JP2017023955A - 液滴吐出装置、液滴の吐出位置補正方法 - Google Patents

Abstract

【課題】吐出ヘッドとワークとの走査方向への相対移動における位置精度に応じて液滴の吐出位置を適切に補正可能な液滴吐出装置及び液滴の吐出位置補正方法を提供すること。【解決手段】液滴吐出装置１０のヘッドドライバー６３には、ステージの相対移動における実際の移動距離に基づいて生成された補正データが記憶され、走査におけるステージの相対移動により得られたエンコーダーパルスの第１のカウント数を、上記補正データに基づいて第２のカウント数に補正する吐出位置の補正が行われ、ヘッドドライバー６３は、入力された吐出位置データに対して吐出位置の補正に基づく吐出パルスを生成してインクジェットヘッド５０のノズルから液滴Ｄを吐出させる。【選択図】図６

Description

本発明は、液滴吐出装置、液滴の吐出位置補正方法に関する。

液体を液滴としてワークに吐出することができる液滴吐出装置は、ワークの所望の位置に液滴を配置できることから、例えばカラーフィルターや有機エレクトロルミネッセンス（Electro Luminescence；ＥＬ）素子の機能層などを製造する装置として用いられてきた。カラーフィルターや有機ＥＬ素子を備えた電気光学装置の基板が大型化したり、素子サイズが小さくなって高精細になったりすると、液滴をより高精度に配置すること、すなわち液滴の吐出位置精度を高める工夫が求められる。

例えば、特許文献１には、機能液滴吐出ヘッドをキャリッジに搭載したヘッドユニットと、ヘッドユニットとワークとの相対的な移動位置を検出するリニアエンコーダーとを有し、リニアエンコーダーは、ワークの一方の側端部と平行する方向またはこれと直交する方向のいずれかにおいて、平行してワークにマーギングされた複数のマーク列から成るリニアスケールと、当該複数のマーク列に臨む複数のリニアセンサーとによって構成され、複数のリニアセンサーの出力のずれに基づいて、機能液滴吐出ヘッドの各ノズルの吐出タイミングを補正する駆動制御手段を備えた液滴吐出装置が開示されている。特許文献１の液滴吐出装置によれば、温度変化によりワークのサイズに変化が生じても機能液の吐出精度を保持し得るとされている。

また、例えば、特許文献２には、ワークとしての基板が、区分された複数のエリアと、複数のエリアごとに設けられた検出開始位置を示す特徴点とを有し、特徴点の位置を検出する特徴点位置検出部と、特徴点位置検出部の位置検出結果に基づき、描画位置を按分しながらエリアごとに補正して描画する（液滴を吐出する）液滴吐出装置が開示されている。特徴点位置検出部としてＣＣＤカメラが挙げられ、ＣＣＤカメラで特徴点を撮像したときに、リニアスケールとリニアセンサーとを有するリニアエンコーダーからのフィードバックパルスをカウントして、特徴点の実測の位置情報を得るとしている。特許文献２の液滴吐出装置によれば、基板のサイズの変化、リニアスケールなどの精度変化、装置自体の精度変化が発生しても、機能液の吐出位置精度を保持できるとしている。

また、例えば、特許文献３には、描画走査の移動量に対応して出力されるラッチ信号の次のラッチ信号までの出力間隔を示す複数の間隔データ及び各ラッチ信号に対する吐出ノズルごとの吐出の有無を示す複数の有無データを含む吐出データと、液滴吐出装置ごとに生成されると共に、複数の間隔データの少なくとも１つを補正するための補正データと、を記憶するデータ記憶手段と、吐出データと補正データとに基づいて、液滴吐出ヘッドの吐出駆動を制御する制御手段と、を備えた液滴吐出装置が開示されている。特許文献３の液滴吐出装置によれば、液滴吐出ヘッドの吐出駆動に用いるデータのデータ生成及びデータ補正を容易に行うことができるとしている。

特開２００４−３３７７２７号公報 特開２００６−２１１０４号公報 特開２０１１−１４３３３４号公報

上記特許文献１及び特許文献２では、液滴の吐出位置精度を確保するため、ワーク自体にリニアスケールを設けたり、位置を特定するための特徴点を設けたりしている。したがって、個々のワークに対して液滴の吐出位置を補正した吐出位置データを生成することになり、ワークごとに液滴の吐出位置精度を確保できるという利点があるものの、補正された吐出位置データを生成する時間を要するので、液滴の吐出における生産性を低下させるおそれがある。また、液滴吐出装置におけるワークごとの吐出位置データの扱いなどが煩雑になるという課題がある。

上記特許文献３の液滴吐出装置によれば、上記特許文献１や上記特許文献２に比べて、液滴の吐出に係るデータの扱いが容易になると考えられるが、上記特許文献３では、上記ラッチ信号は、リニアエンコーダーのエンコーダー信号を受けて出力され、上記間隔データとしてエンコーダー信号のパルス数を記憶しているとしている。また、上記補正データは、複数の間隔データから所定のピッチで抽出した１以上の間隔データを補正するものであり、上記所定のピッチは、求められる着弾精度および／またはエンコーダー信号の出力周期などによって決定されるとしている。したがって、液滴を吐出ノズルから吐出するタイミングは間隔データによって制御される。１つの間隔データがエンコーダー信号のパルス数で例えば５パルスに設定され、液滴を吐出するタイミングを遅らせて液滴の吐出位置を補正する場合、間隔データの５パルスを１パルス増やして６パルスとする例が示されている。また、液滴を吐出するタイミングを早めて液滴の吐出位置を補正する場合、間隔データの５パルスを１パルス減らして４パルスとする例が示されている。このような間隔データにおけるエンコーダー信号のパルス数を直接補正する方法は、リニアエンコーダーの分解能が粗くなり、液滴の吐出位置精度を向上させることが難しいという課題があった。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。

［適用例］本適用例に係る液滴吐出装置は、吐出ヘッドとワークとを走査方向に相対的に移動させる走査を行いながら、前記ワークに対して前記吐出ヘッドのノズルから機能層形成材料を含む液状体を液滴として吐出する液滴吐出装置であって、前記ワークを載置するステージと、前記吐出ヘッドと前記ステージとを走査方向に相対移動させる移動機構と、前記相対移動に伴ってエンコーダーパルスを出力するエンコーダーと、前記吐出ヘッドの駆動を制御するヘッド制御部と、前記吐出ヘッドと前記ステージとの相対移動における移動距離に基づいて生成された補正データを記憶する記憶部と、を備え、前記ヘッド制御部において、前記走査により前記吐出ヘッドと前記ステージとが相対的に第１の位置から第２の位置へ移動する間に前記エンコーダーパルスをカウントすることで得られる第１のカウント数が、前記第２の位置に相当する相対位置データとして取得され、前記第１のカウント数を前記補正データに基づいて、前記第１の位置から前記第２の位置までの相対移動に相当する前記エンコーダーパルスのカウント数である第２のカウント数に変更することで前記走査における前記液滴の吐出位置の補正が行われ、前記ヘッド制御部は、前記吐出位置の補正を反映させて前記吐出ヘッドの前記ノズルから前記液滴を吐出させることを特徴とする。

本適用例に係る液滴吐出装置によれば、ヘッド制御部では、吐出ヘッドとステージとの走査に伴って取得された第２の位置の相対位置データであるエンコーダーパルスの第１のカウント数を、走査における相対移動の移動距離に基づいて生成された補正データを反映させた第２のカウント数に変更することで液滴の吐出位置が補正される。したがって、吐出ヘッドとワークを載置するステージとの走査方向への相対移動における位置精度に応じて設計上における液滴の吐出位置データそのものを補正しなくてもよい。言い換えれば、吐出ヘッドとステージとの走査方向への相対移動における位置精度に応じて専用の吐出位置データを作成しなくてもよいことから、吐出ヘッドのノズルから吐出される液滴の吐出位置の補正を適切に行うことが可能な液滴吐出装置を提供することができる。

上記適用例に記載の液滴吐出装置において、前記移動距離は、前記エンコーダーパルスのカウントに基づく測長精度よりも高い測長精度を有する測長システムにより取得されていることが好ましい。
この構成によれば、高い位置精度で液滴の吐出位置の補正が実現される。

上記適用例に記載の液滴吐出装置において、前記補正データは、前記走査における前記吐出ヘッドと前記ステージとの相対移動の範囲を所定の間隔で分割した複数の分割領域ごとに、前記エンコーダーパルスのカウント数を増減させる補正カウント値を含み、前記複数の分割領域のうち前記第２の位置が含まれる分割領域に対応する前記補正カウント値に基づいて、前記第２のカウント数が設定されることが好ましい。
この構成によれば、走査方向に所定の間隔をおいて分割された複数の分割領域ごとに補正カウント値が含まれているので、吐出ヘッドとステージとの相対移動における位置精度のばらつきに対応して、走査方向への相対移動における所定の間隔ごとに液滴の吐出位置の補正ができる。

上記適用例に記載の液滴吐出装置において、前記補正カウント値が０または±１となるように、前記所定の間隔が設定されていることが好ましい。
この構成によれば、走査方向への相対移動における所定の間隔ごとに、エンコーダーの分解能に応じた精度で液滴の吐出位置の補正ができる。

