JP2016218091A - 電気光学装置及び電子機器 - Google Patents

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Abstract

【課題】光源からの発光が色分離されて入射する異なる波長の色光束を効率的に利用可能な電気光学装置及び該電気光学装置を備えた電子機器を提供すること。【解決手段】電気光学装置としての液晶装置100は、画素Pごとに設けられ、赤色光束(R)と緑色光束(G)と青色光束(B)とが異なる入射角度で入射する集光素子としてのマイクロレンズMLと、サブ画素SB,SG,SRのそれぞれを区分して、サブ画素SGに対応する第1開口部17aとサブ画素SBに対応する第2開口部17bとサブ画素SRに対応する第3開口部17cとを構成する遮光部17と、所定の方向(X方向)における、第1開口部17aの幅をL1とし、第2開口部17bまたは第3開口部17cの幅をL2とするとき、L1<L2の関係を満たす。【選択図】図6

Description

本発明は電気光学装置及び電子機器に関する。
電気光学装置として、光源から出射した光束が互いに異なる波長域の第1、第2、第3色光束に分離され、第1色光束が入射する第1画素開口部と、第2色光束が入射する第2画素開口部と、第3色光束が入射する第3画素開口部とから構成された複数の画素を有する画像表示装置が知られている(特許文献1)。
当該画像表示装置では、所定の方向に沿って第1画素開口部を挟むように第2画素開口部と第3画素開口部とが所定のピッチ(P)で配置されている。第1色光束の集光スポットの中心は第1画素開口部内にあり、第2色光束の集光スポットの中心は第2画素開口部内にあり、第3色光束の集光スポットの中心は第3画素開口部内にある。また、所定の方向における第1色光束の集光スポットの中心と第2色光束の集光スポットの中心との間隔(Da)及び第1色光束の集光スポットの中心と第3色光束の集光スポットの中心との間隔(Db)の少なくとも一方の間隔(D)は、上記所定のピッチ(P)よりも大きく設定されている。
このような集光スポットの中心位置の設定によれば、カラーフィルターを用いずに混色が発生し難い画像表示装置を提供できるとしている。
特開2005−10382
上記特許文献1の画像表示装置によれば、光源から出射した光束は、色分離素子としての3枚のダイクロイックミラーに入射して、第1、第2、第3色光束に分離される。3枚のダイクロイックミラーからそれぞれ異なる角度で出射された第1、第2、第3色光束は、画素ごとに設けられた集光素子としてのマイクロレンズに入射する。マイクロレンズにより集光された第1色光束の主光線は第1画素開口部に対して法線方向から入射するので、第1色光束の集光スポットは第1画素開口部内に収まり易い。言い換えれば、第1画素開口部を区画する遮光部に第1色光束の集光スポットは入射し難い。これに対して、マイクロレンズにより集光された第2色光束の主光線は第2画素開口部の法線方向に対して斜め方向から第2画素開口部に入射する。第3色光束の主光線もまた第2色光束の主光線と同様に第3画素開口部の法線方向に対して斜め方向から第3画素開口部に入射する。したがって、第2色光束の集光スポット、第3色光束の集光スポットは、それぞれ対応する第2画素開口部や第3画素開口部に収まり難くなり、画素開口部間の遮光部に入射し易くなる。ゆえに、第1色光束に対して第2色光束や第3色光束が混ざる混色は起こり難くなるものの、第2画素開口部及び第3画素開口部における光の透過率は、第1画素開口部における光の透過率よりも低下することになり、表示が暗くなるという課題がある。また、第2色光束と第3色光束とが混ざり合う混色が発生するおそれがある。
加えて、表示におけるホワイトバランスを調整するため、透過率が第1画素開口部に比べて低い第2画素開口部あるいは第3画素開口部における透過率を基準として、他の画素開口部における光の実質的な透過率を調整すると、さらに表示が暗くなるおそれがあるという課題がある。
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
[適用例]本適用例に係る電気光学装置は、光源からの発光が互いに波長が異なる第1色光束、第2色光束、第3色光束に分離され、前記第1色光束が入射する第1サブ画素と、所定の方向において前記第1サブ画素に隣り合い、前記第2色光束が入射する第2サブ画素と、前記第3色光束が入射する第3サブ画素とを含む画素を備えた電気光学装置であって、前記画素ごとに設けられ、前記第1色光束、前記第2色光束、前記第3色光束のそれぞれが異なる入射角度で入射する集光素子と、前記第1サブ画素に対応する第1開口部と、前記第2サブ画素に対応する第2開口部と、前記第3サブ画素に対応する第3開口部と、をそれぞれ区分する遮光部と、を備え、前記所定の方向における、前記第1開口部の幅をL1とし、前記第2開口部または前記第3開口部の幅をL2とするとき、L1<L2の関係を満たすことを特徴とする。
本適用例によれば、所定の方向において第1開口部に隣り合う第2開口部では、第2開口部の法線方向に対して斜め方向から第2色光束が入射したとしても、第1開口部の幅L1よりも第2開口部の幅L2のほうが大きいので、第2開口部を透過する第2色光束の透過率が低下し難い。所定の方向において第1開口部に隣り合う第3開口部でも第2開口部と同様に、第3開口部を透過する第3色光束の透過率が低下し難い。すなわち、第1開口部における光の透過率に比べて、第2開口部または第3開口部における光の透過率が低下し難いので、カラーフィルターを用いずに明るいカラー表示が可能な電気光学装置を提供することができる。また、第1開口部に対して第2開口部あるいは第3開口部における透過率が低下し難いので、ホワイトバランスをとるように各サブ画素における透過率を調整しても明るいカラー表示を行うことができる。
