JP2016524325A - 少なくとも1種のiii−v族材料を含有する基板または層を研磨するための化学機械研磨(cmp)組成物を使用する方法 - Google Patents
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Abstract
1種または複数のIII−V族材料を含有する基板または層を研磨するための化学機械研磨(CMP)組成物を使用する方法であって、化学機械研磨(CMP)組成物が以下の構成成分:(A)2〜6の範囲のpHにおいて−15mV以下の負のゼータ電位を有する表面修飾シリカ粒子(B)(i)トリアゾール環にアニールされた芳香環を有さない置換および非置換トリアゾール、(ii)ベンゾイミダゾール、(iii)2個以上のカルボキシル基を有するアミノ酸、脂肪族カルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択されるキレート化剤、ならびに(iv)アクリル酸、およびこれらのそれぞれの塩のホモポリマーおよびコポリマーからなる群から選択される1種または複数の成分、(C)水(D)任意に、1種または複数の他の成分を含み、組成物のpHが2〜6の範囲である、方法が記載される。
Description
本発明は、2〜6の範囲のpHにおいて−15mV以下の負のゼータ電位を有する表面修飾シリカ粒子、および本明細書で以下に定義される、1種または複数の添加剤(B)を含む化学機械研磨組成物を使用する方法に関する。本発明はまた、前記化学機械研磨(CMP)組成物の存在下における基板または層の化学機械研磨を含む半導体素子を製造する方法に関する。
半導体産業において、化学機械研磨は、半導体ウェハ等の先端的な光通信、微小電気機器およびマイクロエレクトロニクスの材料および素子の製造に適用される公知の技術である。
半導体産業で使用される材料および素子を製造する間に、CMPは、表面を平坦化するために使用される。CMPは、研磨する表面の平面性を実現するために、化学的作用および機械的作用の相互作用を利用する。化学的作用は、CMP組成物またはCMPスラリーとも称される化学組成物によって提供される。機械的作用は通常、典型的には、研磨する表面上に押圧され、可動プラテン上に取り付けられる研磨パッドによって実施される。プラテンの動きは通常、直線的、回転的または軌道的である。
典型的なCMP法工程において、回転ウェハホルダーは、研磨するウェハを研磨パッドと接触させる。CMP組成物は通常、研磨するウェハと研磨パッドの間に適用される。
最新技術において、表面修飾シリカ粒子を含むCMP組成物の存在下のCMP法は、公知であり、例えば、以下の参考文献に記載されている。
WO2006/028759A2には、IC素子上での金属配線形成の工程に使用される、基板を研磨/平坦化するための水性スラリー組成物が記載されている。前記スラリーは、二酸化ケイ素研磨粒子を含み、前記研磨粒子は、アルミネート、スタンネート、ジンケートおよびプラメートからなる群から選択されるメタレートアニオンでアニオン修飾/ドープされており、それによって、前記研磨粒子に高い負の表面電荷をもたらし、前記スラリー組成物の安定性を向上させる。
EP2533274A1には、(A)スルホ基およびその塩からなる群から選択される少なくとも1個の官能基を含むシリカ粒子、および(B)酸性化合物を含む、化学機械研磨水性分散体が開示されている。
本発明の目的
本発明の目的の1つは、特に、III−V族材料、具体的にはGaAsおよびInP基板の化学機械研磨のためのCMP組成物およびCMP法を使用する方法を提供することであり、CMP組成物およびCMP法は、トランジスタ、詳細には、nMOSトランジスタを形成するためのIC製造ラインの初期工程(FEOL)で使用され、改良された研磨性能、特に、
(i)III−V族材料、例えばGaAsおよび/またはInPの高い材料研磨速度(MRR)、
(ii)異なるIII−V族材料の間の調整可能な選択性(即ち、前記異なるIII−V族材料の材料研磨速度の間の高い比率)、例えば、InPに対するGaAsの高い選択性、
(iii)CMP工程の後の、III−V族材料、例えばGaAsおよび/またはInPの高い表面品質、
(iv)安全な操作、ならびに有害な副生成物、例えば、GaAsおよび/またはInPを研磨する場合の有毒ガスAsH3および/またはPH3の最小限までの低減、または
(v)(i)、(ii)、(iii)および(iv)の組合せ
を示す。
本発明の目的の1つは、特に、III−V族材料、具体的にはGaAsおよびInP基板の化学機械研磨のためのCMP組成物およびCMP法を使用する方法を提供することであり、CMP組成物およびCMP法は、トランジスタ、詳細には、nMOSトランジスタを形成するためのIC製造ラインの初期工程(FEOL)で使用され、改良された研磨性能、特に、
(i)III−V族材料、例えばGaAsおよび/またはInPの高い材料研磨速度(MRR)、
(ii)異なるIII−V族材料の間の調整可能な選択性(即ち、前記異なるIII−V族材料の材料研磨速度の間の高い比率)、例えば、InPに対するGaAsの高い選択性、
(iii)CMP工程の後の、III−V族材料、例えばGaAsおよび/またはInPの高い表面品質、
(iv)安全な操作、ならびに有害な副生成物、例えば、GaAsおよび/またはInPを研磨する場合の有毒ガスAsH3および/またはPH3の最小限までの低減、または
(v)(i)、(ii)、(iii)および(iv)の組合せ
を示す。
詳細には、前記方法は、16nm未満の性能を有する高移動度素子中へのIII−V族材料の集積化を可能にすることが求められていた。
さらに、CMP法は、適用することが容易であり、必要とする工程ができるだけ少ないことが求められていた。
本発明の第1の態様は、1種または複数のIII−V族材料を含有する基板または層を研磨するための化学機械研磨(CMP)組成物を使用する方法であって、化学機械研磨(CMP)組成物が以下の構成成分:
(A)2〜6の範囲のpHにおいて−15mV以下の負のゼータ電位を有する表面修飾シリカ粒子
(B)
(i)トリアゾール環にアニールされた芳香環を有さない置換および非置換トリアゾール、
(ii)ベンゾイミダゾール、
(iii)2個以上のカルボキシル基を有するアミノ酸、脂肪族カルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択されるキレート化剤、
ならびに
(iv)アクリル酸、およびこれらのそれぞれの塩のホモポリマーおよびコポリマー
からなる群から選択される1種または複数の成分、
(C)水
(D)任意に1種または複数の他の成分
を含み、
組成物のpHが2〜6の範囲である、方法に関する。
(A)2〜6の範囲のpHにおいて−15mV以下の負のゼータ電位を有する表面修飾シリカ粒子
(B)
(i)トリアゾール環にアニールされた芳香環を有さない置換および非置換トリアゾール、
(ii)ベンゾイミダゾール、
(iii)2個以上のカルボキシル基を有するアミノ酸、脂肪族カルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択されるキレート化剤、
ならびに
(iv)アクリル酸、およびこれらのそれぞれの塩のホモポリマーおよびコポリマー
からなる群から選択される1種または複数の成分、
(C)水
(D)任意に1種または複数の他の成分
を含み、
組成物のpHが2〜6の範囲である、方法に関する。
好ましくは、1種、少なくとも1種またはすべてのIII−V族材料は、GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlAs、AlN、InP、InAs、InSb、InGaAs、InAlAs、AlGaAs、GaAlN、GaInN、InGaAlAs、InGaAsP、InGaP、AlInP、GaAlSb、GaInSb、GaAlAsSb、およびGaInAsSbからなる群から選択される。
