JP2017035349A - マッサージ機 - Google Patents
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Abstract
【課題】使用者の足裏の適切な位置に対して集中的にマッサージを行うことができ、またより効果的な足先ストレッチを行うことができるマッサージ機を提供する。【解決手段】使用者の足を支持する足ユニット3と、前記足ユニット3に設けられた足施療部5cと、前記足施療部5cを制御する制御部6と、を有するマッサージ機1において、前記足ユニット3は、使用者の足裏の下側に空間Pを有しており、前記足施療部5cは、施療部材3aと、前記施療部材3aを前記空間P内の使用者の足の長手方向へ移動させる移動手段40と、使用者の足先を上方から押圧する押圧手段と、を有しており、前記制御部6は、前記移動手段40により前記施療部材3aの移動可能範囲よりも短い範囲内で往復移動させることや、前記押圧手段による押圧動作と前記移動手段40による前記施療部材3aを前方から後方へ移動させる動作とを組合せて制御をするマッサージ機1である。【選択図】 図1
Description
本発明はマッサージ機に関する。
従来、足裏を被施療部としてマッサージ施療を行うマッサージ機において、前記被施療部に対してマッサージ施療を行う施療子と、前記施療子を第1の方向と、第1の方向とは逆の第2の方向のいずれにも移動させるものが知られている(特許文献1の図1及び図2参照)。
また、足載せ用本体部上にローラ回転部が設けられるとともに、該本体部のローラ回転部より前方位置に、エアの排出・供給により収縮・膨張するエアセルを有する足先摘み部が配置された足マッサージ機において、足先のストレッチマッサージを行うものも知られている(特許文献2の図1及び図3参照)。
上記特許文献1〜2に記載の様なマッサージ機は、施療子を移動させて使用者の足裏全体に対してマッサージを行うが、足裏の適切な位置に対して集中的にマッサージを行うことができないという問題や、施療子であるローラを前後移動させてより効果的な足先ストレッチを行うことができないという問題がある。そこで、本発明は、上述した問題を解消するためになされたものであり、使用者の足裏の適切な位置に対して集中的にマッサージを行うことができ、またより効果的な足先ストレッチを行うことができるマッサージ機を提供することを目的とする。
本発明は、使用者の足を支持する足ユニットと、前記足ユニットに設けられた足施療部と、前記足施療部を制御する制御部と、を有するマッサージ機において、前記足施療部は、ローラからなる施療部材と、前記施療部材を使用者の足の長手方向へ移動させる移動手段と、を有しており、前記制御部は、前記移動手段により前記施療部材の移動可能範囲よりも短い範囲内で往復移動させることを特徴とする。
このような構成とすることにより、使用者の足裏の適切な位置に対して集中的にマッサージを行うことができる。
このような構成とすることにより、使用者の足裏の適切な位置に対して集中的にマッサージを行うことができる。
本発明は、使用者の足を支持する足ユニットと、前記足ユニットに設けられた足施療部と、前記足施療部を制御する制御部と、を有するマッサージ機において、前記足ユニットは、使用者の足裏の下側に空間を有しており、前記足施療部は、施療部材と、前記施療部材を前記空間内の使用者の足の長手方向へ移動させる移動手段と、使用者の足先を上方から押圧する押圧手段と、を有しており、前記制御部は、前記押圧手段による押圧動作と前記移動手段による前記施療部材を前方から後方へ移動させる動作とを組合せて制御をすることを特徴とする。
このような構成とすることにより、押圧動作と施療部材を前方から後方へ移動させる動作を組合せることで、施療部材が移動して空いた空間に足先を落として前屈させる足先ストレッチを行うことができる。
このような構成とすることにより、押圧動作と施療部材を前方から後方へ移動させる動作を組合せることで、施療部材が移動して空いた空間に足先を落として前屈させる足先ストレッチを行うことができる。
本発明は、使用者の足を支持する足ユニットと、前記足ユニットに設けられた足施療部と、前記足施療部を制御する制御部と、を有するマッサージ機において、前記足ユニットは、使用者の足裏の下側に空間を有しており、前記足施療部は、施療部材と、前記施療部材を前記空間内の使用者の足の長手方向へ移動させる移動手段と、使用者の足先を上方から押圧する押圧手段と、を有しており、前記制御部は、前記押圧手段による押圧動作と前記移動手段による前記施療部材を土踏まず付近に位置させる動作とを組合せて制御することを特徴とする。
このような構成とすることにより、押圧動作と施療部材を土踏まず付近に位置させる動作を組合せることで、使用者の足先を上方から押圧することによる下方への押さえつけと施療部材による使用者の土踏まずの持ち上げにより、つま先に対してより効果的なストレッチを行うことができる。
このような構成とすることにより、押圧動作と施療部材を土踏まず付近に位置させる動作を組合せることで、使用者の足先を上方から押圧することによる下方への押さえつけと施療部材による使用者の土踏まずの持ち上げにより、つま先に対してより効果的なストレッチを行うことができる。
また、前記施療部材は、左右方向を軸として回転可能なローラを有することが好ましい。
このような構成とすることにより、施療部材を移動させることで、使用者の足裏に対してローラ作用を行うことができる。
このような構成とすることにより、施療部材を移動させることで、使用者の足裏に対してローラ作用を行うことができる。
また、記移動手段は、ピニオンと、ラックであることが好ましい。
このような構成とすることにより、施療部材を使用者の足の長手方向へ安定して移動させることができる。
このような構成とすることにより、施療部材を使用者の足の長手方向へ安定して移動させることができる。
また、前記マッサージ機は、前記施療部材の足の長手方向位置を検出するセンサを有することが好ましい。
このような構成とすることにより、施療部材を使用者の適切な施療位置に移動させることができる。
このような構成とすることにより、施療部材を使用者の適切な施療位置に移動させることができる。
また、前記押圧手段は、エアセルを有することが好ましい。
このような構成とすることにより、エアセルによって足を上方から押圧することができる。
このような構成とすることにより、エアセルによって足を上方から押圧することができる。
また、使用者の脚を支持する脚ユニットを有する前記マッサージ機において、前記脚ユニットは、使用者の下腿をマッサージ可能な下腿施療部を有し、前記下腿施療部は、下腿部をマッサージする施療子を有することが好ましい。
このような構成とすることにより、使用者の足先から下腿部にかけてマッサージを行うことができる。
このような構成とすることにより、使用者の足先から下腿部にかけてマッサージを行うことができる。
また、前記脚ユニットを下腿長手方向に移動させるアクチュエータを有する前記マッサージ機において、前記制御部は、前記移動手段による前記施療部材の移動方向と、前記脚ユニットの移動方向および前記施療子が下腿部に対してマッサージする施療方向のうち少なくともいずれかの方向とが、つま先側から心臓側に向かうように制御することが好ましい。
このような構成とすることにより、使用者のつま先側から心臓に向けて血行を促進させる求心法によるマッサージを行うことができる。
このような構成とすることにより、使用者のつま先側から心臓に向けて血行を促進させる求心法によるマッサージを行うことができる。
また、前記脚ユニットを下腿長手方向に移動させるアクチュエータを有する前記マッサージ機において、前記制御部は、前記移動手段による前記施療部材の移動方向と、前記脚ユニットの移動方向および前記施療子が被施療部に対してマッサージする施療方向のうち少なくともいずれかの方向とが、心臓側からつま先側に向かうように制御することが好ましい。
このような構成とすることにより、使用者の心臓からつま先側に向けて血行を促進させる遠心法によるマッサージを行うことができる。
このような構成とすることにより、使用者の心臓からつま先側に向けて血行を促進させる遠心法によるマッサージを行うことができる。
本発明によれば、使用者の足裏の適切な位置に対して集中的にマッサージを行うことができ、またより効果的な足先ストレッチを行うことができるマッサージ機を提供することができる。
