JP2017003619A - Sealing sticker - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable determination by mechanical detection and visual inspection through arranging a light diffraction layer in addition to a resonance circuit by a given dot pattern on the same surface of a base material of a resonance tag.SOLUTION: A sealing sticker includes a resonance circuit including a coil and a capacitor for performing electrical detection. The sealing sticker includes: a brittle processing layer and an anchor layer formed on one side of a base material. A light diffraction layer is formed between the brittle processing layer and the anchor layer. The coil and a lower electrode of the capacitor are formed on the anchor layer. The capacitor includes the lower electrode, a dielectric layer covering the lower electrode, and an upper electrode on the dielectric layer. The light diffraction layer includes a diffraction forming layer and a metal reflective layer. The metal reflective layer includes dot patterns in a plurality of alienated regions.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、封印シールに関し、より詳細には、不正に剥がした際にそれを機械検知と目視とにより判定が可能な封印シールに関する。   The present invention relates to a seal seal, and more particularly to a seal seal that can be determined by mechanical detection and visual inspection when it is illegally peeled off.

貴金属などの貴重品、機密情報が含まれる書類、記録媒体等を収納する包袋、箱体、筐体等の開口部に、不正に開封がなされたか否かを検知するための封印シールを貼付することが行われている。このような封印シールとして、目視で開封の有無を確認できる紙、フイルム等からなるシールが知られている。   A seal sticker is attached to the opening of precious metals and other valuables, documents containing confidential information, packaging bags for storing recording media, boxes, cases, etc., to detect whether or not they have been tampered with. To be done. As such a seal, a seal made of paper, film or the like that can be visually checked for the presence or absence of opening is known.

例えば、溶剤を使った開封手口に対しては、シールが発色したり、シールに印刷されたパターンが破壊されることにより、開封されたことを検知することができる。また、ドライヤーを使った開封手口に対しては、シールに印刷されたパターンが破壊されたり、シールに設けられた切り込みが破断することにより、開封されたことを検知することができる。さらに、開口部の境目で封印シールを切断する手口に対しては、目視(凝視)により開封されたことを確認することができる。   For example, it is possible to detect the opening of a seal using a solvent by coloring the seal or destroying the pattern printed on the seal. In addition, it is possible to detect the opening of the opening mouth using a dryer by breaking the pattern printed on the seal or by breaking the notch provided on the seal. Furthermore, it can be confirmed by visual inspection (gazing) that the mouth which cuts the sealing seal at the boundary of the opening.

しかし、上述した封印シールの変化を、目視では確認しづらい場合があり、開封の検知の効率化を図るため、近年、封印シールの機械検知の要望が増えてきている。このような機械検知の方法として、例えば、封印シールに共振回路を内蔵した共振タグを用いることが知られている(例えば、特許文献1〜3参照)。   However, there is a case where it is difficult to visually confirm the change of the seal seal described above, and in recent years, there has been an increasing demand for mechanical detection of the seal seal in order to improve the efficiency of detection of opening. As a method of such mechanical detection, for example, it is known to use a resonance tag in which a resonance circuit is incorporated in a seal seal (see, for example, Patent Documents 1 to 3).

開口部の境目で封印シールを切断する手口に対しては、共振回路の配線の一部の断線を、共振回路の共振周波数の電波を用いて機械的に検知することができる。このような共振タグは、基材の一方の面にコイルを形成し、基材を挟んで両方の面に電極を形成してコンデンサとし、共振回路を構成している。従って、基材の表裏の両面に金属配線のための加工が必要なため、生産性が低いという問題点があった。   For a mouth that cuts the sealing seal at the boundary of the opening, a disconnection of a part of the wiring of the resonance circuit can be mechanically detected using a radio wave having a resonance frequency of the resonance circuit. In such a resonance tag, a coil is formed on one surface of a base material, and electrodes are formed on both surfaces of the base material to form a capacitor, thereby forming a resonance circuit. Therefore, since processing for metal wiring is required on both the front and back surfaces of the base material, there is a problem that productivity is low.

また、従来の共振タグは、万引き防止を主な用途として用いられている。共振タグが添付された商品が、店舗から不正に持ち出されることを検知するため、店舗の出入り口に設置された検知装置により、共振周波数の電波による共振回路の動作を検知している。従って、正当に商品が購入された場合には、当該商品の共振タグの回路の一部を、店舗で切断するなどして、検知装置により検知されないようにしていた。   Further, the conventional resonance tag is mainly used for shoplifting prevention. In order to detect that a product with a resonance tag attached is illegally taken out of the store, the operation of the resonance circuit by the radio wave of the resonance frequency is detected by a detection device installed at the entrance of the store. Therefore, when a product is legitimately purchased, a part of the resonance tag circuit of the product is cut off at a store so that it is not detected by the detection device.

特開昭64−23395号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 64-23395 特開2005−326623号公報JP 2005-326623 A 特開2005−128189号公報JP 2005-128189 A

しかしながら、共振タグを、不正に開封がなされたか否かを検知するために使用する場合、共振回路の配線が断線しない程度に、溶剤、ドライヤーを用いて開口部から剥離することができれば、不正を検知することができない。すなわち、共振タグを剥離した後に、再び、同じ共振タグを添付したり、異なる共振タグを貼付することが容易なので、不正な張り替えを検知することができないという問題がある。   However, if the resonance tag is used to detect whether or not it has been tampered with, it can be illegal if it can be peeled off from the opening with a solvent and a dryer to the extent that the wiring of the resonance circuit is not broken. It cannot be detected. That is, after peeling off the resonance tag, it is easy to attach the same resonance tag again or attach a different resonance tag.

本発明の目的は、共振タグの基材の同一面上に、共振回路に加えて光回折層を任意の網点パターンにより配置することにより、機械検知と目視とによる判定が可能な封印シールを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a sealing seal that can be determined by mechanical detection and visual observation by arranging an optical diffraction layer in an arbitrary halftone dot pattern in addition to the resonance circuit on the same surface of the substrate of the resonance tag. It is to provide.

本発明は、このような目的を達成するために、一実施態様は、電気的な検知を行うための、コイルとコンデンサとからなる共振回路を有する封印シールであって、前記基材の一方の面上に脆性処理層とアンカー層とを有し、前記脆性処理層と前記アンカー層との間に光回折層を有し、前記コイルと前記コンデンサの下部電極とが前記アンカー層上に形成され、前記コンデンサは、前記下部電極、前記下部電極を覆う誘電層、および該誘電層上の上部電極により構成され、前記光回折層は、回折形成層と金属反射層を含み、前記金属反射層は、離間した複数領域の網点パターンで形成されていることを特徴とする。   In order to achieve the above object, one embodiment of the present invention is a sealing seal having a resonance circuit composed of a coil and a capacitor for performing electrical detection, A brittle treatment layer and an anchor layer on the surface, an optical diffraction layer between the brittle treatment layer and the anchor layer, and the coil and the lower electrode of the capacitor are formed on the anchor layer. The capacitor includes the lower electrode, a dielectric layer covering the lower electrode, and an upper electrode on the dielectric layer, and the optical diffraction layer includes a diffraction forming layer and a metal reflective layer, and the metal reflective layer is The dot pattern is formed by a plurality of spaced halftone dot patterns.

