JP2017003668A - 液晶光学素子 - Google Patents

Abstract

【課題】大型基板としても高品質であり、且つ低消費電力化できる液晶光学素子を提供する。【解決手段】本発明に係る液晶光学素子１００は、少なくとも一方が透光性を有し、互いに対向する一対の基板１０，２０と、一対の基板に挟持された電気光学機能層と、電気光学機能層内に電界を生じさせる電界印加手段とを備え、電気光学機能層は、正の誘電率異方性を示し、液晶性を示す液晶化合物と、液晶化合物の配向を規制する配向規制材とを含み、電界印加手段は、一対の基板の少なくとも一方の基板面に概ね平行な方向の電気力線を含む電界を生じさせるように構成される液晶光学素子。【選択図】図１

Description

本発明は、液晶と配向規制材を含む電気光学機能層を具備する液晶光学素子に関する。

液晶素子は、低消費電力、薄型、軽量等の利点を有するため、携帯電話、デジタルカメラ、携帯情報端末、テレビ等の多くの電子機器に広く用いられている。その中で、近年、電界により液晶分子の配列を制御して、光散乱状態を変化させる方式の液晶光学素子が提案されている。

特許文献１には、一対の電極付き基板に垂直配向用ポリイミド薄膜を形成し、これらの基板間に液晶と未硬化の硬化性化合物との混合物を挟持し、この混合物において液晶相を示す状態で、光露光により前記硬化性化合物を硬化させて液晶／硬化性複合体層を形成する液晶光学素子を開示する。また、特許文献２は、特定の二官能重合性化合物と非重合性の液晶性組成物を含有する液晶性混合物を一対の電極付き基板間に挟持し、この混合物において液晶相を示す状態で前記重合性化合物を重合して高分子を形成することにより、液晶と高分子とを含む電気光学機能層を有する液晶光学素子を開示する。

透過−散乱型の動作モードを有する液晶／高分子複合体（Liquid Crystal Polyer Composite）を用いる液晶光学素子は、液晶／高分子複合体が一対の電極付き基板間に挟持され、これらの電極に電圧を印加して液晶の光学特性を変化させる方式であり、高分子分散型液晶素子、あるいは分散液晶とも呼ばれている。従来方式のＴＮ型液晶光学素子等と異なり、透過−散乱型の液晶光学素子は原理的に偏光板を必要としないので、光の吸収損失が少なく、且つ高い散乱特性を有し、素子全体における光の利用効率が高い。この特性を活かして、調光ガラス、光シャッター、レーザー装置および表示装置などに用いられている。

特開２０００−１１９６５６号公報 特開２００５−２０２３９１号公報

透過−散乱モードの液晶を動かす原動力は電界強度である。この電界強度はセルギャップに反比例するので、同じ強度の電界を印加した時でも、セルギャップが１μｍの場合と１０μｍの場合では電界強度が１０倍異なる。セルギャップが異なると、光学特性や、電圧印加―無印加時の応答速度が領域により異なる。従って、一つの素子の中ではセルギャップを一定に保つことが重要となる。しかしながら、基板の大型化が進むにつれてセルギャップを一定に保つことが難しいという問題があった。また、一対の基板として曲面基板を用いる場合には、その曲率を完全に一致させてセルギャップを一定に保つことが難しいという問題があった。
なお、上記においては、透過−散乱モードの液晶光学素子における課題について述べたが、電圧の印加・無印加により屈折率等の光学特性が変わって光学変調するモードの液晶光学素子においても同様の課題が生じ得る。