本発明の他の態様によれば、本明細書で上記または下記に定義されている化学機械研磨(CMP)組成物の存在下で、1種または複数のIII−V族材料を含有する基板または層を化学機械研磨する工程を含む半導体素子を製造する方法が提供される。好ましくは、1種、少なくとも1種またはすべてのIII−V族材料は、GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlAs、AlN、InP、InAs、InSb、InGaAs、InAlAs、AlGaAs、GaAlN、GaInN、InGaAlAs、InGaAsP、InGaP、AlInP、GaAlSb、GaInSb、GaAlAsSb、およびGaInAsSbからなる群から選択される。
本発明の方法によって製造することができる半導体素子は、単一の個別素子として製造されるもの、またはウェハ上に製造され、相互接続されたいくつかの素子で構成される集積回路(IC)として製造されるものであり得る。半導体素子は、2端末素子、例えばダイオード、3端末素子、例えばバイポーラトランジスタ、4端末素子、例えばホール効果センサ、または多端末素子であり得る。好ましくは、前記半導体素子は、多端末素子である。多端末素子は、集積回路およびマイクロプロセッサとしての論理素子、またはランダムアクセスメモリ(RAM)、リードオンリーメモリ(ROM)および相変化ランダムアクセスメモリ(PCRAM)としての記憶素子であり得る。好ましくは、前記半導体素子は、多端末論理素子である。特に、前記半導体素子は、集積回路またはマイクロプロセッサである。
好ましい実施形態は、特許請求の範囲および本明細書で説明される。好ましい実施形態の組合せは、本発明の範囲内にあるものと理解される。
半導体素子は、本発明の方法によって製造することができる。前記方法は、本明細書で上記または下記に定義されたCMP組成物の存在下で、1種または複数のIII−V族材料を含有する基板または層(好ましくは層)の化学機械研磨を好ましくは含む。
III−V族材料が層の形状を有する場合、層に含まれているすべてのIII−V族材料の含量は、対応する層の、好ましくは90質量%超、より好ましくは95質量%超、最も好ましくは98質量%超、特に99質量%超、例えば99.9質量%超である。III−V族材料は、少なくとも1種の13族元素(Al、Ga、Inを含めて)および少なくとも1種の15族元素(N、P、As、Sbを含めて)からなる材料である。「13族」および「15族」という用語は、化学元素の周期律表中の族を命名するための最新のIUPAC勧告を表す。好ましくは、前記III−V族材料は、GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlAs、AlN、InP、InAs、InSb、InGaAs、InAlAs、AlGaAs、GaAlN、GaInN、InGaAlAs、InGaAsP、InGaP、AlInP、GaAlSb、GaInSb、GaAlAsSb、またはGaInAsSbである。より好ましくは、前記III−V族材料は、GaN、GaP、GaAs、GaSb、InP、InAs、InSb、InGaAs、またはInAlAsである。最も好ましくは、前記III−V族材料は、GaN、GaP、GaAs、GaAs、InP、またはInAsである。特に、前記III−V族材料は、GaAs(ヒ化ガリウム)および/またはInP(リン化インジウム)である。
本発明で上記または下記に定義されているCMP組成物は、1種または複数のIII−V族材料を含有する基板または層(好ましくは層)の化学機械研磨のために、好ましくは、1種または複数のIII−V族材料を含有する層の化学機械研磨のために使用される。III−V族材料が層の形状を有する場合、層中に含まれているすべてのIII−V族材料の含量は、対応する層の、好ましくは90質量%超、より好ましくは95質量%超、最も好ましくは98質量%超、特に99質量%超、例えば99.9質量%超である。好ましくは、前記III−V族材料は、GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlAs、AlN、InP、InAs、InSb、InGaAs、InAlAs、AlGaAs、GaAlN、GaInN、InGaAlAs、InGaAsP、InGaP、AlInP、GaAlSb、GaInSb、GaAlAsSb、またはGaInAsSbである。より好ましくは、前記III−V族材料は、GaN、GaP、GaAs、GaSb、InP、InAs、InSb、InGaAs、またはInAlAsである。最も好ましくは、前記III−V族材料は、GaN、GaP、GaAs、GaAs、InP、またはInAsである。特に、前記III−V族材料は、GaAs(ヒ化ガリウム)および/またはInP(リン化インジウム)である。
本発明により使用されるCMP組成物は、下記のように、構成成分(A)、(B)、および(C)水および任意に他の構成成分(D)を含む。
構成成分(A):2〜6の範囲のpHにおいて−15mV以下の負のゼータ電位を有する表面修飾シリカ粒子
表面修飾シリカ粒子は、−15mVより負の、好ましくは−25mVより負の、最も好ましくは−30mVより負のゼータ電位を有する。
表面修飾シリカ粒子は、−15mVより負の、好ましくは−25mVより負の、最も好ましくは−30mVより負のゼータ電位を有する。
表面修飾シリカ粒子は、粒子の表面の変化の結果として安定化されたシリカ粒子、好ましくはコロイダルシリカ粒子である。表面修飾シリカ粒子は、好ましくは、非晶質であり、凝集しておらず、したがって典型的には、相互に架橋されていない分離した球体の形態で存在し、表面上にヒドロキシル基を含む。コロイダルシリカ粒子は、ケイ酸塩のイオン交換、またはゾル−ゲル技術(例えば、金属アルコキシドの加水分解もしくは縮合、または沈殿した酸化ケイ素水和物の解膠等)の当技術分野で公知の方法によって得られる。
好ましくは、2〜6の範囲のpHにおいて−15mV以下の負のゼータ電位を有する構成成分(A)の表面修飾シリカ粒子は、メタレートイオンでアニオン修飾されたまたはスルホン酸で修飾されたシリカ粒子である。
酸性条件下で極めて安定である、スルホン酸で修飾された水性アニオン性シリカゾルが、例えばWO2010734542A1に開示されている。この場合、スルホン酸で修飾された水性アニオン性シリカゾルは、スルホン酸基に化学的に変換することができる官能基を有するシランカップリング剤を、コロイダルシリカに添加し、次いで官能基をスルホン酸基に変換する方法によって得られる。
本明細書で使用される、「メタレートイオンでアニオン修飾された」という用語は、WO2006/028759A2で説明されているように、詳細には、メタレートイオン(即ち、M(OH)4 −)が、Si(OH)4部位に置き換えてシリカ粒子の表面に取り込まれ、恒久的な負の電荷を生じさせるシリカ粒子を表す。
好ましくは、2〜6の範囲のpHにおいて−15mV以下の負のゼータ電位を有する構成成分(A)の表面修飾シリカ粒子は、アルミネート、スタンネート、ジンケート、およびプラメートからなる群から選択されるメタレートイオンでアニオン修飾されたシリカ粒子である。最も好ましくは、2〜6の範囲のpHにおいて−15mV以下の負のゼータ電位を有する構成成分(A)の表面修飾シリカ粒子は、アルミネートでアニオン修飾されたシリカ粒子である。このような表面修飾シリカ粒子は、例えばWO2006/7028759A2に開示されている。
通常、粒子(A)は、本発明により使用されるCMP組成物中に様々な量で含有されている。好ましくは、(A)の量は、それぞれの場合本発明により使用される組成物の総質量に対して、30質量%(それぞれの場合質量%は、「質量による百分率」を表す)以下、より好ましくは5質量%以下、最も好ましくは3質量%以下、特に好ましくは2.5質量%以下、例えば1.5質量%以下である。好ましくは、(A)の量は、それぞれの場合本発明により使用される組成物の総質量に対して、少なくとも0.1質量%、特に少なくとも0.4質量%、例えば1質量%である。