本発明によれば、共振回路に加えて光回折層を設けた封印シールを用いて、機械検知と目視とによる判定が可能となり、精度の高い開封の検知を行うことができる。   According to the present invention, it is possible to determine by mechanical detection and visual observation using a seal seal provided with an optical diffraction layer in addition to a resonance circuit, and it is possible to detect opening with high accuracy.

本発明の一実施形態にかかる封印シールを示す図である。It is a figure which shows the seal seal concerning one Embodiment of this invention. 本実施形態の封印シールの断面を示す図である。It is a figure which shows the cross section of the seal seal of this embodiment. 本実施形態の封印シールのパターン状接着層の形状を示す図である。It is a figure which shows the shape of the pattern adhesive layer of the seal seal of this embodiment. 本実施形態の封印シールの光回折層の形状を示す図である。It is a figure which shows the shape of the optical diffraction layer of the seal seal | sticker of this embodiment. 本実施形態の封印シールの光回折層の形状を示す図である。It is a figure which shows the shape of the optical diffraction layer of the seal seal | sticker of this embodiment. 本実施形態の封印シールの他の実施例を示す図である。It is a figure which shows the other Example of the seal seal | sticker of this embodiment.

以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

(封印シールの構造)
図1に、本発明の一実施形態にかかる封印シールを示す。図1は、封印シールの上面から見て、基材2を透視した図である。図2は、図1の一点鎖線A−B間の断面を示した図である。封印シール1の製造は、後述するように基材2から剥離層10まで順に積層していくので、基材2が最下層となり、剥離層10が最上層となる。一方、使用時には、剥離層10を取り除き接着層9を被着体に貼り付けるので、基材2が上面となって、目視される。
(Structure of seal)
FIG. 1 shows a seal seal according to an embodiment of the present invention. FIG. 1 is a perspective view of the base material 2 as seen from the upper surface of the seal seal. FIG. 2 is a view showing a cross section taken along one-dot chain line AB in FIG. Since the sealing seal 1 is manufactured in order from the base material 2 to the release layer 10 as will be described later, the base material 2 is the lowest layer and the release layer 10 is the uppermost layer. On the other hand, since the peeling layer 10 is removed and the adhesive layer 9 is affixed to the adherend during use, the substrate 2 is viewed from the top surface.

封印シール1は、基材2の一方の面に脆性処理層となるパターン状接着層11および光回折層12が形成され、その上にアンカー層15が形成されている。光回折層12は、回折形成層13と金属反射層14とから構成されており、詳細は後述する。   In the seal 1, a patterned adhesive layer 11 and a light diffraction layer 12 that are brittle treatment layers are formed on one surface of a substrate 2, and an anchor layer 15 is formed thereon. The light diffraction layer 12 is composed of a diffraction formation layer 13 and a metal reflection layer 14, and details will be described later.

アンカー層15の上には、印字8がなされ、その上にコイル3および下部コンデンサ電極4となる導電膜が形成されている。コイル3の外側の接続部分3aにおいて、コイル3と下部コンデンサ電極4とを接続する。印字8は、少なくともコイル3および/または下部コンデンサ電極4の一部と重なるように印字されている。下部コンデンサ電極4を覆うように誘電層5が形成され、その上に上部コンデンサ電極6を形成して、基材2の一方の面上にコンデンサを構成する。コイル3の内側の接続部分3bと上部コンデンサ電極6とを接続するジャンパー線7を設けることにより、電気的な検知を行うための共振回路17を構成する。   A print 8 is formed on the anchor layer 15, and a conductive film to be the coil 3 and the lower capacitor electrode 4 is formed thereon. The coil 3 and the lower capacitor electrode 4 are connected at the connection portion 3 a outside the coil 3. The print 8 is printed so as to overlap at least a part of the coil 3 and / or the lower capacitor electrode 4. A dielectric layer 5 is formed so as to cover the lower capacitor electrode 4, and an upper capacitor electrode 6 is formed thereon to constitute a capacitor on one surface of the substrate 2. By providing a jumper wire 7 that connects the connection portion 3b inside the coil 3 and the upper capacitor electrode 6, a resonance circuit 17 for performing electrical detection is configured.

さらに、アンカー層15の上の構造物を覆うように、全面に接着層9を設け、最外層として剥離層10を形成して、封印シール1を構成している。このような構成により、従来のように基材の両面に加工をする必要がなく、順次、片面に構造物を積層していくだけでよいので、生産性に優れている。   Further, an adhesive layer 9 is provided on the entire surface so as to cover the structure on the anchor layer 15, and a release layer 10 is formed as the outermost layer to constitute the seal 1. With such a configuration, it is not necessary to process the both surfaces of the base material as in the prior art, and it is only necessary to sequentially stack the structures on one surface, which is excellent in productivity.

(基材)
基材2としては、特に限定するものではないが、共振回路17等を支持できる機能を有していればよい。印字8を設ける場合には、基材2の他方の面からの視認が可能なように、透明な基材を用いることが好ましい。例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)等のアクリル系基材、ポリエチレン等のポリオレフィン系基材、ポリエステル系基材、ポリカーボネート系基材など、樹脂系基材を用いることができる。基材の厚さは、20〜200μmとすることができる。
(Base material)
Although it does not specifically limit as the base material 2, What is necessary is just to have a function which can support the resonance circuit 17 grade | etc.,. When the printing 8 is provided, it is preferable to use a transparent base material so that it can be viewed from the other surface of the base material 2. For example, resin base materials such as acrylic base materials such as polyethylene terephthalate (PET), polyolefin base materials such as polyethylene, polyester base materials, and polycarbonate base materials can be used. The thickness of a base material can be 20-200 micrometers.

(印字)
印字8の少なくとも一部は、アンカー層15の上において、少なくともコイル3および/または下部コンデンサ電極4の一部と重なるように設けることができる。封印シール1を剥離した際に、破壊された共振回路17の一部を、導電性インキを用いて接続することにより、共振回路17を動作させることができる。印字8を共振回路17と重ねることにより、共振回路17を電気的に動作させることができても、印字8を復元することは困難であるため、目視により不正な開封、封印シールの改ざんを検知することができる。
(Printing)
At least a part of the print 8 can be provided on the anchor layer 15 so as to overlap at least a part of the coil 3 and / or the lower capacitor electrode 4. When the seal seal 1 is peeled off, the resonant circuit 17 can be operated by connecting a part of the destroyed resonant circuit 17 using conductive ink. Even if the resonance circuit 17 can be electrically operated by overlapping the printing 8 with the resonance circuit 17, it is difficult to restore the printing 8, so that unauthorized opening and tampering of the seal seal are detected visually. can do.

