JP2017003706A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
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Abstract
【課題】 分散性が良好で、かつ硬化物が導電性および解像性に優れる導電膜、導電パターンの形成が可能な感光性導電樹脂組成物を提供することを目的とする。【解決手段】 ラジカル重合性有機基を有する親水性樹脂(A)、多官能(メタ)アクリレート(B)、イオン液体(C)、カーボンナノチューブ(D)および光重合開始剤(E)を必須成分として含有することを特徴とする感光性導電樹脂組成物を用いる。【選択図】 なし
Description
本発明は感光性樹脂組成物に関する。詳しくは、導電回路または導電膜用の感光性導電樹脂組成物に関する。
従来より、タッチパネルの取り出し配線などに用いられる導電性パターンの形成方法としては、導電性粒子を真空中で蒸発させて、基板上に付着させる真空蒸発法や酸化物ターゲットや金属ターゲットを用いるスパッタリング法などが知られている。またパターニングの方法としては、予めマスクを介して導電層を形成する方法、導電層形成後にフォトレジストマスクを介してエッチング処理する方法やパターンの雌型に導電層を形成後、雌型を除去するリフトオフ法などが知られている(例えば特許文献1)。
しかしながら、真空蒸着法、スパッタリング法のような導電層形成は各パネル毎に雰囲気を制御して処理しなければならず、導電層形成に多大なコストがかかり、導電性パターンの形成には極めて不都合である。また、パターニングにおいても、マスクを介して導電層を形成する方法は、各ディスプレイにおけるパネルの大型化、高精細化などに伴い、パターンの位置精度の要求が非常に厳しくなり、対応が非常に困難になるという問題がある。導電層形成後にフォトレジストマスクを介してエッチング処理する方法やパターンの雌型に導電層を形成後、雌型を除去するリフトオフ法についても工程が煩雑であるという問題があった。
そこで、従来の方法に比べて簡便で、実質的に作業性を向上することができる製造効率の優れた導電性パターンの形成方法として、フォトリソ法による導電パターンの作成方法が提案されている(特許文献2)。
しかしながら、金属などの導電性微粒子を用いるこの方法では導電性微粒子の比重が大きく、経時により導電性微粒子が沈降し、塗工不良となるという問題があった。
本発明は分散性が良好であり、かつ硬化物の導電性、解像性に優れる感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記の目的を達成するべく検討を行った結果、本発明に到達した。
すなわち、本発明は、ラジカル重合性有機基を有する親水性樹脂(A)、多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)、イオン液体(C)、カーボンナノチューブ(D)および光重合開始剤(E)を必須成分として含有することを特徴とするアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物;並びにこれらの感光性樹脂組成物を硬化させた導電配線および導電膜である。
すなわち、本発明は、ラジカル重合性有機基を有する親水性樹脂(A)、多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)、イオン液体(C)、カーボンナノチューブ(D)および光重合開始剤(E)を必須成分として含有することを特徴とするアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物;並びにこれらの感光性樹脂組成物を硬化させた導電配線および導電膜である。
本発明の感光性樹脂組成物は分散性が良好であり、かつ優れた導電性と解像性を有する導電膜または導電パターンを形成することができるという効果を奏する。
本発明のアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物は、ラジカル重合性有機基を有する親水性樹脂(A)、多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)、イオン液体(C)、カーボンナノチューブ(D)および光重合開始剤(E)を必須成分として含有する。
なお、本明細書において、「(メタ)アクリレート」とは「アクリレートまたはメタクリレート」を、「(メタ)アクリル酸」とは「アクリル酸またはメタクリル酸」を、「(メタ)アクリル樹脂」とは「アクリル樹脂またはメタクリル樹脂」を、「(メタ)アクリロイル基」とは「アクリロイル基またはメタクリロイル基」を、「(メタ)アクリロイロキシ基」とは「アクリロイロキシ基またはメタクリロイロキシ基」を意味する。
また、アルカリ現像可能とは、現像液を用いて未硬化部を除去する工程で、現像液のアルカリ性水溶液で未硬化部分がきれいに除去できることを意味する。
以下において、本発明の感光性樹脂組成物の必須構成成分である(A)〜(E)について順に説明する。
本発明における第1の必須成分であるラジカル重合性有機基を有する親水性樹脂(A)における親水性の指標はHLBにより規定され、一般にこの数値が大きいほど親水性が高いことを示す。
本発明の親水性樹脂(A)のHLB値は、好ましくは4〜19、さらに好ましくは5〜 19、特に好ましくは6〜19である。4以上であればフォトスペーサーの現像を行う際に、現像性がさらに良好であり、19以下であれば硬化物の耐水性がさらに良好である。
ここでの「HLB」とは、親水性と親油性のバランスを示す指標であって、例えば「界面活性剤入門」〔2007年三洋化成工業株式会社発行、藤本武彦著〕212頁に記載されている小田法による計算値として知られているものであり、グリフィン法による計算値ではない。
HLB値は有機化合物の有機性の値と無機性の値との比率から計算することができる。
HLB=10×無機性/有機性
HLBを導き出すための有機性の値及び無機性の値については前記「界面活性剤入門」213頁に記載の表の値を用いて算出できる。
HLB値は有機化合物の有機性の値と無機性の値との比率から計算することができる。
HLB=10×無機性/有機性
HLBを導き出すための有機性の値及び無機性の値については前記「界面活性剤入門」213頁に記載の表の値を用いて算出できる。
また、親水性樹脂(A)の溶解度パラメーター(以下、SP値という。)[(単位は(cal/cm3)1/2]は、好ましくは7〜14、さらに好ましくは8〜13、特に好ましくは9〜13である。7以上であるとさらに現像性が良好に発揮でき、14以下であれば硬化物の耐水性がさらに良好である。