通常、粒子(A)は、様々な粒径分布で含有することができる。粒子(A)の粒径分布は、単峰性または多峰性であり得る。多峰性粒径分布の場合、二峰性が好ましいことが多い。本発明のCMP法の間に、再現が容易な特性プロファイルおよび再現が容易な条件を得るために、(A)に対して単峰性粒径分布が好ましい。単峰性粒径分布を有することが、(A)に対して最も好ましい。
表面修飾シリカの平均粒径は、好ましくは1〜200nm、好ましくは5〜140nm、最も好ましくは10〜100nmの範囲である。本明細書で使用される「粒径」という用語は、動的光散乱技術、レーザー拡散回折技術、超遠心分析技術等の標準的な粒子分粒計測器および方法で測定した場合の粒子の平均直径を表す。別の指示がなければ、動的光散乱技術が好ましい。
シリカ粒子のDIN ISO 9277に従って測定されたBET表面は、広い範囲内で変化し得る。シリカ粒子のBET表面は、好ましくは1〜500m2/gの範囲、より好ましくは5〜350m2/gの範囲、最も好ましくは10〜300m2/gの範囲、特に50〜250m2/gの範囲、例えば100〜220m2/gの範囲である。
構成成分(B):
本発明により使用されるCMP組成物は、構成成分(B)として
(i)トリアゾール環にアニールされた芳香環を有さない置換および非置換トリアゾール、
(ii)ベンゾイミダゾール、
(iii)2個以上のカルボキシル基を有するアミノ酸、脂肪族カルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択されるキレート化剤、
ならびに
(iv)アクリル酸、およびこれらのそれぞれの塩のホモポリマーおよびコポリマー
からなる群から選択される1種または複数の成分を含有する。
本発明により使用されるCMP組成物は、構成成分(B)として
(i)トリアゾール環にアニールされた芳香環を有さない置換および非置換トリアゾール、
(ii)ベンゾイミダゾール、
(iii)2個以上のカルボキシル基を有するアミノ酸、脂肪族カルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択されるキレート化剤、
ならびに
(iv)アクリル酸、およびこれらのそれぞれの塩のホモポリマーおよびコポリマー
からなる群から選択される1種または複数の成分を含有する。
好ましくは、トリアゾール環にアニールされた芳香環を有さない、構成成分(B)の1種または少なくとも1種の置換および非置換トリアゾールは、1,2,3−トリアゾール、置換1,2,3−トリアゾール、1,2,4−トリアゾール、および置換1,2,4−トリアゾールからなる群から選択される。より好ましくは、トリアゾール環にアニールされた芳香環を有さない、構成成分(B)の少なくとも1種の前記(i)トリアゾールは、1個または2個以上の置換基を有し、1個の置換基または2個以上の置換基の少なくとも1個が、
− 置換および非置換の、分岐または非分岐アルキル、好ましくはC1〜C6アルキル、例えばメチル
− 非置換および置換アリール、好ましくはフェニル、例えばメチルフェニル
− 非置換およびN−置換アミノ、好ましくはN(R)2(Rは、H、C1〜C4アルキルである)、例えばNH2
− ハロゲン、好ましくはCl、Br、例えばCl
− シアノ、
− 置換および非置換の、分岐または非分岐アルコキシ、好ましくはC1〜C6アルコキシ、例えばC2アルコキシ
− カルボキシル、
− カルボキシレート、
− 置換および非置換ビニル、
− 置換および非置換アリル
からなる群から選択される、1,2,3−トリアゾールまたは1,2,4−トリアゾールである。
− 置換および非置換の、分岐または非分岐アルキル、好ましくはC1〜C6アルキル、例えばメチル
− 非置換および置換アリール、好ましくはフェニル、例えばメチルフェニル
− 非置換およびN−置換アミノ、好ましくはN(R)2(Rは、H、C1〜C4アルキルである)、例えばNH2
− ハロゲン、好ましくはCl、Br、例えばCl
− シアノ、
− 置換および非置換の、分岐または非分岐アルコキシ、好ましくはC1〜C6アルコキシ、例えばC2アルコキシ
− カルボキシル、
− カルボキシレート、
− 置換および非置換ビニル、
− 置換および非置換アリル
からなる群から選択される、1,2,3−トリアゾールまたは1,2,4−トリアゾールである。
さらに好ましくは、トリアゾール環にアニールされた芳香環を有さない、構成成分(B)の少なくとも1種の置換および非置換トリアゾールは、
− 1位および/または4位において置換された1,2,3−トリアゾール
または
− 1位および/または3位において置換された1,2,4−トリアゾール
である。
− 1位および/または4位において置換された1,2,3−トリアゾール
または
− 1位および/または3位において置換された1,2,4−トリアゾール
である。
最も好ましくは、トリアゾール環にアニールされた芳香環を有さない、構成成分(B)の少なくとも1種の置換および非置換トリアゾールは、1,2,4−トリアゾールおよび3−アミノ−1,2,4−トリアゾールからなる群から選択される。
好ましくは、2個以上のカルボキシル基を有するアミノ酸、脂肪族カルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択される、前記(iii)の少なくとも1種のキレート化剤は、
− 酢酸、およびそのそれぞれの塩、
− プロピオン酸、およびそのそれぞれの塩、
− グリコール酸、およびそのそれぞれの塩、
− クエン酸、マロン酸、シュウ酸、コハク酸、乳酸、酒石酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸、2個以上のカルボキシル基を有する他の脂肪族カルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択される、2個以上のカルボキシル基を有する脂肪族カルボン酸、
− ポリアミノ酢酸、ポリアミノプロピオン酸、他のポリアミノカルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩
からなる群から選択される。
− 酢酸、およびそのそれぞれの塩、
− プロピオン酸、およびそのそれぞれの塩、
− グリコール酸、およびそのそれぞれの塩、
− クエン酸、マロン酸、シュウ酸、コハク酸、乳酸、酒石酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸、2個以上のカルボキシル基を有する他の脂肪族カルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択される、2個以上のカルボキシル基を有する脂肪族カルボン酸、
− ポリアミノ酢酸、ポリアミノプロピオン酸、他のポリアミノカルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩
からなる群から選択される。
最も好ましいキレート化剤は、グリコール酸、クエン酸、マロン酸、シュウ酸、コハク酸、ニトリロ三酢酸(NTA−H3)、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択される。
好ましくは、アクリル酸、およびそのそれぞれの塩の少なくとも1種の前記(iv)ホモポリマーおよびコポリマーは、アクリル酸、およびそのそれぞれの塩のホモポリマーの群から選択される。
通常、構成成分(B)の成分を、本発明のCMP組成物中に様々な量で含有することができる。
好ましくは、(i)トリアゾール環にアニールされた芳香環を有さないトリアゾールの総量は、それぞれの場合本発明により使用される組成物の総質量に対して、3質量%(それぞれの場合質量%は、「質量百分率」を表す)以下、より好ましくは2質量%以下、最も好ましくは1質量%以下、特に好ましくは0.5質量%以下である。好ましくは、(i)トリアゾール環にアニールされた芳香環を有さないトリアゾールの総量は、それぞれの場合本発明により使用される組成物の総質量に対して、少なくとも0.01質量%、特に少なくとも0.05質量%、例えば0.1質量%であり、