印字8は、従来の印刷法によって形成することができ、具体的には、文字、数字、記号、地紋などがあげられる。特に連続的、周期的に形成することが好ましい。また、印字8はアンカー層15の全面にわたって形成してもよいし、共振回路17に沿って形成してもよい。印字8の厚さは1〜10μmであり、好ましくは2〜3μmである。あまり厚くなると、その上に設ける共振回路に悪影響を与える可能性がある。   The print 8 can be formed by a conventional printing method, and specifically includes letters, numbers, symbols, and background patterns. In particular, it is preferable to form continuously and periodically. Further, the print 8 may be formed over the entire surface of the anchor layer 15 or may be formed along the resonance circuit 17. The thickness of the print 8 is 1 to 10 μm, preferably 2 to 3 μm. If it is too thick, there is a possibility of adversely affecting the resonance circuit provided thereon.

(共振回路)
共振回路17を構成するコイル3と下部コンデンサ電極4とは、導電性を有していればよく、特に限定するものではない。例えば、金属薄膜をエッチング等によりパターニングする方法、導電性インクを用いてスクリーン印刷等の印刷法により形成する方法を用いることができる。封印シール1を剥離した時に、共振回路17が容易に破壊されるようにすること、下部コンデンサ電極4を基にコンデンサを構成することを考慮すると、導電性インクを用いることが好ましい。また、生産性の観点からも、印刷により形成することができる点で、導電性インクを用いることが好ましい。
(Resonant circuit)
The coil 3 and the lower capacitor electrode 4 constituting the resonance circuit 17 are not particularly limited as long as they have conductivity. For example, a method of patterning a metal thin film by etching or the like, or a method of forming by a printing method such as screen printing using a conductive ink can be used. Considering that the resonance circuit 17 is easily destroyed when the sealing seal 1 is peeled off and that a capacitor is configured based on the lower capacitor electrode 4, it is preferable to use conductive ink. Also, from the viewpoint of productivity, it is preferable to use a conductive ink because it can be formed by printing.

導電性インクとしては、銀などの金属を溶剤に分散させたインク、その他の導電性材料を含むインクを用いることができる。導電性インクを用いた場合、厚さは10〜30μmである。共振回路のパターンは特に限定するものではないが、所望の共振周波数に合わせた1巻以上のコイルパターンと、基材2の同一面上のコンデンサとにより構成することができ。   As the conductive ink, an ink in which a metal such as silver is dispersed in a solvent, or an ink containing another conductive material can be used. When the conductive ink is used, the thickness is 10 to 30 μm. The pattern of the resonance circuit is not particularly limited, but can be constituted by one or more coil patterns matched to a desired resonance frequency and a capacitor on the same surface of the substrate 2.

溶剤としては、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル系有機溶剤などを用いることができる。また、導電性インクは、必要に応じてバインダー樹脂を含んでいてもよい。   As the solvent, an ester organic solvent such as diethylene glycol monoethyl ether acetate can be used. Further, the conductive ink may contain a binder resin as necessary.

検知器には、共振回路の共振周波数と、この共振周波数とは異なる周波数を合わせて用いる方式と、共振回路の共振周波数のみを用いる方式とがある。前者の方式は、コンデンサの配置によらず検知が可能である。後者の方式は、コイルの内側にコンデンサが配置されていると、コイルが切断されていても誤ってコンデンサを検知してしまい、コイルが切断されたことを検知できないことがある。従って、後者の方式が用いられることも考慮すると、図1に示したように、コンデンサを、コイル3の外側に配置することが好ましい。   The detector includes a method using a resonance frequency of the resonance circuit and a frequency different from the resonance frequency, and a method using only the resonance frequency of the resonance circuit. The former method can be detected regardless of the capacitor arrangement. In the latter method, when a capacitor is disposed inside the coil, the capacitor is erroneously detected even if the coil is cut, and it may not be possible to detect that the coil has been cut. Therefore, considering that the latter method is used, it is preferable to dispose the capacitor outside the coil 3 as shown in FIG.

(コンデンサ)
コンデンサを構成する誘電層5は、絶縁性の樹脂を用いることができる。絶縁性の樹脂は、印刷により形成されることが好ましい。誘電層5は、少なくとも下部コンデンサ電極4を覆うように形成されていればよいが、上部コンデンサ電極6を設けた際に、それぞれの電極の端部で導通が起きないように、下部コンデンサ電極4より大きく形成する。なお、絶縁性の樹脂を基材2の一方の全面に形成してもよいが、コストが高くなってしまう。誘電層5は、下部コンデンサ電極4より0.1〜5mm大きくすることが好ましい。
(Capacitor)
For the dielectric layer 5 constituting the capacitor, an insulating resin can be used. The insulating resin is preferably formed by printing. The dielectric layer 5 only needs to be formed so as to cover at least the lower capacitor electrode 4, but when the upper capacitor electrode 6 is provided, the lower capacitor electrode 4 is prevented from conducting at the end of each electrode. Form larger. Insulating resin may be formed on one entire surface of the substrate 2, but the cost is increased. The dielectric layer 5 is preferably 0.1 to 5 mm larger than the lower capacitor electrode 4.

コイル3の内側の接続部分3bと上部コンデンサ電極6との接続は、図1に示したように、コイル3を跨いで形成された誘電層5の上に設けられたジャンパー線7によって接続する。   As shown in FIG. 1, the connection portion 3 b inside the coil 3 and the upper capacitor electrode 6 are connected by a jumper wire 7 provided on the dielectric layer 5 formed across the coil 3.

誘電層に用いられる絶縁性の樹脂としては、アクリル・ウレタン系レジスト等があげられる。また、溶剤としては、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル系有機溶剤などを用いることができる。また、誘電層5は、2回以上重ねて印刷することが好ましい。印刷で形成する場合、絶縁を確保できるだけの厚みを確保することが難しいからである。生産性の観点からは、2回の印刷で誘電層5を形成できることが好ましい。誘電層5は、スクリーン印刷等で形成し、膜厚は10〜50μmである。好ましくは特に20〜40μmである。この範囲であれば平滑性に悪影響を与えず、かつ上部コンデンサ電極6と下部コンデンサ電極4とのショートを防ぐことができる。   Examples of the insulating resin used for the dielectric layer include acrylic and urethane resists. Further, as the solvent, ester organic solvents such as diethylene glycol monoethyl ether acetate can be used. The dielectric layer 5 is preferably printed twice or more times. This is because, when forming by printing, it is difficult to secure a thickness sufficient to ensure insulation. From the viewpoint of productivity, it is preferable that the dielectric layer 5 can be formed by two printings. The dielectric layer 5 is formed by screen printing or the like and has a film thickness of 10 to 50 μm. The thickness is particularly preferably 20 to 40 μm. Within this range, smoothness is not adversely affected, and a short circuit between the upper capacitor electrode 6 and the lower capacitor electrode 4 can be prevented.