上記適用例に記載の液滴吐出装置において、前記吐出位置の補正が行われるタイミングは、前記走査において前記液滴を吐出しない無吐出期間内に行われることが好ましい。
液滴を吐出する吐出期間内に、液滴の吐出位置の補正を行うと、吐出ヘッドを電気的に駆動するための駆動波形の印加のタイミングに影響を及ぼすことになる。そうすると、例えば走査において連続して液滴を吐出させると、ノズルから吐出される液滴の吐出量のばらつきが増大するおそれがある。この構成によれば、液滴を吐出しない無吐出期間に吐出位置の補正を行うので、液滴の吐出量のばらつきを増大させずに、液滴の吐出位置の補正ができる。

［適用例］本適用例に係る液滴の吐出位置補正方法は、吐出ヘッドとワークとを走査方向に相対的に移動させる走査を行いながら、前記ワークに対して前記吐出ヘッドのノズルから機能層形成材料を含む液状体を液滴として吐出する液滴吐出装置を用いた液滴の吐出位置補正方法であって、前記液滴吐出装置は、前記走査方向への前記吐出ヘッドと前記ステージとの相対移動に伴ってエンコーダーパルスを発生させるエンコーダーと、前記吐出ヘッドの駆動を制御するヘッド制御部と、前記相対移動の移動距離に基づいて生成された補正データと、を備え、前記走査において、前記吐出ヘッドと前記ステージとを相対的に第１の位置から第２の位置に移動させる間に前記エンコーダーパルスをカウントすることで、前記第２の位置に相当する相対位置データを第１のカウント数として取得する工程と、前記第１のカウント数を、前記補正データに基づいて、前記第１の位置から前記第２の位置までの相対移動に相当する前記エンコーダーパルスのカウント数である第２のカウント数に補正することで前記液滴の吐出位置の補正を行う工程と、前記ヘッド制御部が前記吐出位置の補正を反映させて前記吐出ヘッドのノズルから前記液滴を吐出する工程と、を有することを特徴とする。

本適用例に係る液滴の吐出位置補正方法によれば、吐出ヘッドとステージとの走査に伴って取得された第２の位置の相対位置データであるエンコーダーパルスの第１のカウント数を、走査における相対移動の移動距離に基づいて生成された補正データを反映させた第２のカウント数に変更することで液滴の吐出位置を補正する。したがって、吐出ヘッドとステージと走査方向への相対移動における位置精度に応じて設計上における液滴の吐出位置データそのものを補正する作業を行わなくてもよい。言い換えれば、吐出ヘッドとステージとの走査方向への相対移動における位置精度に応じて専用の吐出位置データを作成しなくてもよいことから、吐出ヘッドのノズルから吐出される液滴の吐出位置の補正を液滴吐出装置ごとに適切に行うことが可能な液滴の吐出位置補正方法を提供することができる。

上記適用例に記載の液滴の吐出位置補正方法において、前記エンコーダーパルスのカウントに基づく測長精度よりも高い測長精度を有する測長システムを用いて、前記移動距離を取得することが好ましい。
この方法によれば、高い位置精度で液滴の吐出位置の補正を行うことができる。

上記適用例に記載の液滴の吐出位置補正方法において、前記補正データは、前記走査における前記相対移動の範囲を所定の間隔で分割した複数の分割領域ごとに、前記エンコーダーパルスのカウント数を増減させる補正カウント値を含むように生成されており、前記複数の分割領域のうち前記第２の位置が含まれる分割領域に対応する前記補正カウント値に基づいて、前記第２のカウント数を設定することが好ましい。
この方法によれば、走査方向に所定の間隔をおいて分割された複数の分割領域ごとに補正カウント値が含まれているので、吐出ヘッドとステージとの相対移動における位置精度のばらつきに対応して、走査方向への相対移動における所定の間隔ごとに液滴の吐出位置の補正ができる。

上記適用例に記載の液滴の吐出位置補正方法において、前記補正カウント値が０または±１となるように、前記所定の間隔を設定することが好ましい。
この方法によれば、走査方向における所定の間隔ごとに、エンコーダーの分解能に応じた精度で液滴の吐出位置を補正することができる。

上記適用例に記載の液滴の吐出位置補正方法において、前記走査において前記液滴を吐出しない無吐出期間内に前記吐出位置の補正を行うことが好ましい。
液滴を吐出する吐出期間内に液滴の吐出位置の補正を行うと、吐出ヘッドを電気的に駆動するための駆動波形の印加のタイミングに影響を及ぼすことになる。そうすると、例えば走査において連続して液滴を吐出させると、ノズルから吐出される液滴の吐出量のばらつきが増大するおそれがある。この方法によれば、液滴を吐出しない無吐出期間に吐出位置の補正を行うので、液滴の吐出量のばらつきを増大させずに、液滴の吐出位置の補正を行うことができる。

液滴吐出装置の構成を示す概略斜視図。 インクジェットヘッドの構成を示す概略斜視図。 インクジェットヘッドのノズル面における複数のノズルの配置状態を示す平面図。 ヘッドユニットにおけるインクジェットヘッドの配置を示す概略平面図。 液滴吐出装置の電気的及び機械的な構成を示すブロック図。 液滴の吐出タイミングの制御系を示すブロック図。 液滴の吐出位置の補正テーブルを示す表。 液滴の吐出タイミングの制御を示すタイミングチャート。 電気光学装置の構成を示す概略平面図。 有機ＥＬ素子の構造を示す概略断面図。 有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。 有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。 有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図。 液滴の吐出位置補正方法における吐出タイミング制御の例を示す図。 ワークとしての基板における吐出期間、無吐出期間の他の例を示す概略平面図。

以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。

＜液滴吐出装置＞
まず、本実施形態の液滴吐出装置について、図１〜図４を参照して説明する。図１は液滴吐出装置の構成を示す概略斜視図である。液滴吐出装置は、ワークに対して、吐出ヘッドのノズルから機能層形成材料を含む液状体を液滴として吐出する装置である。吐出された液状体を乾燥・焼成して固化することにより、ワークの所定の領域に機能層を形成する。このような機能層の形成方法は、液相プロセスのうち液滴吐出法と呼ばれている。液滴吐出法を用いて形成される機能層の一例として、後述する有機ＥＬ素子の発光機能を有する機能層が挙げられる。本実施形態の液滴吐出装置は、有機ＥＬ素子を備えた電気光学装置の製造に好適に用いられるものである。なお、本実施形態の液滴吐出装置では、吐出ヘッドとしてインクジェットヘッドを備えており、インクジェットヘッドを用いた液滴吐出法はインクジェット法とも呼ばれる。

図１に示すように、液滴吐出装置１０は、ワークである例えば平板状の基板Ｗを主走査方向（Ｙ軸方向）に移動させるワーク移動機構２０と、インクジェットヘッドが搭載されたヘッドユニット９を主走査方向に直交する副走査方向（Ｘ軸方向）に移動させるヘッド移動機構３０と、を備えている。また、図１には図示されていない機構（構成）を含めて、これらの機構（構成）を統括的に制御する制御部４０を備えている。

ワーク移動機構２０は、一対のガイドレール２１と、一対のガイドレール２１に沿って移動する移動台２２と、移動台２２上に回転機構６を介して配設され基板Ｗが載置されるステージ５とを備えている。
ステージ５は基板Ｗを吸着固定可能であると共に、回転機構６によって基板Ｗ内の基準軸を正確に主走査方向（Ｙ軸方向）、副走査方向（Ｘ軸方向）に合わせることが可能となっている。
また、基板Ｗ上において液状体（インク）が吐出される膜形成領域の配置に応じて、基板Ｗを例えば９０度旋回させることも可能である。

ヘッド移動機構３０は、一対のガイドレール３１と、一対のガイドレール３１に沿って移動する移動台３２とを備えている。移動台３２には、回転機構７を介して吊設されたキャリッジ８が設けられている。
キャリッジ８には、吐出ヘッドとしてのインクジェットヘッド５０（図２参照）がヘッドプレート９ａに搭載されたヘッドユニット９が取り付けられている。
移動台３２がキャリッジ８を副走査方向（Ｘ軸方向）に移動させてヘッドユニット９を基板Ｗに対して対向配置する。

液滴吐出装置１０は、上記構成の他にも、ヘッドユニット９に搭載された複数のインクジェットヘッド５０に液状体（インク）を供給するためのインク供給機構や、インクジェットヘッド５０をメンテナンスするためのメンテナンス機構などが配設されている。

図２はインクジェットヘッドの構成を示す概略斜視図、図３はインクジェットヘッドのノズル面における複数のノズルの配置状態を示す平面図である。

図２に示すように、吐出ヘッドとしてのインクジェットヘッド５０は、所謂２連のものであり、２連の接続針５４を有する液状体（インク）の導入部５３と、導入部５３に積層されたヘッド基板５５と、ヘッド基板５５上に配置され内部に液状体（インク）のヘッド内流路が形成されたヘッド本体５６とを備えている。接続針５４は、前述したインク供給機構（図示省略）に配管を経由して接続され、液状体（インク）をヘッド内流路に供給する。ヘッド基板５５には、フレキシブルフラットケーブル（図示省略）を介してヘッド駆動部としてのヘッドドライバー６３（図５参照）に接続される２連のコネクター５８が設けられている。