本発明は、上記背景に鑑みてなされたものであり、その目的は、基板の面積や形状によらずに高品質な液晶光学素子を提供することである。

本発明は、以下［１］〜［９］の構成を有する液晶光学素子を提供する。
［１］ 少なくとも一方が透光性を有し、互いに対向する一対の基板と、前記一対の基板に挟持された電気光学機能層と、前記電気光学機能層内に電界を生じさせる電界印加手段と、を備え、前記電気光学機能層は、正の誘電率異方性を有し、液晶性を示す液晶化合物と、前記液晶化合物の配向を規制する配向規制材とを含み、前記電界印加手段は、前記一対の基板の少なくとも一方の基板面に概ね平行な方向の電気力線を含む電界を生じさせるように構成される液晶光学素子。
［２］ 電圧無印加時に透明状態を示し、電圧印加時に入射光を散乱する状態を示す［１］に記載の液晶光学素子。
［３］ 前記配向規制材は、高分子構造体からなる［１］又は［２］に記載の液晶光学素子。
［４］ 前記電界印加手段は、前記一対の基板の少なくとも一方の基板に形成された第１電極および第２電極からなり、前記第１電極と前記第２電極との間に電圧を印加することによって前記電界を生じさせる［１］〜［３］のいずれかに記載の液晶光学素子。
［５］ 前記第１電極および前記第２電極は、それぞれ、互いに平行な複数の電極対を有し、前記第１電極における前記電極対と、前記第２電極における前記電極対とが、前記基板の基板面に互いに平行となるように、交互に配置されていることを特徴とする［４］に記載の液晶光学素子。
［６］ 前記液晶化合物の長軸の平均的な方向は、電圧無印加時に前記一対の基板の少なくとも一方の基板面の法線方向に概ね一致している［１］〜［５］のいずれかに記載の液晶光学素子。
［７］ 前記配向規制材は高分子構造体であり、当該高分子構造体は、前記基板面の法線方向に延在されている成分を少なくとも有する柱状樹脂を含む［１］〜［６］のいずれか１項に記載の液晶光学素子。
［８］ 前記電気光学機能層の外側には配向機能層が形成され、当該配向機能層は垂直配向機能層である［１］〜［８］のいずれかに記載の液晶光学素子。

本発明によれば、基板面積によらずに高品質な液晶光学素子を提供できるという優れた効果を有する。

本実施形態に係る液晶光学素子の電圧無印加時の要部の模式的説明図。 本実施形態に係る電圧印加手段の構成を説明するための模式的平面図。 本実施形態に係る液晶光学素子の電圧印加時の要部の模式的説明図。 本実施形態に係る液晶光学素子の電圧印加時の電気力線の一例を示す説明図。

本発明に係る液晶光学素子は、駆動電圧の印加に応じて光学変調を可逆的に制御できる。光学変調は、駆動電圧の印加の有無により光線透過状態と光線散乱状態とを可逆的に制御するモードや、駆動電圧の印加に応じて屈折率等の光学特性を可逆的に制御するモードがある。これらの光学変調は、通常、可視光に対して適用されるが、用途に応じて可視光以外の帯域（以下、他の帯域という）の光線を利用してもよい。以下、本発明を適用した本実施形態の一例について説明する。なお、本発明の趣旨に合致する限り、他の実施形態も本発明の範疇に属し得ることは言うまでもない。また、以降の図における各部材のサイズや比率は、説明の便宜上のものであり、実際のものとは異なる。

本実施形態においては、電圧無印加時に光線透過状態、電圧印加時に入射光を散乱する状態となる液晶光学素子の一例について説明する。図１は、本実施形態に係る液晶光学素子の一例を示す要部の模式的説明図である。同図は、電圧無印加時の状態を示している。本実施形態に係る液晶光学素子１００は、平板状の第１基板１０と第２基板２０が所定の間隙を持って対向配置されている。

第１基板１０における第２基板２０との対向面には、電界印加手段３０が形成され、電界印加手段３０を覆うように第１配向機能層１１が形成されている。また、第２基板２０における第１基板１０との対向面には第２配向機能層２１が設けられている。第１基板１０と第２基板２０の間隙を所定の間隔に保つために、スペーサ（不図示）が設けられ、第１基板１０と第２基板間の外周端部には周辺シール（不図示）が形成され、周辺シールにより両基板が貼り合されている。そして、第１基板１０、第２基板２０および周辺シールに囲まれた空間に、電気光学機能層１が封止されている。電界印加手段と配向機能層の間に絶縁層を設けることで、第１基板１０と第２基板２０の間に導電性の異物が混入した際に、通電時の短絡を抑制できるため好ましい。

第１基板１０および第２基板２０の少なくとも一方は、可視光に対して透明な透光性基板を用いる。第１基板１０および第２基板２０が共に透光性基板でもよく、用途に応じて他の帯域に透光性を示す基板でもよい。第１基板１０および第２基板２０には、例えば、透明なガラス基板、ポリエステルフィルム等の樹脂基板、これらの組み合わせからなる基板を用いることができる。第１基板１０と第２基板２０とを同じ種類の基板で構成する必要はなく、反射基板や半透過のハーフミラー基板などを目的に応じて種々の基板を選択できる。

電界印加手段３０は、電気光学機能層１内に電界を生じさせる役割を担う。一対の基板の少なくとも一方の基板面に平行な方向の電気力線を有する電界を生じるものであればよい。本実施形態では第１基板１０の主面のうち電気光学機能層１が配される側の面上に、図２の模式的平面図に示すように、電界印加手段３０として櫛歯形状の第１電極３１および第２電極３６が形成されている。