ならびに/または
(ii)ベンゾイミダゾールの総量は、それぞれの場合本発明により使用される組成物の総質量に対して、3質量%(それぞれの場合質量%は、「質量百分率」を表す)以下、より好ましくは2質量%以下、最も好ましくは1質量%以下、特に好ましくは0.5質量%以下である。好ましくは、(ii)ベンゾイミダゾールの総量は、それぞれの場合本発明により使用される組成物の総質量に対して、少なくとも0.01質量%、特に少なくとも0.05質量%、例えば0.1質量%であり、
ならびに/または
(iii)2個以上のカルボキシル基を有するアミノ酸、脂肪族カルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択されるキレート化剤の総量は、それぞれの場合本発明により使用される組成物の総質量に対して、3質量%(それぞれの場合質量%は、「質量百分率」を表す)以下、より好ましくは2質量%以下、最も好ましくは1質量%以下、特別好ましくは0.5質量%以下である。好ましくは、(iii)2個以上のカルボキシル基を有するアミノ酸、脂肪族カルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択されるキレート化剤の総量は、それぞれの場合本発明により使用される組成物の総質量に対して、少なくとも0.01質量%、特に少なくとも0.05質量%、例えば0.1質量%であり、
ならびに/または
(iv)アクリル酸、およびこれらのそれぞれの塩のホモポリマーおよびコポリマーの総量は、それぞれの場合本発明により使用される組成物の総質量に対して、3質量%(それぞれの場合質量%は、「質量百分率」を表す)以下、より好ましくは2質量%以下、最も好ましくは1質量%以下、特に好ましくは0.5質量%以下である。好ましくは、(iv)アクリル酸、およびこれらのそれぞれの塩のホモポリマーおよびコポリマーの総量は、それぞれの場合本発明により使用される組成物の総質量に対して、少なくとも0.01質量%、特に少なくとも0.05質量%、例えば0.1質量%である。
ならびに/または
(ii)ベンゾイミダゾールの総量は、それぞれの場合本発明により使用される組成物の総質量に対して、3質量%(それぞれの場合質量%は、「質量百分率」を表す)以下、より好ましくは2質量%以下、最も好ましくは1質量%以下、特に好ましくは0.5質量%以下である。好ましくは、(ii)ベンゾイミダゾールの総量は、それぞれの場合本発明により使用される組成物の総質量に対して、少なくとも0.01質量%、特に少なくとも0.05質量%、例えば0.1質量%であり、
ならびに/または
(iii)2個以上のカルボキシル基を有するアミノ酸、脂肪族カルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択されるキレート化剤の総量は、それぞれの場合本発明により使用される組成物の総質量に対して、3質量%(それぞれの場合質量%は、「質量百分率」を表す)以下、より好ましくは2質量%以下、最も好ましくは1質量%以下、特別好ましくは0.5質量%以下である。好ましくは、(iii)2個以上のカルボキシル基を有するアミノ酸、脂肪族カルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択されるキレート化剤の総量は、それぞれの場合本発明により使用される組成物の総質量に対して、少なくとも0.01質量%、特に少なくとも0.05質量%、例えば0.1質量%であり、
ならびに/または
(iv)アクリル酸、およびこれらのそれぞれの塩のホモポリマーおよびコポリマーの総量は、それぞれの場合本発明により使用される組成物の総質量に対して、3質量%(それぞれの場合質量%は、「質量百分率」を表す)以下、より好ましくは2質量%以下、最も好ましくは1質量%以下、特に好ましくは0.5質量%以下である。好ましくは、(iv)アクリル酸、およびこれらのそれぞれの塩のホモポリマーおよびコポリマーの総量は、それぞれの場合本発明により使用される組成物の総質量に対して、少なくとも0.01質量%、特に少なくとも0.05質量%、例えば0.1質量%である。
好ましくは、本発明により使用される化学機械研磨(CMP)組成物は、構成成分(B)の可能性のある成分として上に特定された(i)から(iv)の群の3種または4種すべての化合物を同時には含まない、即ち、本発明により使用される好ましい化学機械研磨(CMP)組成物は、以下の群:
(i)トリアゾール環にアニールされた芳香環を有さない置換および非置換トリアゾール、
(ii)ベンゾイミダゾール、
(iii)2個以上のカルボキシル基を有するアミノ酸、脂肪族カルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択されるキレート化剤、
ならびに
(iv)アクリル酸、およびこれらのそれぞれの塩のホモポリマーおよびコポリマー
の3種または4種すべての化合物を同時には含まない。
(i)トリアゾール環にアニールされた芳香環を有さない置換および非置換トリアゾール、
(ii)ベンゾイミダゾール、
(iii)2個以上のカルボキシル基を有するアミノ酸、脂肪族カルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択されるキレート化剤、
ならびに
(iv)アクリル酸、およびこれらのそれぞれの塩のホモポリマーおよびコポリマー
の3種または4種すべての化合物を同時には含まない。
より好ましくは、本発明により使用される化学機械研磨(CMP)組成物は、前記群の2種以上の化合物を同時には含まない。
好ましくは、構成成分(B)のすべての成分の総量は、それぞれの場合本発明の組成物の総質量に対して、3質量%(それぞれの場合質量%は、「質量百分率」を表す)以下、より好ましくは2質量%以下、最も好ましくは1質量%以下、特に好ましくは0.5質量%以下である。好ましくは、構成成分(B)の総量は、それぞれの場合本発明の組成物の総質量に対して、少なくとも0.01質量%、特に少なくとも0.05質量%、例えば0.1質量%である。
任意の他の成分(D):
本発明により使用されるCMP組成物は、前記CMP組成物の使用目的の特定の要求事項に応じて他の成分を含んでもよい。好ましくは、構成成分(D)の1種または少なくとも1種またはすべての他の成分は、酸化剤、2〜6の範囲のpHにおいて−15mV以下の負のゼータ電位を有する表面修飾シリカ粒子とは異なる研磨材、安定剤、界面活性剤、減摩剤、緩衝物質からなる群から選択される。
本発明により使用されるCMP組成物は、前記CMP組成物の使用目的の特定の要求事項に応じて他の成分を含んでもよい。好ましくは、構成成分(D)の1種または少なくとも1種またはすべての他の成分は、酸化剤、2〜6の範囲のpHにおいて−15mV以下の負のゼータ電位を有する表面修飾シリカ粒子とは異なる研磨材、安定剤、界面活性剤、減摩剤、緩衝物質からなる群から選択される。
本発明により使用されるCMP組成物は、1種または複数のタイプの酸化剤(D1)、好ましくは1種から2種のタイプの酸化剤(D1)、より好ましくは1種のタイプの酸化剤(D1)をさらに任意に含むことができる。酸化剤(D1)は、構成成分(A)、(B)および(C)水と異なる。一般に、酸化剤は、研磨する基板またはその層のうちの1つを酸化することが可能な化合物である。好ましくは、(D1)は過酸化剤である。より好ましくは、(D1)は、過酸化物、過硫酸塩、過塩素酸塩、過臭素酸塩、過ヨウ素酸塩、過マンガン酸塩、またはこれらの誘導体である。最も好ましくは、(D1)は、過酸化物または過硫酸塩である。特に、(D1)は過酸化物である。例えば、(D1)は過酸化水素である。