ヘッド本体５６は、駆動手段（アクチュエーター）としての圧電素子で構成されたキャビティを有する加圧部５７と、ノズル面５１ａに２つのノズル列５２ａ，５２ｂが相互に平行に形成されたノズルプレート５１とを有している。

図３に示すように、２つのノズル列５２ａ，５２ｂは、それぞれ複数（例えば１８０個）のノズル５２がピッチＰ１でほぼ等間隔に並べられており、互いにピッチＰ１の半分のピッチＰ２ずれた状態でノズル面５１ａに配設されている。本実施形態において、ピッチＰ１は、例えばおよそ１４１μｍである。よって、２つのノズル列５２ａ，５２ｂによって構成されたノズル列５２ｃに直交する方向から見ると３６０個のノズル５２がおよそ７０．５μｍのノズルピッチで配列した状態となっている。また、ノズル５２の径は、およそ２７μｍである。

インクジェットヘッド５０は、ヘッドドライバー６３から電気信号としての駆動信号が圧電素子に印加されると加圧部５７のキャビティの体積変動が起こり、これによるポンプ作用でキャビティに充填された液状体（インク）が加圧され、ノズル５２から液状体（インク）を液滴として吐出することができる。

インクジェットヘッド５０においてノズル５２ごとに設けられる駆動手段（アクチュエーター）は、圧電素子に限定されない。アクチュエーターとしての振動板を静電吸着により変位させる電気機械変換素子や、液状体（インク）を加熱してノズル５２から液滴として吐出させる電気熱変換素子でもよい。

図４はヘッドユニットにおけるインクジェットヘッドの配置を示す概略平面図である。詳しくは、基板Ｗに対向する側から見た図である。

図４に示すように、ヘッドユニット９は、複数のインクジェットヘッド５０が配設されるヘッドプレート９ａを備えている。ヘッドプレート９ａには、３つのインクジェットヘッド５０からなるヘッド群５０Ａと、同じく３つのインクジェットヘッド５０からなるヘッド群５０Ｂの合計６個のインクジェットヘッド５０が搭載されている。本実施形態では、ヘッド群５０ＡのヘッドＲ１（インクジェットヘッド５０）とヘッド群５０ＢのヘッドＲ２（インクジェットヘッド５０）とは同種の液状体（インク）を吐出する。他のヘッドＧ１とヘッドＧ２、ヘッドＢ１とヘッドＢ２においても同様である。すなわち、３種の異なる液状体（インク）を吐出可能な構成となっている。

１つのインクジェットヘッド５０によって描画可能な描画幅をＬ₀とし、これをノズル列５２ｃの有効長とする。ノズル列５２ｃは、３６０個のノズル５２から構成されるものである。

ヘッドＲ１とヘッドＲ２は、主走査方向（Ｙ軸方向）から見て隣り合うノズル列５２ｃが主走査方向と直交する副走査方向（Ｘ軸方向）に１ノズルピッチを置いて連続するように主走査方向に並列して配設されている。したがって、同種の液状体（インク）を吐出するヘッドＲ１とヘッドＲ２の有効な描画幅Ｌ₁は、描画幅Ｌ₀の２倍となっている。ヘッドＧ１とヘッドＧ２、ヘッドＢ１とヘッドＢ２においても同様に主走査方向（Ｙ軸方向）に並列して配置されている。

なお、インクジェットヘッド５０に設けられるノズル列５２ｃは、２連に限らず、１連でもよい。また、ヘッドユニット９におけるインクジェットヘッド５０の配置は、これに限定されるものではない。

次に、液滴吐出装置１０の電気的及び機械的な構成とその機能について、図５を参照して説明する。図５は液滴吐出装置の電気的及び機械的な構成を示すブロック図である。

図５に示すように、液滴吐出装置１０は、ヘッド移動機構３０、ワーク移動機構２０、インクジェットヘッド５０、メンテナンス機構７０などを駆動する各種ドライバーを有する駆動部６０と、駆動部６０を含め液滴吐出装置１０を統括的に制御する制御部４０とを備えている。

駆動部６０は、ヘッド移動機構３０のリニアモーターを駆動制御するヘッド移動用ドライバー６１と、同じく、ワーク移動機構２０のリニアモーターを駆動制御するワーク移動用ドライバー６２と、インクジェットヘッド５０を駆動制御するヘッド駆動部としてのヘッドドライバー６３と、メンテナンス機構７０を駆動制御するメンテナンス用ドライバー６４と、エンコーダー６５とを備えている。
なお、本実施形態におけるヘッド制御部は、ヘッド駆動部としてのヘッドドライバー６３を始めとして、インクジェットヘッド５０の吐出タイミング、吐出位置、駆動波形などの液滴の吐出に係る制御を行う構成を含むものである。

ワーク移動機構２０は、前述した一対のガイドレール２１に沿って主走査方向（Ｙ軸方向）に延在するリニアスケール２４と、スケールヘッド２５とを含んでいる。スケールヘッド２５は、移動台２２が一対のガイドレール２１に沿って移動する際に、リニアスケール２４の目盛を検出することができるように移動台２２に設けられている。

エンコーダー６５は、スケールヘッド２５からリニアスケール２４の目盛の検出結果を電気信号に変換した出力信号を受けて、エンコーダーパルスをワーク移動用ドライバー６２と、ヘッドドライバー６３とにそれぞれ出力する。なお、本実施形態では、エンコーダー６５を駆動部６０に含まれるものとして図５に示したが、これに限定されるものではなく、エンコーダー６５はリニアスケール２４とスケールヘッド２５とを含む独立した構成であるとしてもよい。また、移動台２２を回転軸に沿って主走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動するよう構成し、回転軸を回転させる例えばサーボモーターを設けた場合には、エンコーダー６５は、サーボモーターに設けられたロータリー方式のエンコーダーであってもよい。

なお、図５には図示を省略したが、液滴吐出装置１０は、ヘッド移動機構３０において移動台３２の副走査方向（Ｘ軸方向）における位置を検出可能なリニアスケール及びスケールヘッド、並びに当該スケールヘッドに対応したエンコーダーを備えている。

メンテナンス機構７０は、インクジェットヘッド５０のノズル５２から試験的に吐出された液滴を受けて重量を計測する例えば電子天秤などの重量測定機構７１と、インクジェットヘッド５０のノズル面５１ａ（図２参照）を密封して、ノズル５２から液状体（インク）を吸引し、目詰まりが生じているノズル５２などを回復させるキャップ機構７２と、ノズル面５１ａに付着した異物をワイピング部材でふき取って清浄化するワイピング機構７３とを含んで構成されている。メンテナンス用ドライバー６４は、インクジェットヘッド５０をメンテナンスするためのこれらの機構をそれぞれ駆動するドライバーを含んで構成されている。なお、メンテナンス機構７０の構成は、これに限定されず、インクジェットヘッド５０のノズル５２から吐出された液滴をシートなどの被吐出物で受けて、液滴の着弾状態を撮像することで、液滴の着弾位置精度や目詰まりなどを検出する撮像機構などを備えていてもよい。

制御部４０は、ＣＰＵ４１と、ＲＯＭ４２と、ＲＡＭ４３と、Ｐ−ＣＯＮ（プログラムコントローラー）４４とを備え、これらは互いにバス４５を介して接続されている。Ｐ−ＣＯＮ４４には、上位コンピューター１１が接続されている。ＲＯＭ４２は、ＣＰＵ４１で処理する制御プログラムなどを記憶する制御プログラム領域と、描画動作やインクジェットヘッド５０の機能を回復させるメンテナンス処理などを行うための制御データなどを記憶する制御データ領域とを有している。

ＲＡＭ４３は、基板Ｗに対して液滴を吐出してどのように配置するかを示す吐出位置データを記憶する吐出位置データ記憶部、基板Ｗ及びインクジェットヘッド５０（実際には、ノズル列５２ｃ）の位置データを記憶する位置データ記憶部などの各種記憶部を有し、制御処理のための各種作業領域として使用される。Ｐ−ＣＯＮ４４には、駆動部６０の各種ドライバーなどが接続されており、ＣＰＵ４１の機能を補うと共に、周辺回路とのインターフェース信号を取り扱うための論理回路が構成されて組み込まれている。このため、Ｐ−ＣＯＮ４４は、上位コンピューター１１からの各種指令などをそのままあるいは加工してバス４５に取り込むと共に、ＣＰＵ４１と連動して、ＣＰＵ４１などからバス４５に出力されたデータや制御信号を、そのままあるいは加工して駆動部６０に出力する。