上記適用例に記載の電気光学装置において、前記所定の方向における、前記第1開口部と前記第2開口部との間の前記遮光部の幅と、前記第1開口部と前記第3開口部との間の前記遮光部の幅とが同じであることが好ましい。
この構成によれば、所定の方向における各開口部間の遮光部の幅が同じであることから異なる色光束同士の混色が生じ難い。
上記適用例に記載の電気光学装置において、0.84<L1/L2<1.00の関係を満たすことが好ましい。
この構成によれば、第1開口部における光の透過率を第2開口部または第3開口部の透過率に比べて大幅に低下させることなく、明るいカラー表示が可能な電気光学装置を提供することができる。
上記適用例に記載の電気光学装置において、前記所定の方向における前記遮光部の幅は、前記所定の方向における前記画素の配置ピッチの7%以上16.67%以下であることが好ましい。
この構成によれば、混色の発生を抑制しつつ、各開口部における光の透過率を確保することができる。
上記適用例に記載の電気光学装置において、前記第1色光束の波長は、前記第2色光束及び前記第3色光束の波長よりも短いことが好ましい。
この構成によれば、第1開口部に入射する第1色光束の波長が第2色光束及び第3色光束の波長よりも短いので、第1開口部の幅L1を第2及び第3開口部の幅L2より小さくしても、集光素子によって集光された第1色光束は、第1開口部に収まり易い。言い換えれば、第2色光束または第3色光束を第1開口部に入射させる場合に比べて、第1開口部の幅L1を小さくでき、その分、第2開口部または第3開口部の幅を大きくすることができる。つまり、より明るいカラー表示が可能となる。
上記適用例に記載の電気光学装置において、前記第1色光束の波長をλ1とし、前記第2色光束の波長をλ2とし、前記第3色光束の波長をλ3とするとき、λ1<λ2<λ3の関係を満たし、前記所定の方向における、前記第1開口部の幅をL1とし、前記第2開口部の幅をL2とし、前記第3開口部の幅をL3とするとき、L1<L2<L3の関係を満たすことを特徴とする。
この構成によれば、各色光束の波長に準じて、所定の方向における各開口部の幅が設定されているので、各サブ画素における色光束の透過率を最適化することができ、より明るいカラー表示が可能となる。
[適用例]本適用例に係る電子機器は、光源と、前記光源からの発光を互いに波長が異なる第1色光束、第2色光束、第3色光束に分離する色分離素子と、上記適用例に記載の電気光学装置と、を備えたことを特徴とする。
本適用例によれば、明るいカラー表示が可能であって見栄えのよい電子機器を提供することができる。
電子機器としての投射型表示装置の構成を示す概略図。 (a)は液晶装置の構成を示す概略平面図、(b)は画素の構成を示す概略拡大平面図。 液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図。 (a)及び(b)は対向基板におけるマイクロレンズの配置を示す概略平面図、(b)は(a)のA−A’線で切った対向基板におけるマイクロレンズアレイの構造を示す概略断面図。 (a)は第1実施形態の画素におけるサブ画素の配置を示す平面図、(b)は従来例の画素におけるサブ画素の配置を示す平面図。 第1実施形態の液晶装置における画素の構造を示す概略断面図。 第1開口部比率及び遮光部比率と透過率との関係を示すグラフ。 第2開口部比率及び遮光部比率と透過率との関係を示すグラフ。 図7と図8とを合体させたグラフ。 遮光部比率と混色率と光源の大きさとの関係を示すグラフ。 第2実施形態の液晶装置における画素の構造を示す概略断面図。 光の波長とマイクロレンズの屈折率との関係を示すグラフ。 マイクロレンズアレイから開口部までの距離と開口部の透過率との関係を示すグラフ。 第2実施形態の画素におけるサブ画素の配置を示す平面図。
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。
<電子機器>
まず、本実施形態の電気光学装置が適用された電子機器として投射型表示装置を例に挙げ、図1を参照して説明する。図1は電子機器としての投射型表示装置の構成を示す概略図である。
図1に示すように、本実施形態の電子機器としての投射型表示装置1000は、システム光軸L0上に配置された、光源ユニット1001と、偏光変換ユニット1005と、色分離素子1010と、電気光学装置としての液晶装置100と、投射光学系としての投射レンズ1014とを含んで構成されている。
光源ユニット1001からの発光を偏光変換ユニット1005により所定の径の偏光光束に変換して色分離素子1010に入射させる。色分離素子1010は、入射した偏光光束を、波長が異なる赤色光束(R)、緑色光束(G)、青色光束(B)に分離して液晶装置100に向けてそれぞれ異なる角度で射出させる。
液晶装置100は光変調装置であって、異なる角度で入射した赤色光束(R)、緑色光束(G)、青色光束(B)のそれぞれを画像情報に基づいて光学的に変調し表示光として射出させる。射出された表示光は投射レンズ1014によって、例えばスクリーン1100などに拡大して投射される。
