JP2006114551A - 半導体素子構造およびエッチング方法 - Google Patents
半導体素子構造およびエッチング方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 GaAs基板10の上にバッファ層11、第1クラッド層12、活性層13、第2クラッド層14、エッチング終点検出層15、第3クラッド層16、中間層17およびキャップ層18が積層された半導体素子構造1において、第2層が第2クラッド層14とエッチング終点検出層15との積層構造であり、該積層構造がドライエッチングモニター用レーザ光に対して高反射率を有するように構成する。
【選択図】 図1
Description
第2層は、ドライエッチングの深さ判定のモニターに用いるレーザ光の波長に対して高反射率を有することを特徴とする半導体素子構造である。
第2−1層の層厚:(m+1/4)・λ/n21
第2−2層の層厚:(m+1/4)・λ/n22
(式中、mは0以上の整数を示す。λはドライエッチングの深さ判定のモニターに用いるレーザ光の波長を示す。n21はドライエッチングの深さ判定のモニターに用いるレーザ光に対する第2−1層の屈折率を示す。n22はドライエッチングの深さ判定のモニターに用いるレーザ光の波長に対する第2−2層の屈折率を示す。)
であり、かつ、n21<n22およびn21<n1(式中、n1はドライエッチングの深さ判定のモニターに用いるレーザ光に対する第1層の屈折率を示す。)であることを特徴とする。
波長λのレーザ光を該半導体素子構造に入射し、半導体素子構造による反射光を検出し、検出される反射光から得られる反射信号に基づいてエッチング深さおよび/またはエッチング終了の判定を特徴とするエッチング方法である。
2 半導体素子
10 GaAs基板
11 GaInPバッファ層
12 第1AlGaInPクラッド層
13 GaInP活性層
14 第2AlGaInPクラッド層
15 GaInPエッチング終点検出層
16 第3AlGaInPクラッド層
17 GaInP中間層
18 GaAsキャップ層 20 エッチングマスク
Claims (7)
- 基板上に、少なくとも第1層、第2層および第3層が順に積層されてなる半導体素子構造において、
第2層は、ドライエッチングの深さ判定のモニターに用いるレーザ光の波長に対して高反射率を有することを特徴とする半導体素子構造。 - 第2層の、ドライエッチングの深さ判定のモニターに用いるレーザ光の波長に対する反射率が30%以上であることを特徴とする請求項1記載の半導体素子構造。
- 第2層が少なくとも2つの層を含む積層構造であることを特徴とする請求項1または2記載の半導体素子構造。
- 第2層が少なくとも2つの異なる屈折率を有する層を含む積層構造であることを特徴とする請求項3記載の半導体素子構造。
- 第2層が基板側から順に少なくとも第2−1層および第2−2層を含む積層構造であって、
第2−1層の層厚:(m+1/4)・λ/n21
第2−2層の層厚:(m+1/4)・λ/n22
(式中、mは0以上の整数を示す。λはドライエッチングの深さ判定のモニターに用いるレーザ光の波長を示す。n21はドライエッチングの深さ判定のモニターに用いるレーザ光に対する第2−1層の屈折率を示す。n22はドライエッチングの深さ判定のモニターに用いるレーザ光の波長に対する第2−2層の屈折率を示す。)
であり、かつ、n21<n22およびn21<n1(式中、n1はドライエッチングの深さ判定のモニターに用いるレーザ光に対する第1層の屈折率を示す。)であることを特徴とする請求項3または4記載の半導体素子構造。 - 請求項1〜5のいずれか1つの半導体素子構造における第3層またはその一部を除去するエッチング方法であって、
波長λのレーザ光を該半導体素子構造に入射し、半導体素子構造による反射光を検出し、検出される反射光から得られる反射信号に基づいて、エッチング深さおよび/またはエッチング終了の判定をすることを特徴とするエッチング方法。 - 請求項1〜5のいずれか1つの半導体素子構造における第2層から得られる反射信号に基づいてエッチング終了の判定を行うことを特徴とする請求項6記載のエッチング方法。
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2004
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