JP2016219673A - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Yi = b1・yi + b2・yi-1 + b3・yi-2 - [ a2・Yi-1 + a3・Yi-2]・・・(1)
j=2
di = Σwj・Yi+j ・・・(2)
j=-2
Di = b1・di + b2・di-1 + b3・di-2 - [ a2・Di-1 + a3・Di-2 ]・・・(3)
2…真空処理室
3…プラズマ
4…ウエハ
5…試料台
7…光ファイバ
8…光ファイバ
9…膜厚測定器
10…分光器
11…第1デジタルフィルタ
12…微分器
13…第2デジタルフィルタ
14…微分波形比較器
15…微分波形パターンデータベース
16…分光器
17…回帰分析器
21…終点判定器
22…表示器。
Claims (10)
- 真空容器内部の処理室内に処理対象のウエハを配置し当該処理室内にプラズマを形成して予め前記ウエハ上面に配置され複数の膜層を有した膜構造の処理対象の膜をエッチングするプラズマ処理方法であって、
前記膜構造が少なくとも1つの膜層を含み溝構造を有した下層の膜と前記溝構造の内側及び上端を被って上方に積層された少なくとも1つの膜層を有する上層の膜とを有したものであって、
前記下層の膜の前記溝構造の上端を露出するまで前記上層の膜をエッチングして除去する第1のステップと、前記上層の膜の前記溝構造の内側の膜層をエッチング処理する第2のステップと、前記第1のステップが終了した際の前記下層の膜の溝構造の前記内側の膜層の厚さの値を用いて前記第2のステップの終点を判定する判定ステップとを備えたプラズマ処理方法。 - 請求項1に記載のプラズマ処理方法であって、
前記第2のステップ中に前記膜構造から得られた複数の波長の干渉光の強度を用いて検出された前記溝構造の内側の前記上層の膜の前記膜層の残り膜厚さの値を用いて前記第2のステップの終点を判定する前記ステップとを備えたプラズマ処理方法。 - 請求項1また2に記載のプラズマ処理方法であって、
前記溝構造の内側の前記上層の膜の膜層が前記溝構造の上端上方の膜層と同じ材料で構成されたプラズマ処理方法。 - 請求項1乃至3の何れかに記載のプラズマ処理方法であって、
前記下層の膜の前記溝構造の上端の露出による前記プラズマの発光の変化に基づいて第1のステップの終点を判定するプラズマ処理方法。 - 請求項1乃至4の何れかに記載のプラズマ処理方法であって、
前記膜構造は前記溝構造の内側の前記膜層の反射率が当該溝構造の上端を構成する膜層の反射率より大きいプラズマ処理方法。 - 真空容器内部に配置された処理室内に配置された処理対象のウエハの上方に形成されたプラズマを用いて当該ウエハ上面に予め配置され複数膜層を有した膜構造の処理対象の膜をエッチングするプラズマ処理装置であって、
前記膜構造が少なくとも1つの膜層を含み溝構造を有した下層の膜と前記溝構造の内側及び上端を被って上方に積層された少なくとも1つの膜層を有する上層の膜とを有したものであって、
前記溝構造の上方の前記上層の膜をエッチングする第1のエッチングよる前記溝構造の上端の露出を検出する検出器と、前記溝構造の上端が露出した後に前記溝構造の内側の膜層をエッチングする第2のエッチングの終点を前記溝構造の上端の露出が検出された際の前記溝構造の内側の前記膜層の深さの値を用いて判定する判定器とを備えたプラズマ処理装置。 - 請求項6に記載のプラズマ処理装置であって、
前記第2のエッチング中の前記膜構造から得られた複数の波長の干渉光の強度を用いて前記溝構造の内側の前記上層の膜の前記膜層の残り膜厚さを検出する膜厚さ検出器と、当該膜厚検出器により検出された結果を用いて前記第2のエッチングの終点を判定する前記判定器とを備えたプラズマ処理装置。 - 請求項6また7に記載のプラズマ処理装置であって、
前記溝構造の内側の前記上層の膜の膜層が前記溝構造の上端上方の膜層と同じ材料で構成されたプラズマ処理装置。 - 請求項6乃至8の何れかに記載のプラズマ処理装置であって、
前記溝構造の上端の露出を検出する検出器は当該露出による前記プラズマの発光の変化を検出するプラズマ処理装置。 - 請求項6乃至9の何れかに記載のプラズマ処理装置であって、
前記膜構造は前記溝構造の内側の前記膜層の反射率が当該溝構造の上端を構成する膜層の反射率より大きいプラズマ処理装置。
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