なお、本発明におけるSP値は、Fedorsらが提案した下記の文献に記載の方法によって計算されるものである。
「POLYMER ENGINEERING AND SCIENCE,February,1974,Vol.14,No.2,Robert F. Fedors(147〜154頁)」
「POLYMER ENGINEERING AND SCIENCE,February,1974,Vol.14,No.2,Robert F. Fedors(147〜154頁)」
本発明の親水性樹脂(A)は、分子内に含有するラジカル重合性基を有するが、そのラジカル重合性有機基としては、光硬化性の観点から、(メタ)アクリロイル基、ビニル基およびアリル基が好ましく、より好ましくは(メタ)アクリロイル基である。
また、本発明のラジカル重合性有機基を有する親水性樹脂(A)が分子内に含有する親水性に寄与する官能基は、アルカリ現像性の観点から、カルボキシル基、エポキシ基、スルホン酸基、リン酸基が好ましく、より好ましくはカルボキシル基である。
本発明で用いることができる親水性樹脂(A)の具体的な例としては、ラジカル重合性有機基を有する親水性エポキシ樹脂(A1)およびラジカル重合性有機基を有する親水性(メタ)アクリル樹脂(A2)などが挙げられる。
本発明のラジカル重合性有機基を有する親水性エポキシ樹脂(A1)としては市販品のエポキシ樹脂にラジカル重合性有機基を有する化合物を反応させ、さらに親水性の官能基を有する化合物を反応することによって合成することができる。
例えば、分子中にエポキシ基を有するノボラック型のエポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸を反応させ、さらにフタル酸や無水フタル酸などの多価カルボン酸や多価カルボン酸無水物を反応が挙げられる。
例えば、分子中にエポキシ基を有するノボラック型のエポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸を反応させ、さらにフタル酸や無水フタル酸などの多価カルボン酸や多価カルボン酸無水物を反応が挙げられる。
本発明のラジカル重合性有機基を有する親水性(メタ)アクリル樹脂(A2)は既存の方法により(メタ)アクリル酸誘導体を重合させ、さらにラジカル重合性基を有する化合物を反応することで得ることができる。
親水性(メタ)アクリル樹脂(A2)の製造方法としてはラジカル重合が好ましく、溶液重合法が分子量を調節しやすいため好ましい。
親水性(メタ)アクリル樹脂(A2)を製造するために使用するモノマーとしては、(メタ)アクリル酸(a21)、(メタ)アクリル酸エステル(a22)があげられる。
(メタ)アクリル酸エステル(a22)としては(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸−2エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸イソボルニル等が挙げられ、好ましくは(メタ)アクリル酸メチルである。
親水性(メタ)アクリル樹脂(A2)を構成するモノマーとしては、感光性樹脂組成物の弾性回復特性の観点から、芳香環含有ビニル化合物(a23)を、(a21)、(a22)と併用してもよい。このような(a23)としてはスチレンが挙げられる。
親水性(メタ)アクリル樹脂(A2)は、さらにフォトスペーサーの弾性回復特性を向上させる目的で必要により(メタ)アクリロイル基を側鎖または末端に導入させることが好ましい。
側鎖に(メタ)アクリロイル基を導入する方法としては、例えば下記の(1)及び(2)の方法が挙げられる。
(1)(a21)または(a22)のうちの少なくとも一部にイソシアネート基と反応しうる基(水酸基または1級もしくは2級アミノ基など)を有するモノマーを使用して重合体を製造し、その後(メタ)アクリロイル基とイソシアネート基を有する化合物[(メタ)アクリロイロキシエチルイソシアネート等]を反応させる方法。
(2)(a21)または(a22)のうちの少なくとも一部にエポキシ基と反応しうる官能基(水酸基、カルボキシル基又は1級もしくは2級アミノ基など)を有するモノマーを使用して重合体を製造し、その後(メタ)アクリロイル基とエポキシ基を有する化合物(グリシジル(メタ)アクリレート等)を反応させる方法。
本発明の親水性樹脂(A)の数平均分子量は、1,000〜100,000であり、好ましくは2,000〜50,000である。
本発明の感光性樹脂組成物中の親水性樹脂(A)の含有量は、現像性の観点から(A)〜(E)の合計重量に基づいて、10〜80重量%、好ましくは15〜70重量%である。
本発明の第2の必須成分である多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)としては、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するモノマーあれば、とくに限定されずに用いられる。
このような多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)としては、2官能(メタ)アクリレート(B1)、3官能(メタ)アクリレート(B2)、4〜6官能(メタ)アクリレート(B3)及び7〜10官能(メタ)アクリレート(B4)が挙げられる。
このような多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)としては、2官能(メタ)アクリレート(B1)、3官能(メタ)アクリレート(B2)、4〜6官能(メタ)アクリレート(B3)及び7〜10官能(メタ)アクリレート(B4)が挙げられる。
2官能(メタ)アクリレート(B1)としては、例えば、多価アルコールと(メタ)アクリル酸のエステル化物[例えば、グリコールのジ(メタ)アクリレート、グリセリンのジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンのジ(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシ−1,5−ペンタンジオールのジ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−2−エチル−1,3−プロパンジオールのジ(メタ)アクリレート];多価アルコールのアルキレンオキサイド付加物と(メタ)アクリル酸のエステル化物[例えばトリメチロールプロパンのエチレンオキサイド付加物のジ(メタ)アクリレート、グリセリンのエチレンオキサイド付加物のジ(メタ)アクリレート];OH基含有両末端エポキシアクリレート;多価アルコールと(メタ)アクリル酸とヒドロキシカルボン酸のエステル化物[例えばヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート]等が挙げられる。