上部コンデンサ電極6とジャンパー線7とは誘電層5上に形成される。上部コンデンサ電極6とジャンパー線7とは、導電性を有していればよく、特に限定するものではない。封印シール1を剥離した時に、共振回路17が容易に破壊されるようにすることを考慮すると、導電性インクを用いることが好ましい。導電性インクとしては、銀などの金属を溶剤に分散させたインク、その他の導電性材料を含むインクを用いることができる。導電性インクを用いた場合、厚さは10〜30μmである。溶剤としては、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル系有機溶剤などを用いることができる。また、導電性インクは、必要に応じてバインダー樹脂を含んでいてもよい。   The upper capacitor electrode 6 and the jumper wire 7 are formed on the dielectric layer 5. The upper capacitor electrode 6 and the jumper wire 7 are not particularly limited as long as they have conductivity. Considering that the resonance circuit 17 can be easily destroyed when the seal seal 1 is peeled off, it is preferable to use conductive ink. As the conductive ink, an ink in which a metal such as silver is dispersed in a solvent, or an ink containing another conductive material can be used. When the conductive ink is used, the thickness is 10 to 30 μm. As the solvent, an ester organic solvent such as diethylene glycol monoethyl ether acetate can be used. Further, the conductive ink may contain a binder resin as necessary.

上述したように、共振回路の共振周波数のみを用いる方式の検知器は、コイルの内側にコンデンサが配置されていると、コイルが切断されていても誤ってコンデンサを検知してしまい、コイルが切断されたことを検知できないことがある。そこで、第1の実施形態の封印シール1は、コンデンサをコイル3の外側に配置している。   As described above, a detector that uses only the resonance frequency of the resonance circuit, if a capacitor is placed inside the coil, erroneously detects the capacitor even if the coil is disconnected, and the coil is disconnected. May not be detected. Therefore, in the sealing seal 1 of the first embodiment, the capacitor is disposed outside the coil 3.

(接着層)
接着層9は、被着体に封印シールを張り付けるために設けるもので、十分な粘着性を有する物であれば特に限定するものではない。公知の粘着剤、接着剤を使用することができ、例えば、アクリル系の粘着剤を用いることができる。接着層9は、印刷法により形成することができ、厚さは10〜100μmである。
(Adhesive layer)
The adhesive layer 9 is provided for sticking a sealing seal on the adherend, and is not particularly limited as long as it has sufficient adhesiveness. Known pressure-sensitive adhesives and adhesives can be used. For example, acrylic pressure-sensitive adhesives can be used. The adhesive layer 9 can be formed by a printing method and has a thickness of 10 to 100 μm.

最外層には剥離層10を設けることができる。封印シール1を使用する際には、剥離層10を剥離して、暴露された接着層9を被着体に貼り付ける。剥離層10としては特に限定するものではないが、紙材を用いることができる。具体的には剥離加工を施したコート紙などを用いることができる。   A release layer 10 can be provided on the outermost layer. When the seal seal 1 is used, the release layer 10 is peeled off, and the exposed adhesive layer 9 is attached to the adherend. The release layer 10 is not particularly limited, but a paper material can be used. Specifically, a coated paper subjected to a peeling process can be used.

(パターン状接着層)
脆性処理層として機能するパターン状接着層11は、接着層9の接着力より強い接着力を有する材料を用いる。パターン状接着層11は、接着層9のように、基材2の全面に塗布するのではなく、パターン上に形成して、以下に説明する脆性処理を施す。一度貼り付けた封印シール21が剥離された場合に、パターン状接着層11が設けられている部分においては、共振回路等は基材2側に引っ張られ、パターン状接着層11が設けられていない部分においては、共振回路等は接着層9とともに被着体側に残るように、パターンを形成する。この結果、封印シール21が剥離された際に、共振回路等が容易に破壊されるようになり、封印シールの剥離の検知を、より高精度に行うことができる。
(Pattern adhesive layer)
For the patterned adhesive layer 11 that functions as a brittle treatment layer, a material having an adhesive strength stronger than the adhesive strength of the adhesive layer 9 is used. The pattern adhesive layer 11 is not applied to the entire surface of the substrate 2 as in the adhesive layer 9, but is formed on the pattern and subjected to a brittle treatment described below. When the sealing sticker 21 once pasted is peeled off, the resonance circuit or the like is pulled to the substrate 2 side in the portion where the patterned adhesive layer 11 is provided, and the patterned adhesive layer 11 is not provided. In the portion, a pattern is formed so that the resonance circuit and the like remain on the adherend side together with the adhesive layer 9. As a result, when the seal seal 21 is peeled off, the resonance circuit and the like are easily broken, and the detection of the peel off of the seal seal can be performed with higher accuracy.

パターン状接着層11としては、上記機能を満たすものであれば特に限定しないが、例えば、ポリエステル系接着剤を用いることができる。パターン状接着層11は、印刷法などにより形成することができ、厚さは0.05〜0.5μmである。   The pattern adhesive layer 11 is not particularly limited as long as it satisfies the above functions, and for example, a polyester-based adhesive can be used. The patterned adhesive layer 11 can be formed by a printing method or the like, and has a thickness of 0.05 to 0.5 μm.

図3に、本実施形態の封印シールのパターン状接着層の形状を示す。パターン状接着層11のパターンは、共振回路等を破壊できるものであれば特に限定はしないが、少なくとも封印シール1の端部にパターン状接着層11を形成した部分と、形成していない部分とが含まれるように設けられていることが好ましい。封印シール1を端部から剥離する際、被着体に残る部分と基材に引きずられる部分とが分離することにより、共振回路等を確実に破壊することができるからである。また、図3に示したように、パターンを複雑な形状にすることにより、貼り替え防止効果をより高めることができる。   FIG. 3 shows the shape of the patterned adhesive layer of the seal seal of this embodiment. The pattern of the patterned adhesive layer 11 is not particularly limited as long as it can destroy the resonance circuit or the like, but at least a portion where the patterned adhesive layer 11 is formed at the end of the seal 1 and a portion where it is not formed It is preferable that it is provided so as to be included. This is because when the seal seal 1 is peeled from the end portion, the portion remaining on the adherend and the portion dragged by the base material are separated, so that the resonance circuit and the like can be reliably destroyed. Moreover, as shown in FIG. 3, the effect of preventing replacement can be further enhanced by making the pattern into a complicated shape.