存在する場合、酸化剤(D1)を、本発明により使用されるCMP組成物中に様々な量で含有することができる。好ましくは、(D1)の量は、それぞれの場合本発明により使用されるCMP組成物の総質量に対して、20質量%(それぞれの場合質量%は、「質量百分率」を表す)以下、より好ましくは10質量%以下、最も好ましくは5質量%以下、特に3.5質量%以下、例えば2.7質量%以下である。好ましくは、(D1)の量は、それぞれの場合本発明により使用される組成物の総質量に対して、少なくとも0.01質量%、より好ましくは少なくとも0.08質量%、最も好ましくは少なくとも0.4質量%、特に少なくとも0.75質量%、例えば少なくとも1質量%である。過酸化水素が酸化剤(D1)として使用される場合、(D1)の量は、それぞれの場合本発明により使用されるCMP組成物の総質量に対して、好ましくは1質量%〜5質量%、より好ましくは2質量%〜3.5質量%、例えば2.5質量%である。
本発明により使用されるCMP組成物は、1種または複数の殺生物剤(D2)、例えば1種の殺生物剤をさらに任意に含有することができる。殺生物剤(D2)は、構成成分(A)、(B)、(C)および構成成分(D)の成分(D1)と異なる。一般に、殺生物剤は、化学的または生物学的手段によって、任意の有害生物体を抑止し、無害にし、または抑制する作用を発揮する化合物である。好ましくは、(D2)は、第四級アンモニウム化合物、イソチアゾリノン系化合物、N−置換ジアゼニウムジオキシド、またはN−ヒドロキシ−ジアゼニウムオキシド塩である。より好ましくは、(D2)は、N−置換ジアゼニウムジオキシド、またはN−ヒドロキシ−ジアゼニウムオキシド塩である。
存在する場合、殺生物剤(D2)を、本発明により使用されるCMP組成物中に様々な量で含有することができる。存在する場合、(D2)の量は、それぞれの場合対応する本発明により使用されるCMP組成物の総質量に対して、好ましくは0.5質量%(それぞれの場合質量%は、「質量百分率」を表す)以下、より好ましくは0.1質量%以下、最も好ましくは0.05質量%以下、特に0.02質量%以下、例えば0.008質量%以下である。存在する場合、(D2)の量は、それぞれの場合対応する本発明により使用されるCMP組成物の総質量に対して、好ましくは少なくとも0.0001質量%、より好ましくは少なくとも0.0005質量%、最も好ましくは少なくとも0.001質量%、特に少なくとも0.003質量%、例えば少なくとも0.006質量%である。
安定性および研磨性能等の、本発明により使用されるCMP組成物の特性は、対応する組成物のpHにより決まり得る。本発明により使用されるCMP組成物のpH値は、2〜6、好ましくは2.2〜6、より好ましくは2.5〜5.8、さらに好ましくは2.5〜5.5、いっそう好ましくは2.8〜5.5、特別好ましくは3〜5.2、特に好ましくは3〜5、より特に好ましくは3.2〜5、特に3.5〜4.5の範囲、例えば4である。
本発明により使用されるCMP組成物は、1種または複数の緩衝物質(D3)をさらに任意に含有することができる。緩衝物質(D3)は、構成成分(A)、(B)、(C)ならびに構成成分(D)の成分(D1)および(D2)と異なる。一般に、緩衝物質(D3)は、所要の値に調整されたpH値を有するように、本発明により使用されるCMP組成物に添加する化合物である。好ましい緩衝物質は、無機酸、カルボン酸、アミン塩基、アルカリ水酸化物、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシドを含めたアンモニウム水酸化物である。例えば、緩衝物質(D3)は、硝酸、硫酸、アンモニア、水酸化ナトリウム、または水酸化カリウムである。
存在する場合、緩衝物質(D3)を、本発明により使用されるCMP組成物中に様々な量で含有することができる。存在する場合、(D3)の量は、それぞれの場合対応する組成物の総質量に対して、好ましくは10質量%(それぞれの場合質量%は、「質量百分率」を表す)以下、より好ましくは2質量%以下、最も好ましくは0.5質量%以下、特に0.1質量%以下、例えば0.05質量%以下である。存在する場合、(D3)の量は、それぞれの場合本発明により使用されるCMP組成物の総質量に対して、好ましくは少なくとも0.0005質量%、より好ましくは少なくとも0.005質量%、最も好ましくは少なくとも0.025質量%、特に少なくとも0.1質量%、例えば少なくとも0.4質量%である)。
本発明により使用されるCMP組成物はまた、必要に応じて、限定するものではないが安定剤、界面活性剤、減摩剤等を含めて、1種または複数の他の添加剤を含んでもよい。前記他の添加剤は、構成成分(A)(B)、(C)、ならびに構成成分(D)の成分(D1)、(D2)および(D3)と異なる。前記他の添加剤は、例えば、CMP組成物中に一般的に使用され、したがって当業者には公知のものである。このような添加物は、例えば、分散体を安定化し、または研磨性能、または異なる層の間の選択性を改良する。
存在する場合、前記他の添加剤を、本発明により使用されるCMP組成物中に様々な量で含有することができる。好ましくは、前記他の添加剤の総量は、それぞれの場合対応するCMP組成物の総質量に対して、10質量%(それぞれの場合質量%は、「質量百分率」を表す)以下、より好ましくは2質量%以下、最も好ましくは0.5質量%以下、特に0.1質量%以下、例えば0.01質量%以下である。好ましくは、前記他の添加剤の総量は、それぞれの場合対応する本発明により使用されるCMP組成物の総質量に対して、少なくとも0.0001質量%、より好ましくは少なくとも0.001質量%、最も好ましくは少なくとも0.008質量%、特に少なくとも0.05質量%、例えば少なくとも0.3質量%である。
好ましくは、化学機械研磨(CMP)組成物は、2〜6の範囲のpHにおいて−15mV以下の負のゼータ電位を有する上で定義された表面修飾シリカ粒子と異なるいずれの研磨材も含まない。
特に好ましいものは、化学機械研磨(CMP)組成物を使用する方法であって、
− 2〜6の範囲のpHにおいて−15mV以下の負のゼータ電位を有する構成成分(A)の表面修飾シリカ粒子は、アルミネートでアニオン修飾されたまたはスルホン酸で修飾されたシリカ粒子であり、
− 構成成分(B)は、
− 1,2,4−トリアゾールおよび3−アミノ−1,2,4−トリアゾールからなる群から選択される置換および非置換トリアゾール、
− ベンゾイミダゾール、
− グリコール酸、クエン酸、マロン酸、シュウ酸、コハク酸、ニトリロ三酢酸(NTA−H3)、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択されるキレート化剤、
ならびに
− アクリル酸のホモポリマー
からなる群から選択される1種または複数の成分を含む方法である。
− 2〜6の範囲のpHにおいて−15mV以下の負のゼータ電位を有する構成成分(A)の表面修飾シリカ粒子は、アルミネートでアニオン修飾されたまたはスルホン酸で修飾されたシリカ粒子であり、
− 構成成分(B)は、
− 1,2,4−トリアゾールおよび3−アミノ−1,2,4−トリアゾールからなる群から選択される置換および非置換トリアゾール、
− ベンゾイミダゾール、
− グリコール酸、クエン酸、マロン酸、シュウ酸、コハク酸、ニトリロ三酢酸(NTA−H3)、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択されるキレート化剤、
ならびに
− アクリル酸のホモポリマー
からなる群から選択される1種または複数の成分を含む方法である。
特に好ましいものは、化学機械研磨(CMP)組成物を使用する方法であって、
− (A)2〜6の範囲のpHにおいて−15mV以下の負のゼータ電位を有する表面修飾シリカ粒子の総量は、化学機械研磨(CMP)組成物の総質量に対して、0.1質量%〜30質量%の範囲であり、
ならびに/または
− トリアゾール環にアニールされた芳香環を有さないトリアゾールの総量は、化学機械研磨(CMP)組成物の総質量に対して、0.01〜3.0質量%の範囲であり、
ならびに/または