第１電極３１は、図２に示すように、第１基板１０の一辺近傍にＸ方向に延在するライン状の連結部３２と、連結部３２から対向する一辺に向かうＹ方向に延在された複数のライン状の櫛歯部３３を有する。第２電極３６は、第１電極３１の連結部３２と対向する辺近傍にＸ方向に延在するライン状の連結部３７と、連結部３７から対向する連結部３２に向かうＹ方向に延在された複数のライン状の櫛歯部３８を有する。櫛歯部３３、３８は、互いに並行に、かつ交互に配置されている。櫛歯部３３、３８が互いに電極対を形成し、電気光学機能層１に電界を生じさせる。

第１電極３１および第２電極３６には、透明導電膜を用いることが好ましい。透明導電膜としては、ＩＴＯ（酸化インジウム−酸化スズ）や酸化スズなどの金属酸化物の膜等を用いることができる。例えば、第１基板１０および第２基板２０にガラス基板を用い、第１電極３１および第２電極３６としてＩＴＯなどの金属酸化物のパターンを設けた透明導電膜付きガラスや、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）にＩＴＯ膜を設けた透明導電膜付きポリエステルフィルム、あるいは透明導電膜付きＰＥＳ(ポリエーテルサルホン)等が使用される。透明導電膜の代わりに金属膜の細線による電極や、金属ナノワイヤーやナノ粒子を含む導電インクの描画、ナノインプリントによる電極を用いてもよい。

電気光学機能層１は、正の誘電率異方性を有する液晶性を示す化合物（以下、液晶化合物という）２と、前記液晶化合物２の配向を規制する配向規制材３を含む。図１においては、説明の便宜上、液晶化合物２を数個図示しているが、実際には配向規制材３が形成されていない領域に液晶化合物２が充填されている。

液晶化合物２は、化合物の長軸方向の誘電率ε_Ａの値が、化合物の短軸方向の誘電率ε_Ｂの値よりも大きく、Δε＝ε_Ａ−ε_Ｂの値が正である。なお、液晶は、通常、液晶相を発現する環境下で用いられるが、等方相で利用することを排除するものではない。

液晶の種類としては、ネマティック液晶、コレステリック液晶、スメクチック液晶および強誘電性液晶などを用いることができる。動作温度範囲を広く、かつ動作速度を大きくする観点から、ネマティック液晶を用いることが好ましい。

液晶化合物２としては、一般的な表示材料として、あるいは電界駆動型表示素子の材料として使用される種々のものを使用可能である。具体的には、ビフェニル系、フェニルベンゾエート系、シクロヘキシルベンゼン系、アゾキシベンゼン系、アゾベンゼン系、アゾメチン系、ターフェニル系、ビフェニルベンゾエート系、シクロヘキシルビフェニル系、フェニルピリジン系、シクロヘキシルピリミジン系、コレステロール系等を挙げることができる。

液晶化合物２は、一般的に使用されている場合と同様に、単独で使用する必要はなく、二種類以上の液晶化合物を組み合わせて使用してもよい。また駆動電圧を低下させるためには、誘電率異方性の絶対値が大きいものを用いるのが好ましい。誘電率異方性の絶対値が大きい液晶化合物としてはシアノ基やフッ素や塩素などのハロゲン原子を置換基として有する化合物が化学的安定性から用いられる。駆動電圧の低下を重視する場合にはシアノ基を置換基として有する化合物、信頼性を重視する場合にはフッ素原子を置換基として有する化合物が用いられる。

電気光学機能層１は、コントラスト比や安定性の向上を目的として、種々の化合物が添加されていてもよい。例えば、コントラストの向上を目的として、アントラキノン系、スチリル系、アゾメチン系、アゾ系等の各種二色性色素を使用できる。その場合、二色性色素は、基本的に液晶化合物と相溶し、高分子化合物とは不相溶であることが好ましい。このほか、酸化防止剤、紫外線吸収剤、各種可塑剤も、安定性や耐久性向上の点から好ましく使用される。

配向規制材３は、電気光学機能層１内で電圧無印加時に、液晶化合物２の長軸が概ね一方向に配向するように規制する役割を担う。なお、ここでいう「概ね一方向」とは、光学波長以下の秩序構造を有し、透明性が維持できるレベルで液晶化合物が配向しているものを含むものとする。また、配向規制材３は、電圧印加時には電界と配向規制材３によって、電圧無印加時に規制された方向とは異なる複数の方向に液晶化合物の長軸方向を変化させる役割を担う。電気光学機能層１に電界印加手段３０により電界を生じさせると、少なくとも一部の液晶化合物２は、配向規制材３により規制された方向とは異なる方向に変化する。これにより、電圧印加と電圧無印加の切り替えにより光学変調する。本実施形態においては、電圧印加と電圧無印加の切り替えにより透過状態から散乱状態に変化する。