(光回折層)
光回折層12は、例えば、回折構造を有する回折形成層13と金属反射層14とからなるホログラム層を用いることができる。光回折層12を設けることにより、不正に剥がした際に目視による判定が可能となり、セキュリティレベルを高めることができる。基材2およびパターン状接着層11の上に、回折形成層13を設け、回折構造を形成した後、金属反射層14を設ける。回折形成層13は、アクリル等の樹脂材料を用いることができ、エンボス版を用いて回折構造を形成する。金属反射層14としては、アルミなどの金属反射材料、酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化チタンなどの半透過半反射性の金属化合物を用いることができる。
(Light diffraction layer)
As the optical diffraction layer 12, for example, a hologram layer including a diffraction formation layer 13 having a diffraction structure and a metal reflection layer 14 can be used. By providing the light diffractive layer 12, it is possible to make a visual determination when it is illegally peeled off, and the security level can be increased. After providing the diffraction forming layer 13 on the base material 2 and the patterned adhesive layer 11 and forming the diffraction structure, the metal reflective layer 14 is provided. The diffraction forming layer 13 can be made of a resin material such as acrylic, and forms a diffractive structure using an embossed plate. As the metal reflective layer 14, a metal reflective material such as aluminum, or a transflective metal compound such as zinc oxide, zinc sulfide, or titanium oxide can be used.

回折形成層13は、接着層9の接着力より基材2との接着力を弱くすることが好ましい。パターン状接着層11が設けられている場合に、封印シール1が剥離されたとき、パターン状に破壊されるからである。すなわち、パターン状接着層11が設けられている部分においては、光回折層12が基材2側に残り、パターン状接着層11が設けられていない部分においては、光回折層12が接着層9とともに被着体側に残る。   It is preferable that the diffraction forming layer 13 has a lower adhesive strength with the substrate 2 than the adhesive strength of the adhesive layer 9. This is because when the pattern adhesive layer 11 is provided, the seal 1 is broken into a pattern when the seal 1 is peeled off. That is, in the portion where the patterned adhesive layer 11 is provided, the optical diffraction layer 12 remains on the substrate 2 side, and in the portion where the patterned adhesive layer 11 is not provided, the optical diffraction layer 12 is attached to the adhesive layer 9. And remains on the adherend side.

パターン状接着層11を設ける場合は、パターン状接着層11の上に回折形成層13を設けることができる。このようにすることで、封印シール1を剥離する際、共振回路と共に光回折層12も破壊されるため、封印シール1の剥離の検知の点でより好ましい。   When providing the patterned adhesive layer 11, the diffraction forming layer 13 can be provided on the patterned adhesive layer 11. By doing in this way, when peeling off the sealing sticker 1, since the optical diffraction layer 12 is destroyed with a resonance circuit, it is more preferable at the point of detection of peeling of the sealing sticker 1.

また、光回折層12を設ける場合には、光回折層12と共振回路17との間にアンカー層15を設ける。光回折層12としてホログラム層を形成すると、表面に凹凸が残るため、アンカー層15により表面を平滑化してから共振回路17を形成することが好ましい。   Further, when the optical diffraction layer 12 is provided, the anchor layer 15 is provided between the optical diffraction layer 12 and the resonance circuit 17. When a hologram layer is formed as the light diffraction layer 12, unevenness remains on the surface. Therefore, it is preferable to form the resonance circuit 17 after smoothing the surface with the anchor layer 15.

なお、光回折層12としては、ホログラム素子に限るものではなく、散乱素子、多層干渉素子など様々なものを用いることができる。また、基材2の一方の面上に、パターン状接着層11およびアンカー層15のみを形成し、ホログラム層を有さない脆性処理層のみを形成してもよい。   The light diffraction layer 12 is not limited to the hologram element, and various elements such as a scattering element and a multilayer interference element can be used. Alternatively, only the patterned adhesive layer 11 and the anchor layer 15 may be formed on one surface of the substrate 2 and only the brittle treatment layer having no hologram layer may be formed.

(光回折層のパターン)
金属材料は導電性を有するため、共振タグの電気的特性に悪影響を及ぼす。また、透明性に欠けるため、シールが貼られた被着体の内部を見ることができない。そこで金属反射層14は、離間した複数領域の網点状にパターニングすることが必要である。具体的には、マスク層を用いてエッチング処理によりパターニングすることができる。パターニングすることにより、部分的に光学効果を見せることができ、かつ離間した複数領域の網点状にパターニングすることにより金属反射層における導電性をなくすことにより、電磁波の遮断、反射による共振回路への影響をなくすことができる。さらに、パターニングにより視認性が向上し、被着体内部を確認することも可能となる。
(Light diffraction layer pattern)
Since the metal material has conductivity, it adversely affects the electrical characteristics of the resonance tag. Moreover, since it lacks transparency, the inside of the adherend to which the seal is stuck cannot be seen. Therefore, it is necessary to pattern the metal reflective layer 14 in a plurality of spaced areas. Specifically, patterning can be performed by etching using a mask layer. By patterning, the optical effect can be partially shown, and by removing the conductivity in the metal reflection layer by patterning into a plurality of spaced areas, the resonance circuit by blocking and reflecting electromagnetic waves The influence of can be eliminated. Further, the visibility is improved by patterning, and the inside of the adherend can be confirmed.

しかしながら、光回折層12の網点パターンの面積が小さすぎると、ホログラム層としての光学効果が減少してしまう。一方、大きすぎると視認性が悪くなるため被着体内部を観察することができなくなってしまい、さらには、電気的特性にも影響が出てきてしまうという新たな課題が発生する。   However, if the area of the halftone dot pattern of the light diffraction layer 12 is too small, the optical effect as a hologram layer is reduced. On the other hand, if the size is too large, the visibility is deteriorated, so that the inside of the adherend cannot be observed, and further, there is a new problem that the electrical characteristics are affected.

図4に、本実施形態の封印シールの光回折層の形状を示す。光回折層12の網点パターンとしては、エッチング処理によって残された金属反射層(主要素)14が規則的に一定のピッチで離間して配置されている。主要素14は、50〜110μmの一定のピッチLで、直径d1が30μm以上かつピッチ長Lの70%以下の大きさの均一な丸形状とする。具体的には、マスク層として、図4に示したような、一定のピッチで離間した複数の主要素14のパターンの網点グラビア版を用いて、グラビア印刷にて形成する。マスク層を印刷した部分はエッチング処理で残り、それ以外の部分は除去されるので、任意の網点パターンを作成することができる。   FIG. 4 shows the shape of the light diffraction layer of the seal seal of this embodiment. As the halftone dot pattern of the light diffraction layer 12, the metal reflection layer (main element) 14 left by the etching process is regularly spaced at a constant pitch. The main elements 14 have a uniform round shape with a constant pitch L of 50 to 110 μm, a diameter d1 of 30 μm or more and 70% or less of the pitch length L. Specifically, the mask layer is formed by gravure printing using a halftone gravure plate having a pattern of a plurality of main elements 14 spaced at a constant pitch as shown in FIG. The portion on which the mask layer is printed remains by the etching process, and other portions are removed, so that an arbitrary halftone dot pattern can be created.