そして、ＣＰＵ４１は、ＲＯＭ４２内の制御プログラムに従って、Ｐ−ＣＯＮ４４を介して各種検出信号、各種指令、各種データなどを入力し、ＲＡＭ４３内の各種データなどを処理した後、Ｐ−ＣＯＮ４４を介して駆動部６０などに各種の制御信号を出力することにより、液滴吐出装置１０全体を制御している。例えば、ＣＰＵ４１は、インクジェットヘッド５０、ワーク移動機構２０及びヘッド移動機構３０を制御して、ヘッドユニット９と基板Ｗとを対向配置させる。そして、ヘッドユニット９と基板Ｗとの相対移動に同期して、ヘッドユニット９に搭載された各インクジェットヘッド５０の複数のノズル５２から基板Ｗに液状体（インク）を液滴として吐出するようにヘッドドライバー６３に制御信号を送出する。本実施形態では、Ｙ軸方向への基板Ｗの移動に同期して液状体（インク）を吐出することを主走査と呼び、主走査に対してＸ軸方向にヘッドユニット９を移動させることを副走査と呼ぶ。本実施形態の液滴吐出装置１０は、主走査と副走査とを組み合わせて複数回繰り返すことにより液状体（インク）を基板Ｗに吐出することができる。主走査は、インクジェットヘッド５０に対して一方向への基板Ｗの移動に限らず、基板Ｗを往復させて行うこともできる。

エンコーダー６５は、主走査に伴ってエンコーダーパルスを生成する。主走査では、所定の移動速度で移動台２２を移動させるので、エンコーダーパルスが周期的に発生する。

例えば、主走査における移動台２２の移動速度を２００ｍｍ／ｓｅｃ、インクジェットヘッド５０を駆動する駆動周波数（言い換えれば、連続して液滴を吐出する場合の吐出タイミング）を２０ｋＨｚとすると、主走査方向における液滴の吐出分解能は、移動速度を駆動周波数で除することにより得られるので、１０μｍとなる。すなわち、１０μｍのピッチで液滴を基板Ｗ上に配置することが可能である。移動台２２の移動速度を２０ｍｍ／ｓｅｃとすれば、１μｍのピッチで液滴を基板Ｗ上に配置することが可能である。実際の液滴の吐出タイミングは、周期的に発生するエンコーダーパルスをカウントして生成される吐出パルスに基づいている。このような主走査における基板Ｗ上の液滴の最小配置ピッチを吐出分解能と呼ぶ。

上位コンピューター１１は、制御プログラムや制御データなどの制御情報を液滴吐出装置１０に送出する。また、基板Ｗ上に液状体（インク）を液滴として配置する吐出制御データとしての配置情報を生成する配置情報生成部の機能を有している。配置情報は、基板Ｗにおける液滴の配置位置を示す吐出位置データ、液滴の配置数を示す吐出データ（言い換えれば、ノズル５２ごとの吐出数）、主走査における複数のノズル５２のＯＮ／ＯＦＦすなわちノズル５２の選択／非選択などの情報を、例えば、ビットマップとして表したものである。上位コンピューター１１は、上記配置情報を生成するだけでなく、ＲＡＭ４３に一旦格納された上記配置情報を修正することも可能である。

基板Ｗにおける液滴の配置位置を示す吐出位置データは、主走査における基板Ｗとノズル５２との相対的な位置を示すものである。前述したように、基板Ｗはステージ５に載置されて、移動台２２により主走査方向（Ｙ軸方向）に移動する。基板Ｗの主走査方向における位置、すなわち、ステージ５の主走査方向の位置は、主走査においてエンコーダー６５から周期的に出力されるエンコーダーパルスをカウントすることで制御される。エンコーダーパルスの分解能は、リニアスケール２４の目盛の精度によるが、ステージ５の移動範囲において必ずしも一定であるとは言えない。したがって、ステージ５を主走査方向に所定の移動距離で移動させたときにカウントされる実際のエンコーダーパルスのカウント数は、エンコーダーパルスの設計上の分解能に基づいて求められた上記所定の移動距離に相当するエンコーダーパルスのカウント数と異なることがある。つまり、主走査方向におけるステージ５の移動における位置精度は、ばらつきを有している。このばらつきは、同じ構造の液滴吐出装置１０であれば同じであるとは限らない。

一方で、冒頭で説明したように、液滴吐出装置１０を例えば有機ＥＬ素子を備えた電気光学装置の製造に用いる場合、基板Ｗにおける液滴の配置位置を示す吐出位置データは、電気光学装置の機種ごとに設計（生成）される。ところが、設計（生成）された吐出位置データを用いても、上述したように、ステージ５の移動における位置精度がばらついていると、基板Ｗの所望の位置に液滴を精度よく配置できるとは限らない。また、複数の液滴吐出装置１０に対して同じ吐出位置データを適用して、基板Ｗに液滴を吐出させたとしても、液滴吐出装置１０ごとにステージ５の移動における位置精度のばらつきが異なれば、やはり基板Ｗの所望の位置に液滴を精度よく配置できるとは限らない。

本実施形態の液滴吐出装置１０では、設計（生成）された吐出位置データをそのまま用いても、基板Ｗの所望の位置に精度よく液滴を吐出することができるように、液滴の吐出位置が補正されるしくみとなっている。以降、液滴吐出装置１０における液滴の吐出位置補正方法について、図６〜図８を参照して説明する。

＜液滴の吐出位置補正方法＞
図６は液滴吐出装置における吐出タイミングの制御系を示すブロック図、図７は液滴の吐出位置の補正テーブルを示す表、図８は液滴の吐出タイミングの制御を示すタイミングチャートである。

図６に示すように、軸コントローラー４６から移動指令（移動台２２の主走査方向への移動に係る制御信号）がワーク移動用ドライバー６２に送出されると、ワーク移動用ドライバー６２は、移動指令に対応したエンコーダーパルスのカウント数に基づいた位置指令（移動距離）をワーク移動機構２０のリニアモーター２３に送出する。リニアモーター２３は位置指令に基づいて移動台２２を主走査方向に移動させる。移動台２２が主走査方向に移動するとスケールヘッド２５からはリニアスケール２４の目盛を検出した検出信号がエンコーダー６５に送出され、エンコーダー６５からエンコーダーパルスが出力されてワーク移動用ドライバー６２にフィードバックされる。ワーク移動用ドライバー６２はフィードバックされたエンコーダーパルスをカウントすることで、移動台２２の主走査方向における位置を制御できる。
本実施形態における位置指令は、エンコーダーパルスをカウントすることで、吐出タイミングを制御するためのインクジェットヘッド５０とステージ５との相対位置を示す本発明における相対位置データに相当するものである。

ヘッドドライバー６３には、ヘッドコントローラー４７からインクジェットヘッド５０のノズル５２ごとの液滴の吐出数を含む吐出データと、同じくノズル５２ごとの吐出位置データとが入力される。また、移動台２２（ステージ５）の主走査方向への移動に伴ってエンコーダー６５から出力されるエンコーダーパルスがヘッドドライバー６３に送出される。
ヘッドドライバー６３は、上記吐出データ、上記吐出位置データのそれぞれを記憶する記憶部と、主走査における原点（第１の位置）から吐出位置（第２の位置）までのインクジェットヘッド５０に対するステージ５の相対移動により取得されるエンコーダーパルスのカウント数である第１のカウント数を、実際のインクジェットヘッド５０に対するステージ５の相対移動に相当するエンコーダーパルスの第２のカウント数に補正する補正データを記憶する記憶部とを備えている。

ヘッドドライバー６３は、入力されたエンコーダーパルスをカウントしつつ、吐出位置データに補正データを反映させた吐出パルスをノズル５２ごとに生成してインクジェットヘッド５０を駆動制御し、インクジェットヘッド５０のノズル５２から上記吐出パルスに基づいた吐出タイミングで液滴Ｄを吐出させる。

補正データは、少なくとも主走査におけるステージ５の移動範囲において、ステージ５を実際に移動させ、その主走査方向における移動距離を精密に計測して取得されている。具体的には、主走査方向にステージ５を所定の移動距離で移動させたときの設計上のエンコーダーパルスの第１のカウント数と、エンコーダー６５の測長精度よりも高い測長精度を有する例えばレーザー測長システムを用いて主走査方向にステージ５を上記所定の移動距離で移動させたときのエンコーダーパルスの第２のカウント数とを比較することで、上記所定の移動距離で移動させたときのエンコーダーパルスの補正カウント値を求める。補正データは当該補正カウント値を含むものである。

なお、図６に示した軸コントローラー４６及びヘッドコントローラー４７は、図５に示したＰ−ＣＯＮ４４に含まれるものである。

本実施形態では、図７に示すように、主走査におけるインクジェットヘッド５０に対するステージ５の相対移動における移動範囲が例えば３０００ｍｍであり、ステージ５の相対移動における所定の間隔を例えば１０ｍｍとして、レーザー測長システムを用いてステージ５の主走査方向における相対移動の位置精度を上記所定の間隔ごとに計測した。ステージ５の相対移動は図６に示したようにワーク移動用ドライバー６２によって制御されている。ワーク移動用ドライバー６２によってリニアモーター２３を駆動制御して、ステージ５を所定の間隔で移動させる。このときにレーザー測長システムで測長したときの所定の間隔が実際にはどの程度、長いまたは短いかを示したのが図７の補正テーブルである。レーザー測長システムによる測長結果から、原点（０ｍｍ）から１０ｍｍの計測範囲でステージ５を移動させたときの実際の測長結果との差、つまり補正値は例えば０μｍであり、１０ｍｍを超えて２０ｍｍまでの計測範囲では補正値は例えば−０．１μｍであり、２０ｍｍを超えて３０ｍｍまでの計測範囲では補正値は例えば０．１μｍであり、２００ｍｍを超えて３０００ｍｍまでの計測範囲では補正値は例えば０．１μｍである。ここでは、説明上、３０ｍｍを超えて２９００ｍｍまでの１０ｍｍごとの補正値の表記は省略した。