なお、多価アルコールの水酸基のすべてを(メタ)アクリル酸、アルキレンオキサイド付加物などと反応させる必要はなく、未反応の水酸基が残っていてもよい。
なお、多価アルコールの水酸基のすべてを(メタ)アクリル酸、アルキレンオキサイド付加物などと反応させる必要はなく、未反応の水酸基が残っていてもよい。
3官能(メタ)アクリレート(B2)としては、グリセリンのトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンのトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールのトリ(メタ)アクリレート;及びトリメチロールプロパンのエチレンオキサイド付加物のトリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
4〜6官能(メタ)アクリレート(B3)としては、ペンタエリスリトールのテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールのペンタ(メタ)アクリレート及びジペンタエリスリトールのヘキサ(メタ)アクリレート;ジペンタエリスリトールのエチレンオキサイド付加物のテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールのエチレンオキサイド付加物のペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールのプロピレンオキサイド付加物のペンタ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
7〜10官能の(メタ)アクリレート化合物としては例えばジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートとの反応により得られる化合物など、ジイソシアネート化合物と水酸基含有多官能(メタ)アクリレート化合物との反応により得ることができる。
多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)のうち、硬化性の観点から好ましくは3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーであり、さらに好ましくはグリセリン、ペンタエリスリトールまたはジペンタエリスリトール骨格を有する3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーである。
本発明の感光性樹脂組成物中の多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)の含有量は、弾性回復率の観点から(A)〜(E)の合計重量に基づいて、10〜80重量%、好ましくは20〜70重量%である。
本発明の第3の必須成分であるイオン液体(C)としては、アンモニウム系(C1)と含硫黄オニウム系(C2)および含リンオニウム系(C3)が挙げられる。
アンモニウム系のイオン液体(C1)としては、イミダゾリウム塩(C11)、イミダゾリニウム塩(C12)、テトラヒドロピリミジニウム塩(C13)、ジヒドロピリミジニウム塩(C14)等が挙げられる。
イミダゾリウム塩(C11)としては、例えば、1,3−ジメチルイミダゾリウム、1,3−ジエチルイミダゾリウム、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム、1,2,3−トリメチルイミダゾリウム、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリウム、1,3−ジメチル−2−エチルイミダゾリウム、1,2−ジメチル−3−エチル−イミダゾリウム、1,2,3−トリエチルイミダゾリウム、1,2,3,4−テトラエチルイミダゾリウム、1,3−ジメチル−2−フェニルイミダゾリウム、1,3−ジメチル−2−ベンジルイミダゾリウム等をカチオンとして有する塩が挙げられる。
イミダゾリウム塩(C11)としては、例えば、1,3−ジメチルイミダゾリウム、1,3−ジエチルイミダゾリウム、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム、1,2,3−トリメチルイミダゾリウム、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリウム、1,3−ジメチル−2−エチルイミダゾリウム、1,2−ジメチル−3−エチル−イミダゾリウム、1,2,3−トリエチルイミダゾリウム、1,2,3,4−テトラエチルイミダゾリウム、1,3−ジメチル−2−フェニルイミダゾリウム、1,3−ジメチル−2−ベンジルイミダゾリウム等をカチオンとして有する塩が挙げられる。
イミダゾリニウム塩(C12)としては、例えば、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウム、1,3,4−トリメチル−2−エチルイミダゾリニウム、1,3−ジメチルイミダゾリニウム、1,3−ジメチル−2,4−ジエチルイミダゾリニウム、1,2−ジメチル−3,4−ジエチルイミダゾリニウム、1−メチル−2,3,4−トリエチルイミダゾリニウム、1,2,3,4−テトラエチルイミダゾリニウム、1,2,3−トリメチルイミダゾリニウム、1,3−ジメチル−2−エチルイミダゾリニウム、1−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリニウム、1,2,3−トリエチルイミダゾリニウム、4−シアノ−1,2,3−トリメチルイミダゾリニウム、3−シアノメチル−1,2−ジメチルイミダゾリニウム、2−シアノメチル−1,3−ジメチルイミダゾリニウム、4−アセチル−1,2,3−トリメチルイミダゾリニウム、3−アセチルメチル−1,2−ジメチルイミダゾリニウム等をカチオンとして有する塩が挙げられる。
テトラヒドロピリミジニウム塩(C13)としては、例えば、1,3−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、1,2,3−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、1,2,3,4−テトラメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、1,2,3,5−テトラメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、8−メチル−1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセニウム、5−メチル−1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]−5−ノネニウム等をカチオンとして有する塩が挙げられる。
