JP2017014031A - Scribe method and scribe device - Google Patents
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本発明は、無アルカリガラス等からなる薄板のガラス基板に分断用の亀裂(クラック)を加工するスクライブ方法並びにスクライブ装置に関する。特に本発明は、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ(FPD)に使用される薄板のガラス基板をスクライブするスクライブ方法並びにスクライブ装置に関する。 The present invention relates to a scribing method and a scribing apparatus for processing a splitting crack in a thin glass substrate made of alkali-free glass or the like. In particular, the present invention relates to a scribing method and a scribing apparatus for scribing a thin glass substrate used in a flat panel display (FPD) such as a liquid crystal display or a plasma display.
従来から、レーザビームを照射しながら走査し、基板に熱応力分布を発生させてスクライブを行うレーザスクライブ方法を用いて、例えば特許文献1のように分断用の亀裂(クラック)を形成したり、あるいは特許文献2のように完全分断(フルカット加工)したりする技術が知られている。
Conventionally, using a laser scribing method that scans while irradiating a laser beam and generates a thermal stress distribution on the substrate to perform scribing, for example, as in
これまでのレーザスクライブ方法では、図6(a)に示すように、多数のエア吸引孔を有する吸着テーブル21上にガラス基板Mを載せて定着させ、CO2レーザ等のレーザ光22を用いてガラス基板Mの表面近傍をスクライブ予定ラインLに沿って走査加熱するとともに、これに追従して冷却機構のノズルから加熱領域に冷媒23を噴射している。なお、符号E1はレーザ光22による加熱領域を示し、符号E2は冷媒23による急冷領域を示す。これによって、図6(b)のように先行の加熱によって生じる圧縮応力P1と、次の急冷によって生じる引張応力P2とによる熱応力分布により、トリガ(初期亀裂)Tを進展させてガラス基板Mの表面に分断用の亀裂Sを生じさせたり、厚み全部に亀裂Sを浸透させてフルカット加工したりしている。
In the conventional laser scribing method, as shown in FIG. 6A, a glass substrate M is mounted and fixed on a suction table 21 having a large number of air suction holes, and
スクライブ時にガラス基板を吸着保持する吸着テーブルは、金属板に機械加工で作られた多数の吸引孔を有する金属プレートで形成されたものと、多数の気孔を有するセラミック等の多孔質プレートを用いて形成されたものがあり、レーザスクライブ時にエアで吸引してガラス基板を保持するようにしている。しかし、近年では、スマートフォン等の映像表示装置の軽量化や薄型化によってガラス基板の薄肉化が進んでいることから、例えば0.2mm以下の薄いフィルム状のガラス基板が要求されるようになっており、このような薄肉のガラス基板を吸着テーブルで吸着すると、以下のような問題が生じてレーザスクライブが困難となる。 The adsorption table for adsorbing and holding the glass substrate during scribing is made of a metal plate having a large number of suction holes made by machining on a metal plate and a porous plate such as a ceramic having a large number of pores. Some of them are formed and sucked with air during laser scribing to hold the glass substrate. However, in recent years, the thinning of the glass substrate has progressed due to the reduction in the weight and thickness of video display devices such as smartphones, and thus, for example, a thin film-like glass substrate of 0.2 mm or less has been required. If such a thin glass substrate is adsorbed by an adsorption table, the following problems occur and laser scribing becomes difficult.