主要素14のサイズとしては、直径d1が30μm以上かつピッチ長Lの70%以下とする。これは、直径が30μmより小さいと光回折層12の面積が小さすぎるため、ホログラム層としての光学効果が得られない。一方、大き過ぎると視認性が悪くなってしまう。さらに、主要素14が大き過ぎて主要素同士が繋がってしまうと、電気的特性にも影響が出て、共振タグとの通信が不能になってしまう。一方、ピッチLを110μm以上と尾大きくしてしまうと、ホログラム画像として見た場合に、画像が荒くなり十分な光学効果が得られなくなる。   The size of the main element 14 is set so that the diameter d1 is 30 μm or more and 70% or less of the pitch length L. This is because if the diameter is smaller than 30 μm, the area of the light diffraction layer 12 is too small, so that the optical effect as a hologram layer cannot be obtained. On the other hand, if it is too large, the visibility will deteriorate. Furthermore, if the main element 14 is too large and the main elements are connected to each other, the electrical characteristics are also affected, and communication with the resonance tag becomes impossible. On the other hand, if the pitch L is increased to 110 μm or more, the image becomes rough when viewed as a hologram image, and a sufficient optical effect cannot be obtained.

図5に、本実施形態の封印シールの光回折層の形状を示す。光回折層12の網点パターンとして、金属反射層(主要素)14と金属反射層(第2要素)16の2種類の形状を用いる。第2要素16の直径d2サイズとしては、主要素14の直径d1より30%以上大きくかつピッチ長さLより小さく作製する。均一な大きさとピッチで配置された主要素14の一部に、それよりサイズの大きい第2要素16を集合体として配置すると、網点パターンの密度の差が発生して、目視で濃淡が確認される。   FIG. 5 shows the shape of the light diffraction layer of the seal seal of this embodiment. As the halftone dot pattern of the light diffraction layer 12, two types of shapes of a metal reflection layer (main element) 14 and a metal reflection layer (second element) 16 are used. The diameter d2 of the second element 16 is 30% or more larger than the diameter d1 of the main element 14 and smaller than the pitch length L. When the second element 16 having a larger size is arranged as an aggregate on a part of the main elements 14 arranged with a uniform size and pitch, a difference in density of the halftone dot pattern occurs, and the density is visually confirmed. Is done.

図6に、本実施形態の封印シールの他の実施例を示す。目視により文字や幾何学模様を認識することができるように、一定のピッチで離間した複数の主要素14の網点パターンの中に、文字等を描くように、第2要素16を集合体として形成する。これにより、光回折層12によるホログラム画像の中に、文字や幾何学模様が浮かび上がるような効果が得られ、新たな視覚セキュリティ機能を付与することができる。特に、網点パターンの場合は、ベタパターンと比較すると輝度は低く、光回折が見られない視野角度も発生する。しかしながら、上記の網点パターンであっても、濃淡の差を十分に認識することができ、文字や幾何学模様も十分に認識することができる。   FIG. 6 shows another example of the seal seal of this embodiment. The second element 16 is set as an aggregate so that characters and the like are drawn in the halftone dot pattern of the plurality of main elements 14 spaced apart at a constant pitch so that characters and geometric patterns can be visually recognized. Form. Thereby, the effect that a character and a geometric pattern emerge in the hologram image by the light diffraction layer 12 is acquired, and a new visual security function can be provided. In particular, in the case of a halftone dot pattern, the luminance is lower than that of the solid pattern, and a viewing angle at which no light diffraction is observed is also generated. However, even with the above-described halftone dot pattern, a difference in shading can be sufficiently recognized, and characters and geometric patterns can also be sufficiently recognized.

具体的な作製方法としては、マスク層を、一定のピッチで離間した複数の主要素14のパターンの中に第2要素16を一定のピッチで離間した文字パターンで配置した網点グラビア版を作製し、それを用いてグラビア印刷にて形成する。マスク層を印刷した部分はエッチング処理で残り、それ以外の部分は除去されるので、任意の網点パターンを作成することができる。   As a specific production method, a halftone dot gravure plate in which a mask layer is arranged in a pattern of a plurality of main elements 14 spaced apart at a constant pitch and a second element 16 is arranged in a character pattern spaced apart at a constant pitch is produced. Then, it is formed by gravure printing using it. The portion on which the mask layer is printed remains by the etching process, and other portions are removed, so that an arbitrary halftone dot pattern can be created.

第2要素16の直径d2サイズとしては、主要素14の直径d1より30%以上大きくかつピッチ長さLより小さく作製する。第2要素同士も繋がってしまうと、電気的特性に影響が出て、共振タグとの通信が不能になってしまう。また、網点パターンの密度の差が目視で認識できるように、主要素より大きくする必要がある。   The diameter d2 of the second element 16 is 30% or more larger than the diameter d1 of the main element 14 and smaller than the pitch length L. If the second elements are connected to each other, the electrical characteristics are affected and communication with the resonance tag becomes impossible. Moreover, it is necessary to make it larger than the main element so that the difference in the density of the halftone dot pattern can be visually recognized.

パターン状接着層11を設ける場合は、パターン状接着層11の上に回折形成層13を設けることができる。このようにすることで、封印シール1を剥離する際、共振回路17と共に光回折層12も破壊されるため、不正剥離の検知の点ではより好ましいものとなる。   When providing the patterned adhesive layer 11, the diffraction forming layer 13 can be provided on the patterned adhesive layer 11. By doing in this way, when peeling off the sealing sticker 1, since the optical diffraction layer 12 is also destroyed with the resonance circuit 17, it becomes more preferable at the point of detection of unauthorized peeling.

[実施例1]
基材2として、縦20mm×横40mm×厚み50μmのPETを用いた。基材2の一方の面上にポリエステル樹脂系接着剤からなるパターン接着層11を、平均膜厚約0.15μmとなるように、グラビア印刷により形成した。パターン接着層11のパターンは、交差する直線の長さ2.5mmの×字型のパターンを、間隔10mmで配置した。
[Example 1]
As the base material 2, PET 20 mm long × 40 mm wide × 50 μm thick was used. A pattern adhesive layer 11 made of a polyester resin adhesive was formed on one surface of the substrate 2 by gravure printing so as to have an average film thickness of about 0.15 μm. As the pattern of the pattern adhesive layer 11, an X-shaped pattern having a length of 2.5 mm of intersecting straight lines was arranged at an interval of 10 mm.