[マッサージ機の全体構成]
以下、本発明のマッサージ機1の全体構成について説明する。
なお、以下の説明で用いる方向の概念は、椅子Cに着座した状態でマッサージ機を使用する使用者から見たときの方向の概念と一致するものとし、その他の場合は適宜説明するものとする。また、身体の表裏の定義については、起立した使用者の胸側を「表面」、背中側を「背面」として説明する。
以下、本発明のマッサージ機1の全体構成について説明する。
なお、以下の説明で用いる方向の概念は、椅子Cに着座した状態でマッサージ機を使用する使用者から見たときの方向の概念と一致するものとし、その他の場合は適宜説明するものとする。また、身体の表裏の定義については、起立した使用者の胸側を「表面」、背中側を「背面」として説明する。
図1は本発明の一実施形態に係る短縮状態におけるマッサージ機1の正面斜視図である。図2は短縮状態におけるマッサージ機1の背面斜視図である。図3は伸長状態におけるマッサージ機1の背面斜視図である。図4は短縮状態におけるマッサージ機1の側面図である。図5は伸長状態におけるマッサージ機1の側面図である。図6は脚ユニット2の平面図である。図7は足ユニット3の平面図である。図13は脚ユニット2の別実施形態の正面図である。図14はマッサージ機1の使用状態の説明図である。図15はマッサージ機1のブロック図である。なお、図14では、使用者の身体を二点鎖線で示している。
図1〜図5に示すとおり、本発明のマッサージ機1は、主として、使用者の下腿を支持する脚ユニット2と、使用者の足部を支持する足ユニット3と、脚ユニット2を下腿長手方向に移動させるアクチュエータ8と、を有している。足ユニット3は、床面等に安定して載置される。足ユニット3には、エアセル又はローラ等よりなる足施療部5cが設けられている。脚ユニット2は、足ユニット3の上側に設けられており、下腿長手方向へ移動可能である。脚ユニット2には、エアセル又はローラ等よりなる下腿施療部5aと、エアセル又はバイブレータ等よりなる大腿施療部5bが設けられている。また、マッサージ機1は、各施療部5a〜5c及びアクチュエータ8の駆動を制御する制御部6を有している。
以下、マッサージ機1の使用方法について説明する。図14に示すとおり、使用者は、床面から所定の高さに位置する座部Sを有する椅子Cに着座して使用する。この椅子Cに着座した使用者は、膝を曲げて下腿を垂下させた状態で、足部を足ユニット3に載置する。この際、足ユニット3の上側に設けられた脚ユニット2に下腿が支持された状態となる。このようにして、下腿及び足部が脚ユニット2及び足ユニット3にそれぞれ支持される。この状態で各施療部5a〜5c及び/又はアクチュエータ8を駆動することにより、使用者はマッサージを受けたり、脚ユニット2の位置決めを行ったりすることができる。なお、このマッサージ機1は、座部Sと分離したフットマッサージ機であってもよいし、座部Sの前側に設けられた椅子型マッサージ機であってもよい。
図1〜図6及び図15に示すとおり、脚ユニット2は、下腿の背面に対向する後面からなる後壁21と、後壁21の左右両側から前方へ立設された下腿の外側面に対向する対の第一側壁22と、後壁21の左右中央から前方へ立設された下腿の内側面に対向する中央壁23と、を有している。各壁21〜23により上方、下方及び前方が開口した凹部25が形成されており、凹部25に下腿を収容できるようになっている。また、第一側壁22及び中央壁23の上部には、略平坦面を有する上面カバー24が設けられている。従って、脚ユニット2の上面は、上面カバー24により略平坦面を形成しており、膝を曲げた状態の大腿部の背面と対向している。
第一側壁22の内側面には、下腿の外側面をマッサージする下腿施療部A1が設けられている。中央23壁の両側面には、下腿の内側面をマッサージする下腿施療部A2が設けられている。これら下腿施療部A1〜A2は、エアの給排気により膨張収縮するエアセルにより構成されている。脚ユニット2の上面を構成する上面カバー24には、大腿部の背面をマッサージする大腿施療部A3,B1が設けられている。大腿施療部A3は、エアの給排気により膨張収縮するエアセルにより構成されており、左右それぞれエアセルを独立して制御させることが可能である。左右片側ずつ,左右交互又は左右同時に制御することで、使用者の大腿部の背面に対してより高いストレッチ効果や施療効果を得ることができる。また、大腿施療部B1は、振動部材としてバイブレータにより構成されている。このバイブレータは、モータの出力軸に偏心質量を取り付けたような公知の構成となっている。そして、制御部6からの指示によりバイブレータが駆動すると、使用者の大腿部の背面に対して振動作用を与えることができる。後壁21の前側には、下腿の背面をマッサージする下腿施療部R1が設けられている。この下腿施療部R1は、施療子として左右方向を軸方向とする回転軸によって回転するローラにより構成されている。
脚ユニット2の別実施形態について説明する。図13に示すとおり、脚ユニット2は、対となる第一側壁22の上面から下腿の長手方向膝側に延設された左右一対の第二側壁26を有している。第二側壁26の内面には、大腿部の外側面をマッサージする大腿施療部A4,B2が設けられている。大腿施療部A4は、エアの給排気により膨張収縮するエアセルにより構成されており、左右それぞれエアセルを独立して制御させることが可能である。左右片側ずつ,左右交互又は左右同時に制御することで、使用者の大腿部の外側面に対してより高いストレッチ効果や施療効果を得ることができる。また、大腿施療部B2は、振動部材としてバイブレータにより構成されている。このバイブレータは、モータの出力軸に偏心質量を取り付けたような公知の構成となっている。そして、制御部6からの指示によりバイブレータが駆動すると、使用者の大腿部の外側面に対して振動作用を与えることができる。
図1〜図5及び図7に示すとおり、足ユニット3は、足裏に対向する底壁30と、底壁30の後部から上方へ立設された足部の後面(踵付近)に対向する後壁31と、底壁30の左右両側から上方へ立設された足部の外側面に対向する対の側壁32と、底壁30の左右中央から上方へ立設された足部の内側面に対向する中央壁33と、により形成されたフレームで構成されている。各壁30〜33により上方及び前方が開口した凹部35が形成されており、凹部35に足部を収容できるようになっている。底壁30は、後壁31よりも後方へ延設された延設部34を有している。
側壁32の内側面には、足部の外側面をマッサージする足施療部A5が設けられている。足施療部A5は、前後方向に複数(2つ)設けられており、それぞれの足施療部A5により足の甲及び足首をマッサージすることが可能である。中央壁33の両側面には、足部の内側面をマッサージする足施療部A6が設けられている。本実施形態では、足施療部A6は、足首に対応する位置にのみ設けられているが、足の甲に対応する位置にも設けられていてもよい。これら足施療部A5〜A6は、足先を上方又は側方から押圧する押圧手段を有している。前記押圧手段は、エアの給排気により膨張収縮するエアセルを有している。このように構成することで、エアセルにより足先を上方又は側方から押圧施療や足先を拘束することができる。
[足施療部R2の構成]
足ユニット3に設けられた足施療部R2を例にとって構成を説明する。
図8は足ユニット3の正面斜視図である。
図9は足施療部R2を示しており、底壁30,中央壁33,延設部34を取り除いた正面斜視図である。
図10は足施療部R2の駆動部41を示す図である。
図11は足施療部R2の減速機を示す図である。
図12は足施療部R2の減速機を示す図である。
足ユニット3に設けられた足施療部R2を例にとって構成を説明する。
図8は足ユニット3の正面斜視図である。
図9は足施療部R2を示しており、底壁30,中央壁33,延設部34を取り除いた正面斜視図である。
図10は足施療部R2の駆動部41を示す図である。
図11は足施療部R2の減速機を示す図である。
図12は足施療部R2の減速機を示す図である。
図8に示すとおり、足ユニット3には、フレームと、フレーム内に収納された足施療部R2と、を有している。
前記フレームは、足施療部R2を支持する支持部36を有している。