一般に、金属テーブルに設けられる吸引孔の孔径は約1〜2mmであり、多孔質プレート製テーブルの気孔の孔径はそれよりも小さく約50〜60μmで形成されている。この吸引孔や気孔の開口部にガラス基板を直接吸着させてレーザスクライブすると、開口部付近と開口部のない平坦部との間で、吸着テーブルへの接触の有無に起因する熱放散の変化によりガラス基板内の熱応力に差が生じることになる。この熱応力の差は、0.2mm以下の薄いガラス基板ではさらに顕著となり、スクライブ予定ラインの全長にわたって均等に熱応力を生じさせることができなくなり、亀裂が不完全であったり、ムラが生じたりして精度よくレーザスクライブすることができない。また、薄いガラス基板の場合には、テーブル面に直接接触することにより熱が奪われて、基板内で熱応力を十分に発揮できず、亀裂が不十分になるといった問題点もある。 In general, the hole diameter of the suction holes provided in the metal table is about 1 to 2 mm, and the hole diameter of the pores of the porous plate table is smaller than that and is about 50 to 60 μm. When laser scribing is performed by directly adsorbing the glass substrate to the openings of the suction holes and pores, the heat dissipation due to the presence or absence of contact with the adsorption table between the vicinity of the opening and the flat part without the opening is caused. A difference will arise in the thermal stress in a glass substrate. This difference in thermal stress becomes even more pronounced with thin glass substrates of 0.2 mm or less, and it becomes impossible to generate thermal stress evenly over the entire length of the scribe line, resulting in incomplete cracks or unevenness. Therefore, laser scribing with high accuracy cannot be performed. Further, in the case of a thin glass substrate, heat is taken away by direct contact with the table surface, and there is a problem that thermal stress cannot be sufficiently exhibited in the substrate and cracks become insufficient.
そこで本出願人は、図7に示すように、ガラス基板Mに樹脂シート20’を貼り付け、樹脂シート20’を下面にした状態で多孔質プレート製の吸着テーブル1上に載置してレーザスクライブする方法を先に出願した。
Therefore, as shown in FIG. 7, the present applicant attaches a
この方法によれば、上記した吸引孔に起因する熱応力のムラが解決できるとともに、吸着テーブル1とガラス基板Mとの間に樹脂シート20’を介在させることによって、亀裂Sの形成を助長する。
According to this method, the unevenness of the thermal stress caused by the suction holes can be solved, and the formation of the crack S is promoted by interposing the
しかし、ガラス基板内に熱応力を生じさせるために使用されるレーザは、一般的に熱エネルギーがガラスに吸収されやすいCO2レーザ等が用いられるため、熱応力を生じさせるのに適正な出力でレーザを照射した場合に、ガラス基板から下部の樹脂シートに伝わる熱量は僅かである。したがって、樹脂シートの熱膨張による盛り上がりが小さくなることから、亀裂助長効果はあまり期待できず、亀裂形成精度に不安定さが残るとともに、レーザの走査速度を早くした場合には樹脂シートが十分に温められず、樹脂シートの熱膨張が得られない。また、レーザ出力による熱応力を生じさせるための適正レンジは限られているので、ガラス基板をから伝わる熱量を多くするためにレーザ出力を必要以上に高めることはできない。 However, since the laser used to generate thermal stress in the glass substrate is generally a CO 2 laser or the like in which thermal energy is easily absorbed by the glass, the output is appropriate for generating thermal stress. When the laser is irradiated, the amount of heat transferred from the glass substrate to the lower resin sheet is small. Therefore, since the rise due to the thermal expansion of the resin sheet is reduced, the effect of promoting cracks cannot be expected so much, the instability remains in crack formation accuracy, and when the laser scanning speed is increased, the resin sheet is sufficiently The resin sheet cannot be heated and cannot be thermally expanded. Moreover, since the appropriate range for generating the thermal stress due to the laser output is limited, the laser output cannot be increased more than necessary to increase the amount of heat transmitted from the glass substrate.
そこで本発明は、レーザスクライブによる分断用の深い亀裂を確実かつ精度よく形成することができるスクライブ方法並びにスクライブ装置を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a scribing method and a scribing device that can reliably and accurately form a deep crack for cutting by laser scribing.