パターン状接着層11の上に、ウレタン−アクリル系樹脂からなる回折形成層13を、平均膜厚約1.5μmとなるように、グラビア印刷により形成した。次に、ホログラムエンボス版を用いて回折形成層13に回折構造を形成した。その上に、金属反射層14として、アルミニウムを蒸着法により膜厚50nmで設けることにより、光回折層12を形成した。   On the patterned adhesive layer 11, a diffraction forming layer 13 made of urethane-acrylic resin was formed by gravure printing so as to have an average film thickness of about 1.5 μm. Next, a diffraction structure was formed on the diffraction forming layer 13 using a hologram embossed plate. On top of that, the light diffraction layer 12 was formed by providing aluminum with a film thickness of 50 nm as the metal reflective layer 14 by vapor deposition.

金属反射層14を網点状にパターニングするために、酢酸ビニル樹脂からなるマスク層を、レーザポーシェル版250線網点率35%のグラビア版を用いて、膜厚約1.5μmとなるように、グラビア印刷により形成する。次に、アルカリエッチング法によってマスク層を印刷して部分以外のアルミニウムを除去して、網点パターン状の光回折層12を得た。   In order to pattern the metal reflection layer 14 in a dot pattern, the mask layer made of vinyl acetate resin is made to have a film thickness of about 1.5 μm using a gravure plate with a laser porshell plate 250 line dot ratio of 35%. And by gravure printing. Next, a mask layer was printed by an alkali etching method to remove aluminum other than the portion, and a halftone dot pattern-like light diffraction layer 12 was obtained.

光学層12の上には、ポリビニルブチラール樹脂からなるアンカー層15を、平均膜厚約0.1μmとなるように、グラビア印刷により形成した。   On the optical layer 12, an anchor layer 15 made of polyvinyl butyral resin was formed by gravure printing so as to have an average film thickness of about 0.1 μm.

アンカー層15の上には、赤色のインキを用いて印字8を印刷した。印字8は、スクリーン印刷により「TP0123」の繰り返しパターンを、後工程で設ける共振回路の長辺に重なる位置に、膜厚約2μmで形成した。   On the anchor layer 15, a print 8 was printed using red ink. For the print 8, a repetitive pattern of “TP0123” was formed by screen printing at a film thickness of about 2 μm at a position overlapping the long side of a resonance circuit provided in a subsequent process.

次に、共振周波数が28MHzの共振回路17を以下のように形成した。コイル3及び下部コンデンサ電極4を、銀インク(東洋紡株式会社製)を用いて、平均膜厚約20μmとなるように、スクリーン印刷により形成した。コイル3のパターンは、6巻からなる略長方形のパターンで、コイル3の外側の接続部分3aにおいて、縦1.4mm×横20mmの下部コンデンサ電極4と接続する。コイル3の内側の接続部分3bは、ジャンパー線を介して、上部コンデンサ電極6と接続している。   Next, a resonance circuit 17 having a resonance frequency of 28 MHz was formed as follows. The coil 3 and the lower capacitor electrode 4 were formed by screen printing using silver ink (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) so as to have an average film thickness of about 20 μm. The pattern of the coil 3 is a substantially rectangular pattern consisting of 6 turns, and is connected to the lower capacitor electrode 4 of 1.4 mm length × 20 mm width at the connection portion 3 a outside the coil 3. The connection portion 3b inside the coil 3 is connected to the upper capacitor electrode 6 via a jumper wire.

下部コンデンサ電極4、コイル3の内側の接続部分3bの一部、後工程で設けるジャンパー線7の下部には、誘電層5を形成した。1回のスクリーン印刷により平均膜厚約15μmを印刷し、2回の印刷で平均膜厚30μmの誘電層5を形成した。誘電層5の材料としては、熱硬化性高透明レジスト(株式会社アサヒ化学研究所製)を用いた。なお、下部コンデンサ電極4を覆う部分は、下部コンデンサ電極4の四辺より、それぞれ外側に1mm大きい形状により誘電層5を設けた。   A dielectric layer 5 was formed on the lower capacitor electrode 4, a part of the connection part 3 b inside the coil 3, and the lower part of the jumper wire 7 provided in a later step. An average film thickness of about 15 μm was printed by one screen printing, and a dielectric layer 5 having an average film thickness of 30 μm was formed by two printings. As a material of the dielectric layer 5, a thermosetting highly transparent resist (manufactured by Asahi Chemical Research Co., Ltd.) was used. The portion covering the lower capacitor electrode 4 was provided with a dielectric layer 5 having a shape 1 mm larger than the four sides of the lower capacitor electrode 4.

誘電層5の上には、上部コンデンサ電極6とジャンパー線7とを、銀インク(東洋紡株式会社製)を用いて、平均膜厚約20μmとなるように、スクリーン印刷により形成した。一部露出しているコイル3の内側の接続部分3bと上部コンデンサ電極6とを、ジャンパー線7により接続することにより、共振回路17を作製した。   On the dielectric layer 5, the upper capacitor electrode 6 and the jumper wire 7 were formed by screen printing using silver ink (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) so as to have an average film thickness of about 20 μm. A resonance circuit 17 was produced by connecting the connection portion 3 b inside the partially exposed coil 3 and the upper capacitor electrode 6 by a jumper wire 7.

最後に、接着層9としてアクリル系粘着剤を、平均膜厚約50μmでコーティングし、剥離層10として剥離紙を添付して、封印シールAを作製した。   Finally, an acrylic pressure-sensitive adhesive was coated as the adhesive layer 9 with an average film thickness of about 50 μm, and release paper was attached as the release layer 10 to prepare a seal seal A.

[実施例2]
実施例1と同様の方法にて、封印シールBを作製した。ただし、実施例1とは、光回折層12の網点パターンのみが異なる。酢酸ビニル樹脂からなるマスク層は、レーザポーシェル版250線網点率35%のグラビア版を用いて、網点率60%で「TP0123」の文字を配置して印刷した。
[Example 2]
Seal seal B was produced in the same manner as in Example 1. However, only the halftone dot pattern of the light diffraction layer 12 is different from the first embodiment. The mask layer made of a vinyl acetate resin was printed using a gravure plate with a laser porshell plate 250 line dot ratio of 35% and a character of “TP0123” arranged at a dot ratio of 60%.

(比較例)
比較例として、封印シールCを作製した。ただし、実施例1および2との相違点は、光回折層12に網点パターンがないことである。
(Comparative example)
As a comparative example, a seal seal C was produced. However, the difference from Examples 1 and 2 is that the light diffraction layer 12 does not have a halftone dot pattern.