ジヒドロピリミジニウム塩(C14)としては、例えば、1,2,3−トリメチル−1,4−ジヒドロピリミジニウム、1,2,3,4−テトラメチル−1,4−ジヒドロピリミジニウム、1,2,3,5−テトラメチル−1,4−ジヒドロピリミジニウム、8−メチル−1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7,9−ウンデカジエニウム、5−メチル−1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]−5,7−ノナジエニウム等をカチオンとして有する塩が挙げられる。
含硫黄オニウム系のイオン液体(C2)としては、例えば、スルホニウム、チオフェニウム、チオモルホリニウムおよびチオキサニウムカチオン等をカチオンとして有する塩が挙げられる。
含リンオニウム系のイオン液体(C3)としては、例えば、ホスホニウムカチオンおよびテトラブチルホスホニウムブロミドカチオン等をカチオンとして有する塩が挙げられる。
イオン液体(C)のうち、導電性の観点からアンモニウム系(C1)が好ましく、さらに好ましくは、イミダゾリウム塩(C11)である。
イオン液体(C)の使用量は、(A)〜(E)の合計に基づいて、導電性の観点から10〜50重量%、好ましくは15〜40重量%である。
本発明の第4の必須成分であるカーボンナノチューブ(D)としては、種類や製造方法については特に限定されるものではないが、炭素原子より形成されていて、直径がナノメートルオーダーで、チューブ状の形状をなすもので、炭素原子が構成する六角形の網目がチューブ状に連なった構造を有している。
六角形の網目のチューブが1層構造のものはシングルウォールナノチューブ(以下、SWNTと略記することがある。)、六角形の網目のチューブが2層構造のものは二層ナノチューブ(以下、DWNTと略記することがある。)、3層以上の多層の六角形の網目のチューブから構成されているものはマルチウォールナノチューブ(以下、MWNTと略記することがある。)等が挙げられる。
公知の方法(例えば、特開平6−157016号公報、特開平6−280116号公報、特開平10−203810号公報、特開平11−11917号公報に記載)で製造することができる。 また、「カーボンナノチューブの基礎」(P23〜P57、斉藤、板東、コロナ社出版、1998年発行)に記載のアーク放電法、レーザー蒸発法、熱分解法、またはプラズマ放電を利用する製造方法であってもよい。
六角形の網目のチューブが1層構造のものはシングルウォールナノチューブ(以下、SWNTと略記することがある。)、六角形の網目のチューブが2層構造のものは二層ナノチューブ(以下、DWNTと略記することがある。)、3層以上の多層の六角形の網目のチューブから構成されているものはマルチウォールナノチューブ(以下、MWNTと略記することがある。)等が挙げられる。
公知の方法(例えば、特開平6−157016号公報、特開平6−280116号公報、特開平10−203810号公報、特開平11−11917号公報に記載)で製造することができる。 また、「カーボンナノチューブの基礎」(P23〜P57、斉藤、板東、コロナ社出版、1998年発行)に記載のアーク放電法、レーザー蒸発法、熱分解法、またはプラズマ放電を利用する製造方法であってもよい。
カーボンナノチューブとしては、SWNT、DWNT、MWNTの他に、カーボンナノチューブ中に金属、無機物または他の有機物を含むもの、カーボンナノチューブ中に炭素または他の物質を充填したもの、カーボンナノチューブがコイル状(螺旋状)またはフィブリル状のものを用いることができる。
また、カーボンナノチューブの直径および長さは特に限定されないが、製造の容易性や機能発現性などの観点から、数平均直径は好ましくは1〜20nm、数平均長さは好ましくは0.05〜100μmである。
また、カーボンナノチューブの直径および長さは特に限定されないが、製造の容易性や機能発現性などの観点から、数平均直径は好ましくは1〜20nm、数平均長さは好ましくは0.05〜100μmである。
カーボンナノチューブの数平均分子量は、分散性の観点から好ましくは400〜50,000、さらに好ましくは700〜30,000である。
カーボンナノチューブ(D)の使用量は、(A)〜(E)の合計に基づいて、導電性の観点から0.5〜30重量%、好ましくは1〜20重量%である。
本発明の感光性樹脂組成物中のイオン液体(C)とカーボンナノチューブ(D)の重量比(C)/(D)は、導電性と分散性の観点から、通常10〜100、好ましくは20〜80である。
本発明の第5の必須成分である光重合開始剤(E)として、可視光線、紫外線、遠赤外線、荷電粒子線及びX線等の放射線の露光により、重合性不飽和化合物の重合を開始しうるラジカルを発生する成分であればどのようなものでもよい。
光重合開始剤(E)としては、α−ヒドロキシアルキルフェノン型(E−1)(例えば、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等);α−アミノアルキルフェノン型(E−2)(例えば、(2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1等);チオキサントン化合物型(E−3)(例えば、(イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン等);リン酸エステル型(E−4)(例えば、(2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイド等);アシルオキシム系型(E−5)(例えば、1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)等);ベンジルジメチルケタール型(E−6)等;ベンゾフェノン型(E−7)(例えば、ベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4‘−メチルジフェニルスルフィド等)が挙げられる。
これらのうち硬化物の硬化性の観点から好ましいのはα−アミノアルキルフェノンであり、さらに好ましいのは2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1である。
光重合開始剤(E)の使用量は、(A)〜(E)の合計に基づいて硬化性および硬化物の着色の観点から2〜15重量%、好ましくは3〜10重量%である。