上記目的を達成するために本発明では次のような技術的手段を講じた。すなわち、本発明は、吸着テーブルに吸着させたガラス基板の表面を、ガラス加熱用レーザを用いてスクライブ予定ラインに沿って加熱するとともに、その加熱領域を冷媒で急冷することにより、前記ガラス基板内に生じる熱応力で前記スクライブ予定ラインの先頭部に形成したトリガを進展させて、前記ガラス基板の表面に前記スクライブ予定ラインに沿った分断用の亀裂を生じさせるスクライブ方法であって、前記ガラス基板を樹脂シート上に貼り付け、前記ガラス基板を上向きにして前記吸着テーブルに吸着保持させた状態で前記ガラス基板の表面を前記ガラス加熱用レーザで照射し、同時に、前記ガラス基板を透過して前記樹脂シートに吸収される波長を有するシート加熱用光線を、前記ガラス加熱用レーザの照射ポイントに向かって当該ガラス加熱用レーザとともに照射することにより、前記スクライブ予定ラインに沿って前記ガラス基板に亀裂を形成することを特徴とする。 In order to achieve the above object, the present invention takes the following technical means. That is, the present invention heats the surface of the glass substrate adsorbed on the adsorption table along the scribe line using a glass heating laser, and rapidly cools the heating region with a refrigerant, thereby A scribing method in which a trigger formed at a leading portion of the scribe line is developed by a thermal stress generated in the scribe line, and a crack for breaking along the scribe line is generated on the surface of the glass substrate, the glass substrate The surface of the glass substrate is irradiated with the laser for heating the glass with the glass substrate facing upward and held on the suction table with the glass substrate facing upward, and at the same time, the glass substrate is transmitted through the glass substrate. A sheet heating beam having a wavelength absorbed by the resin sheet is directed toward the irradiation point of the glass heating laser. By irradiating with the glass heating laser, and forming cracks in the glass substrate along the scribed line.
前記シート加熱用光線は、ガラス基板を透過し、樹脂シートに吸収される、波長が0.3〜2.0μmである光線、例えば、緑色光とするのがよい。
また、前記樹脂シートは、厚みが50〜200μm、膨張係数が50×10−6〜400×10−6である樹脂材、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、シリコンゴム、ポリウレタン樹脂等から選択することができる。
The sheet heating light beam is preferably a light beam having a wavelength of 0.3 to 2.0 μm, for example, green light, which is transmitted through the glass substrate and absorbed by the resin sheet.
The resin sheet has a thickness of 50 to 200 μm and an expansion coefficient of 50 × 10 −6 to 400 × 10 −6 , for example, polyvinyl chloride, polyethylene, polyethylene terephthalate, polyvinylidene chloride, polyvinylidene fluoride. , Silicon rubber, polyurethane resin and the like.
また本発明は、吸着テーブルに吸着させたガラス基板の表面を、ガラス加熱用レーザを用いてスクライブ予定ラインに沿って加熱するとともに、その加熱領域を冷媒で急冷することにより、前記ガラス基板内に生じる熱応力で前記スクライブ予定ラインの先頭部に形成したトリガを進展させて、前記ガラス基板の表面に前記スクライブ予定ラインに沿った分断用の亀裂を生じさせるスクライブ装置であって、前記ガラス基板が、その下面に樹脂シートが貼り付けられた積層構造を有し、かつ、前記ガラス基板を上向きにした状態で前記吸着テーブルに吸着保持されるように構成され、前記ガラス加熱用レーザとは別に、前記ガラス基板を透過して前記樹脂シートに吸収される波長を有するシート加熱用光線を照射する光源が設けられ、前記シート加熱用光線は、前記ガラス加熱用レーザの照射と同時に、かつ、同じ照射ポイントに向かって当該ガラス加熱用レーザとともに照射することにより、前記スクライブ予定ラインに沿って前記ガラス基板に亀裂を形成するスクライブ装置もその特徴とする。 In addition, the present invention heats the surface of the glass substrate adsorbed on the adsorption table along a scribe line using a glass heating laser, and rapidly cools the heating region with a refrigerant. A scribing device that develops a trigger formed at a head portion of the planned scribe line by the generated thermal stress and generates a crack for splitting along the planned scribe line on the surface of the glass substrate, wherein the glass substrate is , Having a laminated structure in which a resin sheet is attached to the lower surface thereof, and configured to be sucked and held by the suction table in a state in which the glass substrate is faced upward, apart from the glass heating laser, A light source that irradiates a sheet heating beam having a wavelength that passes through the glass substrate and is absorbed by the resin sheet is provided. When the glass heating laser is irradiated with the glass heating laser simultaneously with the irradiation of the glass heating laser, the glass substrate is cracked along the planned scribe line. The scribe device is also characterized.