(光学効果確認)
作製した封印シール上の光学回折の効果を目視で確認したところ、実施例1、2で作製した封印シールA、Bともに、回折構造による光学効果を確認することができた。観測した光回折層の網点の直径サイズは、約45μm、ピッチは約101μmであった。また、封印シールBにおいては、網点濃度差による「TP0123」の文字を確認することができた。「TP0123」の文字を形成している部分の網点の直径サイズは、約75μmであった。
(Optical effect confirmation)
When the optical diffraction effect on the produced seal was visually confirmed, the optical effect of the diffractive structure could be confirmed in both of the seals A and B produced in Examples 1 and 2. The diameter size of the halftone dots of the observed light diffraction layer was about 45 μm, and the pitch was about 101 μm. In the seal sticker B, the characters “TP0123” due to the dot density difference could be confirmed. The diameter of the halftone dot in the part forming the characters “TP0123” was about 75 μm.

(機械検知試験)
封印シールの共振タグとしての通信性能を評価した。実施例1、2で作製した封印シールA、Bともに、検知器(AIMEX製:周波数28MHzの電気的検知)を用いて共振回路の応答を検知することができた。しかし、比較例1で作製した封印シールCは、金属反射層による電波妨害のため検知することができなかった。
(Machine detection test)
The communication performance as a resonance tag of the seal was evaluated. Both the seals A and B produced in Examples 1 and 2 were able to detect the response of the resonant circuit using a detector (AIMEX: electrical detection at a frequency of 28 MHz). However, the seal seal C produced in Comparative Example 1 could not be detected due to radio wave interference by the metal reflection layer.

(剥離試験)
アクリル板に貼り付けた封印シールを手で剥がしたところ、封印シールA、Bともに、部分的に光回折層および共振回路がアクリル板に残り、目視で破壊されたことが確認できた。また、検知器(AIMEX製:周波数28MHzの電気的検知)でも検知不能になり、封印シールが破壊されたことが明らかに確認できた。
(Peel test)
When the seal seal affixed to the acrylic plate was peeled off by hand, it was confirmed that both the seal seals A and B partially left the optical diffraction layer and the resonance circuit on the acrylic plate and were visually destroyed. Moreover, it became impossible to detect even with a detector (AIMEX: electrical detection at a frequency of 28 MHz), and it was clearly confirmed that the seal was broken.

1 封印シール
2 基材
3 コイル
4 下部コンデンサ電極
5 誘電層
6 上部コンデンサ電極
7 ジャンパー線
8 背景印刷部
9 接着層
10 剥離層
11 パターン状接着層
12 光回折層
13 回折形成層
14,16 金属反射層
15 アンカー層
17 共振回路
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Sealing seal 2 Base material 3 Coil 4 Lower capacitor electrode 5 Dielectric layer 6 Upper capacitor electrode 7 Jumper wire 8 Background printing part 9 Adhesion layer 10 Peeling layer 11 Pattern-like adhesion layer 12 Light diffraction layer 13 Diffraction formation layer 14,16 Metal reflection Layer 15 Anchor layer 17 Resonant circuit

Claims (8)

電気的な検知を行うための、コイルとコンデンサとからなる共振回路を有する封印シールであって、
前記基材の一方の面上に脆性処理層とアンカー層とを有し、
前記脆性処理層と前記アンカー層との間に光回折層を有し、
前記コイルと前記コンデンサの下部電極とが前記アンカー層上に形成され、前記コンデンサは、前記下部電極、前記下部電極を覆う誘電層、および該誘電層上の上部電極により構成され、
前記光回折層は、回折形成層と金属反射層を含み、前記金属反射層は、離間した複数領域の網点パターンで形成されていることを特徴とする封印シール。
A sealing seal having a resonance circuit composed of a coil and a capacitor for electrical detection,
Having a brittle treatment layer and an anchor layer on one side of the substrate;
Having a light diffraction layer between the brittle treatment layer and the anchor layer;
The coil and a lower electrode of the capacitor are formed on the anchor layer, and the capacitor includes the lower electrode, a dielectric layer covering the lower electrode, and an upper electrode on the dielectric layer,
The sealing seal according to claim 1, wherein the light diffraction layer includes a diffraction formation layer and a metal reflection layer, and the metal reflection layer is formed by a plurality of spaced halftone dot patterns.
前記光回折層の網点パターンは、50〜110μmの一定のピッチで、直径が30μm以上かつピッチ長さの70%以下の大きさの均一な丸形状からなる主要素が、離間して配置されていることを特徴とする請求項1に記載の封印シール。   The halftone dot pattern of the light diffraction layer has a uniform pitch of 50 to 110 μm, a main element made of a uniform round shape with a diameter of 30 μm or more and a size of 70% or less of the pitch length, which is arranged apart. The sealing seal according to claim 1, wherein 前記光回折層の網点パターンは、前記主要素の直径サイズより30%以上大きくかつピッチ長さより小さい均一な丸形状からなる第2要素が、前記主要素の一部に、集合体として配置されていることを特徴とする請求項2に記載の封印シール。   In the halftone dot pattern of the light diffraction layer, second elements having a uniform round shape that is 30% or more larger than the diameter size of the main element and smaller than the pitch length are arranged as an aggregate in a part of the main element. The sealing seal according to claim 2, wherein 前記第2要素の集合体は、目視により文字または幾何学模様を認識できるように形成されていることを特徴とする請求項3に記載の封印シール。   4. The seal according to claim 3, wherein the assembly of the second elements is formed so that a character or a geometric pattern can be recognized visually. 前記脆性処理層は、前記封印シールを被着体に貼付するための接着層の接着力より強い接着力を有するパターン状の接着層であることを特徴とする請求項1ないし4に記載の封印シール。   5. The sealing according to claim 1, wherein the brittle treatment layer is a patterned adhesive layer having an adhesive strength stronger than that of an adhesive layer for attaching the seal seal to an adherend. seal. 前記回折形成層は、前記封印シールを被着体に貼付するための接着層の接着力より弱い接着力を有することを特徴とする請求項1ないし5に記載の封印シール。   6. The sealing seal according to claim 1, wherein the diffraction forming layer has an adhesive strength weaker than an adhesive strength of an adhesive layer for attaching the sealing seal to an adherend. 前記コイル、前記下部電極および前記上部電極は、導電性インキにより形成されていることを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載の封印シール。   The seal seal according to any one of claims 1 to 6, wherein the coil, the lower electrode, and the upper electrode are formed of conductive ink. 前記コイルおよび/または前記下部電極の一部と重なるように印字がなされていることを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載の封印シール。   The seal seal according to any one of claims 1 to 7, wherein printing is performed so as to overlap a part of the coil and / or the lower electrode.
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