投射型表示装置1000は、上記各構成の配置によって、相互の構成の間に光束を導くための光学系を含んでいてもよい。例えば、偏光変換ユニット1005と、色分離素子1010との間に、上記光学系の例としてリレーレンズやミラー(反射板)などが配置されるとしてもよい。なお、各構成の配置及び上記光学系は、これに限定されるものではない。また、色光束において波長が異なるとは代表波長(輝度のピーク波長)が異なることを指す。
光源ユニット1001は、白色の発光が得られる光源1002と、口径が異なる第1コリメーターレンズ1003及び第2コリメーターレンズ1004とを含んで構成されている。光源ユニット1001は、光源1002からの発光を2つのコリメーターレンズ(コリメーター光学系)を用いて拡大して所定の径の光束とするものである。
光源1002は、点光源として扱える例えば発光ダイオード(LED)やレーザーが挙げられる。光源1002は、赤色、緑色、青色の発光が得られるLEDやレーザーを組み合わせて白色の発光を得る構成や、青色、黄色の発光が得られるLEDやレーザーを組み合わせて白色の発光を得る構成としてもよい。
偏光変換ユニット1005は、光源ユニット1001から入射する所定の径の光束を偏光方向が揃った直線偏光に変換して射出するものであり、第1レンズアレイ1006と、第2レンズアレイ1007と、偏光変換素子1008と、重畳レンズ1009とを備えている。具体的には、第1レンズアレイ1006及び第2レンズアレイ1007は、それぞれシステム光軸L0と直交する面内においてマトリックス状に配置された複数の小レンズを有する。偏光変換ユニット1005に入射した光束は、これらのレンズアレイを透過して小レンズを単位とした部分光束に分割される。部分光束は偏光変換素子1008により直線偏光に変換され、重畳レンズ1009によって重畳されて射出される。重畳レンズ1009は、重畳された直線偏光の光束(偏光光束)が後述する液晶装置100の表示領域に入射するように光学設計されている。
色分離素子1010は、例えばダイクロイックミラーを用いて構成することができる。具体的には、システム光軸L0に対して、それぞれ異なる角度で傾斜して配置された、2つのダイクロイックミラー1011,1012と、反射ミラー1013とにより色分離素子1010が構成されている。システム光軸L0上において、偏光変換ユニット1005側からダイクロイックミラー1011、ダイクロイックミラー1012、反射ミラー1013の順にだんだん傾斜角度が大きくなるように配置されている。ダイクロイックミラー1011は、システム光軸L0に対して最も小さな傾斜角度で配置され、システム光軸L0に沿って入射した偏光光束のうち波長が長い赤色光束(R)を反射し、赤色光束(R)よりも波長が短い緑色光束(G)及び青色光束(B)を透過する。ダイクロイックミラー1012は、中間の傾斜角度で配置され、緑色光束(G)を反射して、緑色光束(G)よりも波長が短い青色光束(B)を透過する。反射ミラー1013は、システム光軸L0に対して最も大きな傾斜角度で配置され、ダイクロイックミラー1012を透過した青色光束(B)を反射する。
ダイクロイックミラー1012により反射した緑色光束(G)は、液晶装置100の光の入射面に対して法線方向から液晶装置100に入射する。ダイクロイックミラー1011により反射した赤色光束(R)及び反射ミラー1013により反射した青色光束(B)は、液晶装置100の入射面の法線方向に対して所定の角度をなして液晶装置100に入射する。言い換えれば、光の入射面に対して法線方向から緑色光束(G)が入射し、法線方向に対して所定の角度をなして赤色光束(R)、青色光束(B)が液晶装置100に入射するように、色分離素子1010と、液晶装置100とが相対的に配置されている。
液晶装置100は、カラーフィルターを用いずに、互いに異なる角度で入射した赤色光束(R)、緑色光束(G)、青色光束(B)のそれぞれを光学的に有効利用して明るい表示が行えるように、画素の構造が工夫されている。液晶装置100の詳細については後述する。
このような投射型表示装置1000によれば、明るく見栄えのよい映像を投射可能である。
<電気光学装置>
次に、本実施形態の電気光学装置としての液晶装置100について、図2〜図6を参照して説明する。図2(a)は液晶装置の構成を示す概略平面図、図2(b)は画素の構成を示す概略拡大平面図、図3は液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図、図4(a)及び(b)は対向基板におけるマイクロレンズの配置を示す概略平面図、図4(b)は図4(a)のA−A’線で切った対向基板におけるマイクロレンズアレイの構造を示す概略断面図である。図5(a)は第1実施形態の画素におけるサブ画素の配置を示す平面図、図5(b)は従来例の画素におけるサブ画素の配置を示す平面図、図6は第1実施形態の液晶装置における画素の構造を示す概略断面図である。
図2(a)に示すように、本実施形態の電気光学装置としての液晶装置100は、対向配置された素子基板10及び対向基板20と、これら一対の基板によって挟持された液晶層とを有する。素子基板10の基板本体及び対向基板20の基板本体は、それぞれ透明な例えば石英基板やガラス基板が用いられている。