図9〜図10に示すとおり、足施療部R2は、施療部材3aと、施療部材3aを足の長手方向に移動させる移動手段40を有している。前記移動手段40は、駆動部41と、駆動部41内に設けられたモータ42と、モータ42の駆動により回転する駆動軸43と、駆動軸43に設けられた左右の足裏に対応して対をなす施療部材3aと、駆動軸43に設けられたピニオン44と、後述する第二支持部36bに設けられたラック45により構成されている。前記駆動軸43は、左右方向の軸方向としており、ギヤケース46に収容された減速機を介して前記モータ42に連結されている。
前記フレームは、足施療部R2を支持する支持部36を有している。
図9〜図10に示すとおり、足施療部R2は、施療部材3aと、施療部材3aを足の長手方向に移動させる移動手段40を有している。前記移動手段40は、駆動部41と、駆動部41内に設けられたモータ42と、モータ42の駆動により回転する駆動軸43と、駆動軸43に設けられた左右の足裏に対応して対をなす施療部材3aと、駆動軸43に設けられたピニオン44と、後述する第二支持部36bに設けられたラック45により構成されている。前記駆動軸43は、左右方向の軸方向としており、ギヤケース46に収容された減速機を介して前記モータ42に連結されている。
前記支持部36は、前記駆動軸43の中途部を支持する第一支持部36aと、前記駆動軸43の中途部より外側部を支持する第二支持部36bと、を有しており、前記第一支持部36aと前記第二支持部36bは、足の長手方向に延設して設けられている。
このように構成することで、足施療部R2の駆動軸43の中途部(中央)が撓むことを防止することが可能となる。
また、前記支持部36を身体の長手方向に延設してあるので、足施療部R2が移動して、身体部位の重量が変わっても、駆動軸43の撓みを防止することが可能となる。
このように構成することで、足施療部R2の駆動軸43の中途部(中央)が撓むことを防止することが可能となる。
また、前記支持部36を身体の長手方向に延設してあるので、足施療部R2が移動して、身体部位の重量が変わっても、駆動軸43の撓みを防止することが可能となる。
図12に示すモータ42はブラシレスモータであり、モータ42の駆動を行うドライブ基板42bが組み込まれている。具体的には、ドライブ基板42bの板面が左右方向を向くように、モータ42の胴体の側面に取り付けられている。モータ42は、減速機を収容するギヤケース46に側方からネジ止めすることにより固定されている。モータ42は、図11に示すように一方向のみに突出する出力軸42cを有しており、この出力軸42cにウォームよりなるギヤ42dが設けられている。駆動軸43の軸方向は左右方向であり、モータ42の出力軸42cと同一方向である。また、モータ42をドライブ基板42bが組み込まれたブラシレスモータで構成することにより、駆動部41を小型化することができ、またモータ42の性能も高めることができる。
駆動部41は、駆動軸43の回転位置を検出するセンサ48(図15参照)を有している。このセンサ48(図15参照)は、ドライブ基板42bのギヤケース46とは反対側の板面に設けられた検出体(図示せず)と、駆動軸43に設けられたマグネットホルダを有する被検出体(図示せず)と、により構成されている。ドライブ基板42bは、制御部6に電気的に接続されており、検出体(図示せず)が被検出体(図示せず)であるマグネットホルダの存在を検出することにより、駆動軸43の回転位置における特定位置(原点)を検出することができる。また、センサ48(図15参照)の検出情報を用いて、駆動軸43に設けられた施療部材3aの足の長手方向位置を検出することができる。このように、モータ42のドライブ基板42bに検出体(図示せず)を設けているため、センサ48(図15参照)を設けるための基板を別途必要とせず、駆動部41を低コスト化することができる。
減速機は、出力軸42cと交差する方向の回転軸47aと、出力軸42cに一体回転可能に設けられたウォームよりなるギヤ42dと、回転軸47aに一体回転可能に設けられ出力軸42cのギヤ42dに噛合するはすば歯車よりなる第1ギヤ47bと、回転軸47aに一体回転可能に設けられ第1ギヤ47bとは回転軸47aの軸方向に位置ずれしたウォームよりなる第2ギヤ47cと、駆動軸43に一体回転可能に設けられ第2ギヤ47cに噛合するウォームホイールよりなる第3ギヤ47dと、を有している。このように、回転軸47a、第1ギヤ47b、及び第2ギヤ47cは、出力軸42c及び駆動軸43を連動連結する中間歯車を構成している。
従って、モータ42を駆動すると、出力軸42cの回転動力が第1ギヤ47bを介して回転軸47aに伝達される。更に、回転軸47aの回転動力が第2ギヤ47c(ウォーム)と第3ギヤ47d(ウォームホイール)により、減速して駆動軸43に伝達される。すなわち、減速機は、出力軸42cの回転動力を2段階に減速して駆動軸43に伝達する。駆動軸43の回転は2段階の減速によって十分減速されるため、施療部材3aを適した速度で動作させることができ、足施療部R2を同時に移動させることが可能となる。
駆動軸43には、所定距離を存して施療部材3aが設けられている。施療部材3aは、左右方向を軸として回転可能なローラを有し、左右方向に複数のローラが駆動軸43上に設けられている。
前記複数のローラは、夫々径が異なっていてもよいし、駆動軸43の端部側から駆動軸43の中央側へ向かうにつれて、径が大きくなる様にしてもよい。ローラの形状は、被施療部に対して刺激を与える作用があればよく、順次大きく又は小さくなっていく様に設けてもよい。
また、ローラの周方向に複数の突起を設けるものであってもよい。
このように構成された足施療部R2は、モータ42の駆動により駆動軸43が回転すると、施療部材3aが回転して足裏にマッサージを行い、足裏に隈なく指圧作用を与えることができる。
前記複数のローラは、夫々径が異なっていてもよいし、駆動軸43の端部側から駆動軸43の中央側へ向かうにつれて、径が大きくなる様にしてもよい。ローラの形状は、被施療部に対して刺激を与える作用があればよく、順次大きく又は小さくなっていく様に設けてもよい。
また、ローラの周方向に複数の突起を設けるものであってもよい。
このように構成された足施療部R2は、モータ42の駆動により駆動軸43が回転すると、施療部材3aが回転して足裏にマッサージを行い、足裏に隈なく指圧作用を与えることができる。
また、ローラは、前記駆動軸43に固定されているので、駆動軸43が回転すると、ローラが回転するようになっているが、駆動軸43の回転に関わらず、ローラを自由に回転させてもよい。
この場合、ローラは、駆動軸43にベアリングを介して取り付けられるため、負荷がかからない状態では、駆動軸43の回転方向と同じ方向へ回転するが、ローラに被施療部を当接させて負荷がかかった状態では、ローラは、駆動軸43とともに回転しなくなる。
この場合、ローラは、駆動軸43にベアリングを介して取り付けられるため、負荷がかからない状態では、駆動軸43の回転方向と同じ方向へ回転するが、ローラに被施療部を当接させて負荷がかかった状態では、ローラは、駆動軸43とともに回転しなくなる。
また、前記移動手段40は、前記足施療部R2を第一支持部36aと第二支持部36bに沿って移動させるので、足の長手方向に沿って移動可能となる。
移動手段40は、前記モータ42の駆動により、被ガイドを駆動させ、被ガイドがガイド上を移動する。
前記被ガイドは、足施療部R2に設けられ、前記モータ42の駆動により回転する駆動軸43に設けられた左右で対をなすピニオン44である。
前記ガイドは、フレームに設けられ、前記ピニオン44に噛合する左右で対をなすラック45である。なお、本実施例では、前記ラック45と第二支持部36bは、一体的に形成されている。
この様に移動手段40は、前記駆動部41に設けられたモータ42と、前記モータ42の駆動を受け、回動する駆動軸43と、前記駆動軸43に設けられたピニオン44と、前記第二支持部36aに設けられたラック45により構成される。
また、第一支持部36aにも前記ガイドが設けられている。第一支持部36aは、前記駆動部41を支持しつつ、ガイドによってスムーズに移動できる様になっている。
足施療部R2は、駆動軸43の中央付近に駆動部41が設けられる。また、駆動部41の重量や使用者の体重によって、力のかかりやすい駆動軸43が撓んでしまうことを防止することが可能となる。