本実施形態におけるエンコーダー６５の分解能は０．１μｍであることから、図７の補正テーブルを参照すると、主走査における原点（０ｍｍ）から１０ｍｍまでのステージ５の移動範囲では、エンコーダーパルスの補正カウント値は「０」となる。主走査における１０ｍｍを超えて２０ｍｍまでのステージ５の移動範囲では、エンコーダーパルスの補正カウント値は「−１」となる。主走査における２０ｍｍを超えて３０ｍｍまでのステージ５の移動範囲では、エンコーダーパルスの補正カウント値は「１」となる。同様に、主走査における２９００ｍｍを超えて３０００ｍｍまでのステージ５の移動範囲では、エンコーダーパルスの補正カウント値は「１」となる。つまり、補正カウント値を含む補正データを吐出位置データに反映させることで、ステージ５の主走査方向への相対移動における１０ｍｍ単位の移動範囲ごとに、０±１の補正カウント値で吐出位置データが補正される。すなわち、エンコーダー６５の分解能を単位として吐出位置データが補正される。言い換えれば、エンコーダー６５の分解能を単位として吐出位置データが補正されるように、ステージ５の主走査方向への移動における所定の間隔を設定する。なお、主走査方向（Ｙ軸方向）において上記所定の間隔ごとに、且つインクジェットヘッド５０とそのノズル５２ごとに吐出位置データが設計（生成）される。このようなステージ５の主走査方向への相対移動における移動距離の実測データを示す図７に示した補正テーブルや、該補正テーブルに基づく補正カント値を含む補正データは、制御部４０を介してヘッドドライバー６３の記憶部に予め記憶される。なお、補正データは、ヘッドドライバー６３の記憶部に記憶させることに限定されず、制御部４０に設けられた記憶部に記憶させ、ヘッドドライバー６３がＰ−ＣＯＮ４４を介して補正データを参照する構成としてもよい。

次に、補正データを吐出位置データに反映するタイミングについて、図８を参照して説明する。具体的には、図８は、上記所定の間隔が、液滴Ｄを連続して吐出させる複数（２つ）の吐出期間と、液滴Ｄを吐出させない（液滴Ｄを吐出しない）無吐出期間とを含んで構成されている例の吐出タイミングを示すタイミングチャートである。なお、図８に示された吐出期間、無吐出期間におけるエンコーダーパルスの数は、実際と異なるものであって、実際には、それぞれの期間にステージ５が相対移動する移動距離をエンコーダー６５の分解能で除した数になる。図８はエンコーダーパルスを認識可能な程度に表したものである。例えば、エンコーダー６５の分解能を０．１μｍとするとステージ５が主走査方向に１ｍｍ移動する間に出力されるエンコーダーパルスの数は１００００パルスとなる。

図８に示すように、液滴の吐出位置の補正を行わない場合（補正なし）は、液滴Ｄを吐出させる吐出期間に、吐出波形が印加されて液滴Ｄが吐出される。吐出波形は、インクジェットヘッド５０のノズル５２ごとに設けられた圧電素子に印加される駆動波形であって、例えばプッシュ・プル波形で構成されている。吐出期間は、ヘッドドライバー６３が吐出位置データに基づいて入力されたエンコーダーパルスをカウントして生成した吐出パルスと、吐出データに含まれる液滴Ｄを吐出させるノズル５２の選択信号とに基づいて決定される。無吐出期間は、吐出データに当該ノズル５２の選択信号を含んでいないので、当該ノズル５２の圧電素子には吐出波形が印加されない。

前述したように補正カウント値を「１」として、上記所定の間隔において吐出タイミングを遅らせて、実質的な液滴Ｄの吐出位置をエンコーダー６５の分解能を単位として補正する場合（＋１パルスずらし）は、図８に示すように、無吐出期間におけるエンコーダーパルスのカウント数を１つ増やすようにする。つまり、所定の間隔における吐出位置データの無吐出期間にカウントされるエンコーダーパルスの第１のカウント数を１つ増やした第２のカウント数としてカウントされるように、ヘッドドライバー６３によって補正データが吐出位置データに反映され、吐出パルスが生成される。

また、前述したように補正カウント値を「−１」として、上記所定の間隔において吐出タイミングを早めて、実質的な液滴Ｄの吐出位置をエンコーダー６５の分解能を単位として補正する場合（−１パルスずらし）は、図８に示すように、無吐出期間におけるエンコーダーパルスのカウント数を１つ減らすようにする。つまり、所定の間隔における吐出位置データの無吐出期間にカウントされるエンコーダーパルスの第１のカウント数を１つ減らした第２のカウント数としてカウントされるように、ヘッドドライバー６３によって補正データが吐出位置データに反映され、吐出パルスが生成される。

例えば、上記所定の間隔における吐出期間にカウントされるエンコーダーパルスの第１のカウント数を１つ増やした第２のカウント数としてカウントされるように、補正データを吐出位置データに反映させ吐出パルスを生成すると、吐出波形が実質的に印加される期間がわずかであるが長くなる。同様に、所定の間隔における吐出期間にカウントされるエンコーダーパルスの第１のカウント数を１つ減らした第２のカウント数としてカウントされるように、補正データを吐出位置データに反映させ吐出パルスを生成すると、吐出波形が実質的に印加される期間がわずかであるが短くなる。このように、液滴Ｄの吐出位置を補正しようとして吐出期間にカウントされるエンコーダーパルスの数を補正すると、吐出波形が圧電素子に印加される期間（時間）が変化することから、吐出波形における残留振動などの影響の仕方が変化して、液滴Ｄの吐出量が変化するおそれがある。特に、液滴Ｄを連続して吐出させる場合、このような吐出波形の印加期間の変化は液滴Ｄの吐出量に大きく影響するおそれがある。本実施形態では、液滴Ｄの吐出位置を補正する場合、無吐出期間におけるエンコーダーパルスのカウント数を補正するので、液滴Ｄを連続して吐出させても液滴Ｄの吐出量の変化が起き難い。また、吐出波形が印加される吐出期間のエンコーダーパルスのカウント数は、主走査方向における液滴Ｄの吐出分解能に相当するものである。したがって、吐出期間のエンコーダーパルスのカウント数を補正することは液滴Ｄの吐出分解能にも影響を及ぼすことから、やはり、無吐出期間のエンコーダーパルスのカウント数を補正することが好ましい。なお、無吐出期間は、上記所定の間隔において後端に位置していることに限定されず、前端でもよいし、２つの吐出期間の間であってもよい。

図８に示すように、本実施形態では、周期的に発生するエンコーダーパルスの１パルスの１周期をカウントの単位としているが、カウントの単位はこれに限定されるものではない。例えば、１パルスの１周期を３６０度とするとき、スケールヘッド２５で読み取られたエンコーダーパルスを例えば４逓倍したエンコーダーパルスを利用して、９０度の位相ずれで１パルスとしてカウントしてもよい。このようにすればエンコーダーパルスの実質的な分解能を向上させることができる。言い換えれば、このように設定されたエンコーダーパルスのカウントの仕方によって液滴の吐出位置の補正を精度よく行える。

次に、無吐出期間について、液滴吐出装置１０を用いて製造される電気光学装置を例に挙げて説明する。まず、電気光学装置とその製造方法について、図９〜図１３を参照して説明する。図９は電気光学装置の構成を示す概略平面図、図１０は有機ＥＬ素子の構造を示す概略断面図、図１１〜図１３は有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図である。

＜電気光学装置＞
図９に示すように、電気光学装置１００は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の発光（発光色）が得られるサブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂが配置された素子基板１０１を有している。各サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂは略矩形状であり、素子基板１０１の表示領域Ｅにおいてマトリックス状に配置されている。以降、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂを総称してサブ画素１１０と呼ぶこともある。同じ発光色のサブ画素１１０が図面上において垂直方向（列方向あるいはサブ画素１１０の長手方向）に配列し、異なる発光色のサブ画素１１０が図面上において水平方向（行方向あるいはサブ画素１１０の短手方向）にＲ，Ｇ，Ｂの順で配列している。すなわち、異なる発光色のサブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂが所謂ストライプ方式で配置されている。なお、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂの平面形状と配置は、これに限定されるものではない。また、略矩形状とは、正方形、長方形に加えて、角部が丸くなった四角形、対向する２辺部が円弧状となった四角形を含むものである。

サブ画素１１０Ｒには、赤（Ｒ）の発光が得られる有機ＥＬ素子が設けられている。同じく、サブ画素１１０Ｇには、緑（Ｇ）の発光が得られる有機ＥＬ素子が設けられ、サブ画素１１０Ｂには、青（Ｂ）の発光が得られる有機ＥＬ素子が設けられている。

このような電気光学装置１００は、異なる発光色が得られる３つのサブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂを１つの表示画素単位として、それぞれのサブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂは電気的に制御される。これによりフルカラー表示が可能となっている。

各サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂには、図１０に示す有機ＥＬ素子１３０が設けられている。図１０に示すように、有機ＥＬ素子１３０は、基板としての素子基板１０１上に設けられた絶縁膜１０２と、一対の電極としての画素電極１０３及び対向電極１０４と、画素電極１０３と対向電極１０４との間に設けられた、発光層１３３を含む機能層１３６とを有している。

画素電極１０３は、陽極として機能するものであり、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂごとに設けられ、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明導電膜を用いて形成されている。

絶縁膜１０２は、例えば酸化シリコンや窒化シリコンあるいは酸窒化シリコンなどを用いて形成される。

機能層１３６は、画素電極１０３側から、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３、電子輸送層１３４、電子注入層１３５が順に積層されたものである。特に、発光層１３３は発光色に応じて構成材料が選ばれるが、ここでは発光色に関わらず総称して発光層１３３と呼ぶ。なお、機能層１３６の構成は、これに限定されるものではなく、これらの層以外に、電荷（キャリア；正孔や電子）の移動を制御する中間層などを備えていてもよい。

対向電極１０４は、陰極として機能するものであり、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂに共通した共通電極として設けられ、例えば、Ａｌ（アルミニウム）やＡｇ（銀）とＭｇ（マグネシウム）の合金などを用いて形成されている。

陽極としての画素電極１０３側から発光層１３３にキャリアとしての正孔が注入され、陰極としての対向電極１０４側から発光層１３３にキャリアとしての電子が注入される。発光層１３３において注入された正孔と電子とにより、励起子（エキシトン；正孔と電子とがクーロン力にて互いに束縛された状態）が形成され、励起子（エキシトン）が消滅する際（正孔と電子とが再結合する際）にエネルギーの一部が蛍光や燐光となって放出される。

電気光学装置１００において、光反射性を有するように対向電極１０４を構成すれば、発光層１３３からの発光を素子基板１０１側から取り出すボトムエミッション方式とすることができる。また、画素電極１０３と素子基板１０１との間に反射層を設ける、または光反射性を有するように画素電極１０３を構成し、光透過性を有するように対向電極１０４を構成すれば、発光層１３３からの発光を対向電極１０４側から取り出すトップエミッション方式とすることもできる。本実施形態では、電気光学装置１００がボトムエミッション方式であるとして、以降の説明を行う。なお、電気光学装置１００は、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂごとの有機ＥＬ素子１３０をそれぞれ独立して駆動することができる画素回路を素子基板１０１に備えたアクティブ駆動型である。画素回路は公知の構成を採用することができるので、図１０では画素回路の図示を省略している。

電気光学装置１００は、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂごとの有機ＥＬ素子１３０における画素電極１０３の外縁と重なると共に、画素電極１０３上に開口部１０５ａを構成する隔壁１０５を有している。
有機ＥＬ素子１３０は、機能層１３６を構成する正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３が液相プロセスで形成されたものである。液相プロセスとは、それぞれの層を構成する成分と溶媒とを含んだ液状体（インク）を隔壁１０５で囲まれた膜形成領域としての開口部１０５ａに塗布して乾燥・焼成することにより、それぞれの層を形成する方法である。それぞれの層を所望の膜厚で形成するためには、所定量の液状体（インク）を量的にも位置的にも精度よく開口部１０５ａに塗布する必要があり、本実施形態では、液相プロセスとしてインクジェット法（液滴吐出法）を採用している。

＜有機ＥＬ素子の製造方法＞
次に、有機ＥＬ素子１３０の製造方法について、図１１〜図１３を参照して具体的に説明する。図１１〜図１３は有機ＥＬ素子の製造方法を示す概略断面図である。なお、前述したように、有機ＥＬ素子１３０を駆動制御する画素回路や画素電極１０３の形成方法は、公知の方法を採用できるので、ここでは、隔壁形成工程以降について説明する。

本実施形態の有機ＥＬ素子１３０の製造方法は、隔壁形成工程（ステップＳ１）と、表面処理工程（ステップＳ２）と、機能層形成工程（ステップＳ３）と、対向電極形成工程（ステップＳ４）とを有している。

ステップＳ１の隔壁形成工程では、画素電極１０３が形成された素子基板１０１に、機能層形成材料を含む液状体（インク）に対して撥液性を示す撥液材料を含む感光性樹脂材料を１μｍ〜２μｍの厚みで塗布して乾燥することにより感光性樹脂層を形成する。塗布方法としては、転写法、スリットコート法などが挙げられる。撥液材料としてはフッ素化合物やシロキサン系化合物が挙げられる。感光性樹脂材料としては、ネガ型の多官能アクリル樹脂を挙げることができる。できあがった感光性樹脂層をサブ画素１１０の形状に対応した露光用マスクを用いて露光・現像して、図１１に示すように、画素電極１０３の外縁と重なると共に、画素電極１０３上に開口部１０５ａを構成する隔壁１０５を形成する。そして、ステップＳ２へ進む。

ステップＳ２の表面処理工程では、隔壁１０５が形成された素子基板１０１に表面処理を施す。表面処理工程は、次工程で機能層１３６を構成する正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３をインクジェット法（液滴吐出法）で形成するに際して、隔壁１０５で囲まれた開口部１０５ａにおいて、機能層形成材料を含む液状体（インク）がむらなく濡れ拡がるように、画素電極１０３の表面の隔壁残渣などの不要物を取り除く目的で行われる。表面処理方法として、本実施形態ではエキシマＵＶ（紫外線）処理を実施した。なお、表面処理方法はエキシマＵＶ処理に限定されず、画素電極１０３の表面を清浄化できればよく、例えば液状体（インク）に含まれる溶媒による洗浄・乾燥工程を行ってもよい。また、画素電極１０３の表面が清浄な状態であれば、表面処理工程を実施しなくてもよい。なお、本実施形態では、撥液材料を含む感光性樹脂材料を用いて隔壁１０５を形成したが、これに限定されるものではなく、撥液材料を含まない感光性樹脂材料を用いて隔壁１０５を形成した後に、ステップＳ２において、フッ素系の処理ガスを用いた例えばプラズマ処理を施して隔壁１０５の表面に撥液性を与え、その後、酸素を処理ガスとするプラズマ処理を施して画素電極１０３の表面を親液化する表面処理を行ってもよい。そして、ステップＳ３へ進む。

ステップＳ３の機能層形成工程では、まず、図１２に示すように、正孔注入層形成材料を含む液状体としてのインク８０を開口部１０５ａに塗布する（塗布工程）。インク８０の塗布方法は、液滴吐出装置１０を使用して、インク８０をインクジェットヘッド５０のノズル５２から液滴Ｄとして吐出するインクジェット法（液滴吐出法）を用いる。インクジェットヘッド５０から吐出される液滴Ｄの吐出量は、ｐｌ（ピコリットル）単位で制御可能であって、所定量を液滴Ｄの吐出量で除した数の液滴Ｄが開口部１０５ａに吐出される。吐出されたインク８０は隔壁１０５との界面張力により開口部１０５ａにおいて盛り上がるが、溢れてしまうことはない。言い換えれば、開口部１０５ａから溢れ出ない程度の所定量となるように、インク８０における正孔注入層形成材料の濃度が予め調整されている。正孔注入層形成材料としては、例えば、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン／スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）が挙げられ、これに適した溶媒としては水が挙げられる。そして、乾燥工程に進む。

乾燥工程では、インク８０が塗布された素子基板１０１を減圧下に放置し、インク８０から溶媒を蒸発させて乾燥する減圧乾燥を用いる。その後、大気下で例えば１８０℃で３０分間加熱する焼成処理を施すことにより固化して、図１３に示すように正孔注入層１３１を形成する（焼成工程）。正孔注入層１３１は、正孔注入層形成材料の選択や機能層１３６における他の層との関係で必ずしもこれに限定されるものではないが、およそ４０ｎｍ〜１００ｎｍの膜厚で形成される。

次に、正孔輸送層形成材料を含む液状体としてのインク８５を用いて正孔輸送層１３２を形成する。正孔輸送層１３２の形成方法も、正孔注入層１３１と同様に液滴吐出装置１０を使用したインクジェット法（液滴吐出法）を用いて行う。すなわち、所定量のインク８５をインクジェットヘッド５０のノズル５２から液滴Ｄとして開口部１０５ａに吐出する（塗布工程）。そして、開口部１０５ａに塗布されたインク８５を減圧乾燥する（乾燥工程）。その後、大気下で、例えば２２０℃で３０分間加熱する焼成処理を施すことにより正孔輸送層１３２を形成する（焼成工程）。正孔輸送層１３２は、正孔輸送層形成材料の選択や機能層１３６における他の層との関係で必ずしもこれに限定されるものではないが、およそ１０ｎｍ〜３０ｎｍの膜厚で形成される。正孔輸送層形成材料としては、例えば、ポリ（２，７−（９，９−ジ−ｎ−オクチルフルオレン）−（１，４−フェニレン−（（４−sec−ブチルフェニル）イミノ）−１，４−フェニレン（ＴＦＢ）が挙げられる。これに適した溶媒としては、トルエン、キシレン、３−フェノキシトルエン（３−ＰＴ）などの芳香族溶媒が挙げられる。