前記ガラス基板は、二枚のガラス基板の間に樹脂シートを介在させた三層構造の基板とすることもできる。 The glass substrate may be a three-layer substrate in which a resin sheet is interposed between two glass substrates.
本発明によれば、ガラス基板に熱応力を生じさせるためのガラス加熱用レーザとは別に、ガラス基板を透過して樹脂シートに吸収される波長を有するシート加熱用光線によって、樹脂シートを加熱して熱膨張させるようにしたので、樹脂シートの熱膨張により上側のガラス基板が凸状に盛り上がり、これによりレーザによる熱応力で発生するガラス基板表面側での引張応力が増大し、深い亀裂を確実かつ精度よく加工することができるといった効果がある。 According to the present invention, apart from the glass heating laser for generating thermal stress on the glass substrate, the resin sheet is heated by a sheet heating beam having a wavelength that is transmitted through the glass substrate and absorbed by the resin sheet. The thermal expansion of the resin sheet causes the upper glass substrate to bulge into a convex shape, which increases the tensile stress on the glass substrate surface generated by the thermal stress caused by the laser and ensures deep cracks. In addition, there is an effect that processing can be performed with high accuracy.
さらに加えて本発明では、ガラス加熱用レーザによるスクライブの際に、ガラス基板と吸着テーブルとの間に樹脂シートを介在させるようにしたので、吸着テーブルの吸引用開口部付近と当該開口部のない箇所とでの下方への熱放散の差がなくなり、ガラス基板内部での熱応力発生のムラをなくすことができる。また、これによりスクライブ予定ラインの全長にわたって均等に熱応力を生じさせることができ、安定的に亀裂を形成することができるといった効果もある。 In addition, in the present invention, since the resin sheet is interposed between the glass substrate and the suction table when scribing with the glass heating laser, there is no opening portion in the vicinity of the suction opening of the suction table. There is no difference in downward heat dissipation between the locations, and unevenness in the generation of thermal stress inside the glass substrate can be eliminated. This also has the effect that the thermal stress can be uniformly generated over the entire length of the scribe line, and a crack can be stably formed.
以下、本発明の詳細を図に示した実施形態に基づき説明する。本実施例では、加工対象となるガラス基板として、厚みが0.03〜0.2mmのフィルム状の無アルカリガラス板が用いられる。 Hereinafter, the details of the present invention will be described based on the embodiments shown in the drawings. In this embodiment, a film-like non-alkali glass plate having a thickness of 0.03 to 0.2 mm is used as the glass substrate to be processed.
図1は本発明方法に用いられるスクライブ装置Aを示すものであって、ガラス基板Mを載置して吸着保持する吸着テーブル1を備えている。
吸着テーブル1の吸着面は、図2に示すように、多数の気孔を有するセラミックやカーボンなどの多孔質プレート3で形成されている。多孔質プレート3は枠材4で保持され、下方に形成されたチャンバ5を吸引ポンプPで吸引することにより、吸引用開口部となる気孔に吸引力を発生させてガラス基板Mを吸着保持するように形成されている。
多孔質プレート3の気孔径は1〜10μm、気孔率は10〜40%で形成するのが好ましく、本実施例では気孔径が5μm、気孔率が35%で形成されている。
また、吸着テーブル1は、水平なレール6に沿ってY方向(図1の前後方向)に移動できるようになっており、モータ(図示外)によって回転するネジ軸7により駆動される。さらに吸着テーブル1は、モータを内蔵する回転駆動部8により水平面内で回動できるようになっている。
FIG. 1 shows a scribing apparatus A used in the method of the present invention, and includes a suction table 1 on which a glass substrate M is placed and sucked and held.
