは、0.2マイクロメートル以上1.0マイクロメートル以下である、請求項3または4に記載の半導体発光素子。
- 前記第2半導体層と前記金属層との間に設けられ前記第2半導体層と電気的に接続された第2電極をさらに備え、
前記第1電極部分と前記金属層との間の前記第1方向に沿った第1距離は、前記第2電極と前記金属層との間の前記第1方向に沿った距離の0.8倍以上1.2倍以下である、請求項1記載の半導体発光素子。 - 前記第2半導体層と前記金属層との間に設けられ前記第2半導体層と電気的に接続された第2電極をさらに備え、
前記第2電極部分と前記金属層との間の前記第1方向に沿った第2距離は、前記第2電極と前記金属層との間の前記第1方向に沿った距離の0.8倍以上1.2倍以下である、請求項1記載の半導体発光素子。 - 前記第1電極は、前記第1半導体領域に対向する第4面を含み、
前記第2電極は、前記第2半導体層に対向する第5面を含み、
前記第5面の面積は、前記第4面の面積よりも大きい請求項8または9に記載の半導体発光素子。 - 前記第2電極は、前記金属層と電気的に接続されている、請求項8〜10のいずれか1つに記載の半導体発光素子。
- 前記第2電極の光反射率は、前記金属層の光反射率よりも高い、請求項8〜10のいずれか1つに記載の半導体発光素子。
- 前記第1半導体層は、前記第2半導体領域と前記第3半導体領域との間の第4半導体領域をさらに含み、
前記第2電極部分は、前記第1方向において前記第4半導体領域と重なる、請求項1〜12のいずれか1つに記載の半導体発光素子。 - 前記第1半導体層は、前記第2半導体領域と前記第3半導体領域との間の第4半導体領域をさらに含み、
前記第2半導体層は、前記第4半導体領域と前記金属層との間に延在する第1延在部を含み、
前記第3半導体層は、前記第4半導体領域と前記第1延在部との間に延在する第2延在部を含み、
前記第2電極部分は、前記第1方向において前記第2半導体層と重なり、
前記第1絶縁層は、前記第2電極部分と前記第1延在部との間、及び、前記第2電極部分と前記第2延在部との間に設けられた第2絶縁部分をさらに含む、請求項1〜12のいずれか1つに記載の半導体発光素子。 - 前記第1延在部は、前記第1方向に対して傾斜する第1側面を含み、
前記第2電極部分は、前記第1方向に対して傾斜する第2側面を含み、
前記第2絶縁部分は、前記第1側面と第2側面との間に設けられている、請求項14記載の半導体発光素子。 - 前記第2絶縁部分は、前記第2電極部分と前記第4半導体領域との間に延在する、請求項15記載の半導体発光素子。
- 前記第2絶縁部分は、前記第1絶縁部分と連続している、請求項15または16に記載の半導体発光素子。
- 前記第1電極と前記金属層との間に設けられた第2絶縁層をさらに備えた請求項1〜17のいずれか1つに記載の半導体発光素子。
- 前記第1電極の光反射率は、前記金属層の光反射率よりも高い、請求項1〜18のいずれか1つに記載の半導体発光素子。
- 金属層と、
前記金属層と第1方向に離間し、第1半導体領域と、前記第1方向と交差する第2方向において前記第1半導体領域と並ぶ第2半導体領域と、前記第1半導体領域と前記第2半導体領域との間の第3半導体領域と、を含む第1導電形の第1半導体層と、
前記第2半導体領域と前記金属層との間に設けられた第2導電形の第2半導体層と、
前記第2半導体領域と前記第2半導体層との間に設けられた第3半導体層と、
前記金属層と前記第1半導体領域との間、及び、前記金属層と前記第3半導体領域との間に設けられ、前記第1半導体領域と電気的に接続された第1電極であって、前記第1方向において前記第1半導体領域と重なる第1電極部分と、前記第1方向において前記第3半導体領域と重なる第2電極部分と、を含む第1電極と、
前記第2電極部分と前記第3半導体領域との間に設けられた第1絶縁部分を含む第1絶縁層と、
を備え、
前記第1電極部分の第1厚さは、前記第2電極部分の第2厚さよりも厚く、
前記第1電極部分は、前記金属層と対向する第1面を含み、
前記第2電極部分は、前記金属層と対向する第2面を含み、
前記第1面と前記第2面とは面一である、半導体発光素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015180195A JP2017055092A (ja) | 2015-09-11 | 2015-09-11 | 半導体発光素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015180195A JP2017055092A (ja) | 2015-09-11 | 2015-09-11 | 半導体発光素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017055092A true JP2017055092A (ja) | 2017-03-16 |
Family
ID=58317405
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015180195A Pending JP2017055092A (ja) | 2015-09-11 | 2015-09-11 | 半導体発光素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2017055092A (ja) |
-
2015
- 2015-09-11 JP JP2015180195A patent/JP2017055092A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9972657B2 (en) | Semiconductor light emitting element | |
JP2019033280A (ja) | 基板ウェハ上に形成された発光デバイスを分離する方法 | |
JP2012114184A (ja) | 発光ダイオード | |
JP2005150675A (ja) | 半導体発光ダイオードとその製造方法 | |
JP5056799B2 (ja) | Iii族窒化物半導体発光素子およびその製造方法 | |
JP2016174018A (ja) | 半導体発光素子 | |
US20160276539A1 (en) | Semiconductor light-emitting element | |
JP5646545B2 (ja) | 半導体発光素子及びその製造方法 | |
TWI591847B (zh) | Semiconductor light emitting element | |
US9590009B2 (en) | Semiconductor light emitting element | |
KR101499954B1 (ko) | 수직구조 그룹 3족 질화물계 반도체 발광다이오드 소자 및제조방법 | |
JP2016167512A (ja) | 半導体発光素子 | |
JP2008071910A (ja) | 窒化物半導体発光ダイオード素子およびその製造方法 | |
JP2017054902A (ja) | 半導体発光装置 | |
TWI594455B (zh) | Photoelectric semiconductor chip and its manufacturing method | |
JP2023135268A (ja) | 発光素子の製造方法及び発光素子 | |
JP2007227820A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP2017055092A (ja) | 半導体発光素子 | |
US9231160B1 (en) | Semiconductor light emitting element | |
JP2015233086A (ja) | 半導体発光素子及びその製造方法 | |
JP2001251018A (ja) | Iii族窒化物系化合物半導体レーザ | |
CN109686827B (zh) | 发光模组的制备方法、发光模组、显示装置及终端 | |
JP5951732B2 (ja) | 半導体発光素子 | |
JP2016015376A (ja) | 発光素子 | |
US20160268474A1 (en) | Semiconductor light emitting device |