この様に構成することで、足施療部R2を移動させることが可能となる。
前記被ガイドは、足施療部R2に設けられ、前記モータ42の駆動により回転する駆動軸43に設けられた左右で対をなすピニオン44である。
前記ガイドは、フレームに設けられ、前記ピニオン44に噛合する左右で対をなすラック45である。なお、本実施例では、前記ラック45と第二支持部36bは、一体的に形成されている。
この様に移動手段40は、前記駆動部41に設けられたモータ42と、前記モータ42の駆動を受け、回動する駆動軸43と、前記駆動軸43に設けられたピニオン44と、前記第二支持部36aに設けられたラック45により構成される。
また、第一支持部36aにも前記ガイドが設けられている。第一支持部36aは、前記駆動部41を支持しつつ、ガイドによってスムーズに移動できる様になっている。
足施療部R2は、駆動軸43の中央付近に駆動部41が設けられる。また、駆動部41の重量や使用者の体重によって、力のかかりやすい駆動軸43が撓んでしまうことを防止することが可能となる。
この様に構成することで、足施療部R2を移動させることが可能となる。
このように足施療部R2を被施療部に沿って移動可能とすることにより、マッサージの範囲を拡大することができるとともに、足裏に対してローラ作用を行うことができる。
なお、前述した実施形態では、単一のモータ42で施療部材3aの駆動と足施療部R2の移動を両立する構成としたが、これに限られない。
施療部材3aの駆動と足施療部R2の移動を、別個のモータにより独立して行えるようにしてもよい。
また、単一のモータ42であっても、クラッチを設けることにより、モータ42を一方へ回転させると施療部材3aの駆動と足施療部R2の移動が行われ、モータ42を他方へ回転させると足施療部R2の移動が解除されるようにしてもよい。
なお、前述した実施形態では、単一のモータ42で施療部材3aの駆動と足施療部R2の移動を両立する構成としたが、これに限られない。
施療部材3aの駆動と足施療部R2の移動を、別個のモータにより独立して行えるようにしてもよい。
また、単一のモータ42であっても、クラッチを設けることにより、モータ42を一方へ回転させると施療部材3aの駆動と足施療部R2の移動が行われ、モータ42を他方へ回転させると足施療部R2の移動が解除されるようにしてもよい。
また、図10に示す様に、前記第二支持部36bは、被施療部がガイドと被ガイドに接触することを防止するカバー部49を有している。
前記第二支持部36bには、開口が横方向に向いた凹状の切り欠きが設けられている。前記第二支持部36bに設けられた凹状の切り欠きは、ラック45とピニオン44と駆動軸43の端部を収容する。
前記カバー部49は、この凹状の切り欠きを側方から塞ぐように設けられる。このカバー部49は、前記ラック45とピニオン44が被施療部に接触することを防止するものであり、前記ラック45とピニオン44の露出を防ぐ様な形状であればよい。例えば、ラック45とピニオン44の上方から側方を覆う形状としてもよい。
また、前記カバー部49は、駆動軸43に接触しない程度に、前記第二支持部36bの凹状の切り欠きを側方から塞いでいる。このため足施療部R2の移動を阻害しないようになっている。
このように被施療部がガイドと被ガイドに接触することを防止するカバー部49を設けることで、使用者の身体が、前記ガイドであるラック45と被ガイドであるピニオン44に接触しない。
前記第二支持部36bには、開口が横方向に向いた凹状の切り欠きが設けられている。前記第二支持部36bに設けられた凹状の切り欠きは、ラック45とピニオン44と駆動軸43の端部を収容する。
前記カバー部49は、この凹状の切り欠きを側方から塞ぐように設けられる。このカバー部49は、前記ラック45とピニオン44が被施療部に接触することを防止するものであり、前記ラック45とピニオン44の露出を防ぐ様な形状であればよい。例えば、ラック45とピニオン44の上方から側方を覆う形状としてもよい。
また、前記カバー部49は、駆動軸43に接触しない程度に、前記第二支持部36bの凹状の切り欠きを側方から塞いでいる。このため足施療部R2の移動を阻害しないようになっている。
このように被施療部がガイドと被ガイドに接触することを防止するカバー部49を設けることで、使用者の身体が、前記ガイドであるラック45と被ガイドであるピニオン44に接触しない。
また、図10と図11に示す様に足施療部R2は、移動の限界位置を検知するセンサ37を有している。
前記センサ37は、前記駆動部41は検出部37aを有しており、前記第一支持部36aの一端側と他端側に被検出部37bを有している。
前記検出部37aは、ホールICであって、前記被検出部37bは、磁石である。
前記磁石は、第一支持部36aのつま先側と踵側にそれぞれ設けられている。
このつま先側に設置された磁石又は踵側に設置された磁石のいずれかの箇所で、足施療部R2を停止又は、反転させて移動させることで、足施療部R2が支持部36からの脱落を防止することができる。
また、検出部37aを駆動部41に設けているので、駆動部41の配線と検出部37aの配線をまとめることができる。
前記センサ37は、前記駆動部41は検出部37aを有しており、前記第一支持部36aの一端側と他端側に被検出部37bを有している。
前記検出部37aは、ホールICであって、前記被検出部37bは、磁石である。
前記磁石は、第一支持部36aのつま先側と踵側にそれぞれ設けられている。
このつま先側に設置された磁石又は踵側に設置された磁石のいずれかの箇所で、足施療部R2を停止又は、反転させて移動させることで、足施療部R2が支持部36からの脱落を防止することができる。
また、検出部37aを駆動部41に設けているので、駆動部41の配線と検出部37aの配線をまとめることができる。
また、被検出部37bの磁石は、足施療部A6付近に配置されていてもよい。
この様に足施療部A6に対応する位置に被検出部37bの磁石を配置することで、前記制御部6は、足施療部R2と足施療部A6とを協働させることが可能となる。
また、前記足施療部R2を磁石の位置で停止して、足施療部A5〜A6と施療部材3aでマッサージすることが可能となる。
この様に足施療部A6に対応する位置に被検出部37bの磁石を配置することで、前記制御部6は、足施療部R2と足施療部A6とを協働させることが可能となる。
また、前記足施療部R2を磁石の位置で停止して、足施療部A5〜A6と施療部材3aでマッサージすることが可能となる。
脚ユニット2及び足ユニット3に設けられた各施療部5a〜5cの構成は、上述した実施形態に限られない。例えば、各施療部5a〜5cの構造、配置及び個数は、適宜変更することが可能である。図2〜図5に示すとおり、延設部34の上面には、エアセルよりなる施療部A1〜A6に対してエアを給排気するポンプ及びバルブよりなる給排気装置7と、ローラよりなる施療部R1〜R2,バイブレータよりなる施療部B1〜B2及び後述するアクチュエータ8の駆動を制御する制御部6と、が設けられている。
図2〜図5に示すとおり、マッサージ機1は、足ユニット3に対して脚ユニット2を下腿長手方向へ移動させる移動機構4を有している。以下、移動機構4の構成について説明する。移動機構4は、脚ユニット2を駆動させるアクチュエータ8と、脚ユニット2の移動をガイドするガイド部材9と、を有している。
足ユニット3の延設部34には、アクチュエータ8を支持するブラケット11が設けられている。このブラケット11は、モータ12と、モータ12の駆動により回転する上下方向を軸方向とするネジ軸13と、ネジ軸13に螺合されたナット14と、を支持している。モータ12、ネジ軸13及びナット14によりアクチュエータ8が構成されている。ナット14には、脚ユニット2の後壁21に固定された第一移動部材15が取り付けられている。第一移動部材15の左右両側には、第一移動部材15の移動をガイドするガイドブロック16が設けられている。ガイドブロック16は足ユニット3に固定されている。
脚ユニット2の左右両側には、上下方向に延設されたレール状の第二移動部材17が設けられている。足ユニット3の左右両側には、上下方向に延設されたガイドブロック18が設けられている。ガイドブロック18は、第二移動部材17に対してスライド可能に嵌合している。このように、第一移動部材15、第二移動部材17及びガイドブロック16,18によりガイド部材9が構成されている。アクチュエータ8を駆動すると脚ユニット2は、ガイド部材9によりガイドされながら、足ユニット3に対して下腿長手方向へ移動することができる。