As shown in FIG. 2, the suction surface of the suction table 1 is formed of a
The
The suction table 1 can be moved in the Y direction (front-rear direction in FIG. 1) along a horizontal rail 6 and is driven by a screw shaft 7 that is rotated by a motor (not shown). Further, the suction table 1 can be rotated in a horizontal plane by a rotation drive unit 8 incorporating a motor.
吸着テーブル1を挟んで設けてある両側の支持柱9、9と、X方向に水平に延びるビーム(横桟)10とを備えたブリッジ11が、吸着テーブル1上を跨ぐようにして設けられている。ビーム10には、X方向に水平に延びるガイド12が設けられている。このガイド12に、ガラス加熱用レーザB1を照射するレーザ照射部13と、レーザ照射直後の加熱部分を急冷する冷媒噴射ノズル14と、シート加熱用光線B2を照射する光源15とを備えたスクライブヘッド16が取り付けられている。さらに、ガイド12には、ガラス基板Mのスクライブ予定ラインの先頭部分にトリガ(初期亀裂)を加工するためのカッターホイール17を保持するスクライブヘッド18が設けられている。スクライブヘッド16、18は、モータ19を駆動源とする移動機構(図示外)によってガイド12に沿ってX方向に移動できるようになっている。
A bridge 11 provided with
次に、上記の装置を用いた本発明のスクライブ方法について、図3、図4を用いて説明する。
レーザ照射部13から照射されるガラス加熱用レーザB1は、CO2レーザ等のガラスに吸収されやすいレーザ光が用いられる。
また、光源15から照射されるシート加熱用光線B2は、ガラス基板Mを透過して樹脂シート20に吸収される波長をもち、ガラス基板Mの下面に貼り合わされる樹脂シート20を熱膨張させることが可能な熱エネルギーを有する光線が用いられる。この光線として、例えば波長が0.3〜2.0μmの光線や、緑色光を用いることができる。また、光源としては、半導体レーザや、近赤外線の光源が利用できる。
Next, the scribing method of the present invention using the above apparatus will be described with reference to FIGS.
As the glass heating laser B1 irradiated from the
Further, the sheet heating light beam B2 irradiated from the
まず始めに、ガラス基板Mを樹脂シート20上に貼り付けて、当該樹脂シート20を下側にした状態で吸着テーブル1上に載置し、吸着保持させる。
樹脂シート20は、厚みが50〜200μmであって、線膨張係数並びに耐熱温度が高く、温度が上昇しやすい(熱伝導率が低く、比熱が小さい)材料、すなわち、膨張係数が50×10−6〜400×10−6である樹脂材料が用いられる。この樹脂材料として、例えばポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、シリコンゴム、ポリウレタン等を用いることができる。
なお、樹脂シート20は、シート加熱用光線B2の光が吸収されやすい色、例えば黒色に着色しておくのが好ましい。
First, the glass substrate M is affixed on the
The
In addition, it is preferable that the
レーザスクライブに先立って、ガラス基板Mの表面でスクライブ予定ラインの先端となる部分にカッターホイール17でトリガを加工する。このトリガの加工は、ガラス基板Mの端縁から少し内側に入った位置で、カッターホイール17をガラス基板Mの表面に向かって降下させることにより形成する。トリガを加工するためのカッターホイール17としては、例えば、円周稜線に沿って溝(切欠き)と刃先とが交互に形成された溝付きカッターホイールを用いるのがよい。
Prior to laser scribing, a trigger is processed by the
次いで、上記トリガを起点として、スクライブ予定ラインに沿ってレーザ照射部13からガラス加熱用レーザB1を走査して加熱するとともに、これに追従して冷媒噴射ノズル14から加熱領域に冷媒を噴射する。これによって、先行の加熱によって生じる圧縮応力P1と、次の急冷によって生じる引張応力P2とによる熱応力分布により、トリガを起点とする分断用の亀裂Sをスクライブ予定ラインに沿って形成する。