− ベンゾイミダゾールの総量は、化学機械研磨(CMP)組成物の総質量に対して、0.01〜3.0質量%の範囲であり、
ならびに/または
− 2個以上のカルボキシル基を有するアミノ酸、脂肪族カルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択されるキレート化剤の総量は、化学機械研磨(CMP)組成物の総質量に対して、0.01〜3.0質量%の範囲であり、
ならびに/または
− アクリル酸、ならびにこれらのそれぞれの塩のホモポリマーおよびコポリマーの総量は、化学機械研磨(CMP)組成物の総質量に対して、0.01〜3.0質量%の範囲である、方法である。
− (A)2〜6の範囲のpHにおいて−15mV以下の負のゼータ電位を有する表面修飾シリカ粒子の総量は、化学機械研磨(CMP)組成物の総質量に対して、0.1質量%〜30質量%の範囲であり、
ならびに/または
− トリアゾール環にアニールされた芳香環を有さないトリアゾールの総量は、化学機械研磨(CMP)組成物の総質量に対して、0.01〜3.0質量%の範囲であり、
ならびに/または
− ベンゾイミダゾールの総量は、化学機械研磨(CMP)組成物の総質量に対して、0.01〜3.0質量%の範囲であり、
ならびに/または
− 2個以上のカルボキシル基を有するアミノ酸、脂肪族カルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択されるキレート化剤の総量は、化学機械研磨(CMP)組成物の総質量に対して、0.01〜3.0質量%の範囲であり、
ならびに/または
− アクリル酸、ならびにこれらのそれぞれの塩のホモポリマーおよびコポリマーの総量は、化学機械研磨(CMP)組成物の総質量に対して、0.01〜3.0質量%の範囲である、方法である。
上で定義された好ましい本発明により使用されるCMP組成物は、上記のように2〜6のpHを有するものと理解される。
CMP組成物を製造する方法は、一般に公知である。これらの方法を本発明により使用されるCMP組成物の製造に適用してもよい。これは、上記構成成分(A)および(B)、ならびに適切な場合は構成成分(D)の任意の他の成分を、水に分散または溶解し、場合により、本明細書で上記または下記に定義されている緩衝物質(D3)の添加を介して、pH値を調整することによって実施することができる。この目的ために、通例のおよび標準的な混合方法ならびに撹拌槽、高せん断インペラ、超音波ミキサー、ホモジナイザーノズルまたは向流ミキサー等の混合装置を使用することができる。
本発明により使用されるCMP組成物は、好ましくは、水(C)中に、粒子(A)を分散すること、成分(B)を分散および/または溶解すること、ならびに/または他の成分(D)を任意に分散および/または溶解することによって製造される。
研磨する方法は、一般に公知であり、集積回路を有するウェハの製造におけるCMPのために通常使用される条件下の方法および装置により実施することができる。研磨方法を実施できる装置には制限は存在しない。
当技術分野で公知のように、CMP法のための典型的な装置は、研磨パッドで被覆された回転プラテンから構成されている。また、軌道研磨機も使用されている。ウェハは、保持部またはチャック上に取り付けられる。処理されるウェハの面は、研磨パッドに対面している(単一面研磨法)。保持リングは、ウェハを水平位置に固定する。
保持部の下に、より大きな直径のプラテンが、また通常水平に位置し、研磨されるウェハの表面と平行な面をもたらす。プラテン上の研磨パッドは、平坦化工程の間ウェハ表面と接触する。
マテリアルロスを生じさせるために、ウェハは研磨パッド上に押圧される。保持部およびプラテンの両方を、通常、保持部およびプラテンから垂直に延びるそれぞれの軸のまわりで回転させる。回転する保持部の軸は、回転するプラテンに対して固定された位置に留まっていてもよく、またはプラテンに対して水平に往復してもよい。保持部の回転方向は、典型的には、必ずしもそうとは限らないが、プラテンの回転方向と同じである。保持部およびプラテンに関する回転速度は、必ずしもそうとは限らないが、通常異なる値に設定される。本発明により使用されるCMP法の間に、本発明により使用されるCMP組成物は、通常、連続的なストリームまたは滴下の方法で研磨パッド上に適用される。通常、プラテンの温度は、10〜70℃の温度に設定される。
ウェハ上への荷重は、しばしばバッキングフィルムと呼ばれる軟質パッドで被覆された、例えば鋼製の平坦な板によってかけることができる。より先端的な装置が使用される場合は、空気または窒素の圧力で取り付けられる柔軟な膜が、ウェハをパッドに押圧する。このような膜の保持部は、硬質の研磨パッドが使用される場合の低ダウンフォース法に対して好ましい。その理由は、ウェハ上のダウン圧力の分布が、硬質プラテン設計を有する保持部のものと比較してより均一であるからである。ウェハ上の圧力分布を制御するオプションを有する保持部も、本発明により使用することができる。これらは、通常、ある程度まで互いに独立に装填することができるいくつかの異なるチャンバーを考慮して設計される。
さらなる詳細のために、WO2004/063301A1、特に、図2と共に、16頁、パラグラフ[0036]から18頁、パラグラフ[0040]を参照されたい。
本発明のCMP法によって、特に研磨する基板または層が1種または複数のIII−V族材料を含有する場合、優れた機能を有する、誘電体層を含む集積回路を有するウェハを得ることができる。
本発明により使用されるCMP組成物は、すぐに使用できるスラリーとしてCMP法に使用することができ、CMP組成物は、長い保存寿命を有し、長い期間にわたって安定な粒径分布を示す。したがって、CMP組成物は、取扱いおよび貯蔵することが容易である。CMP組成物は、特に、有毒ガスAsH3およびPH3の最小の発生と合わせて、調整可能な選択性および高い表面品質に関して優れた研磨性能を示す。その構成成分の量は、最小値に維持されているので、本発明により使用されるCMP組成物および本発明によるCMP法を、コスト効果の高い方法で使用または適用することができる。
実施例および比較例
CMPの実験のための一般的手順
ベンチトップ研磨機による評価のために、以下のパラメーターを選択した:
手順の設定:Phoenix 4000研磨機;台/保持部 200/150rpm;ダウンフォース 2.5psi(17238Pa);スラリー流量 18mL/min;パッド IC 1000;時間 1分。
CMPの実験のための一般的手順
ベンチトップ研磨機による評価のために、以下のパラメーターを選択した:
手順の設定:Phoenix 4000研磨機;台/保持部 200/150rpm;ダウンフォース 2.5psi(17238Pa);スラリー流量 18mL/min;パッド IC 1000;時間 1分。
新規なタイプのCMP組成物をCMPに使用する前に、数回押し流すことによって、パッドを慣らした。研磨速度の測定のために、少なくとも3個のウェハを研磨し、これらの実験から得られたデータを平均する。
CMP組成物を現地調達所において撹拌する。
研磨対象:構成されていないGaAsウェハおよび構成されていないInPウェハ。
CMP組成物によって研磨された2inch(=5.08cm)のディスクに対するGaAs材料研磨速度(以下に「GaAs−MRR」と呼ぶ)を、Sartorius LA310 S天秤を用いて、CMP前後の被覆されたウェハまたはブランケットディスク(blanket disc)の質量の差異によって決定する。研磨される材料の密度(GaAsについて5.32g/cm3)および表面積が分っているので、質量の差異は、膜厚の差異に変換することができる。膜厚の差異を研磨時間で除算すると、材料研磨速度の値が得られる。InP材料研磨速度(以下に「InP−MRR」と呼ぶ)も、同様に決定した。
GaAs層およびInP層の表面品質を、原子間力顕微鏡法(AFM)(Dimension FastScan、Bruker)により、走査方式としてTapping Mode(商標)(=断続的コンタクトモード)を用いて、スキャン面積5μm×5μmで、研磨した基板上の二乗平均平方根粗さ(RMS)によって測定した。