電圧印加と電圧無印加の切り替えによる透過状態から散乱状態へ変化する原理は定かではないが、以下のように考えられる。
図３に、本実施形態に係る液晶光学素子１００に電圧を印加した時の要部の模式的説明図を示す。電圧を印加すると、図４に示すように、基板面に平行な方向の電気力線を含む電界が生じ、液晶化合物２の長軸が電気力線の方向に一致するように動こうとする。このとき、配向規制材３近傍の液晶化合物２は、配向規制材３により電気力線の方向に一致する動きが阻止され、電気力線とは異なる方位を取る。即ち、配向規制材３を用いることによって、電圧印加したときに、全ての液晶化合物２の長軸が電気力線と一致する方向には配向せず、液晶化合物２の長軸が複数の方位に向く。その結果、秩序構造が乱れて散乱状態を示す。なお、図３の液晶分子の長軸の方位は説明の便宜上のものであり、実際には、液晶分子集合体（ドメイン）中の液晶分子の平均的な長軸の方位（ダイレクター）は、複雑な形状の配向規制材３により配列が阻害されて、基板面に平行方向にはならず、平行方向のベクトル成分を有する多方位に配向する。

液晶分子の長軸の平均的な方向は、電圧無印加時に一対の基板の少なくとも一方の基板面の法線方向に概ね一致していることが好ましい。そして、電圧印加時には一対の基板面の少なくとも一方に平行な方位成分を含む、複数の方向に液晶分子の長軸が配向する。

配向規制材３の好ましい例として、柱状高分子構造体、網目状高分子構造体、多孔質無機構造体等が挙げられる。配向規制材３は、スペーサのように電気光学機能層１内に離散して設けられていてもよいし、間仕切り壁やハチの巣状に液晶相のドメインを完全に分断する構成としてもよい。また、基板の最表面に膜状若しくはネットワーク状に形成する構成およびこれらを組み合わせた構成としてもよい。本実施形態においては、配向規制材３として柱状の高分子構造体を用いた例を説明する。

本実施形態に係る電気光学機能層１に含有される高分子構造体は、複数の柱状樹脂の集合体からなる。柱状樹脂は、その長軸方向が電極付基板面の法線方向に略一致しているものと、この法線方向からチルトしているものが混在していることが好ましい。なお、法線方向からチルトしている柱状樹脂とは、基板面の法線を基準にして柱状樹脂の長軸方向が傾いている場合をいう。

耐衝撃性を高める観点からは、電気光学機能層１における高分子構造体は、柱状樹脂の集合体を複数形成し、この柱状樹脂の集合体のそれぞれが、電極付基板面の法線方向に略一致する軸心を持ち、かつ電極付基板から離間するにつれて電極付基板面に水平な方位面の電気光学機能層における柱状樹脂の占有面積が小さくなるように形成することが好ましい。
また、耐衝撃性を向上させる観点から、柱状樹脂の集合体が連接するようにし、液晶のドメイン領域を形成させることが好ましい。ここで、液晶ドメイン領域とは、液晶分子が占有している空間をいう。なお、柱状樹脂は、配向膜等で形成される基板表面と化学的又は物理的に接着していてもよいし、接着していなくてもよい。

第１配向機能層１１および第２配向機能層２１は、第１基板１０および第２基板２０上に形成され、電気光学機能層１と接し、かつ電気光学機能層１中の配向規制材３である高分子構造体の前駆体を製造工程中に所望の方向に配向せしめる役割を担う。換言すると、第１配向機能層１１および第２配向機能層２１は、電気光学機能層１の外側に形成されている。第１配向機能層１１および第２配向機能層２１上には、高分子構造体の層が略全面に形成されている。第１配向機能層１１および第２配向機能層２１の材料は特に限定されないが、一例としてポリイミド、アルキル基やフルオロアルキル基を持つシラン化合物、オレフィン化合物等が挙げられる。耐熱性、剛直性の観点からは、ポリイミドが好ましい。これらの配向機能層は、例えば薄膜にラビング処理や光配向法により付与することができる。基板面に法線方向の柱状樹脂を形成するためには、第１配向機能層１１および第２配向機能層２１として垂直配向機能層を用いる方法が簡便であり、ラビング処理を用いなくてもよい。なお、本実施形態においては配向規制材３を形成できればよく、第１配向機能層１１および第２配向機能層２１は必ずしも設けなくてもよい。