次に、発光層形成材料を含む液状体としてのインク９０を用いて発光層１３３を形成する。発光層１３３の形成方法も、正孔注入層１３１と同様に、液滴吐出装置１０を使用したインクジェット法（液滴吐出法）を用いて行う。すなわち、所定量のインク９０をインクジェットヘッド５０のノズル５２から液滴Ｄとして開口部１０５ａに吐出する（塗布工程）。そして、開口部１０５ａに塗布されたインク９０を減圧乾燥する（乾燥工程）。その後、窒素などの不活性ガス雰囲気下で、例えば１６０℃で１０分間加熱する焼成処理を施すことにより発光層１３３を形成する（焼成工程）。発光層１３３は、発光層形成材料の選択や機能層１３６における他の層との関係で必ずしもこれに限定されるものではないが、およそ４０ｎｍ〜７０ｎｍの膜厚で形成される。
発光層形成材料は、発光色に応じて種々の蛍光材料や燐光材料を選択することができる。例えば、赤色の蛍光材料としては、ペリレン誘導体、ユーロピウム錯体、ベンゾピラン誘導体、ローダミン誘導体、ベンゾチオキサンテン誘導体、ポルフィリン誘導体、ナイルレッドなどが挙げられる。緑色の蛍光材料としては、緑色の蛍光を発するものとしては、クマリン誘導体、キナクリドンおよびその誘導体が挙げられる。青色の蛍光材料としては、例えば、ジスチリルジアミン系化合物などのジスチリルアミン誘導体、フルオランテン誘導体、ピレン誘導体、ペリレンおよびペリレン誘導体、アントラセン誘導体などが挙げられる。これらの発光材料に適した溶媒としては、トルエン、キシレン、３−ＰＴなどの芳香族溶媒が挙げられる。

次に、発光層１３３を覆って電子輸送層１３４が形成される。電子輸送層１３４を構成する電子輸送材料としては、特に限定されないが、真空蒸着法などの気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、ＢＡＬｑ、１，３，５−トリ（５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール）（ＯＸＤ−１）、ＢＣＰ（Bathocuproine）、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−オキサジアゾール（ＰＢＤ）、３−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）、４，４’−ｂｉｓ（１，１−ｂｉｓジフェニルエテニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）、２，５−ｂｉｓ（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＢＮＤ）、４，４’−ｂｉｓ（１，１−ｂｉｓ（４−メチルフェニル）エテニル）ビフェニル（ＤＴＶＢｉ）、２，５−ｂｉｓ（４−ビフェニリル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＢＢＤ）などを挙げることができる。

また、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）、オキサジアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、フェナンソロリン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタン誘導体、フルオレン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン誘導体、ジフェノキノン誘導体、ヒドロキシキノリン誘導体などを挙げることができる。これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

電子輸送層１３４は、上記電子輸送材料の選択や機能層１３６における他の層との関係で必ずしもこれに限定されるものではないが、およそ２０ｎｍ〜４０ｎｍの膜厚で形成される。これにより、陰極としての対向電極１０４から注入された電子を好適に発光層１３３に輸送することができる。なお、機能層１３６における他の層との関係で電子輸送層１３４を削除することもできる。

次に、電子輸送層１３４を覆って電子注入層１３５を形成する。電子注入層１３５を構成する電子注入材料としては、特に限定されないが、真空蒸着法などの気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、アルカリ金属化合物やアルカリ土類金属化合物を挙げることができる。

アルカリ金属化合物としては、例えば、ＬｉＦ、Ｌｉ₂ＣＯ₃、ＬｉＣｌ、ＮａＦ、Ｎａ₂ＣＯ₃、ＮａＣｌ、ＣｓＦ、Ｃｓ₂ＣＯ₃、ＣｓＣｌなどのアルカリ金属塩が挙げられる。また、アルカリ土類金属化合物としては、例えば、ＣａＦ₂、ＣａＣＯ₃、ＳｒＦ₂、ＳｒＣＯ₃、ＢａＦ₂、ＢａＣＯ₃などのアルカリ土類金属塩が挙げられる。これらのアルカリ金属化合物やアルカリ土類金属化合物うちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

電子注入層１３５の膜厚は、特に限定されないが、１ｎｍ以上、１０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１ｎｍ以上、５ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。これによって、陰極としての対向電極１０４から電子輸送層１３４に電子を効率よく注入できる。

次に、ステップＳ４の対向電極形成工程では、電子注入層１３５を覆って陰極としての対向電極１０４を形成する。対向電極１０４の構成材料としては、仕事関数の小さい材料を用いるのが好ましく、且つ真空蒸着法などの気相プロセスを用いて形成し得るように、例えば、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｃｓ、Ｒｂ、Ａｕまたはこれらを含む合金などが用いられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて（例えば、複数層の積層体など）用いることができる。

特に、本実施形態のように、電気光学装置１００をボトムエミッション方式とする場合、対向電極１０４には光反射性が求められる。したがって、例えば、Ａｌ、Ａｇ、ＡｌＡｇ、ＡｌＮｄなどの金属または合金が好ましく用いられる。このような金属または合金を対向電極１０４の構成材料として用いることにより、対向電極１０４の電子注入効率及び安定性の向上を図ることができる。
ボトムエミッション方式における対向電極１０４の膜厚は、特に限定されないが、５０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下程度であるのが好ましく、１００ｎｍ以上、５００ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。これにより、図１０に示すように、有機ＥＬ素子１３０ができあがる。

なお、電気光学装置１００をトップエミッション方式とする場合、対向電極１０４の構成材料としては、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕなどの金属またはＭｇＡｇ、ＭｇＡｌ、ＭｇＡｕ、ＡｌＡｇなどの合金を用いるのが好ましい。このような金属または合金を用いることにより、対向電極１０４の光透過性を維持しつつ、対向電極１０４の電子注入効率及び安定性の向上を図ることができる。
トップエミッション方式における対向電極１０４の膜厚は、特に限定されないが、１ｎｍ以上、５０ｎｍ以下程度であるのが好ましく、５ｎｍ以上、２０ｎｍ以下程度であるのがより好ましい。

次に、より具体的な液滴Ｄの吐出位置補正方法における吐出タイミング制御の例について、図１４を参照して説明する。図１４は液滴の吐出位置補正方法における吐出タイミング制御の例を示す図である。詳しくは、図８のタイミングチャートに対応した吐出タイミング制御の例を示すものである。

図１４に示すように、素子基板１０１は、Ｒ，Ｇ，Ｂの各サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂに対応して設けられた隔壁１０５の開口部１０５ａの短手方向が、主走査方向（Ｙ軸方向）に沿うように液滴吐出装置１０のステージ５上に配置される。これに対して、インクジェットヘッド５０のノズル列５２ｃは、複数のノズル５２が副走査方向（Ｘ軸方向）に配列するように配置される。素子基板１０１に対してインクジェットヘッド５０が対向するように配置して、ステージ５を主走査方向に相対的に移動させる主走査の間に、例えば、前述したように、赤色の発光色が得られる発光層形成材料を含む液状体であるインク９０Ｒをノズル５２から吐出する。図１４に示すように、例えば、１つの開口部１０５ａには主走査においてノズル列５２ｃのうち２つのノズル５２が掛かかり、２つのノズル５２のそれぞれからインク９０Ｒが複数の液滴Ｄとして連続的に吐出される。主走査においてインクジェットヘッド５０に対してステージ５は相対移動しているため、連続的に吐出された液滴Ｄは、開口部１０５ａ内において主走査方向にわずかにずれた位置に吐出される。つまり、連続した吐出期間において、開口部１０５ａ内のわずかにずれた位置に複数の液滴Ｄが着弾する。

主走査において次にインク９０Ｒが吐出されるのは、次のサブ画素１１０Ｒに対応する開口部１０５ａであるから、主走査方向に配列する異なる色のサブ画素１１０Ｇ，１１０Ｂの開口部１０５ａにはインク９０Ｒは吐出されない。つまり、主走査方向において、隣り合うサブ画素１１０Ｒの間は、液滴Ｄが吐出されない無吐出期間となる。インクジェットヘッド５０のノズル５２から緑色の発光色が得られる発光層形成材料を含む液状体であるインク９０Ｇや、青色の発光色が得られる発光層形成材料を含む液状体であるインク９０Ｂを吐出する場合も同様である。このような無吐出期間におけるエンコーダーパルスのカウント数を補正することで、開口部１０５ａに吐出される液滴Ｄの吐出位置が補正される。

なお、正孔注入層形成材料を含むインク８０や、正孔輸送層形成材料を含むインク８５をインクジェットヘッド５０のノズル５２から吐出する場合は、各サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂのそれぞれに対応する開口部１０５ａに液滴Ｄを吐出することになるので、この場合の無吐出期間は、主走査方向における開口部１０５ａの間の隔壁１０５の長さに相当する主走査の期間となる。