素子基板10は対向基板20よりも大きく、両基板は、対向基板20の外縁に沿って配置されたシール材40を介して間隔を置いて貼り合わされている。シール材40において途切れた部分が注入口41となっており、真空注入法により注入口41から上記間隔に正又は負の誘電異方性を有する液晶が注入され、封止材42を用いて注入口41が封入されている。なお、上記間隔に液晶を封入する方法は、真空注入法に限定されるものではなく、例えば、額縁状に配置されたシール材40の内側に液晶を滴下して、減圧下で素子基板10と対向基板20とを貼り合わせるODF(One Drop Fill)法を採用してもよい。
シール材40は、例えば熱硬化性又は紫外線硬化性のエポキシ樹脂などの接着剤が採用されている。シール材40には、一対の基板の上記間隔を一定に保持するためのスペーサー(図示省略)が混入されている。
シール材40の内側には、マトリックス状に配列した複数の画素Pを含む表示領域Eが設けられている。また、シール材40と表示領域Eとの間に表示領域Eを取り囲んで見切り部24が設けられている。見切り部24は、例えば遮光性の金属あるいは金属酸化物などを用いて形成された遮光膜からなる。見切り部24は、光束が入射する対向基板20側に設けられている。
素子基板10には、複数の外部接続用端子104が配列した端子部が設けられている。該端子部に沿った第1の辺部とシール材40との間にデータ線駆動回路101が設けられている。また、第1の辺部に対向する第2の辺部に沿ったシール材40と表示領域Eとの間に検査回路103が設けられている。さらに、第1の辺部と直交し互いに対向する第3及び第4の辺部に沿ったシール材40と表示領域Eとの間に走査線駆動回路102が設けられている。第2の辺部のシール材40と検査回路103との間に、2つの走査線駆動回路102を繋ぐ複数の配線105が設けられている。
これらデータ線駆動回路101、走査線駆動回路102に繋がる配線は、第1の辺部に沿って配列した複数の外部接続用端子104に接続されている。なお、検査回路103の配置はこれに限定されず、データ線駆動回路101と表示領域Eとの間のシール材40の内側に沿った位置に設けてもよい。
以降、第1の辺部に沿った方向をX方向とし、第3の辺部に沿った方向をY方向として説明する。また、対向基板20側から素子基板10側に向かう方向に沿って見ることを「平面視」または「平面的に」と言う。
図2(b)に示すように、画素Pは、X方向において中央に配置されたサブ画素SGと、X方向においてサブ画素SGに隣り合って配置された、サブ画素SBと、サブ画素SRとを有している。画素Pは平面視で正方形であり、サブ画素SR,SG,SBのそれぞれは平面視で矩形状である。サブ画素SGには、緑色光束(G)を透過させるための第1開口部17aが設けられている。サブ画素SBには、青色光束(B)を透過させるための第2開口部17bが設けられている。サブ画素SRには、赤色光束(R)を透過させるための第3開口部17cが設けられている。これらの第1開口部17a、第2開口部17b、第3開口部17cのそれぞれを囲む遮光部17が設けられている。言い換えれば、これらの第1開口部17a、第2開口部17b、第3開口部17cは、遮光部17に設けられている。これらの開口部もまた平面視で矩形状である。なお、矩形状とは長方形を指すが、角部は必ずしも直角でなく円弧であってもよい。
本実施形態では、緑色光束(G)が本発明における第1色光束に相当するものであり、青色光束(B)が本発明における第2色光束に相当するものであり、赤色光束(R)が本発明における第3色光束に相当するものである。また、サブ画素SGが本発明における第1サブ画素に相当するものであり、サブ画素SBが本発明における第2サブ画素に相当するものであり、サブ画素SRが本発明における第3サブ画素に相当するものである。
図3に示すように、液晶装置100は、少なくとも表示領域Eにおいて互いに絶縁されて直交する信号配線としての複数の走査線3a及び複数のデータ線6aと、データ線6aに沿って平行に配置された容量線3bとを有する。走査線3aが延在する方向がX方向であり、データ線6aが延在する方向がY方向である。
走査線3a、データ線6a及び容量線3bと、これらの信号線類により区分された領域に、画素電極15Rと、TFT30と、蓄積容量16とが設けられ、これらがサブ画素SRの画素回路を構成している。他のサブ画素SG、サブ画素SBも同様である。したがって、画素電極15R,15G,15Bを総称して画素電極15と呼ぶこともある。また、サブ画素SR,SG,SBを総称して単にサブ画素と呼ぶこともある。
走査線3aはTFT30のゲートに電気的に接続され、データ線6aはTFT30のソースに電気的に接続されている。画素電極15はTFT30のドレインに電気的に接続されている。
データ線6aはデータ線駆動回路101(図2参照)に接続されており、データ線駆動回路101から供給される画像信号D1,D2,D3,…,Dnをサブ画素に供給する。走査線3aは走査線駆動回路102(図2参照)に接続されており、走査線駆動回路102から供給される走査信号SC1,SC2,…,SCmを各サブ画素に供給する。
データ線駆動回路101からデータ線6aに供給される画像信号D1〜Dnは、この順に線順次で供給してもよく、互いに隣り合う複数のデータ線6a同士に対してグループごとに供給してもよい。走査線駆動回路102は、走査線3aに対して、走査信号SC1〜SCmを所定のタイミングでパルス的に線順次で供給する。
液晶装置100は、スイッチング素子であるTFT30が走査信号SC1〜SCmの入力により一定期間だけオン状態とされることで、データ線6aから供給される画像信号D1〜Dnが所定のタイミングで画素電極15に書き込まれる構成となっている。そして、画素電極15を介して液晶層50に書き込まれた所定レベルの画像信号D1〜Dnは、画素電極15と液晶層50を介して対向配置された共通電極である対向電極25との間で一定期間保持される。画像信号D1〜Dnの周波数は例えば60Hzである。