さらに、このレーザスクライブと同時に、ガラス加熱用レーザB1の照射ポイントに向けてシート加熱用光線B2を照射し、ガラス加熱用レーザB1とともにスクライブ予定ラインに沿ってスクライブする。これにより、樹脂シート20の温められた部分が熱膨張して上方へ盛り上がるのに伴って、ガラス基板Mの熱応力が生じる部分も上方へ凸状に盛り上がる。このガラス基板Mの凸状の盛り上がりによってガラス基板Mの表面側に発生する素材自体の引張応力が熱応力の引張応力P2を助長し、深い亀裂Sを確実に精度よく加工することができる。
Next, starting from the trigger, the
Furthermore, simultaneously with this laser scribing, the sheet heating light beam B2 is irradiated toward the irradiation point of the glass heating laser B1, and scribing is performed along the planned scribe line together with the glass heating laser B1. Thereby, as the heated portion of the
また、本発明ではレーザスクライブの際にガラス基板Mと吸着テーブル1との間に樹脂シート20を介在させているので、吸着テーブル1の吸引用開口部付近と当該開口部のない箇所とでの下方への熱放散の差がなくなることから、ガラス基板M内部での熱応力発生にムラがなくなる。これにより、スクライブ予定ラインの全長にわたって均等に熱応力を生じさせることができ、ムラなくきれいに亀裂Sを形成することができる。
Further, in the present invention, since the
なお、上記実施例では、ガラス基板Mに樹脂シート20を貼り付けた二層構造の基板のレーザスクライブについて説明したが、図6に示すように、上下のガラス基板M、Mの間に樹脂シート20を介在させた三層構造の基板についても、上記実施例と同様な手段でレーザスクライブして分断用の亀裂Sを形成することができる。
すなわち、先の実施例と同じように、吸着テーブル1上に載置した三層構造の基板表面に対し、スクライブ予定ラインに沿ってレーザ照射部からガラス加熱用レーザB1を照射して加熱するとともに、この加熱領域を冷媒で急冷する。そして先の実施例と同様に、ガラス加熱用レーザB1と同時に、シート加熱用光線B2を照射してスクライブ予定ラインに沿ってスクライブする。
この場合も、シート加熱用光線B2によって、中間の樹脂シート20の温められた部分が熱膨張して上側のガラス基板Mが上方に盛り上がることによって引張応力P2が増加し、亀裂Sを確実に形成することができる。
In the above embodiment, laser scribing of a two-layer structure substrate in which the
That is, as in the previous embodiment, the substrate surface of the three-layer structure placed on the suction table 1 is heated by irradiating the glass heating laser B1 from the laser irradiation unit along the planned scribe line. The heating area is quenched with a refrigerant. In the same manner as in the previous embodiment, simultaneously with the glass heating laser B1, the sheet heating beam B2 is irradiated and scribed along a scribe line.
Also in this case, the heated portion of the
なお、本実施例では、レーザスクライブによって形成される亀裂Sは、完全分断ではなくガラス基板Mの厚み全体の70〜90%の深さを目標値としたが、亀裂Sを厚み全体に浸透させて完全分断することももちろん可能である。 In this embodiment, the crack S formed by laser scribing is not completely divided, but the target value is 70 to 90% of the entire thickness of the glass substrate M. However, the crack S penetrates the entire thickness. Of course, it is possible to divide completely.