図2及び図3に示すとおり、マッサージ機1は、脚ユニット2の下腿長手方向の可動範囲における上限位置を検出する上限センサ51と、下限位置を検出する下限センサ52と、を有している。上限センサ51及び下限センサ52はそれぞれ、足ユニット側3であるブラケット11の上下に設けられている。各センサ51,52は、ホールIC等よりなる非接触式の検出器により構成されている。脚ユニット2側であるナット14には磁石が設けられている。各センサ51,52がナット14の存否を検出することにより、脚ユニット2の上限位置及び下限位置を検出することができる。各センサ51,52による検出結果は制御部6に伝達される。
図6に示すとおり、脚ユニット2には、脚ユニット2と使用者の大腿部との相対位置を検出する第一センサ53が設けられている。以下、第一センサ53の構成について説明する。第一センサ53は、脚ユニット2の上面を構成する上面カバー24に設けられている。本実施形態では、第一センサ53は大腿施療部A3の下側に重ねて配置しているが、大腿施療部A3との位置関係はこれに限られない。例えば、第一センサ53と大腿施療部A3は、上下方向に重ねずに左右方向へ位置ずれさせて配置してもよい。第一センサ53は、脚ユニット2が膝を曲げた状態の大腿部の背面に接触したことを検出することができる。すなわち、この第一センサ53は、大腿部に対する脚ユニット2の位置を検出することにより、下腿と所定角度をなす大腿部を基準として、下腿に対する脚ユニット2の位置も検出することができる。
図7に示すとおり、足ユニット3には、脚ユニット2と足ユニット3の間に存在する異物を検出する第二センサ54が設けられている。以下、第二センサ54の構成について説明する。第二センサ54は、足ユニット3の上面(脚ユニット2との対向面)に設けられている。具体的には、後壁31、側壁32及び中央壁33の上面に設けられている。脚ユニット2と足ユニット3の間に異物が位置した状態で脚ユニット2を下降させていくと、第二センサ54が異物の存在を検出する。第二センサ54が異物の存在を検出すると、制御部6は脚ユニット2の下降を停止する、又は脚ユニット材2を上昇させるよう制御する。従って、使用者等の身体の一部が挟まって怪我をしたり、マッサージ機1が故障したりすることを防止できる。なお、第二センサ54は、脚ユニット2の下面(足ユニット3との対向面)に設けてもよい。
第一センサ53及び第二センサ54(以下、総称してセンサという)の構造の一例を説明する。図16はセンサの説明図であり、(a)は平面図、(b)は側面図である。
図16に示すとおり、センサは、電線55が格子状に配設された2枚のシート56を上下方向に重ねた構造とする。センサに対して上下方向から負荷がない状態では、上下のシート56は非接触の状態が保たれており、それぞれのシート56に設けられた電線55は通電していない。センサに対して上下方向から所定の負荷が作用すると、上下のシート56が接触して、それぞれに設けられた電線55が通電する。このように構成した第一センサ53を脚ユニット2の上面に設けた場合、脚ユニット2を上昇させる過程で大腿部の背面が第一センサ53に接触すると、大腿部からの負荷が作用して第一センサ53は通電する。すなわち、脚ユニット2が大腿部の背面に接触したことを検出する。また、このように構成した第二センサ54を足ユニット3の上面に設けた場合、脚ユニット2を下降させる過程で足ユニット3との間で異物が挟み込まれると、異物からの負荷が作用して第二センサ54は通電する。すなわち、脚ユニット2と足ユニット3の間に異物が挟まったことを検出する。
図16に示すとおり、センサは、電線55が格子状に配設された2枚のシート56を上下方向に重ねた構造とする。センサに対して上下方向から負荷がない状態では、上下のシート56は非接触の状態が保たれており、それぞれのシート56に設けられた電線55は通電していない。センサに対して上下方向から所定の負荷が作用すると、上下のシート56が接触して、それぞれに設けられた電線55が通電する。このように構成した第一センサ53を脚ユニット2の上面に設けた場合、脚ユニット2を上昇させる過程で大腿部の背面が第一センサ53に接触すると、大腿部からの負荷が作用して第一センサ53は通電する。すなわち、脚ユニット2が大腿部の背面に接触したことを検出する。また、このように構成した第二センサ54を足ユニット3の上面に設けた場合、脚ユニット2を下降させる過程で足ユニット3との間で異物が挟み込まれると、異物からの負荷が作用して第二センサ54は通電する。すなわち、脚ユニット2と足ユニット3の間に異物が挟まったことを検出する。
図15に示すとおり、制御部6は、プログラマブルなマイコン等を有しており、各施療部5a〜5c、給排気装置7及びアクチュエータ8を駆動制御する。制御部6には、各センサ(37、48、51〜54)が電気的に接続されており、各センサ(37、48、51〜54)による検出結果に関する情報を取得する。制御部6には、使用者が操作するコントローラ10が電気的に接続されている。マッサージ機1は、所定のプログラムに従って各施療部5a〜5c及びアクチュエータ8を駆動させるマッサージコースを実行可能である。制御部6には、複数のマッサージコースが記憶されており、コントローラ10の操作によりマッサージコースを選択可能である。コントローラ10の操作により、各施療部5a〜5c又はアクチュエータ8の動作を任意に操作することができる。例えば、動作させる各施療部5a〜5cを選択したり、脚ユニット2を下腿長手方向へ位置調整したりできる。
以下、マッサージ機1の制御について説明する。
図17は、足ユニット3の足施療部R2の駆動を示す図である。
図17(a),図17(b)は、施療部材3aを異なる足裏の適切な施療位置で往復移動させた状態を示しており、図17(a)は、施療部材3aをつま先周辺で往復移動させた図であり、図17(b)は、施療部材3aを土踏まず付近で往復移動させた図である。
図18は、足ユニット3の足施療部R2と押圧手段である足施療部A5の駆動を示す図である。
図18(a)は、足施療部A5(図示せず)は収縮させて施療部材3aを前方に位置させた図であり、
図18(b)は、施療部材3aを前方から土踏まず付近への移動と足施療部A5を膨張させている図であり、図18(c)は、施療部材3aを前方から踵側への移動と足施療部A5を膨張させている図である。
図19は、足ユニット3の足施療部R2と押圧手段である足施療部A5の駆動を示す図である。
図19(a)は、施療部材3aを土踏まず付近に位置させた状態と足施療部A5を膨張させている図であり、図19(b)は、施療部材3aを前方から土踏まず付近に移動と足施療部A5を膨張させている図であり、図19(c)は、施療部材3aを後方から土踏まず付近に移動と足施療部A5を膨張させている図である。
図20は、足ユニット3の足施療部5cと脚ユニット2の下腿施療部5aと脚ユニット2を下腿長手方向に移動させるアクチェータ8とを駆動させて、つま先側から心臓に向けて血行を促進させる求心動作を示す図である。
図21は、足ユニット3の足施療部5cと脚ユニット2の下腿施療部5aと脚ユニット2を下腿長手方向に移動させるアクチェータ8とを駆動させて、心臓からつま先側に向けて血行を促進させる遠心動作を示す図である。
図17は、足ユニット3の足施療部R2の駆動を示す図である。
図17(a),図17(b)は、施療部材3aを異なる足裏の適切な施療位置で往復移動させた状態を示しており、図17(a)は、施療部材3aをつま先周辺で往復移動させた図であり、図17(b)は、施療部材3aを土踏まず付近で往復移動させた図である。
図18は、足ユニット3の足施療部R2と押圧手段である足施療部A5の駆動を示す図である。
図18(a)は、足施療部A5(図示せず)は収縮させて施療部材3aを前方に位置させた図であり、
図18(b)は、施療部材3aを前方から土踏まず付近への移動と足施療部A5を膨張させている図であり、図18(c)は、施療部材3aを前方から踵側への移動と足施療部A5を膨張させている図である。
図19は、足ユニット3の足施療部R2と押圧手段である足施療部A5の駆動を示す図である。