スラリー製造の標準的な手順:
それぞれ表1〜6に示した量の構成成分(A)、(B)および(D1)を、脱イオン水に分散または溶解した。pHを10%KOH水溶液またはHNO3(0.1%〜10%)溶液をスラリーに添加することによって調整する。pH値をpH電極(Schott、blue line、pH 0〜14/−5〜100℃/3mol/L塩化ナトリウム)で測定する。
スラリー製造の標準的な手順:
それぞれ表1〜6に示した量の構成成分(A)、(B)および(D1)を、脱イオン水に分散または溶解した。pHを10%KOH水溶液またはHNO3(0.1%〜10%)溶液をスラリーに添加することによって調整する。pH値をpH電極(Schott、blue line、pH 0〜14/−5〜100℃/3mol/L塩化ナトリウム)で測定する。
ゼータ電位の測定
シリカ粒子(A)の電気泳動移動度およびゼータ電位を測定するために、Malvern社製標準Zetasizer Nano装置を使用した。移動度を測定する前に、試料を10mmol/lKCl溶液で500倍に希釈した。測定を23℃で実施した。
シリカ粒子(A)の電気泳動移動度およびゼータ電位を測定するために、Malvern社製標準Zetasizer Nano装置を使用した。移動度を測定する前に、試料を10mmol/lKCl溶液で500倍に希釈した。測定を23℃で実施した。
実施例1〜14および比較例1〜15
本発明による比較例1〜8および12ならびに実施例1〜14において、粒子(A)は、典型的な粒径15nm、典型的な表面積200m2/gおよびpH4においてゼータ電位−40mVを有する、アルミネートで修飾されたアニオン性コロイダルシリカ、例えばLevasil(登録商標)200A(Akzo Nobel製)である。
本発明による比較例1〜8および12ならびに実施例1〜14において、粒子(A)は、典型的な粒径15nm、典型的な表面積200m2/gおよびpH4においてゼータ電位−40mVを有する、アルミネートで修飾されたアニオン性コロイダルシリカ、例えばLevasil(登録商標)200A(Akzo Nobel製)である。
比較例9において、粒子(A)は、典型的な粒径85nm、典型的な表面積35m2/gおよびpH=4におけるゼータ電位−8mVを有する酸性コロイダルシリカ、例えばNexSil(商標)125Aである。
比較例10および13〜15において、粒子(A)は、典型的な粒径85nm、典型的な表面積35m2/gおよびpH=4においてゼータ電位−10mVを有するカリウムで安定化されたコロイダルシリカ粒子、例えばNexSil(商標)125Kである。
比較例11において、シリカ粒子(A)は、平均一次粒径(d1)35nmおよび平均二次粒径(d2)70nmおよびpH=4におけるゼータ電位+2mVを有する繭形コロイダルシリカ粒子、例えばFuso PL3(扶桑化学工業株式会社製)である。
本発明による実施例1および2において、添加剤(B)は1,2,4−トリアゾールである。
本発明による実施例3から5において、添加剤(B)は3−アミノ−1,2,4−トリアゾールである。
本発明による実施例6および7において、添加剤(B)はベンゾイミダゾールである。
比較例2において、添加剤(B)はベンゾトリアゾールである。
比較例3において、添加剤(B)はトリルトリアゾールである。
比較例4から8において、添加剤(B)は、BASF SE製の市販されている腐食抑制剤である。
本発明による実施例8において、添加剤(B)はクエン酸である。
本発明による実施例9において、添加剤(B)はマロン酸である。
本発明による実施例10において、添加剤(B)はシュウ酸である。
本発明による比較例14および実施例11において、添加剤(B)は、ニトリロ三酢酸、例えばTrilon(登録商標)AS(BASF SE)である。
本発明による比較例15および実施例12において、添加剤(B)は、質量平均モル質量Mw 100000g/molを有するポリアクリル酸、例えばBASF SE製Sokalan(登録商標)PA 80 Sである。
本発明による実施例13において、添加剤(B)はグリコール酸である。
本発明による実施例14において、添加剤(B)はコハク酸である。
比較例12において、添加剤(B)はグリシンである。
表1および2に列挙された、構成成分(A)、(B)および(D1)を含有する水性分散体を製造し、表1および2にまとめられた研磨性能データを測定した。
表1において、シリカ粒子(A)のゼータ電位の研磨結果への影響が示されている。−15mVより高いゼータ電位を有するタイプのシリカ(NexSil 125K、Nexsil 125A%、Fuso PL3)の場合、InPの材料研磨速度は低下する。
他の実施例において、シリカ粒子(A)と添加剤(B)のいくつかの組合せを試験した。
表2および3は、添加剤(B)を含まないか、またはベンゾトリアゾール(BTA WO2006/028759を参照されたい)もしくはトリルトリアゾールを含む比較例1から3に比較して、トリアゾール環にアニールされた芳香環を有さない、置換および非置換トリアゾールからなる群から選択される添加剤(B)は、GaAsおよびInPの両方の材料研磨速度MRRの増加をもたらすことを示す。さらに、特にGaAsに関して、表面仕上がりの有意の改良が観察される。比較例1を含めて、すべての組成物は、研磨後のInP基板上で0.5nm未満のRMSを示す。添加剤(B)1,2,4−トリアゾール、3−アミノ−1,2,4−トリアゾールおよびベンゾイミダゾールの濃度を増加すると、GaAs研磨の増加をもたらし、一方InP研磨速度はわずかに減少する。より高い添加剤濃度において、研磨された基板上でより低いRMSが測定される。対照的に、比較例2および3は、より疎水性である、トリアゾール環にアニールされた芳香環を有するトリアゾール(ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール)は、GaAsおよびInPの両方の研磨速度を大きく低下させ、表面仕上がりの劣化を引き起こすことを示す。
さらなる比較例を、市販されている、Nを含有するまたはCOO−を含有する腐食抑制剤で実施した(表4を参照されたい)。すべての場合、GaAsまたはInPに関してどちらも研磨速度の抑制が観察され、GaAs上で粗い表面仕上がりが得られた。
2個以上のカルボキシル基を有するアミノ酸、脂肪族カルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択されるキレート化剤が、添加剤(B)として使用される場合、InP研磨の強い抑制が観察され、それに応じて選択性(MRR(GaAs)/MRR(InP)比)が増加した。121の最も高いMRR(GaAs)/MRR(InP)比が、0.1質量%のクエン酸の添加により実現した。
アルミネートで修飾されたシリカの代わりに、粒子(A)としてカリウムで安定化されたコロイダルシリカが使用されることを除いて、本発明による比較例1および実施例11および12に対応する比較例13から15(表6)に示されるように、この効果は、2〜6の範囲のpHにおいて−15mV以下の負のゼータ電位を有する表面修飾シリカ粒子(A)と、2個以上のカルボキシル基を有するアミノ酸、脂肪族カルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択されるキレート化剤との組合せに特有である。カリウムで安定化されたコロイダルシリカの場合、添加剤(B)の存在は、それぞれの場合、GaAsに対して材料研磨速度の抑制をもたらし、選択性MRR(GaAs)/MRR(InP)の低下をもたらす。
Claims (15)
- 1種または複数のIII−V族材料を含有する基板または層を研磨するための化学機械研磨(CMP)組成物を使用する方法であって、化学機械研磨(CMP)組成物が以下の構成成分:
(A)2〜6の範囲のpHにおいて−15mV以下の負のゼータ電位を有する表面修飾シリカ粒子、