保持された画像信号D1〜Dnがリークするのを防止するため、画素電極15と対向電極25との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量16が接続されている。蓄積容量16は、TFT30のドレインと容量線3bとの間に設けられている。
なお、図2(a)に示した検査回路103には、データ線6aが接続されており、液晶装置100の製造過程において、上記画像信号を検出することで液晶装置100の動作欠陥などを確認できる構成となっているが、図3の等価回路では図示を省略している。
本実施形態における画素回路を駆動制御する周辺回路は、データ線駆動回路101、走査線駆動回路102、検査回路103を含んでいる。また、周辺回路は、上記画像信号をサンプリングしてデータ線6aに供給するサンプリング回路、データ線6aに所定電圧レベルのプリチャージ信号を上記画像信号に先行して供給するプリチャージ回路を含むものとしてもよい。
このような液晶装置100はアクティブ駆動型であって、電圧無印加状態でサブ画素の透過率が最大となるノーマリーホワイトモードや、電圧無印加状態でサブ画素の透過率が最小となるノーマリーブラックモードの光学設計が採用される。液晶装置100の光の入射側と射出側とにそれぞれ偏光素子が光学設計に応じて配置されて用いられる。なお、図1では、偏光素子の記載を省略している。
本実施形態の液晶装置100は、前述したように、色分離素子1010から互いに異なる角度で入射した赤色光束(R)、緑色光束(G)、青色光束(B)を対応するサブ画素SR,SG,SBに入射させるために集光素子としてのマイクロレンズを備えている。マイクロレンズは色光束が入射する対向基板20側において画素Pごとに設けられている。図4を参照して対向基板20におけるマイクロレンズの平面的な配置について説明する。
図4(a)に示すように、対向基板20におけるマイクロレンズMLは、平面視で正方形の画素Pの配列に対応して、X方向とY方向とにマトリックス状に配置されている。また、図4(b)に示すように、対向基板20は、基板本体21に形成された凹部21bをレンズ材料で埋めてなる複数のマイクロレンズMLを含むマイクロレンズアレイ22を有している。凹部21bすなわちレンズ面は、その底部に向かって先細りとなる半球面状に形成されている。したがって、凹部21bの底部の位置すなわちマイクロレンズMLの中心C1は、画素Pの平面的な中心と一致する。画素PのX方向及びY方向の配置ピッチをP1とすると、画素PのX方向及びY方向の長さもP1であり、マイクロレンズMLのX方向及びY方向における配置ピッチもP1である。
本実施形態では、画素Pにおいてより多くの光を取り込めるように、平面視で円形のマイクロレンズMLがX方向とY方向とにおいて一部が重なり合うように配置されている。このため、X方向とY方向とに隣り合うマイクロレンズMLの境界において直線となる陵を有している。
本実施形態におけるマイクロレンズMLの直径(半径rの2倍の値)は、画素Pの対角線の長さよりも大きく設定されている。なお、マイクロレンズMLの直径を画素Pの対角線の長さに対して同じまたは小さくなるように設定してもよい。また、マイクロレンズMLは、凹部21b(レンズ面)の形状が半球面状であることに限定されず、直線的な側面と半球面とが組み合わされた非球面レンズであってもよい。
本実施形態におけるマイクロレンズアレイ22の厚み、すなわちマイクロレンズアレイ22の底面から凹部21bの底部(レンズ面の頂部)までの長さは、マイクロレンズMLの半径rよりも大きい。
次に、図5を参照して画素Pにおけるサブ画素SR,SG,SBの配置について説明する。図5(a)は本実施形態のサブ画素SR,SG,SBの配置を示す平面図であり、図5(b)は従来例のサブ画素SR,SG,SBの配置を示す平面図である。
まず、従来例について説明する。図5(b)に示すように、従来例におけるサブ画素SR,SG,SBは、X方向において等間隔に配置されている。画素PのX方向における配置ピッチをP1とすると、サブ画素SR,SG,SBの配置ピッチPaは、P1の1/3である。サブ画素SRには開口部17dが設けられ、サブ画素SGには開口部17eが設けられ、サブ画素SBには開口部17fが設けられている。開口部17d,17e,17fは平面視で矩形状であり、大きさは同じである。遮光部17は、開口部17d,17e,17fをそれぞれ区画するように設けられている。開口部17dにおけるX方向の幅をLaとすると、他の開口部17e,17fにおけるX方向の幅もLaである。X方向において隣り合う開口部17dと開口部17eとの間の遮光部17の幅をLbとすると、同じくX方向に隣り合う開口部17eと開口部17fとの間の遮光部17の幅もLbである。また、X方向に隣り合う画素P間における開口部17fと開口部17dとの間の遮光部17の幅もLbである。なお、図示していないがY方向における同じ色同士のサブ画素の開口部の配置ピッチは一定であり、Y方向における開口部の間の遮光部17の幅も同じである。