図19(a)は、施療部材3aを土踏まず付近に位置させた状態と足施療部A5を膨張させている図であり、図19(b)は、施療部材3aを前方から土踏まず付近に移動と足施療部A5を膨張させている図であり、図19(c)は、施療部材3aを後方から土踏まず付近に移動と足施療部A5を膨張させている図である。
図20は、足ユニット3の足施療部5cと脚ユニット2の下腿施療部5aと脚ユニット2を下腿長手方向に移動させるアクチェータ8とを駆動させて、つま先側から心臓に向けて血行を促進させる求心動作を示す図である。
図21は、足ユニット3の足施療部5cと脚ユニット2の下腿施療部5aと脚ユニット2を下腿長手方向に移動させるアクチェータ8とを駆動させて、心臓からつま先側に向けて血行を促進させる遠心動作を示す図である。
[動作1について]
以下、使用者の足裏の適切な位置に対して集中的にマッサージを行うマッサージ動作の一例について、図17(a),図17(b)に基づいて説明する。
前記制御部6は、前記センサ37の検出情報より、施療部材3aの移動可能範囲を設定することができ、前記センサ48の検出情報より施療部材3aの足の長手方向位置を検出することができる。まず、前記制御部6は、第1ステップにおいて、足裏の適切な施療位置(図17(a)参照)に施療部材3aを前記移動手段40により移動させる。第2ステップにおいて、第1ステップにより移動した施療位置(図17(a)参照)から施療部材3aの後述する移動可能範囲より短い範囲内で施療部材3aを前記移動手段40により往復移動させる。前記移動可能範囲は、前記センサ37が検知する足施療部R2の移動の限界位置であり、被検出部37bである磁石が設けられているつま先側から踵側までの範囲である。図17(a),図17(b)中の矢印破線は、施療部材3aの移動可能範囲を示す。次に、第3ステップにおいて、第1ステップにて移動した足裏の適切な施療位置以外の施療位置(図17(b)参照)に前記移動手段40により移動させる。第4ステップにおいて、第3ステップにより移動した施療位置(図17(b)参照)から施療部材3aの移動可能範囲より短い範囲内で施療部材3aを前記移動手段40により往復移動させる。このように制御することで、足裏の適切な施療位置に対して、集中的にマッサージを行うことができる。なお、第1ステップ〜第4ステップの際に、前記押圧手段である足施療部A5〜A6を膨張させて、足を上方又は側方から押圧してもよい。
以下、使用者の足裏の適切な位置に対して集中的にマッサージを行うマッサージ動作の一例について、図17(a),図17(b)に基づいて説明する。
前記制御部6は、前記センサ37の検出情報より、施療部材3aの移動可能範囲を設定することができ、前記センサ48の検出情報より施療部材3aの足の長手方向位置を検出することができる。まず、前記制御部6は、第1ステップにおいて、足裏の適切な施療位置(図17(a)参照)に施療部材3aを前記移動手段40により移動させる。第2ステップにおいて、第1ステップにより移動した施療位置(図17(a)参照)から施療部材3aの後述する移動可能範囲より短い範囲内で施療部材3aを前記移動手段40により往復移動させる。前記移動可能範囲は、前記センサ37が検知する足施療部R2の移動の限界位置であり、被検出部37bである磁石が設けられているつま先側から踵側までの範囲である。図17(a),図17(b)中の矢印破線は、施療部材3aの移動可能範囲を示す。次に、第3ステップにおいて、第1ステップにて移動した足裏の適切な施療位置以外の施療位置(図17(b)参照)に前記移動手段40により移動させる。第4ステップにおいて、第3ステップにより移動した施療位置(図17(b)参照)から施療部材3aの移動可能範囲より短い範囲内で施療部材3aを前記移動手段40により往復移動させる。このように制御することで、足裏の適切な施療位置に対して、集中的にマッサージを行うことができる。なお、第1ステップ〜第4ステップの際に、前記押圧手段である足施療部A5〜A6を膨張させて、足を上方又は側方から押圧してもよい。
[動作2について]
以下、使用者の足先を前屈させる足先ストレッチ動作の一例について、図18(a),図18(b),図18(c)に基づいて説明する。
前記制御部6は、第1ステップにおいて、前方位置(図18(a)参照)に施療部材3aを前記移動手段40により移動させる。第2ステップにおいて、前記押圧手段である足施療部A5を膨張させて行う押圧動作と第1ステップにより移動した前方位置から後方位置(図18(b),図18(c)参照)へ施療部材3aを前記移動手段40により移動させる動作とを組合せて動作させる。このように制御することで、施療部材3aが移動して空いた後述する空間Pに足先を落として前屈させる足先ストレッチを行うことができる。前記空間Pは、前記底壁30,前記側壁32,前記中央壁33,施療部材3aにより構成される。前記空間Pは、施療部材3aが前方に位置する時は狭く、施療部材3aが前方から後方に移動するにつれて、広くなる。図18(b)、図18(c)中の四角破線は、前記空間Pを示す。
図18(b)は、前記移動手段40により施療部材3aを前方位置から土踏まず付近に移動させる動作と、前記押圧手段である足施療部A5を膨張させて、足先を上方から押圧する押圧動作とを組合せて動作させることで、土踏まず付近を支点としてつま先を前記空間Pに落として前屈させ、つま先に対するストレッチを行うことができる。
図18(c)は、前記移動手段40により施療部材3aを前方位置から踵付近に移動させる動作と、前記押圧手段である足施療部A5を膨張させて、足先を上方から押圧する押圧動作とを組合せて動作させることで、踵付近を支点として足先を前記空間Pに落として前屈させ、足首に対するストレッチを行うことができる。
以下、使用者の足先を前屈させる足先ストレッチ動作の一例について、図18(a),図18(b),図18(c)に基づいて説明する。
前記制御部6は、第1ステップにおいて、前方位置(図18(a)参照)に施療部材3aを前記移動手段40により移動させる。第2ステップにおいて、前記押圧手段である足施療部A5を膨張させて行う押圧動作と第1ステップにより移動した前方位置から後方位置(図18(b),図18(c)参照)へ施療部材3aを前記移動手段40により移動させる動作とを組合せて動作させる。このように制御することで、施療部材3aが移動して空いた後述する空間Pに足先を落として前屈させる足先ストレッチを行うことができる。前記空間Pは、前記底壁30,前記側壁32,前記中央壁33,施療部材3aにより構成される。前記空間Pは、施療部材3aが前方に位置する時は狭く、施療部材3aが前方から後方に移動するにつれて、広くなる。図18(b)、図18(c)中の四角破線は、前記空間Pを示す。
図18(b)は、前記移動手段40により施療部材3aを前方位置から土踏まず付近に移動させる動作と、前記押圧手段である足施療部A5を膨張させて、足先を上方から押圧する押圧動作とを組合せて動作させることで、土踏まず付近を支点としてつま先を前記空間Pに落として前屈させ、つま先に対するストレッチを行うことができる。
図18(c)は、前記移動手段40により施療部材3aを前方位置から踵付近に移動させる動作と、前記押圧手段である足施療部A5を膨張させて、足先を上方から押圧する押圧動作とを組合せて動作させることで、踵付近を支点として足先を前記空間Pに落として前屈させ、足首に対するストレッチを行うことができる。
[動作3について]
以下、使用者のつま先に対してより効果的なストレッチ動作の一例について、図19(a),図19(b),図19(c)に基づいて説明する。
前記制御部6は、第1ステップにおいて、施療部材3aを土踏まず付近(図19(a),図19(b),図19(c)参照)に位置させる動作と、前記押圧手段である足施療部A5を膨張させて行う押圧動作と、を組合せて動作させる。このように制御することで、足先を上方からの押圧による下方への押さえつけと施療部材3aによる土踏まずの持ち上げにより、つま先に対してより効果的なストレッチを行うことができる。
図19(a)は、前記移動手段40により施療部材3aを土踏まず付近に位置させ、前記押圧手段である足施療部A5を膨張させて、足先を上方から押圧することにより、足先の下方への押さえつけと施療部材3aによる土踏まずの持ち上げにより、つま先に対するストレッチを行うことができる。