図１５はワークとしての基板における吐出期間、無吐出期間の他の例を示す概略平面図である。吐出期間、無吐出期間に対する考え方は、先に図１４に示したものに限定されない。例えば、図１５に示すように、ワークとしての基板Ｗにおいて、複数の素子基板１０１が副走査方向（Ｘ軸方向）と主走査方向（Ｙ軸方向）とにマトリックス状に面付けされ、図面上で左上の素子基板１０１の角部を主走査における原点（第１の位置）とする場合、素子基板１０１における表示領域Ｅを吐出期間とし、主走査方向に隣り合う表示領域Ｅの間を無吐出期間としてもよい。また、主走査において原点から最初の表示領域Ｅの外縁に至る間も無吐出期間とすることができる。素子基板１０１の表示領域Ｅには前述したように、サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂがマトリックス状に配列しているため、各サブ画素１１０Ｒ，１１０Ｇ，１１０Ｂに対応する隔壁１０５の開口部１０５ａに液滴Ｄを吐出することから主走査において表示領域Ｅにインクジェットヘッド５０のノズル５２が掛かる時間的な長さを吐出期間に見立てることができる。したがって、無吐出期間に液滴Ｄの吐出位置を補正する補正カウント値を含む補正データを吐出位置データに反映させることで、ワークとしての基板Ｗに面付けされた素子基板１０１ごとに液滴Ｄの吐出位置を補正することができる。

上記実施形態における液滴吐出装置１０及び液滴吐出装置１０を用いた液滴の吐出位置補正方法によれば、以下の効果が得られる。
（１）液滴吐出装置１０のヘッドドライバー６３には、実際のステージ５の相対移動における移動距離に基づいて生成された補正データが記憶されている。そして、主走査においてインクジェットヘッド５０に対するステージ５の相対移動により取得されるエンコーダーパルスの第１のカウント数を、上記補正データを反映させた第２のカウント数に変更して吐出パルスを生成し、インクジェットヘッド５０のノズル５２から液滴Ｄを吐出させる。したがって、例えば、電気光学装置１００における有機ＥＬ素子１３０の製造において、設計上の液滴Ｄの吐出位置データをそのまま液滴吐出装置１０に適用しても、主走査におけるステージ５の相対移動における位置精度のばらつきが反映され、開口部１０５ａに吐出される液滴Ｄの吐出位置が補正されて、位置精度よく液滴Ｄを所望の位置に吐出することができる液滴吐出装置１０及び液滴の吐出位置補正方法を提供することができる。
（２）ステージ５の相対移動における位置精度のばらつきを考慮して、液滴吐出装置１０ごとに予め吐出位置データを補正する必要がないので、吐出位置データの管理や取扱いが容易となる。例えば、予め補正された吐出位置データを本来適用すべき液滴吐出装置１０以外の液滴吐出装置に入力してしまうというようなヒューマンエラーを防止できる。
（３）ステージ５の相対移動における実際の移動距離は、エンコーダー６５の測長精度よりも高い測長精度を有するレーザー測長システムを用いて計測して取得される。したがって、高い位置精度で液滴Ｄの吐出位置を補正することができる。
（４）ステージ５の相対移動における実際の移動距離の計測は、エンコーダー６５の分解能に基づいた所定の間隔（本実施形態では１０ｍｍ）ごとに行われるので、当該所定の間隔に対応する吐出位置データごとに補正カウント値を反映させて、液滴Ｄの吐出位置を補正することができる。言い換えれば、ステージ５の主走査における位置精度のばらつきを所定の間隔ごとに補正して液滴Ｄを吐出させることができる。また、背景技術で説明した特許文献３（特開２０１１−１４３３３４号公報）のように、エンコーダーの分解能の低下を招くことがなく、液滴Ｄの吐出位置を補正することができる。

本発明は、上記した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲および明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う液滴吐出装置及び液滴の吐出位置補正方法を適用した電気光学装置の製造方法もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。

（変形例１）上記実施形態の液滴吐出装置１０は、副走査方向に配置されたインクジェットヘッド５０に対して、ステージ５を主走査方向に相対移動させる構成であるが、ワークＷが載置されるステージ５を主走査方向において固定し、ステージ５に対してインクジェットヘッド５０を主走査方向及び副走査方向に相対的に移動させる構成であっても、本発明を適用することができる。

（変形例２）上記実施形態の液滴吐出装置１０及び液滴吐出装置１０を用いた液滴の吐出位置補正方法が適用される電気光学装置は、有機ＥＬ素子１３０をサブ画素１１０に備えた電気光学装置１００に限定されない。液晶装置などの表示装置において用いられるカラーフィルターの製造や、有機トランジスターなどの有機半導体デバイスの製造に適用してもよい。これによれば、高精細なカラーフィルターや有機半導体デバイスを製造することができる。

５…ステージ、２０…ワーク移動機構、１０…液滴吐出装置、４３…記憶部としてのＲＡＭ、５０…吐出ヘッドとしてのインクジェットヘッド、５２…ノズル、６３…ヘッド駆動部としてのヘッドドライバー、６５…エンコーダー、１００…電気光学装置、１３０…有機ＥＬ素子。

Claims (10)

1. 吐出ヘッドとワークとを走査方向に相対的に移動させる走査を行いながら、前記ワークに対して前記吐出ヘッドのノズルから機能層形成材料を含む液状体を液滴として吐出する液滴吐出装置であって、
   前記ワークを載置するステージと、
   前記吐出ヘッドと前記ステージとを走査方向に相対移動させる移動機構と、
   前記相対移動に伴ってエンコーダーパルスを出力するエンコーダーと、
   前記吐出ヘッドの駆動を制御するヘッド制御部と、
   前記吐出ヘッドと前記ステージとの相対移動における移動距離に基づいて生成された補正データを記憶する記憶部と、を備え、
   前記ヘッド制御部において、前記走査により前記吐出ヘッドと前記ステージとが相対的に第１の位置から第２の位置へ移動する間に前記エンコーダーパルスをカウントすることで得られる第１のカウント数が、前記第２の位置に相当する相対位置データとして取得され、前記第１のカウント数を前記補正データに基づいて、前記第１の位置から前記第２の位置までの相対移動に相当する前記エンコーダーパルスのカウント数である第２のカウント数に変更することで前記走査における前記液滴の吐出位置の補正が行われ、
   前記ヘッド制御部は、前記吐出位置の補正を反映させて前記吐出ヘッドの前記ノズルから前記液滴を吐出させることを特徴とする液滴吐出装置。
2. 前記移動距離は、前記エンコーダーパルスのカウントに基づく測長精度よりも高い測長精度を有する測長システムにより取得されていることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置。
3. 前記補正データは、前記走査における前記吐出ヘッドと前記ステージとの相対移動の範囲を所定の間隔で分割した複数の分割領域ごとに、前記エンコーダーパルスのカウント数を増減させる補正カウント値を含み、
   前記複数の分割領域のうち前記第２の位置が含まれる分割領域に対応する前記補正カウント値に基づいて、前記第２のカウント数が設定されることを特徴とする請求項１または２に記載の液滴吐出装置。
4. 前記補正カウント値が０または±１となるように、前記所定の間隔が設定されていることを特徴とする請求項３に記載の液滴吐出装置。
5. 前記吐出位置の補正が行われるタイミングは、前記走査において前記液滴を吐出しない無吐出期間内に行われることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の液滴吐出装置。
6. 吐出ヘッドとワークとを走査方向に相対的に移動させる走査を行いながら、前記ワークに対して前記吐出ヘッドのノズルから機能層形成材料を含む液状体を液滴として吐出する液滴吐出装置を用いた液滴の吐出位置補正方法であって、
   前記液滴吐出装置は、前記走査方向への前記吐出ヘッドと前記ステージとの相対移動に伴ってエンコーダーパルスを発生させるエンコーダーと、前記吐出ヘッドの駆動を制御するヘッド制御部と、前記相対移動の移動距離に基づいて生成された補正データと、を備え、
   前記走査において、前記吐出ヘッドと前記ステージとを相対的に第１の位置から第２の位置に移動させる間に前記エンコーダーパルスをカウントすることで、前記第２の位置に相当する相対位置データを第１のカウント数として取得する工程と、
   前記第１のカウント数を、前記補正データに基づいて、前記第１の位置から前記第２の位置までの相対移動に相当する前記エンコーダーパルスのカウント数である第２のカウント数に補正することで前記液滴の吐出位置の補正を行う工程と、
   前記ヘッド制御部が前記吐出位置の補正を反映させて前記吐出ヘッドのノズルから前記液滴を吐出する工程と、を有することを特徴とする液滴の吐出位置補正方法。
7. 前記エンコーダーパルスのカウントに基づく測長精度よりも高い測長精度を有する測長システムを用いて、前記移動距離を取得することを特徴とする請求項６に記載の液滴の吐出位置補正方法。
8. 前記補正データは、前記走査における前記相対移動の範囲を所定の間隔で分割した複数の分割領域ごとに、前記エンコーダーパルスのカウント数を増減させる補正カウント値を含むように生成されており、前記複数の分割領域のうち前記第２の位置が含まれる分割領域に対応する前記補正カウント値に基づいて、前記第２のカウント数を設定することを特徴とする請求項６または７に記載の液滴の吐出位置補正方法。
9. 前記補正カウント値が０または±１となるように、前記所定の間隔を設定することを特徴とする請求項８に記載の液滴の吐出位置補正方法。
10. 前記走査において前記液滴を吐出しない無吐出期間内に前記吐出位置の補正を行うことを特徴とする請求項６乃至９のいずれか一項に記載の液滴の吐出位置補正方法。

Images