これに対して、本実施形態では、図5(a)に示すように、X方向において画素Pの中央に配置されたサブ画素SGの第1開口部17aの幅L1は、X方向において隣り合うサブ画素SBの第2開口部17bの幅L2よりも小さい。X方向において隣り合うもう一方のサブ画素SRの第3開口部17cの幅L3は、サブ画素SBの第2開口部17bの幅L2と同じである。ゆえに、L1<L2=L3の関係となっている。X方向において隣り合う第1開口部17aと第2開口部17bとの間の遮光部17の幅をL4とすると、第1開口部17aと第3開口部17cとの間の遮光部17の幅もL4である。また、X方向に隣り合う画素Pの第3開口部17cと第2開口部17bとの間の遮光部17の幅もL4である。したがって、X方向におけるサブ画素SGとサブ画素SBとの配置ピッチをP2とすると、X方向におけるサブ画素SGとサブ画素SRとの配置ピッチP3はP2と同じである。X方向に隣り合う画素P間におけるサブ画素SBとサブ画素SRの配置ピッチP4は、サブ画素SGとサブ画素SBとの配置ピッチP2よりも大きい。ゆえに、P2=P3<P4であり、画素Pの配置ピッチP1は、P1=2×P2+P4の関係となっている。
続いて、図6を参照して本実施形態の画素の構造を説明すると共に、従来例や本実施形態における各サブ画素の色光束の透過率について説明する。図6に示すように、液晶装置100は、液晶層50を介して対向配置された素子基板10と対向基板20とを有している。
素子基板10の基板本体11上には、例えば高融点金属やその合金などからなる配線層11aが形成される。配線層11aは前述した等価回路において例えば走査線3aを構成するものである。配線層11aを覆う第1層間絶縁膜12が形成され、第1層間絶縁膜12上に各サブ画素SB,SG,SRに対応してTFT30が形成される。TFT30を覆う第2層間絶縁膜13が形成され、第2層間絶縁膜13上に配線層13aが形成される。配線層13aは前述した等価回路において例えば容量線3bやデータ線6aを構成するものである。配線層13aを覆う第3層間絶縁膜14が形成され、第3層間絶縁膜14上に、各サブ画素SB,SG,SRに対応して例えばITOなどの透明導電膜を成膜してパターニングすることにより、透光性の画素電極15B,15G,15Rがそれぞれ形成される。そして、画素電極15B,15G,15Rを覆う配向膜18が形成される。
配線層11a及び配線層13aは、平面視でTFT30と重なるように形成され、TFT30に入射する光を遮光する遮光部17として機能するものである。当該遮光部17において、画素電極15Gを有するサブ画素SGに対応した第1開口部17aが形成され、画素電極15Bを有するサブ画素SBに対応した第2開口部17bが形成され、画素電極15Rを有するサブ画素SRに対応した第3開口部17cが形成される。
対向基板20において、基板本体21に形成された複数の半球面状の凹部21bをレンズ材料で埋めて複数のマイクロレンズMLを有するマイクロレンズアレイ22が形成される。マイクロレンズアレイ22の液晶層50側の面に平坦化処理を施した後に透光性のパス層23が形成される。パス層23を覆うように例えばITOなどの透明導電膜を成膜して対向電極25が形成される。また、対向電極25を覆う配向膜26が形成される。液晶層50に接する配向膜18,26は、液晶装置100の光学設計に基づいて選択された液晶に対応して、正の誘電異方性を有する液晶(液晶分子)を略水平配向させることが可能な例えばポリイミドなどの有機樹脂材料や、負の誘電異方性を有する液晶(液晶分子)を略垂直配向させることが可能な例えば酸化シリコンなどの無機材料が用いられて形成される。なお、マイクロレンズMLは、凹部21bの形状が半球面状であることに限定されず、直線的な側面と半球面とが組み合わされた非球面レンズであってもよい。
図6に示すように、対向基板20の入射面21aに対して互いに異なる入射角度で赤色光束(R)、緑色光束(G)、青色光束(B)が入射する。画素Pごとに設けられたマイクロレンズMLに対して、緑色光束(G)は入射面21aの法線方向から入射する。マイクロレンズMLによって集光された緑色光束(G)は、液晶層50を透過して、素子基板10側においてサブ画素SGの第1開口部17a内に焦点を結ぶ。対向基板20の入射面21aの法線方向に対して斜め方向から入射しマイクロレンズMLによって集光された青色光束(B)は、液晶層50を透過して、素子基板10側においてサブ画素SBの第2開口部17b内に焦点を結ぶ。同様に、対向基板20の入射面21aの法線方向に対して斜め方向から入射しマイクロレンズMLによって集光された赤色光束(R)は、液晶層50を透過して、素子基板10側においてサブ画素SRの第3開口部17c内に焦点を結ぶ。言い換えれば、対向基板20の入射面21aに対して互いに異なる入射角度で入射した各色光束がマイクロレンズMLによって集光され、素子基板10において対応する開口部内に焦点を結ぶように、マイクロレンズML及びパス層23が光学的に設計されている。
このようなマイクロレンズML及びパス層23の光学的な設計を踏まえて、前述した従来例におけるサブ画素SR,SG,SBの配置を適用する場合、法線方向から入射した緑色光束(G)をX方向において中央に位置するサブ画素SGの開口部17eに効率よく収めることは可能である。その一方で、法線方向に対して斜め方向から入射した赤色光束(R)や青色光束(B)は、素子基板10における集光の範囲が緑色光束(G)に比べて広がることから、対応する開口部17dや開口部17fに収まりきらず遮光部17によって遮光される割合が緑色光束(G)に比べて多くなる。したがって、従来例では、サブ画素SGにおける光の透過率に比べて、サブ画素SB,SRの光の透過率が低下する。つまり、光変調装置である液晶装置100から射出される表示光が暗くなるおそれがある。また、表示光におけるホワイトバランスを調整するために、透過率が低いサブ画素SBまたはサブ画素SRを基準として、実質的にサブ画素SGを透過する緑色光束(G)の透過率を調整すると、すなわち、サブ画素SGにおける液晶層50に印加される駆動電圧を調整すると、さらに表示光が暗くなるおそれがある。