スペーサは、液晶セルの厚みを規定する役割を担う。スペーサによって基板間に挟持される電気光学機能層１の厚みが規定される。スペーサの材料としては、例えば、ガラス粒子、樹脂粒子、アルミナ粒子、ガラスファイバー、フィルムを用いることができる。スペーサの形状としては、球状スペーサ、ファイバー型スペーサ、柱状のスペーサ等が例示できる。フォトリソグラフィーを用いて、壁状、矩形状のスペーサを設けることもできる。

電気光学機能層１の厚さは、通常、１〜５０μｍであり、より好ましくは３〜３０μｍである。間隔が小さすぎるとコントラストが低下し、逆に間隔が大きすぎると駆動電圧が上昇してしまうためである。

次に、本実施形態に係る電気光学機能層の製造方法の一例について説明する。但し、本発明は以下の製造方法に限定されるものではない。
電気光学機能層１は、電気光学機能層の前駆体の混合液（ 以下、単に「混合液」とも言う） から形成することができる。この混合液の状態から、相分離のプロセスを経て、光学的に機能し得る良好な電気光学機能層１を形成することが重要である。相分離が充分でない場合は、液晶を動作させるための駆動電圧が上昇したり、液晶光学素子として動作しなくなる等の不具合が生じ得る。なお、相分離構造とは、相分離プロセスを経て形成され、電気光学的特性・機能を発現することができる液晶セル内部の構造を意味している。

電気光学機能層１の相分離構造の微細形状は、前駆体の混合液を構成する化合物の種類、性質、混合比等によって種々変えることができる。用いる材料の組み合わせや混合比は、透過−散乱特性等の光学特性や、駆動電圧の大きさ、電子光学素子として求められる信頼性の程度を考慮して決定する。電気光学機能層１の前駆体の混合液としては、上述した電気光学機能層１が得られるものであれば特に限定されないが、液晶化合物と重合性化合物が含有されたものから形成される。透過−散乱の電気光学特性が均一な高品位な電気光学機能層１を得るために、配合物の種類および混合比を適宜選択して、前駆体の混合液が均一な電気光学機能層を示すようにすることが好ましい。

好ましい電気光学機能層１の前駆体の混合液としては、例えば、液晶化合物＜Ｃ＞と、第１の重合性化合物＜Ａ＞、適宜、重合開始剤を加えたものからなるものを用いることができる。第１の重合性化合物＜Ａ＞としては、これと液晶化合物＜Ｃ＞、重合開始剤との組成物を、後述する方法により上記基板間に注入して重合を行った場合に、その重合された高分子が基板面の法線方向に略垂直となる柱状樹脂を形成するものを選定する。第１の重合性化合物＜Ａ＞の好ましい一例を化学式（１）に示す。前記混合液に、第２の重合性化合物＜Ｂ＞を加えてもよく、この組成物を後述する方法により上記基板間に注入して重合を行った場合に、ランダム状の柱状樹脂を形成するものを選定する。第２の重合性化合物＜Ｂ＞の好ましい一例を化学式（２）に示す。

上記液晶化合物＜Ｃ＞は、非重合性の液晶化合物であることが好ましい。第１の重合性化合物＜Ａ＞と、第２の重合性化合物＜Ｂ＞の種類はそれぞれ一種類ずつでもよいし、複数種類のものを用いてもよい。重合された高分子は、ランダム共重合体、交互共重合体等の共重合体でもよいし、それぞれ単独の重合体であってもよい。電気光学機能層中の高分子の均一性を考慮すると共重合体であることが好ましい。第１の重合性化合物＜Ａ＞を単独で用いてもよいが、第１の重合性化合物＜Ａ＞および第２の重合性化合物＜Ｂ＞を用いることにより、基板面の法線方向に略一致した柱状樹脂とチルト配向した柱状樹脂が混在したものを得ることができる。

第１基板１０および第２基板２０がフィルム基板の場合、連続で供給される電極付き第１基板１０および第２基板２０を２本のゴムロール等で挟み、その間に、混合液にスペーサを分散させた液を供給し、挟み込み、その後連続で重合させることができるので生産性が高い。

第１基板１０および第２基板２０がガラス基板の場合、その面内に微量のスペーサを散布し、対向させた基板の四辺をエポキシ樹脂等のシール剤で封止セルとし、二カ所以上設けたシールの切り欠きの一方を混合液に浸し、他方より吸引することで液晶セル内に混合液を満たし、重合すればよい。比較的小型のセルの場合は、真空注入法により、一カ所以上のシールの切り欠きを有するセルに混合液を気泡なく充填することができ好ましい。大型セルを作製する場合は、第１基板１０または第２基板２０のいずれか一方の基板の周縁部に設けた硬化性シール材の内側に、ディスペンサーやインクジェットヘッドにより混合物を塗布、減圧雰囲気下で他の基板を積層して周縁のシール材を介して接合した後、大気雰囲気に戻して周縁シール材をＵＶ光などで硬化させることで提供できる（ＯＤＦ法）。