(B)
(i)トリアゾール環にアニールされた芳香環を有さない置換および非置換トリアゾール、
(ii)ベンゾイミダゾール、
(iii)2個以上のカルボキシル基を有するアミノ酸、脂肪族カルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択されるキレート化剤、
ならびに
(iv)アクリル酸、およびこれらのそれぞれの塩のホモポリマーおよびコポリマー
からなる群から選択される1種または複数の成分、
(C)水、
(D)任意に、1種または複数の他の成分
を含み、
組成物のpHが2〜6の範囲である、方法。 - 1種、少なくとも1種またはすべてのIII−V族材料が、GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlAs、AlN、InP、InAs、InSb、InGaAs、InAlAs、AlGaAs、GaAlN、GaInN、InGaAlAs、InGaAsP、InGaP、AlInP、GaAlSb、GaInSb、GaAlAsSb、およびGaInAsSbからなる群から選択される、請求項1に記載の使用方法。
- 2〜6の範囲のpHにおいて−15mV以下の負のゼータ電位を有する構成成分(A)の表面修飾シリカ粒子が、メタレートイオンでアニオン修飾されたまたはスルホン酸で修飾されたシリカ粒子である、請求項1または2に記載の使用方法。
- 2〜6の範囲のpHにおいて−15mV以下の負のゼータ電位を有する構成成分(A)の表面修飾シリカ粒子が、アルミネート、スタンネート、ジンケート、およびプラメートからなる群から選択されるメタレートイオンでアニオン修飾されたシリカ粒子である、請求項1から3のいずれか一項に記載の使用方法。
- 2〜6の範囲のpHにおいて−15mV以下の負のゼータ電位を有する構成成分(A)の表面修飾シリカ粒子が、アルミネートでアニオン修飾されたシリカ粒子である、請求項1から4のいずれか一項に記載の使用方法。
- トリアゾール環にアニールされた芳香環を有さない、構成成分(B)の1種または少なくとも1種の置換および非置換トリアゾールが、1,2,3−トリアゾール、置換1,2,3−トリアゾール、1,2,4−トリアゾール、および置換1,2,4−トリアゾールからなる群から選択される、請求項1から5のいずれか一項に記載の使用方法。
- トリアゾール環にアニールされた芳香環を有さない、構成成分(B)の少なくとも1種の置換および非置換トリアゾールが、それぞれのトリアゾールが1個または2個以上の置換基を有し、1個の置換基または2個以上の置換基の少なくとも1個が、
置換および非置換の、分岐または非分岐アルキル、
非置換および置換アリール、
非置換およびN置換アミノ、
ハロゲン、
シアノ、
置換および非置換の、分岐または非分岐アルコキシ、
カルボキシル、
カルボキシレート、
置換および非置換ビニル、
置換および非置換アリル
からなる群から選択される、1,2,3−トリアゾールまたは1,2,4−トリアゾールである、請求項1から6のいずれか一項に記載の使用方法。 - トリアゾール環にアニールされた芳香環を有さない、構成成分(B)の少なくとも1種の置換および非置換トリアゾールが、
1位および/または4位において置換された1,2,3−トリアゾール
または
1位および/または3位において置換された1,2,4−トリアゾール
である、請求項1から7のいずれか一項に記載の使用方法。 - トリアゾール環にアニールされた芳香環を有さない、構成成分(B)の少なくとも1種の置換および非置換トリアゾールが、1,2,4−トリアゾールおよび3−アミノ−1,2,4−トリアゾールからなる群から選択される、請求項1から8のいずれか一項に記載の使用方法。
- 2個以上のカルボキシル基を有するアミノ酸、脂肪族カルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択される、構成成分(B)の少なくとも1種のキレート化剤が、
酢酸、およびそのそれぞれの塩、
プロピオン酸、およびそのそれぞれの塩、
グリコール酸、およびそのそれぞれの塩、
クエン酸、マロン酸、シュウ酸、コハク酸、乳酸、酒石酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸、2個以上のカルボキシル基を有する他の脂肪族カルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択される、2個以上のカルボキシル基を有する脂肪族カルボン酸、
ポリアミノ酢酸、ポリアミノプロピオン酸、他のポリアミノカルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩
からなる群から選択される、請求項1から9のいずれか一項に記載の使用方法。 - 2〜6の範囲のpHにおいて−15mV以下の負のゼータ電位を有する構成成分(A)の表面修飾シリカ粒子が、アルミネートでアニオン修飾されたまたはスルホン酸で修飾されたシリカ粒子であり、
構成成分(B)が、
1,2,4−トリアゾールおよび3−アミノ−1,2,4−トリアゾールからなる群から選択される置換および非置換トリアゾール、
ベンゾイミダゾール、
グリコール酸、クエン酸、マロン酸、シュウ酸、コハク酸、ニトリロ三酢酸(NTA−H3)、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択されるキレート化剤、
ならびに
アクリル酸のホモポリマー
からなる群から選択される1種または複数の成分を含む、請求項1から10のいずれか一項に記載の使用方法。 - (A)2〜6の範囲のpHにおいて−15mV以下の負のゼータ電位を有する表面修飾シリカ粒子の総量が、化学機械研磨(CMP)組成物の総質量に対して、0.1質量%〜30質量%の範囲であり、
ならびに/または
トリアゾール環にアニールされた芳香環を有さないトリアゾールの総量が、化学機械研磨(CMP)組成物の総質量に対して、0.01〜3.0質量%の範囲であり、
ならびに/または
ベンゾイミダゾールの総量が、化学機械研磨(CMP)組成物の総質量に対して、0.01〜3.0質量%の範囲であり、
ならびに/または
2個以上のカルボキシル基を有するアミノ酸、脂肪族カルボン酸、およびこれらのそれぞれの塩からなる群から選択されるキレート化剤の総量が、化学機械研磨(CMP)組成物の総質量に対して、0.01〜3.0質量%の範囲であり、
ならびに/または
アクリル酸、およびこれらのそれぞれの塩のホモポリマーおよびコポリマーの総量が、化学機械研磨(CMP)組成物の総質量に対して、0.01〜3.0質量%の範囲である、請求項1から11のいずれか一項に記載の使用方法。 - 化学機械研磨(CMP)組成物が構成成分(D)としての1種または複数の他の成分を含み、構成成分(D)の1種または少なくとも1種またはすべての他の成分が、酸化剤、2〜6の範囲のpHにおいて−15mV以下の負のゼータ電位を有する表面修飾シリカ粒子とは異なる研磨材、安定剤、界面活性剤、減摩剤、緩衝物質からなる群から選択される、請求項1から12のいずれか一項に記載の使用方法。
- 請求項1から13のいずれか一項に記載の化学機械研磨(CMP)組成物の存在下における1種または複数のIII−V族材料を含有する基板または層の化学機械研磨を含む、半導体素子を製造する方法。
- 1種、少なくとも1種またはすべてのIII−V族材料が、GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlAs、AlN、InP、InAs、InSb、InGaAs、InAlAs、AlGaAs、GaAlN、GaInN、InGaAlAs、InGaAsP、InGaP、AlInP、GaAlSb、GaInSb、GaAlAsSb、およびGaInAsSbからなる群から選択される、請求項14に記載の方法。
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