以上、本発明の代表的な実施例について説明したが、本発明は必ずしも上記の実施形態に特定されるものでなく、その目的を達成し、請求の範囲を逸脱しない範囲内で適宜修正、変更することが可能である。 While typical examples of the present invention have been described above, the present invention is not necessarily limited to the above-described embodiments, and can be appropriately modified and changed within the scope of achieving the object and not departing from the scope of the claims. Is possible.
本発明は、主として厚みが0.03〜0.2mmの薄いガラス基板に分断用の亀裂を形成するレーザスクライブに利用される。 The present invention is mainly used for laser scribing for forming a splitting crack in a thin glass substrate having a thickness of 0.03 to 0.2 mm.
A スクライブ装置
B1 ガラス加熱用レーザ
B2 シート加熱用光線
M ガラス基板
P1 圧縮応力
P2 引張応力
S 亀裂
1 吸着テーブル
13 レーザ照射部
14 冷媒噴射ノズル
15 光源
20 樹脂シート
A Scribing device B1 Glass heating laser B2 Sheet heating beam M Glass substrate P1 Compressive stress P2 Tensile
Claims (8)
前記ガラス基板を樹脂シート上に貼り付け、前記ガラス基板を上向きにして前記吸着テーブルに吸着保持させた状態で前記ガラス基板の表面を前記ガラス加熱用レーザで照射し、同時に、前記ガラス基板を透過して前記樹脂シートに吸収される波長を有するシート加熱用光線を、前記ガラス加熱用レーザの照射ポイントに向かって当該ガラス加熱用レーザとともに照射することにより、前記スクライブ予定ラインに沿って前記ガラス基板に亀裂を形成することを特徴とするスクライブ方法。 The surface of the glass substrate adsorbed on the adsorption table is heated along the scribe line using a glass heating laser, and the heating region is rapidly cooled with a refrigerant, thereby generating the thermal stress generated in the glass substrate. A scribing method for developing a trigger formed at the beginning of a scribe line and causing a crack for dividing along the scribe line on the surface of the glass substrate,
The glass substrate is affixed on a resin sheet, and the glass substrate is irradiated with the glass heating laser with the glass substrate facing upward and held on the suction table, and simultaneously transmitted through the glass substrate. By irradiating the sheet heating light beam having a wavelength absorbed by the resin sheet with the glass heating laser toward the irradiation point of the glass heating laser, the glass substrate along the planned scribe line. A scribing method characterized by forming a crack in the surface.
前記ガラス基板が、その下面に樹脂シートが貼り付けられた積層構造を有し、かつ、前記ガラス基板を上向きにした状態で前記吸着テーブルに吸着保持されるように構成され、
前記ガラス加熱用レーザとは別に、前記ガラス基板を透過して前記樹脂シートに吸収される波長を有するシート加熱用光線を照射する光源が設けられ、
前記シート加熱用光線は、前記ガラス加熱用レーザの照射と同時に、かつ、同じ照射ポイントに向かって当該ガラス加熱用レーザとともに照射することにより、前記スクライブ予定ラインに沿って前記ガラス基板に亀裂を形成することを特徴とするスクライブ装置。 The surface of the glass substrate adsorbed on the adsorption table is heated along the scribe line using a glass heating laser, and the heating region is rapidly cooled with a refrigerant, thereby generating the thermal stress generated in the glass substrate. A scribing device that develops a trigger formed at the beginning of a scribe line and causes a crack for cutting along the scribe line on the surface of the glass substrate,
The glass substrate has a laminated structure in which a resin sheet is attached to the lower surface thereof, and is configured to be sucked and held by the suction table with the glass substrate facing upward,
In addition to the glass heating laser, a light source is provided that irradiates a sheet heating beam having a wavelength that passes through the glass substrate and is absorbed by the resin sheet.
The sheet heating beam forms a crack in the glass substrate along the planned scribe line by irradiating with the glass heating laser simultaneously with the irradiation of the glass heating laser and toward the same irradiation point. A scribing device characterized by that.
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