まず、第１基板１０および第２基板２０にそれぞれ第１電極３１および第２電極３６、第１配向機能層１１、第２配向機能層２１等を形成する。配向膜の焼成を行った後、必要に応じてラビングなどの配向処理を行う。その後、第１基板１０の配向膜形成面側に散布機を用いてスペーサを散布する。第２基板２０には、シール材を塗布する。第１基板１０と第２基板２０とは、アライメントマークなどを用い位置合わせを行った後、加熱圧着する。圧着後の基板間は、スペーサによって保持される。

次に、電気光学機能層１の前駆体となる混合液を基板間に注入して封止する。封止方法としては、公知の方法を利用することができる。

その後、電気光学機能層１の前駆体の混合液に外部刺激を加え、電気光学機能層１を形成する。外部刺激としては、可視光線、紫外線、電子線等の光線照射や、熱等を挙げることができる。中でも、重合時の温度を容易に制御することができる観点から、光照射とすることが好ましい。光照射のうちでも、取り扱い性、製造容易性等の観点から、紫外線を用いることがより好ましい。

光重合により電気光学機能層１の前駆体の混合液を相分離させて電気光学機能層１を得る、いわゆる光重合相分離法の場合には、光源として高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ケミカルランプ、ＬＥＤランプ等を使用することができる。

光照射により電気光学機能層１の前駆体の混合液を重合せしめる場合の光照射条件は、重合性モノマーの種類に応じて設定する。混合液に直接照射する際の照射光の強度としては、０．１〜４００ｍＷ／ｃｍ^２とすることが好ましい。０．１ｍＷ／ｃｍ^２未満では、相分離速度が遅くなって散乱強度が低下し、４００ｍＷ／ｃｍ^２を超えると、光反応により分解反応が起こって保持率の低下が起こるためである。

光照射時の温度は、混合液が液晶相を示すことができる温度範囲とすることが好ましい。混合液が相溶状態を示す相溶温度以下で重合した場合は、光重合の前に相分離が起こり、液晶が不均一な状態の液晶／高分子複合体となってしまう恐れがあるためである。また、混合液の温度が高すぎると、混合液が液晶相から等方相に相転移し、液晶光学素子の散乱−透過の電気光学特性を確保することができない恐れがあるためである。重合時は、液晶光学素子１００の全面を均一な条件（光照射および重合温度）の下に重合させるために、恒温槽や送風機等の温度制御装置を用いて一定の環境下で行うことが好ましい。

重合開始剤としては、公知の重合触媒から適宜選択できるが、光重合の場合は、ベンゾインエーテル系、アセトフェノン系、フォスフィンオキサイド系などの一般に光重合に用いられる光重合開始剤を使用できる。熱重合の場合は、重合部位の種類に応じて、パーオキサイド系、チオール系、アミン系、酸無水物系などの熱重合開始剤を使用でき、また、必要に応じてアミン類などの硬化助剤も使用できる。

重合開始剤の含有量は、重合性モノマーの合計量１００質量部に対して、通常、０．１〜２０質量部であり、０．１〜１０質量部以下が好ましい。重合後の高分子（重合体）において、高い分子量や高い比抵抗が要求される場合、０．１〜５質量部とすることがさらに好ましい。重合開始剤の含有量が２０質量部を超えると、混合液の相溶性を阻害するので好ましくない。

また、重合開始剤の含有量が０．１質量部未満の場合、混合溶液に含まれる重合性モノマーを重合させても、重合性モノマーが充分に重合することができない。所望の相分離構造を形成できないことになる。よって、上記の範囲を満足することが好ましい。また、電界印加／無印加時の液晶光学素子のコントラスト比を向上させるために、混合溶液に公知のカイラル剤を添加したり、電界印加／無印加時の液晶光学素子の色調を制御するために、二色性色素や通常の色素、顔料等を添加することもできる。