本発明の感光性樹脂組成物には、(A)〜(D)以外に、導電性の目的で、さらに導電性微粒子(F)を使用することが好ましい。
この目的で使用できる導電性微粒子(F)としては、無機微粒子、例えば、金粒子、銀粒子、銅粒子が挙げられる。さらに微粒子の表面を金属処理した粒子、例えば、エポキシ樹脂粒子、酸化チタンナノ粒子等の微粒子に銀、銅または錫などの導電性金属を表面処理した粒子が挙げられる。
本発明の導電性微粒子(F)の体積平均粒径は、分散安定性の観点から1〜100ナノメートル、さらに好ましくは2〜50ナノメートルである。
導電性微粒子(F)の使用量は、(A)〜(F)の合計に基づいて導電性の観点から0〜70重量%、さらに好ましくは10〜60重量%である。
本発明にかかる感光性樹脂組成物は、必要によりさらにその他の成分を含有していてもよい。その他の成分としては、レベリング剤(G)、分散剤、増感剤、溶剤、増粘剤、およびその他の添加剤(例えば、シランカップリング剤、酸化防止剤、および消泡剤等)が挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物は、例えば、プラネタリーミキサー等の公知の混合装置により、上記の各成分を混合等することにより得ることができる。また感光性樹脂組成物は、通常、室温で液状であり、その粘度は25℃で1〜200mPa・s、好ましくは2〜150mPa・sである。
本発明の感光性樹脂組成物から硬化物を得る好ましい形成工程は、感光性樹脂組成物を基板上に塗布後、光照射し、アルカリ現像してパターン形成し、さらにポストベークを行う工程である。
硬化物の形成は、通常、以下(1)〜(5)の工程で行われるが、これに限定されるものではない。
硬化物の形成は、通常、以下(1)〜(5)の工程で行われるが、これに限定されるものではない。
・ 基板の上に本発明の感光性樹脂組成物を塗布する工程
塗布方法としては、ロールコート、スピンコート、スプレーコートおよびスリットコート等が挙げられ、塗布装置としては、スピンコーター、エアーナイフコーター、ロールコーター、バーコーター、ダイコーター、カーテンコーター、グラビアコーター及びコンマコーター等が挙げられる。
膜厚は、好ましくは0.5〜100μmである。
塗布方法としては、ロールコート、スピンコート、スプレーコートおよびスリットコート等が挙げられ、塗布装置としては、スピンコーター、エアーナイフコーター、ロールコーター、バーコーター、ダイコーター、カーテンコーター、グラビアコーター及びコンマコーター等が挙げられる。
膜厚は、好ましくは0.5〜100μmである。
(2)塗布された感光性樹脂組成物層を、必要に応じて熱を加えて乾燥させる(プリベーク)工程
乾燥温度としては、好ましくは20〜120℃、さらに好ましくは30〜110℃である。
乾燥時間は、好ましくは0.5〜10分、さらに好ましくは1〜8分、特に好ましくは1〜5分である。乾燥は減圧、常圧どちらでもよい。
乾燥温度としては、好ましくは20〜120℃、さらに好ましくは30〜110℃である。
乾燥時間は、好ましくは0.5〜10分、さらに好ましくは1〜8分、特に好ましくは1〜5分である。乾燥は減圧、常圧どちらでもよい。
(3)所定のフォトマスクを介して、活性光線により感光性樹脂組成物層の露光を行う工程
活性光線としては、例えば、可視光線、紫外線、およびレーザー光線が挙げられる。
光線源としては、例えば、太陽光、高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタルハライドランプ、および半導体レーザーが挙げられる。
露光量としては、特に限定されないが、好ましくは20〜300mJ/cm2、生産コストの観点から20〜100mJ/cm2がさらに好ましい。露光を行う工程においては、感光性樹脂組成物中の(メタ)アクリロイル基を有する成分が反応して光硬化反応する。
活性光線としては、例えば、可視光線、紫外線、およびレーザー光線が挙げられる。
光線源としては、例えば、太陽光、高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタルハライドランプ、および半導体レーザーが挙げられる。
露光量としては、特に限定されないが、好ましくは20〜300mJ/cm2、生産コストの観点から20〜100mJ/cm2がさらに好ましい。露光を行う工程においては、感光性樹脂組成物中の(メタ)アクリロイル基を有する成分が反応して光硬化反応する。
(4)光照射後、未露光部を現像液で除去し、現像を行う工程
現像液は、通常、アルカリ水溶液を用いる。
アルカリ水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の水溶液;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムおよび炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩の水溶液;ヒドロキシテトラメチルアンモニウム、およびヒドロキシテトラエチルアンモニウム等の有機アルカリの水溶液が挙げられる。
これらを単独又は2種以上組み合わせて用いることもでき、また、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン界面活性剤等の界面活性剤を添加して用いることもできる。
現像方法としては、ディップ方式とシャワー方式があるが、シャワー方式の方が好ましい。現像液の温度は、好ましくは20〜45℃である。現像時間は、膜厚や感光性樹脂組成物の溶解性に応じて適宜決定される。
現像液は、通常、アルカリ水溶液を用いる。
アルカリ水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の水溶液;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムおよび炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩の水溶液;ヒドロキシテトラメチルアンモニウム、およびヒドロキシテトラエチルアンモニウム等の有機アルカリの水溶液が挙げられる。
これらを単独又は2種以上組み合わせて用いることもでき、また、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン界面活性剤等の界面活性剤を添加して用いることもできる。
現像方法としては、ディップ方式とシャワー方式があるが、シャワー方式の方が好ましい。現像液の温度は、好ましくは20〜45℃である。現像時間は、膜厚や感光性樹脂組成物の溶解性に応じて適宜決定される。
(5)後加熱(ポストベーク)工程
ポストベークの温度としては50〜280℃、好ましくは100〜250℃、さらに好ましくは150〜240℃である。
