JP2017030258A - シリコン基板の加工方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第一のシリコン基板131と第二のシリコン基板132との間に、エッチングを停止するためのストッパー層111を形成し、第二のシリコン基板の裏面側から第一の孔部112を形成して、ストッパー層でエッチングを停止させる第一エッチングと、第一の孔部の底に露出するストッパー層の少なくとも一部を除去し、所望の深さまで第一のシリコン基板をエッチングして第二の孔部112を形成する第二エッチングと、第一のシリコン基板の表面側からエッチングして第三の孔部114を形成する第三エッチングと、を行う工程を有し、第二エッチング又は第三エッチングのいずれかによって、第二の孔部と第三の孔部を連通させて貫通孔を形成する。
【選択図】図2
Description
α=(dmax−dmin)/{(dmax+dmin)/2} (式1)
(A)第一のシリコン基板と、第二のシリコン基板と、前記第一のシリコン基板と前記第二のシリコン基板との間に設けられたストッパー層と、の組を用意する工程と、
(B)前記第二のシリコン基板において、前記ストッパー層と前記第二のシリコン基板との界面とは反対の面から前記第二のシリコン基板をエッチングする第一エッチングにより、前記ストッパー層を露出させて第一の孔部を形成する工程と、
(C)前記露出したストッパー層の少なくとも一部を除去して、前記第一のシリコン基板を露出させる工程と、
(D)前記露出した第一のシリコン基板をエッチングする第二エッチングを行い、前記第一のシリコン基板中で前記第二エッチングを停止させることによって第二の孔部を形成する工程と、
(E)前記第一のシリコン基板において、前記第二の孔部の側の面とは反対の面から前記第一のシリコン基板をエッチングする第三エッチングを行い、前記第一のシリコン基板中で前記第三エッチングを停止させることによって第三の孔部を形成する工程と、
を含み、
前記第二エッチングまたは前記第三エッチングのいずれかを行った後に、前記第二の孔部と前記第三の孔部とを連通させ、前記貫通孔を形成することを特徴とする。
図2は、本発明の第1の実施形態に係る液体吐出ヘッドの製造方法の一例を示す断面図である。以下、図2を参照して、本実施形態に係る二段の貫通孔の形成方法を説明する。
本実施形態により得られるシリコン基板は、図6に示すように、第一の供給口(第一の孔部)112の開口断面積よりも、第二の供給口(第二の孔部)113の開口断面積が小さいことが特徴である。以下、図6を参照して、本実施形態に係る貫通孔の形成方法を説明する。
102 吐出口形成部材
103 メンブレン層
104 吐出口
105 表面孔部
106 裏面孔部
107 エネルギー発生素子
110 サポート部材
111 ストッパー層
112 第一の供給口(第一の孔部)
113 第二の供給口(第二の孔部)
114 第三の供給口(第三の孔部)
116 裏面エッチングマスク
117 表面保護部材
118 吐出口形成部材の壁
119 吐出口形成部材の天板
120 裏面保護部材
121 パターニング部
122 第一のストッパー層
123 第二のストッパー層
124 窪み
131 第一のシリコン基板
132 第二のシリコン基板
Claims (13)
- シリコン基板に貫通孔を形成するシリコン基板の加工方法であって、
(A)第一のシリコン基板と、第二のシリコン基板と、前記第一のシリコン基板と前記第二のシリコン基板との間に設けられたストッパー層と、の組を用意する工程と、
(B)前記第二のシリコン基板において、前記ストッパー層と前記第二のシリコン基板との界面とは反対の面から前記第二のシリコン基板をエッチングする第一エッチングにより、前記ストッパー層を露出させて第一の孔部を形成する工程と、
(C)前記露出したストッパー層の少なくとも一部を除去して、前記第一のシリコン基板を露出させる工程と、
(D)前記露出した第一のシリコン基板をエッチングする第二エッチングを行い、前記第一のシリコン基板中で前記第二エッチングを停止させることによって第二の孔部を形成する工程と、
(E)前記第一のシリコン基板において、前記第二の孔部の側の面とは反対の面から前記第一のシリコン基板をエッチングする第三エッチングを行い、前記第一のシリコン基板中で前記第三エッチングを停止させることによって第三の孔部を形成する工程と、
を含み、
前記第二エッチングまたは前記第三エッチングのいずれかを行った後に、前記第二の孔部と前記第三の孔部とを連通させ、前記貫通孔を形成することを特徴とするシリコン基板の加工方法。 - 前記第一、第二及び第三エッチングは、ドライエッチングである、請求項1に記載のシリコン基板の加工方法。
- 前記工程(A)は、前記第一のシリコン基板を薄加工する工程を経た後に、前記第一のシリコン基板を、前記ストッパー層を介して前記第二のシリコン基板と接合する工程を含む、請求項1または2に記載のシリコン基板の加工方法。
- 前記第一のシリコン基板を薄加工する工程において、薄加工後の前記第一のシリコン基板の厚さが150μm以上である、請求項3に記載のシリコン基板の加工方法。
- 前記第一のシリコン基板を薄加工する工程において、前記第一のシリコン基板に樹脂を含むサポート部材を貼り合わせた後に薄加工する、請求項3または4に記載のシリコン基板の加工方法。
- 前記工程(C)において、前記第一の孔部の底に露出する前記ストッパー層を全て除去する、請求項1〜5のいずれか一項に記載のシリコン基板の加工方法。
- 前記工程(C)において、前記第一の孔部の底に露出する前記ストッパー層の一部を除去し、前記工程(D)の前記第二エッチングにより、前記第一の孔部の開口断面積よりも小さい開口断面積の前記第二の孔部を形成する、請求項1〜5のいずれか一項に記載のシリコン基板の加工方法。
- 前記ストッパー層は、前記工程(A)においてパターニングされており、前記ストッパー層の一部を除去する工程は、前記パターニングされた前記ストッパー層を選択的に除去することを特徴とする、請求項7に記載のシリコン基板の加工方法。
- 前記ストッパー層のパターニングされた部分は、二種類以上の材料から構成されていることを特徴とする、請求項8に記載のシリコン基板の加工方法。
- 基板面内方向の開口形状に関するアスペクト比が、前記第一の孔部よりも前記第二の孔部の方が小さい、請求項7〜9のいずれか一項に記載のシリコン基板の加工方法。
- 前記第一及び第二の孔部は、互いに独立した複数の前記第三の孔部と連通している、請求項1〜10のいずれか一項に記載のシリコン基板の加工方法。
- 前記第一の孔部は、互いに独立した複数の前記第二の孔部と連通している、請求項11に記載のシリコン基板の加工方法。
- 前記第一及び第二の孔部は、一つの前記第三の孔部と連通している、請求項1〜10のいずれか一項に記載のシリコン基板の加工方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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