本実施形態に係る液晶光学素子によれば、前記一対の基板の少なくとも一方の基板面に概ね平行な方向の電気力線を含む電界を生じさせる。即ち、横電界を含む電界印加手段を用いているので、電界強度が基板間距離によって影響を受けない。特許文献１、２等の一対の電極付き基板により電界を印加する縦電界を印加する場合、品質の高い液晶光学素子を得るためにはセルギャップにより電界強度が大きく変わるので、セルギャップを一定に保つ必要があった。これに対し、本実施形態によれば、基板間を介して電極を形成する必要がなく、一方の基板に電界印加手段を設けることができるので、厚み方向に対するマージンを大きくとることができる。これにより、比較的厚い、または、面平滑性の充分でない電極付きガラス基板も使用することができ、特に大型の液晶光学素子を生産しやすく好ましい。一方の基板に電極対を形成する場合、フォトリソグラフィー工程、印刷、インプリント等によりパターン形成できるので、基板面積によらずに電極対のパターンを同じように形成できる。

さらに、正の誘電率異方性を有する液晶化合物を用いているので、Δεの絶対値を大きくできる。そのため、駆動電圧を低下させることが可能となり、省電力化を図ることができる。

以下、上記実施形態に対する変形例の一例について説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

一対の対向基板として、平面基板を２枚用いる例に代えて、平面基板と曲面基板とから一対の基板を形成してもよい。また、曲面部分と平面部分を有する基板を２枚組み合わせて一対の基板としてもよく、曲面基板を２枚組み合わせて一対の基板を形成してもよい。また、多面基板を用いてもよい。本発明に係る液晶光学素子によれば、少なくとも一方の基板面に平行な方向の電気力線を含む電界を用いるので、上記特許文献１、２等のように、セルギャップを一定に保たずとも、品質の高い液晶光学素子を提供できる。

電界印加手段として、櫛歯状の第１電極３１、第２電極３６を用いる例を説明したが、これに代えて、同一基板上で一方の電極を櫛歯状電極とし、他方の電極を櫛歯状電極の下層に平面状電極として設けてもよい。また、一方の電極をスリット状電極とし、他方の電極をスリット状電極の下層に平面状電極として設けてもよい。

また、上記実施形態においては、第２基板２０に電極を設けない構成を採用していたが、第２基板上に第３電極を設け、第１電極と第３電極または第２電極と第３電極、あるいは、第１電極と、同電位とした第２電極および第３電極とに電界を印加して縦電界を印加できるモードを兼ね備えるようにしてもよい。このように構成することで、上記実施形態の透過−散乱モードにおいて、透明状態への応答速度を高めたり、液晶／硬化性化合物を重合せしめるときに外部電界により液晶の配向を付与した状態で形成したりすることが可能となり、電極基板への配向機能層の設置が不要となり好ましい。また、液晶分子の電圧無印加時の初期状態に戻したいときに縦電界を印加してもよい。

また、上記実施形態においては、透過−散乱モードを有する液晶光学素子の例について説明したが、屈折率等の光学特性が変化する液晶光学素子に適用することができる。また、第１基板としてＴＦＴ基板を用いることにより画素ごとに透過−散乱モードを制御することが可能となる。この場合には、電界印加手段として画素電極（第１電極）、対向電極（第２電極）、スイッチング素子、スイッチング素子に信号を供給する配線等を第１配向機能層の下層に形成すればよい。更に、第２基板としてカラーフィルタ基板を用いることにより、色彩を付与することができる。

また、上記実施形態においては、液晶分子の配向を規制する手段として配向規制材を用いていたが、配向規制材と配向機能層を併用して液晶分子の配向を規制することもできる。

本発明の液晶光学素子は、電圧印加の有無に応じて透過−散乱を制御できるので、液晶光学シャッター、液晶調光装置、透明ディスプレイ等に好適に適用できる。また、電圧印加の有無に応じて光学状態を制御できるので、光学変調素子として用いることができる。また、文字や模様を表示できるショーウィンドウ、各種掲示板、自動車のインストルメントパネル等に利用ができる。

［実施例］
正の誘電率異方性を有するネマティック液晶（ Ｔc＝９２℃、Δｎ＝０．２２８、Δε＝１７．９ ）９０質量％と、化学式（１）の硬化性化合物１（配向規制材となる前駆体）１０質量％とを混合した。さらに前記硬化性化合物１に対して１質量％の量の光重合開始剤（ベンゾインイソプロピルエーテル）を混合して、６０℃に設定したホットスターラ―上にて加熱撹拌して混合物１を得た。

一方の電極付き基板として、ガラス基板上に透明電極としてＩＴＯ薄膜（インジウム錫酸化物）を形成し、櫛刃状に電極幅を５μｍ、電極間距離を５μｍとなるようにパターニングして一対の櫛歯状電極を形成した。このガラス基板の電極上に、プレチルト角が約９０°となるポリイミド薄膜からなる配向膜を形成した。次に、他方の基板として、プレチルト角が約９０°となるポリイミド薄膜からなる配向膜のみを形成させたガラス基板を用意した。前記２枚のガラス基板を、直径６μｍの樹脂ビーズからなるスペーサを介して対向させ、前記混合物１を挟持させることで液晶セルを得た。