ポストベークの時間は、5分〜2時間、好ましくは10分〜1時間、さらに好ましくは15分〜45分である。
ポストベークの温度としては50〜280℃、好ましくは100〜250℃、さらに好ましくは150〜240℃である。
ポストベークの時間は、5分〜2時間、好ましくは10分〜1時間、さらに好ましくは15分〜45分である。
以下、実施例及び比較例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下、特に定めない限り、%は重量%、部は重量部を示す。
製造例1 [親水性ビニル樹脂(A−1)の製造]
加熱冷却・攪拌装置、環流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を備えたガラス製コルベンに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート172部を仕込み、90℃まで加熱した。ここにメタクリル酸177部、メタクリル酸メチル13部、スチレン395部、さらにプロピレングリコーツモノメチルエーテルアセテート207部を均一混合した溶液と、ジメチル−2,2‘−アゾビス(2−メチルプロピオネート)5部とプロピレングリコーツモノメチルエーテルアセテート12部を均一混合した溶液をそれぞれ滴下し、ガラス製コルベン中でラジカル重合を行い、反応物を得た。
この反応物にさらにグリシジルメタクリレート19部を仕込み、90℃にて5時間反応させ、その後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで親水性樹脂含有量が50重量%となるように希釈して、本発明のビニル樹脂(A−1)の50%プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を得た。
この樹脂の純分換算した酸価は100.2であった。GPCによる数平均分子量(Mn)は5,800であった。なお、SP値は10.5、HLB値は5.8であった。
加熱冷却・攪拌装置、環流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を備えたガラス製コルベンに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート172部を仕込み、90℃まで加熱した。ここにメタクリル酸177部、メタクリル酸メチル13部、スチレン395部、さらにプロピレングリコーツモノメチルエーテルアセテート207部を均一混合した溶液と、ジメチル−2,2‘−アゾビス(2−メチルプロピオネート)5部とプロピレングリコーツモノメチルエーテルアセテート12部を均一混合した溶液をそれぞれ滴下し、ガラス製コルベン中でラジカル重合を行い、反応物を得た。
この反応物にさらにグリシジルメタクリレート19部を仕込み、90℃にて5時間反応させ、その後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで親水性樹脂含有量が50重量%となるように希釈して、本発明のビニル樹脂(A−1)の50%プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を得た。
この樹脂の純分換算した酸価は100.2であった。GPCによる数平均分子量(Mn)は5,800であった。なお、SP値は10.5、HLB値は5.8であった。
製造例2 [親水性エポキシ樹脂(A−2)の製造]
加熱冷却・攪拌装置、環流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を備えたガラス製コルベンに、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂「EOCN―102S」(日本化薬(株)製 エポキシ当量200)200部とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート245部を仕込み、110℃まで加熱して均一に溶解させた。続いて、アクリル酸76部(1.07モル部)、トリフェニルホスフィン2部及びp−メトキシフェノール0.2部を仕込み、110℃にて10時間反応させた。
反応物にさらにテトラヒドロ無水フタル酸91部(0.60モル部)を仕込み、90℃にて5時間反応させ、その後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで親水性樹脂含有量が50重量%となるように希釈して、本発明のアクリロイル基とカルボキシル基を有する親水性樹脂として、カルボキシル基含有クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(A−1)の50%プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を得た。
この樹脂の純分換算した酸価は88.4であった。GPCによる数平均分子量(Mn)は2,200であった。なお、SP値は11.3、HLB値は6.4であった。
加熱冷却・攪拌装置、環流冷却管、滴下ロート及び窒素導入管を備えたガラス製コルベンに、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂「EOCN―102S」(日本化薬(株)製 エポキシ当量200)200部とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート245部を仕込み、110℃まで加熱して均一に溶解させた。続いて、アクリル酸76部(1.07モル部)、トリフェニルホスフィン2部及びp−メトキシフェノール0.2部を仕込み、110℃にて10時間反応させた。
反応物にさらにテトラヒドロ無水フタル酸91部(0.60モル部)を仕込み、90℃にて5時間反応させ、その後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで親水性樹脂含有量が50重量%となるように希釈して、本発明のアクリロイル基とカルボキシル基を有する親水性樹脂として、カルボキシル基含有クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(A−1)の50%プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を得た。
この樹脂の純分換算した酸価は88.4であった。GPCによる数平均分子量(Mn)は2,200であった。なお、SP値は11.3、HLB値は6.4であった。
実施例1