これに対して、前述した本実施形態におけるサブ画素SR,SG,SBの配置を適用する場合、X方向において画素Pの中央に位置するサブ画素SGの第1開口部17aの幅L1は、サブ画素SGに隣り合うサブ画素SBの第2開口部17bの幅L2やサブ画素SRの第3開口部17cの幅L3よりも小さい。言い換えれば、X方向において画素Pの中央に位置するサブ画素SGに隣り合うサブ画素SBの第2開口部17bの幅L2やサブ画素SRの第3開口部17cの幅L3は、サブ画素SGの第1開口部17aの幅L1よりも大きい。したがって、法線方向に対して斜め方向から入射した青色光束(B)や赤色光束(R)の素子基板10における集光の範囲が緑色光束(G)に比べて広がったとしても、対応する第2開口部17bや第3開口部17cに効率よく収めることが可能となる。言い換えれば、マイクロレンズMLによって集光された青色光束(B)や赤色光束(R)が開口部間の遮光部17によって遮光される割合を従来例に比べて小さくすることが可能である。すなわち、マイクロレンズMLによって集光された各色光束を有効に利用して明るい表示を実現できる。
また、例えば、X方向において画素Pの中央に位置する本実施形態のサブ画素SGの第1開口部17aの幅L1と、従来例のサブ画素SGの開口部17eの幅Laとの差ΔWの半分を、従来例のサブ画素SRの開口部17dとサブ画素SBの開口部17fとにそれぞれ割り当てて大きくし、サブ画素SGとの間の遮光部17の幅をLbとすると、従来例においてX方向に隣り合う画素P間におけるサブ画素SBとサブ画素SRとの間の遮光部17の幅は小さくなってしまう。つまり、青色光束(B)と赤色光束(R)のマイクロレンズMLに対する入射角度によっては、青色光束(B)と赤色光束(R)との混色が生ずる可能性が高くなる。
これに対して、本実施形態では、X方向において互いに隣り合う開口部間の遮光部17の幅L4が同じになるように、サブ画素SGに対するサブ画素SBの配置ピッチP2に対して、X方向に隣り合う画素P間におけるサブ画素SBとサブ画素SRとの配置ピッチP4を大きくしている。具体的には、P2=(L1+L2)/2+L4であり、P4=L3+L4である。L2=L1+ΔW/2、L2=L3であることから、P4=P2+ΔW/4となっている。したがって、マイクロレンズMLに対して斜め方向に入射する異なる色の色光束同士が混じり合って混色が生ずることを低減可能である。
次に、より具体的な開口部の配置の例を挙げて、サブ画素SR,SG,SBにおける好適な開口部の配置と開口部における光の透過率について、図7〜図10を参照して説明する。図7は第1開口部比率及び遮光部比率と透過率との関係を示すグラフ、図8は第2開口部比率及び遮光部比率と透過率との関係を示すグラフである。図9は図7と図8とを合体させたグラフである。図10は遮光部比率と混色率と光源の大きさとの関係を示すグラフである。
図7〜図9の透過率に係るグラフは、光学的なシミュレーションに基づいて求められたものである。まず、光学的なシミュレーションの前提となる光学条件の一例について説明する。
画素Pの1辺の長さすなわち配置ピッチP1を10μmとした。基板本体11,21は石英ガラスであって屈折率は1.46である。マイクロレンズMLの屈折率はおよそ1.72、凹部21b(レンズ面)の半径rは7.5μm、マイクロレンズアレイ22の厚みは8.0μmである。マイクロレンズMLとパス層23との境界から遮光部17(具体的には、配線層13a)までの距離はおよそ26.4μmである(図6参照)。また、光源1002の発光領域の大きさを1辺が0.3mmの正方形(□)とした(図1参照)。サブ画素SR,SG,SBにおける各開口部のY方向の長さを6μmとした。これに対して各開口部のX方向の長さ及びX方向における開口部間の遮光部17の幅を変えることによって、各開口部を透過する光の透過率(入射光に対する射出光の割合)を光学的なシミュレーションにより求めた。図7〜図9のグラフにおいて縦軸は、開口部を透過する光の透過率を示し、横軸は開口部比率を示すものである。開口部比率は、先に説明した従来例のように開口部のX方向の長さを画素Pの配置ピッチP1の1/3とした場合を「0%」として、画素Pの配置ピッチP1の1/3に対して増減した割合(%)を示すものである。遮光部比率(BM比率)は、画素Pの配置ピッチP1に対するX方向における開口部間の遮光部17の幅の割合(%)を示すものである。なお、図7と図8のグラフでは横軸における開口部比率の増減の方向を逆にしている。