この液晶セルを３５℃に保持した状態で、主波長が約３６５ｎｍのケミカルランプにより、上下から３ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線を１０分間照射し、硬化性化合物１を硬化して液晶光学素子を得た。

紫外線照射後、液晶光学素子は、透明状態を呈した。次に、一方のガラス基板上の前記一対の櫛形ＩＴＯ電極間に２００Ｈｚ、４０Ｖの矩形波電圧を印加したところ、本素子は散乱状態を呈した。

本液晶光学素子の５μｍ幅の電極間の散乱特性は、本素子の背面に光源をセットし、電圧無印加の透過状態を、電圧印加の散乱状態に、本液晶光学素子を介して通過する光源輝度を透過率データに換算して導出した。本素子に電圧を印加し、散乱状態を示した様態で、光学レンズを用いてＣＣＤカメラにて所定領域の画像を取り込み、その画像データから、５μｍ幅の電極間領域に位置する５μｍ×２０μｍの矩形領域の相関輝度レベルを測定した。測定は３か所にて実施し、平均値にて評価した。

次に、参照素子として、異なるレベルの電圧印加により、透過状態から散乱状態へと様態変化を示す別の液晶光学素子を用いて、集光角５°のシュリ−レン系光学系を用いて電圧-透過率特性を測定した。前記参照素子を前記同様に輝度測定装置にて、異なるレベルの電圧印加時に参照素子を介して通過する光源輝度を測定して、電圧-輝度特性を測定した。得られた電圧-透過率特性と電圧-輝度特性の相関から、輝度-透過率の換算特性を導出した。

本液晶光学素子を用いて、電圧-輝度特性を測定し、参照素子から導出した輝度-透過率の換算特性から、本液晶光学素子の櫛形電極間のみを、集光角５°のシュリ−レン系光学系を用いて透過率を測定した。電圧無印加時の透過状態の透過率は８１%であり、矩形波４０Ｖの電圧印加時の透過率は１５％であった。

１ 電気光学機能層
２ 液晶化合物
３ 配向規制材
１０ 第１基板
１１ 第１配向機能層
２０ 第２基板
２１ 第２配向機能層
３０ 電界印加手段
３１ 第１電極
３２、３７ 連結部
３３、３８ 櫛歯部
３６ 第２電極
１００ 液晶光学素子

Claims (8)

1. 少なくとも一方が透光性を有し、互いに対向する一対の基板と、
   前記一対の基板に挟持された電気光学機能層と、
   前記電気光学機能層内に電界を生じさせる電界印加手段と、を備え、
   前記電気光学機能層は、正の誘電率異方性を有し液晶性を示す液晶化合物と、前記液晶化合物の配向を規制する配向規制材とを含み、
   前記電界印加手段は、前記一対の基板の少なくとも一方の基板面に概ね平行な方向の電気力線を含む電界を生じさせるように構成される液晶光学素子。
2. 電圧無印加時に透明状態を示し、電圧印加時に入射光を散乱する状態を示す請求項１に記載の液晶光学素子。
3. 前記配向規制材は、高分子構造体からなる請求項１又は２に記載の液晶光学素子。
4. 前記電界印加手段は、前記一対の基板の少なくとも一方の基板に形成された第１電極および第２電極からなり、前記第１電極と前記第２電極との間に電圧を印加することによって前記電界を生じさせる請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶光学素子。
5. 前記第１電極および前記第２電極は、それぞれ、互いに平行な複数の電極対を有し、
   前記第１電極における前記電極対と、前記第２電極における前記電極対とが、前記基板の基板面に互いに平行となるように、交互に配置されていることを特徴とする請求項４に記載の液晶光学素子。
6. 前記液晶化合物の長軸の平均的な方向は、電圧無印加時に前記一対の基板の少なくとも一方の基板面の法線方向に概ね一致している請求項１〜５のいずれか１項に記載の液晶光学素子。
7. 前記配向規制材は高分子構造体であり、当該高分子構造体は、前記基板面の法線方向に延在されている成分を少なくとも有する柱状樹脂を含む請求項１〜６のいずれか１項に記載の液晶光学素子。
8. 前記電気光学機能層の外側には配向機能層が形成され、当該配向機能層は垂直配向機能層である請求項１〜７のいずれか１項に記載の液晶光学素子。

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