表1の配合部数(重量部)に従い、ガラス製の容器に製造例1で製造した親水性ビニル樹脂のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート50%溶液(A−1)、(B−1)、(C−1)、(D−1)、(E−1)を仕込み、均一になるまで攪拌し、さらに追加の溶剤(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)を添加して、実施例1の感光性樹脂組成物を得た。なお、溶液の場合は表1の重量部は純分換算である。
表1の配合部数(重量部)に従い、ガラス製の容器に製造例1で製造した親水性ビニル樹脂のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート50%溶液(A−1)、(B−1)、(C−1)、(D−1)、(E−1)を仕込み、均一になるまで攪拌し、さらに追加の溶剤(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)を添加して、実施例1の感光性樹脂組成物を得た。なお、溶液の場合は表1の重量部は純分換算である。
実施例2〜5および比較例1〜3
また同様の装置を用いて、表1の配合部数で、実施例2〜5、および比較例1〜3の感光性樹脂組成物を得た。なお、溶液の場合は表1の重量部は純分換算である。
また同様の装置を用いて、表1の配合部数で、実施例2〜5、および比較例1〜3の感光性樹脂組成物を得た。なお、溶液の場合は表1の重量部は純分換算である。
なお、表1中の略称の化学品の詳細は以下の通りである。
(B−1):「ネオマーDA−600」[ジペンタエリスリトールペンタアクリレート:三洋化成工業(株)社製;官能基数が6個]
(B−2):「ネオマーEA−300」[ペンタエリスリトールテトラアクリレート:三洋化成工業(株)社製;官能基数が4個]
(B−3):「ライトアクリレートPE−3A」[ペンタエリスリトールトリアクリレート:共栄社化学(株)社製;官能基数が3個]
(B’−1):「ライトアクリレートPO−A」[フェノキシエチルアクリレート:共栄社化学(株)社製;官能基数が1個]
(C−1):1−エチル−3−メチルイミダゾリウムのトリフルオロボラン塩
(C−2):1−エチル−3−メチルイミダゾリウムのアクリル酸塩
(D−1):単層カーボンナノチューブ「SWNT:シグマアルドリッチ社製」
(D−2):複層カーボンナノチューブ「MWNT:シグマアルドリッチ社製」
(D’−1):「カーボンECP−600JD」「粉末状ケッチェンブラック:ライオン(株)社製」
(E−1):「イルガキュアー 819」[ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド:BASF(株)社製)]
(E−2):「イルガキュアー 907」[2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン:BASF(株)社製]
(E−3):「カヤキュアーDETX−S」[2,4−ジエチルチオキサントン:日本化薬(株)製]
(F−1):「CA−405NL」[銀ナノ粒子のポリエステル分散品、体積平均粒子径;10ナノメートル:大研化学製造販売(株)製]
(G−1):「KF−352A」[オキシアルキレン鎖を有するポリジメチルシロキサン:信越化学(株)社製]
(G−2):「サーフロンS−386」[オキシアルキレン鎖を有するフッ素化合物:AGCセイミケミカル(株)社製]
(B−1):「ネオマーDA−600」[ジペンタエリスリトールペンタアクリレート:三洋化成工業(株)社製;官能基数が6個]
(B−2):「ネオマーEA−300」[ペンタエリスリトールテトラアクリレート:三洋化成工業(株)社製;官能基数が4個]
(B−3):「ライトアクリレートPE−3A」[ペンタエリスリトールトリアクリレート:共栄社化学(株)社製;官能基数が3個]
(B’−1):「ライトアクリレートPO−A」[フェノキシエチルアクリレート:共栄社化学(株)社製;官能基数が1個]
(C−1):1−エチル−3−メチルイミダゾリウムのトリフルオロボラン塩
(C−2):1−エチル−3−メチルイミダゾリウムのアクリル酸塩
(D−1):単層カーボンナノチューブ「SWNT:シグマアルドリッチ社製」
(D−2):複層カーボンナノチューブ「MWNT:シグマアルドリッチ社製」
(D’−1):「カーボンECP−600JD」「粉末状ケッチェンブラック:ライオン(株)社製」
(E−1):「イルガキュアー 819」[ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド:BASF(株)社製)]
(E−2):「イルガキュアー 907」[2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン:BASF(株)社製]
(E−3):「カヤキュアーDETX−S」[2,4−ジエチルチオキサントン:日本化薬(株)製]
(F−1):「CA−405NL」[銀ナノ粒子のポリエステル分散品、体積平均粒子径;10ナノメートル:大研化学製造販売(株)製]
(G−1):「KF−352A」[オキシアルキレン鎖を有するポリジメチルシロキサン:信越化学(株)社製]
(G−2):「サーフロンS−386」[オキシアルキレン鎖を有するフッ素化合物:AGCセイミケミカル(株)社製]
[導電性硬化膜の作製]
10cm×10cm四方のガラス基板上にスピンコーターにより塗布し、乾燥し、乾燥膜厚5μmの塗膜を形成した。この塗膜をホットプレート上で80℃、3分間加熱した。
得られた塗膜を超高圧水銀灯の光を100mJ/cm2照射した(i線換算で照度22mW/cm2)。
その後、230℃で30分間ポストベークを行い、導電性硬化膜を作成した。
10cm×10cm四方のガラス基板上にスピンコーターにより塗布し、乾燥し、乾燥膜厚5μmの塗膜を形成した。この塗膜をホットプレート上で80℃、3分間加熱した。
得られた塗膜を超高圧水銀灯の光を100mJ/cm2照射した(i線換算で照度22mW/cm2)。
その後、230℃で30分間ポストベークを行い、導電性硬化膜を作成した。
[導電性硬化パターンの作製]
10cm×10cm四方のガラス基板上にスピンコーターにより塗布し、乾燥し、乾燥膜厚5μmの塗膜を形成した。この塗膜をホットプレート上で80℃、3分間加熱して溶媒をは完全に揮散させた。
得られた乾燥塗膜に対し、長さが約2cmで幅が20μmの開口部を100μmおきに有する複数のライン形成用のマスクを通して超高圧水銀灯の光を100mJ/cm2照射した(i線換算で照度22mW/cm2)。
なお、マスクと基板の間隔(露光ギャップ)は100μmで露光した。
その後0.05%KOH水溶液を用いてアルカリ現像した。水洗したのち、230℃で30分間ポストベークを行い、ガラス基板上に2cm×20μmの長方形のパターンを100μmおきに150本形成した。
