JP2016505812A - 位置測定システム、位置測定システムの格子及び方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[001] 本出願は、2012年11月19日出願の米国仮出願第61/728,071号の利益を主張し、その全体が参照によって本明細書に組み込まれる。
Claims (19)
- 第2オブジェクトに対する第1オブジェクトの位置を決定するように構成された位置測定システムであって、
前記第1オブジェクト上に搭載されたエンコーダヘッドと、
前記第2オブジェクト上に搭載された格子と、を備え、
前記格子が、第1方向の格子線の第1アレイ及び第2方向の格子線の第2アレイを備え、前記第1及び第2アレイに入射する測定ビームを、前記第1方向の少なくとも1つの第1回折ビーム及び前記第2方向の少なくとも1つの第2回折ビームに回折させ、前記少なくとも1つの第1回折ビームが前記第1方向の位置測定のためのものであり、前記少なくとも1つの第2回折ビームが前記第2方向の位置測定のためのものであり、
前記測定ビームが出力量を有し、前記格子が、前記少なくとも1つの第1回折ビームと前記少なくとも1つの第2回折ビームとに不均一に前記出力量を分散させるように構成される、位置測定システム。 - 前記第1アレイが第1周期と第1デューティサイクルとを備え、前記第2アレイが第2周期と第2デューティサイクルとを備え、前記第1周期と前記第2周期とが同じであり、前記第1デューティサイクルが前記第2デューティサイクルと異なる、請求項1に記載の位置測定システム。
- 前記第1方向が主要な測定方向であり、前記第2方向がサブ測定方向であり、前記格子が、前記少なくとも1つの第1回折ビームが前記少なくとも1つの第2回折ビームよりも実質的に大きな出力を有するように前記測定ビームの前記出力量を分散させるように構成される、請求項1又は2に記載の位置測定システム。
- 前記格子が、前記格子の実質的に全体の前記出力量を前記少なくとも1つの第1回折ビームと前記少なくとも1つの第2回折ビームとに不均一に分散させるように構成される、請求項1〜3のいずれか1項に記載の位置測定システム。
- 前記第1方向と前記第2方向とは互いに垂直である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の位置測定システム。
- 前記第2方向の前記第2アレイの一部が、前記第2デューティサイクルとは異なる第3デューティサイクルを備え、前記位置測定システムが前記一部に対する前記エンコーダヘッドの絶対位置を決定するように配置される、請求項1〜5のいずれか1項に記載の位置測定システム。
- 前記部分が第3周期を有し、前記第2周期と前記第3周期とが同じである、請求項6に記載の位置測定システム。
- 前記少なくとも1つの第1回折ビーム及び前記少なくとも1つの第2回折ビームが前記測定ビームの1次回折ビームである、請求項1〜7のいずれか1項に記載の位置測定システム。
- パターンを含むパターニングデバイスを支持するように構成された支持構造と、
前記パターンを基板上に投影するように構成された投影システムと、
前記基板を保持するように構成された基板ステージと、
請求項1〜8のいずれか1項に記載の位置測定システムと、を備えるリソグラフィ装置であって、
前記位置測定システムが、前記投影システムに対する前記支持構造及び前記基板ステージの一方の位置を決定するように配置される、リソグラフィ装置。 - 基準フレームを備え、前記格子が前記基板ステージ上に搭載され、前記エンコーダヘッドが前記基準フレーム上に搭載される、請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板ステージが第1表面と第2表面とを含み、前記第1表面が前記基板ステージの上側にあり、前記第2表面が前記基板ステージの下側にあり、前記第1表面が、前記基板を保持するように配置され、前記第2表面が、前記格子を保持するように配置される、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 位置測定システムのための格子であって、前記格子が、第1方向の格子線の第1アレイ及び第2方向の格子線の第2アレイを備え、前記第1及び第2アレイに入射する測定ビームを、前記第1方向の少なくとも1つの第1回折ビーム及び前記第2方向の少なくとも1つの第2回折ビームに回折させ、前記少なくとも1つの第1回折ビームが前記第1方向の位置測定に使用され、前記少なくとも1つの第2回折ビームが前記第2方向の位置測定に使用され、前記測定ビームが出力量を有し、前記格子が、前記少なくとも1つの第1回折ビームと前記少なくとも1つの第2回折ビームとに不均一に前記出力量を分散させるように構成される、格子。
- 前記第1アレイが第1周期と第1デューティサイクルとを備え、前記第2アレイが第2周期と第2デューティサイクルとを備え、前記第1周期と前記第2周期とが同じであり、前記第1デューティサイクルが前記第2デューティサイクルと異なる、請求項12に記載の格子。
- 前記第2アレイの一部が、前記第2デューティサイクルとは異なる第3デューティサイクルを備える、請求項13に記載の格子。
- 前記部分が第3周期を有し、前記第2周期と前記第3周期とが同じである、請求項14に記載の格子。
- 第2オブジェクトに対する第1オブジェクトの位置を決定する方法であって、
前記第1オブジェクト上にエンコーダヘッドを提供することと、
前記第2オブジェクト上に格子を提供することであって、前記格子が、第1方向の格子線の第1アレイ及び第2方向の格子線の第2アレイを備え、前記第1及び第2アレイに入射する測定ビームを、前記第1方向の少なくとも1つの第1回折ビーム及び前記第2方向の少なくとも1つの第2回折ビームに回折させ、前記少なくとも1つの第1回折ビームが前記第1方向の位置測定に使用され、前記少なくとも1つの第2回折ビームが前記第2方向の位置測定に使用される、提供することと、
前記エンコーダヘッドによって前記格子上に測定ビームを投影することであって、前記測定ビームが出力量を有し、前記格子が、前記少なくとも1つの第1回折ビームと前記少なくとも1つの第2回折ビームとに不均一に前記出力量を分散させるように構成される、投影することと、
前記エンコーダヘッドによって、前記少なくとも1つの第1回折ビーム及び前記少なくとも1つの第2回折ビームを受光することと、
前記少なくとも1つの第1回折ビーム及び/又は前記少なくとも1つの第2回折ビームに基づいて、前記第2オブジェクトに対する前記第1オブジェクトの位置を決定することと、を含む方法。 - 前記第1方向が主要な測定方向であり、前記第2方向がサブ測定方向であり、前記格子が、前記少なくとも1つの第1回折ビームが前記少なくとも1つの第2回折ビームよりも実質的に大きな出力を有するように前記測定ビームの出力量を分散させるように構成される、請求項16に記載の方法。
- 前記第1アレイが第1周期と第1デューティサイクルとを備え、前記第2アレイが第2周期と第2デューティサイクルとを備え、前記第1周期と第2周期とが同じであり、前記第1デューティサイクルが前記第2デューティサイクルと異なる、請求項16又は17に記載の方法。
- 前記第2方向の前記第2アレイが前記第2アレイに入射した測定ビームを測定位置で少なくとも1つの別の回折ビームに回折させ、前記少なくとも1つの別の回折ビームが前記第1方向及び/又は前記第2方向の位置測定に使用されず、
前記方法が、前記測定ビームの一部が前記少なくとも1つの別の回折ビームに回折される結果としての前記少なくとも1つの第2回折ビームの出力低下の結果としての前記測定位置を決定することによって、前記位置測定システムのゼロイングを実行することを含む、請求項16〜18のいずれか1項に記載の方法。
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