JP2017005283A - Efemシステム - Google Patents
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Abstract
Description
収容物を収容したポッドより蓋を取外して前記収容物の前記ポッドから受け渡しゾーンへ取出しを可能とするロードポートユニット、及び前記収容物に対して処理を行う処理室に対して処理室側インターフェースを介して接続されるEFEMシステムであって、
前記処理室側インターフェースと、
前記受け渡しゾーンを含み、ファンフィルタユニットを介して気体を循環させる循環路と、
前記循環路を循環する前記気体の酸素濃度を測定する酸素濃度計と、
前記受け渡しゾーン内の圧力を測定する圧力計と、
前記循環路に所定のガスを供給すると共に供給量を変化可能なガス供給系と、
前記循環路に存在する前記気体を外部に排出するリリース弁と、を有することを特徴とする。
また、前記ガス供給系はマスフローバルブを有し、前記ガスの供給は前記循環路における流路断面積が小さくなる領域にて行なわれることが好ましい。
また、前記気体における前記酸素濃度が第一の閾値よりも大きい場合には前記ガス供給系より供給される前記所定のガスの流量を増加させると共に前記リリース弁により前記気体の排出を行なわせ、前記第一の閾値よりも小さい第二の閾値よりも小さい場合には前記所定のガスの流量を減少させることが好ましい。
Claims (7)
- 収容物を収容したポッドより蓋を取外して前記収容物の前記ポッドから受け渡しゾーンへ取出しを可能とするロードポートユニット、及び前記収容物に対して処理を行う処理室に対して処理室側インターフェースを介して接続されるEFEMシステムであって、
前記処理室側インターフェースと、
前記受け渡しゾーンを含み、ファンフィルタユニットを介して気体を循環させる循環路と、
前記循環路を循環する前記気体の酸素濃度を測定する酸素濃度計と、
前記受け渡しゾーン内の圧力を測定する圧力計と、
前記循環路に所定のガスを供給すると共に供給量を変化可能なガス供給系と、
前記循環路に存在する前記気体を外部に排出するリリース弁と、を有することを特徴とするEFEMシステム。 - 前記酸素濃度計は、前記ポッドの内部に収容される前記収容物において下側に配置される前記収容物に対応する高さに配置されることを特徴とする請求項1に記載のEFEMシステム。
- 前記酸素濃度計は、前記受け渡しゾーンにおいて搬送される前記収容物の搬送高さに対応する位置に配置されることを特徴とする請求項1に記載のEFEMシステム。
- 前記ガス供給系はマスフローバルブを有し、前記所定のガスの供給は前記循環路における流路断面積が小さくなる領域にて行なわれることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載のEFEMシステム。
- 前記気体における前記酸素濃度が第一の閾値よりも大きい場合には前記ガス供給系より供給される前記所定のガスの流量を増加させると共に前記リリース弁により前記気体の排出を行なわせ、前記第一の閾値よりも小さい第二の閾値よりも小さい場合には前記所定のガスの流量を減少させることを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載のEFEMシステム。
- 前記圧力計によって測定された圧力値と予め設定された圧力閾値とを対比し、前記圧力値と前記圧力閾値との対比に応じて前記リリース弁の開閉を実行することを特徴とする請求項1乃至5の何れか一項に記載のEFEMシステム。
- 前記ファンフィルタユニットを通じて送り出される前記気体は、イオナイザを経ることによって前記受け渡しゾーンへ送り出されることを特徴とする請求項1乃至6の何れか一項に記載のEFEMシステム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012240327 | 2012-10-31 | ||
JP2012240327 | 2012-10-31 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013040496A Division JP6024980B2 (ja) | 2012-10-31 | 2013-03-01 | ロードポートユニット及びefemシステム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017005283A true JP2017005283A (ja) | 2017-01-05 |
Family
ID=51169577
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013040496A Active JP6024980B2 (ja) | 2012-10-31 | 2013-03-01 | ロードポートユニット及びefemシステム |
JP2016200564A Pending JP2017005283A (ja) | 2012-10-31 | 2016-10-12 | Efemシステム |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013040496A Active JP6024980B2 (ja) | 2012-10-31 | 2013-03-01 | ロードポートユニット及びefemシステム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP6024980B2 (ja) |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014112631A (ja) | 2014-06-19 |
JP6024980B2 (ja) | 2016-11-16 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161012 |
|
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|
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