なお、マスク開口径を調整することにより所望の幅を有する長方形のパターンを形成することができる。
10cm×10cm四方のガラス基板上にスピンコーターにより塗布し、乾燥し、乾燥膜厚5μmの塗膜を形成した。この塗膜をホットプレート上で80℃、3分間加熱して溶媒をは完全に揮散させた。
得られた乾燥塗膜に対し、長さが約2cmで幅が20μmの開口部を100μmおきに有する複数のライン形成用のマスクを通して超高圧水銀灯の光を100mJ/cm2照射した(i線換算で照度22mW/cm2)。
なお、マスクと基板の間隔(露光ギャップ)は100μmで露光した。
その後0.05%KOH水溶液を用いてアルカリ現像した。水洗したのち、230℃で30分間ポストベークを行い、ガラス基板上に2cm×20μmの長方形のパターンを100μmおきに150本形成した。
なお、マスク開口径を調整することにより所望の幅を有する長方形のパターンを形成することができる。
<分散性の評価>
感光性樹脂組成物の分散性は以下の方法で確認した。
(1)50mLのスクリュー管に40mLの樹脂組成物を入れる。
(2)5分後に外観を確認し、以下の判定基準で評価した。
○:外観が層分離しておらず1層である
×:外観が層分離し、2層になっている
感光性樹脂組成物の分散性は以下の方法で確認した。
(1)50mLのスクリュー管に40mLの樹脂組成物を入れる。
(2)5分後に外観を確認し、以下の判定基準で評価した。
○:外観が層分離しておらず1層である
×:外観が層分離し、2層になっている
<導電性の評価>
フォトスペーサーの「導電性」は上記方法で作成した導電性硬化膜をJIS K6911に準じて表面抵抗率の測定を行った。
表面抵抗率が小さいほど導電性が高いとされ、この評価方法と条件においては、一般には200Ω/□以下が好ましいとされる。
フォトスペーサーの「導電性」は上記方法で作成した導電性硬化膜をJIS K6911に準じて表面抵抗率の測定を行った。
表面抵抗率が小さいほど導電性が高いとされ、この評価方法と条件においては、一般には200Ω/□以下が好ましいとされる。
<解像度の評価>
タッチパネルの狭額縁化が進み、取り出し配線の細線化が進んでいることから、高精細なパターンを形成することができる、すなわち解像度として、20μmあるいはそれ以下のサイズでのパターニングが要求されるようになってきた。
すなわち解像度が高いスペーサーほど、マスクの開口径が小さくなっても、マスクの開口径と同じ大きさのフォトスペーサーを形成できる性能に優れる。
そこで解像度は、マスクの開口径を20μmに設定し、上記の方法によりパターンを形成したときのパターンの幅を測定することで評価した。
下底径が小さいほど解像度が高いといえ、この評価方法と条件においては、一般には30μm以下が好ましいとされる。
タッチパネルの狭額縁化が進み、取り出し配線の細線化が進んでいることから、高精細なパターンを形成することができる、すなわち解像度として、20μmあるいはそれ以下のサイズでのパターニングが要求されるようになってきた。
すなわち解像度が高いスペーサーほど、マスクの開口径が小さくなっても、マスクの開口径と同じ大きさのフォトスペーサーを形成できる性能に優れる。
そこで解像度は、マスクの開口径を20μmに設定し、上記の方法によりパターンを形成したときのパターンの幅を測定することで評価した。
下底径が小さいほど解像度が高いといえ、この評価方法と条件においては、一般には30μm以下が好ましいとされる。
本発明の実施例1〜5の感光性樹脂組成物は、表1に示す通り、分散性、導電性および解像度のすべての点で優れている。
その一方で、本発明のイオン液体を含まない比較例1では分散性と導電性を満足しない。また、カーボンナノチューブの代わりにカーボンブラックを使用した比較例2では導電性が悪くなり、多官能アクリレートモノマーを使用しない比較例3では解像度が悪化する。
その一方で、本発明のイオン液体を含まない比較例1では分散性と導電性を満足しない。また、カーボンナノチューブの代わりにカーボンブラックを使用した比較例2では導電性が悪くなり、多官能アクリレートモノマーを使用しない比較例3では解像度が悪化する。
本発明の感光性樹脂組成物は、硬化後の電導度と解像度に優れるため、取り出し配線等の導電パターンおよび導電膜として好適に使用できる。
Claims (6)
- ラジカル重合性有機基を有する親水性樹脂(A)、多官能(メタ)アクリレートモノマー(B)、イオン液体(C)、カーボンナノチューブ(D)、および光重合開始剤(E)を必須成分として含有することを特徴とするアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物。
- イオン液体(C)がイミダゾリウム塩である請求項1記載の感光性樹脂組成物。
- カーボンナノチューブ(D)が感光性樹脂組成物の(A)〜(E)の合計重量に基づいて0.5〜30重量%である請求項1または2記載の感光性樹脂組成物。
- イオン液体(C)とカーボンナノチューブ(D)の重量比(C)/(D)が10〜100である請求項1〜3いずれか記載の感光性樹脂組成物。
- さらに、体積平均粒径が1〜100nmの導電性微粒子(F)を含有する請求項1〜4いずれか記載の感光性樹脂組成物。
- 請求項1〜5いずれか記載の感光性樹脂組成物を光照射の後、アルカリ現像してパターンを形成し、さらにポストベークを行って形成されたことを特徴とする導電性硬化物。
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JP2015115995A JP2017003706A (ja) | 2015-06-08 | 2015-06-08 | 感光性樹脂組成物 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018141903A (ja) * | 2017-02-28 | 2018-09-13 | 日立化成株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びレジストパターンの形成方法 |
-
2015
- 2015-06-08 JP JP2015115995A patent/JP2017003706A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2018141903A (ja) * | 2017-02-28 | 2018-09-13 | 日立化成株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びレジストパターンの形成方法 |
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