図19(b)は、前記移動手段40により施療部材3aを前方位置から土踏まず付近に移動させる動作と、前記押圧手段である足施療部A5を膨張させて、足先を上方から押圧する押圧動作と、を組合せて動作させることで、前方からの土踏まずの持ち上げ作用と足先の下方への押さえつけにより、つま先に対してより効果的にストレッチを行うことができる。
図19(c)は、前記移動手段40により施療部材3aを後方位置から土踏まず付近に移動させる動作と、前記押圧手段である足施療部A5を膨張させて、足先を上方から押圧する押圧動作と、を組合せて動作させることで、後方からの土踏まずの持ち上げ作用と足先の下方への押さえつけにより、つま先に対してより効果的にストレッチを行うことができる。
以下、使用者のつま先に対してより効果的なストレッチ動作の一例について、図19(a),図19(b),図19(c)に基づいて説明する。
前記制御部6は、第1ステップにおいて、施療部材3aを土踏まず付近(図19(a),図19(b),図19(c)参照)に位置させる動作と、前記押圧手段である足施療部A5を膨張させて行う押圧動作と、を組合せて動作させる。このように制御することで、足先を上方からの押圧による下方への押さえつけと施療部材3aによる土踏まずの持ち上げにより、つま先に対してより効果的なストレッチを行うことができる。
図19(a)は、前記移動手段40により施療部材3aを土踏まず付近に位置させ、前記押圧手段である足施療部A5を膨張させて、足先を上方から押圧することにより、足先の下方への押さえつけと施療部材3aによる土踏まずの持ち上げにより、つま先に対するストレッチを行うことができる。
図19(b)は、前記移動手段40により施療部材3aを前方位置から土踏まず付近に移動させる動作と、前記押圧手段である足施療部A5を膨張させて、足先を上方から押圧する押圧動作と、を組合せて動作させることで、前方からの土踏まずの持ち上げ作用と足先の下方への押さえつけにより、つま先に対してより効果的にストレッチを行うことができる。
図19(c)は、前記移動手段40により施療部材3aを後方位置から土踏まず付近に移動させる動作と、前記押圧手段である足施療部A5を膨張させて、足先を上方から押圧する押圧動作と、を組合せて動作させることで、後方からの土踏まずの持ち上げ作用と足先の下方への押さえつけにより、つま先に対してより効果的にストレッチを行うことができる。
[動作4について]
以下、使用者のつま先側から心臓に向けて血行を促進させる求心法に基づくマッサージ動作の一例について説明する。
図20に示すとおり、前記制御部6は、第1ステップにおいて、前記移動手段40による施療部材3aをつま先側から踵側へ移動させる動作を行い、つま先側から踵側へ向かう方向にマッサージを行う。つま先側から踵側へ向かう際、足施療部A5〜A6によるマッサージを行ってもよい。第2ステップにおいて、前記アクチュエータ8と下腿施療部A1〜A2を駆動させて、前記脚ユニット2を下腿の足首側から膝側へ向かう方向に移動させる動作を行い、足首側から膝側へ向かう方向にマッサージを行う。なお、前記アクチュエータ8と下腿施療部A1〜A2とを同時に駆動させて、足首側から膝側へ向かうマッサージを行ってもよいし、前記アクチュエータ8と下腿施療部A1〜A2とを交互に駆動させて、徐々に足首側から膝側へ向かうマッサージを行ってもよいし、前記アクチュエータ8は駆動させたまま、下腿施療部A1〜A2の膨張収縮の駆動を行い、足首側から膝側へ向かうマッサージを行ってもよい。また、前記下腿施療部R1を下腿の足首側から膝側へ向かう方向に回転駆動させてもよい。第2ステップは、前記アクチュエータ8および前記下腿施療部R1のうち少なくともいずれか駆動させればよい。
以下、使用者のつま先側から心臓に向けて血行を促進させる求心法に基づくマッサージ動作の一例について説明する。
図20に示すとおり、前記制御部6は、第1ステップにおいて、前記移動手段40による施療部材3aをつま先側から踵側へ移動させる動作を行い、つま先側から踵側へ向かう方向にマッサージを行う。つま先側から踵側へ向かう際、足施療部A5〜A6によるマッサージを行ってもよい。第2ステップにおいて、前記アクチュエータ8と下腿施療部A1〜A2を駆動させて、前記脚ユニット2を下腿の足首側から膝側へ向かう方向に移動させる動作を行い、足首側から膝側へ向かう方向にマッサージを行う。なお、前記アクチュエータ8と下腿施療部A1〜A2とを同時に駆動させて、足首側から膝側へ向かうマッサージを行ってもよいし、前記アクチュエータ8と下腿施療部A1〜A2とを交互に駆動させて、徐々に足首側から膝側へ向かうマッサージを行ってもよいし、前記アクチュエータ8は駆動させたまま、下腿施療部A1〜A2の膨張収縮の駆動を行い、足首側から膝側へ向かうマッサージを行ってもよい。また、前記下腿施療部R1を下腿の足首側から膝側へ向かう方向に回転駆動させてもよい。第2ステップは、前記アクチュエータ8および前記下腿施療部R1のうち少なくともいずれか駆動させればよい。
この様に、第1ステップ〜第2ステップと順にさせることにより、使用者のつま先側から心臓に向けて血行を促進させる求心法に基づくマッサージを行うことができる。なお、第1ステップと第2ステップは、同時に行ってもよいし、逆に行ってもよい。
[動作5について]
以下、使用者の心臓からつま先側に向けて血行を促進させる遠心法に基づくマッサージ動作の一例について説明する。
図21に示すとおり、前記制御部6は、第1ステップにおいて、前記アクチュエータ8と下腿施療部A1〜A2を駆動させて、前記脚ユニット2を下腿の膝側から足首側へ向かう方向に移動させる動作を行い、膝側から足首側へ向かう方向にマッサージを行う。なお、前記アクチュエータ8と下腿施療部A1〜A2とを同時に駆動させて、膝側から足首側へ向かうマッサージを行ってもよいし、前記アクチュエータ8と下腿施療部A1〜A2とを交互に駆動させて、徐々に膝側から足首側へ向かうマッサージを行ってもよいし、前記アクチュエータ8は駆動させたまま、下腿施療部A1〜A2の膨張収縮の駆動を行い、膝側から足首側へ向かうマッサージを行ってもよい。また、前記下腿施療部R1を下腿の膝側から足首側へ向かう方向に回転駆動させてもよい。第1ステップは、前記アクチュエータ8および前記下腿施療部R1のうち少なくともいずれか駆動させればよい。第2ステップにおいて、前記移動手段40による施療部材3aを踵側からつま先側へ移動させる動作を行い、足裏の踵側からつま先側へ向かうよう方向にマッサージを行う。踵側からつま先側へ向かう際、足施療部A5〜A6によるマッサージを行ってもよい。
以下、使用者の心臓からつま先側に向けて血行を促進させる遠心法に基づくマッサージ動作の一例について説明する。
図21に示すとおり、前記制御部6は、第1ステップにおいて、前記アクチュエータ8と下腿施療部A1〜A2を駆動させて、前記脚ユニット2を下腿の膝側から足首側へ向かう方向に移動させる動作を行い、膝側から足首側へ向かう方向にマッサージを行う。なお、前記アクチュエータ8と下腿施療部A1〜A2とを同時に駆動させて、膝側から足首側へ向かうマッサージを行ってもよいし、前記アクチュエータ8と下腿施療部A1〜A2とを交互に駆動させて、徐々に膝側から足首側へ向かうマッサージを行ってもよいし、前記アクチュエータ8は駆動させたまま、下腿施療部A1〜A2の膨張収縮の駆動を行い、膝側から足首側へ向かうマッサージを行ってもよい。また、前記下腿施療部R1を下腿の膝側から足首側へ向かう方向に回転駆動させてもよい。第1ステップは、前記アクチュエータ8および前記下腿施療部R1のうち少なくともいずれか駆動させればよい。第2ステップにおいて、前記移動手段40による施療部材3aを踵側からつま先側へ移動させる動作を行い、足裏の踵側からつま先側へ向かうよう方向にマッサージを行う。踵側からつま先側へ向かう際、足施療部A5〜A6によるマッサージを行ってもよい。
この様に、第1ステップ〜第2ステップと順にさせることにより、使用者の心臓からつま先側に向けて血行を促進させる遠心法に基づくマッサージを行うことができる。なお、第1ステップと第2ステップは、同時に行ってもよいし、逆に行ってもよい。
[他の実施形態]
また、本発明のマッサージ機1は、図示する形態に限らず、この発明の範囲内において他の形態のものであってもよい。
例えば、足施療部5cを上肢に設置する場合は、以下の様になる。
図22は、被施療部である上肢(肩から手先部)が図示されており、肩から手部を支持する肘掛け部7が簡略化して図示されている。
図15,図22に示すとおりに、前記肘掛け部7は、使用者の前腕を支持する前腕ユニット70と、使用者の上腕を支持する上腕ユニット71と、を有している。前腕ユニット70には、エアセル又はローラ等よりなる前腕施療部5dが設けられている。また、上腕ユニット71には、エアセル又はローラ等よりなる上腕施療部5eが設けられている。
また、本発明のマッサージ機1は、図示する形態に限らず、この発明の範囲内において他の形態のものであってもよい。
例えば、足施療部5cを上肢に設置する場合は、以下の様になる。
図22は、被施療部である上肢(肩から手先部)が図示されており、肩から手部を支持する肘掛け部7が簡略化して図示されている。
図15,図22に示すとおりに、前記肘掛け部7は、使用者の前腕を支持する前腕ユニット70と、使用者の上腕を支持する上腕ユニット71と、を有している。前腕ユニット70には、エアセル又はローラ等よりなる前腕施療部5dが設けられている。また、上腕ユニット71には、エアセル又はローラ等よりなる上腕施療部5eが設けられている。
前記前腕施療部5dは、手先をマッサージする前腕施療部A7と、前腕をマッサージする前腕施療部A8と、前腕から手の長手方向を移動し、手のひらから連なる前腕の面をマッサージする前腕施療部R3と、を有している。これら前腕施療部A7〜A8は、エアの給排気により膨張収縮するエアセルにより構成されており、前腕施療部R3は、前記足施療部R2と同じ構造のローラで構成されている。また、前記上腕施療部5eは、上腕をマッサージする上腕施療部A9と、肩から上腕の長手方向を移動し、上腕三頭筋部分をマッサージする上腕施療部R4と、を有している。上腕施療部A9は、エアの給排気により膨張収縮するエアセルにより構成されており、上腕施療部R4は、前記足施療部R2と同じ構造のローラで構成されている。前記制御部6は、各施療部5d〜5eを駆動させて、手先,前腕及び上腕に対して集中的にマッサージを行うことができ、手先及び前腕に対してストレッチを行うことができる。
本発明は、使用者の足裏の適切な位置に対して集中的にマッサージを行うことができ、またより効果的な足先ストレッチを行うことができるマッサージ機に適用することができる。
1 マッサージ機
2 脚ユニット
3 足ユニット
3a 施療部材(ローラ)
5a 下腿施療部(施療子)
5c 足施療部(押圧手段,エアセル)
6 制御部
8 アクチュエータ
40 移動手段
44 ピニオン(移動手段)
45 ラック(移動手段)
48 センサ
P 空間
2 脚ユニット
3 足ユニット
3a 施療部材(ローラ)
5a 下腿施療部(施療子)
5c 足施療部(押圧手段,エアセル)
6 制御部
8 アクチュエータ
40 移動手段
44 ピニオン(移動手段)
45 ラック(移動手段)
48 センサ
P 空間
Claims (10)
- 使用者の足を支持する足ユニットと、前記足ユニットに設けられた足施療部と、前記足施療部を制御する制御部と、を有するマッサージ機において、
前記足施療部は、
ローラからなる施療部材と、
前記施療部材を使用者の足の長手方向へ移動させる移動手段と、を有しており、
前記制御部は、前記移動手段により前記施療部材の移動可能範囲よりも短い範囲内で往復移動させることを特徴とするマッサージ機。 - 使用者の足を支持する足ユニットと、前記足ユニットに設けられた足施療部と、前記足施療部を制御する制御部と、を有するマッサージ機において、
前記足ユニットは、使用者の足裏の下側に空間を有しており、
前記足施療部は、
施療部材と、
前記施療部材を前記空間内の使用者の足の長手方向へ移動させる移動手段と、
使用者の足先を上方から押圧する押圧手段と、を有しており、
前記制御部は、前記押圧手段による押圧動作と前記移動手段による前記施療部材を前方から後方へ移動させる動作とを組合せて制御をすることを特徴とするマッサージ機。 - 使用者の足を支持する足ユニットと、前記足ユニットに設けられた足施療部と、前記足施療部を制御する制御部と、を有するマッサージ機において、
前記足ユニットは、使用者の足裏の下側に空間を有しており、
前記足施療部は、
施療部材と、
前記施療部材を前記空間内の使用者の足の長手方向へ移動させる移動手段と、
使用者の足先を上方から押圧する押圧手段と、を有しており、
前記制御部は、前記押圧手段による押圧動作と前記移動手段による前記施療部材を土踏まず付近に位置させる動作とを組合せて制御することを特徴とするマッサージ機。 - 前記施療部材は、左右方向を軸として回転可能なローラを有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のマッサージ機。
- 前記移動手段は、ピニオンと、ラックであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のマッサージ機。
- 前記マッサージ機は、前記施療部材の足の長手方向位置を検出するセンサを有することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のマッサージ機。
- 前記押圧手段は、エアセルを有することを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のマッサージ機。
- 使用者の脚を支持する脚ユニットを有する前記マッサージ機において、
前記脚ユニットは、使用者の下腿をマッサージ可能な下腿施療部を有し、
前記下腿施療部は、下腿部をマッサージする施療子を有することを特徴する請求項1〜7のいずれかに記載のマッサージ機。 - 前記脚ユニットを下腿長手方向に移動させるアクチュエータを有する前記マッサージ機において、
前記制御部は、
前記移動手段による前記施療部材の移動方向と、
前記脚ユニットの移動方向および前記施療子が下腿部に対してマッサージする施療方向のうち少なくともいずれかの方向とが、つま先側から心臓側に向かうように制御することを特徴とする請求項8に記載のマッサージ機。 - 前記脚ユニットを下腿長手方向に移動させるアクチュエータを有する前記マッサージ機において、
前記制御部は、
前記移動手段による前記施療部材の移動方向と、
前記脚ユニットの移動方向および前記施療子が被施療部に対してマッサージする施療方向のうち少なくともいずれかの方向とが、心臓側からつま先側に向かうように制御することを特徴とする請求項8に記載のマッサージ機。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015159195A JP2017035349A (ja) | 2015-08-11 | 2015-08-11 | マッサージ機 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015159195A JP2017035349A (ja) | 2015-08-11 | 2015-08-11 | マッサージ機 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017035349A true JP2017035349A (ja) | 2017-02-16 |
Family
ID=58047044
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015159195A Pending JP2017035349A (ja) | 2015-08-11 | 2015-08-11 | マッサージ機 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2017035349A (ja) |
-
2015
- 2015-08-11 JP JP2015159195A patent/JP2017035349A/ja active Pending
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A621 | Written request for application examination |
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