図7に示すように、BM比率を6%〜15%として、第1開口部17aの開口部比率(以降、第1開口部比率という)を+1%〜−3%までそれぞれ変化させると、第1開口部17aを透過する色光束(G)の透過率は徐々に減少している。具体的には、画素Pの配置ピッチP1に対するBM比率を7%とすると、従来例における第1開口部比率は、(100−7×3)/3≒26.3%となる。従来例に対して第1開口部比率を2%減らすと24.3%となる。この場合、第1開口部比率が0%のときの透過率は95%であり、第1開口比率を2%減らしたときの透過率はおよそ92%であり、3%減少している。また、BM比率を11%とすると、従来例における第1開口部比率は、(100−11×3)/3≒22.3%となる。従来例に対して第1開口部比率を2%減らすと20.3%となる。この場合、第1開口部比率が0%のときの透過率はおよそ89%であり、第1開口部比率を2%減らしたときの透過率はおよそ84%であり、5%減少している。さらに、BM比率を15%とすると、従来例における第1開口部比率は、(100−15×3)/3≒18.3%となる。従来例に対して第1開口部比率を2%減らすと16.3%となる。この場合、第1開口部比率が0%のときの透過率はおよそ77%であり、第1開口部比率を2%減らしたときの透過率はおよそ69%であり、8%減少している。つまり、BM比率を7%から増やしつつ、第1開口部比率を一定の割合で減らすと、透過率の減少幅は増える傾向にある。
これに対して、第1開口部17aに隣り合う第2開口部17bの幅は、第1開口部17aの幅の減少分ΔWの半分であるΔW/2増加することになる。そうすると、図8に示すように、BM比率を6%〜15%として、第2開口部17bの開口部比率(以降、第2開口部比率という)を−0.5%〜+1.5%までそれぞれ変化させると、第2開口部17bを透過する色光束(B)の透過率は徐々に増加している。具体的には、画素Pの配置ピッチP1に対してBM比率を7%とすると、従来例における第2開口部比率は、(100−7×3)/3≒26.3%となる。従来例に対して第1開口部比率を2%減らして第2開口部比率を1%増やすと27.3%となる。この場合、第2開口部比率が0%のときの透過率は91%であり、第2開口部比率を1%増やしたときの透過率はおよそ92%であり、1%増える。また、BM比率を11%とすると、従来例における第2開口部比率は、(100−11×3)/3≒22.3%となる。従来例に対して第2開口部比率を同じく1%増やすと23.3%となる。この場合、第2開口部比率が0%のときの透過率が83.5%であり、第2開口部比率を1%増やしたときの透過率はおよそ85%であり、2%増える。さらに、BM比率を15%とすると、従来例における第2開口部比率は、(100−15×3)/3≒18.3%となる。従来例に対して第2開口部比率を同じく1%増やすと19.3%となる。この場合、第2開口部比率が0%のときの透過率が69%であり、第2開口部比率を1%増やしたときの透過率はおよそ73%であり、4%増える。つまり、BM比率を7%から増やしつつ第2開口部比率を一定の割合で増やすと、透過率の増加幅は増える傾向にある。言い換えれば、BM比率を増やしたとしても第2開口部比率を増やせば、第2開口部17bにおける光の透過率を改善することが可能である。
そこで、BM比率を7%、9%、11%、13%、15%として、図7に示した第1開口部17aにおける透過率の減少状態を示すグラフと、図8に示した第2開口部17bにおける透過率の増加状態を示すグラフとを重ね合わせると図9のようになる。
図7及び図8に示すように、BM比率が7%未満の例えば6%では、開口部比率を変化させても第1開口部17a、第2開口部17bの透過率はあまり変化しない。つまり、開口部比率を変えることの効果が小さい。したがって、BM比率は7%以上であることが好ましい。一方で、第1開口部比率を減少させ、第2開口部比率を増加させて第2開口部17bにおける透過率を改善したとき、理想的には第1開口部17aの透過率と第2開口部17bの透過率がほぼ同じであることが望ましい。また、改善された第2開口部17bの透過率よりも第1開口部17aの透過率が下回ったのでは、画素Pにおける総合的な透過率の改善に結びつかなくなる。
ゆえに、図9に示すように、画素Pにおける第1開口部17aと第2開口部17bとにおいて最も高い透過率が得られると考えられるBM比率7%では、第1開口部比率の最大の減少幅を−3%とすることが好ましい。BM比率が7%のとき、第1開口部比率の減少幅を−3%とすると、画素Pの配置ピッチP1に対する第1開口部比率は26.3−3=23.3%となる。このときの第2開口部比率は26.3+3/2=27.8%となる。よって、第1開口部17aの幅L1と第2開口部17bの幅L2との比(L1/L2)は、23.3%/27.8%=0.838≒0.84となる。
次に、BM比率と混色との関係について、図10を参照して説明する。
画素Pの配置ピッチP1に対するBM比率は大きいほど波長が異なる色光束同士の混色を低減可能である。一方で画素Pにおける明るさは、各開口部における光の透過率に依存するだけでなく、光源1002の明るさや光源1002から射出される発光の射出角度にも依存する。光源1002から射出される発光の射出角度は、光源1002の発光領域の大きさに依存すると考えられる。本実施形態では、光源1002の大きさにつき、発光領域が正方形であるとして、1辺が、0.3mm、0.4mm、0.5mmの場合を想定して、光学的なシミュレーションによりBM比率と混色率との関係を求めた。
図10に示すように、光源1002の大きさにもよるが、BM比率が7%未満になると混色率が急上昇する。一方で混色率を1%未満とするには、BM比率をおよそ16.67%とすることが好ましい。BM比率が画素Pの配置ピッチP1の6分の1である16.67%であることは、第1開口部17a及び第2開口部17b(第3開口部17c)において少なくとも70%程度の透過率を確保可能であることがシミュレーションによって明らかである。
すなわち、第1開口部17aの幅L1と第2開口部17bの幅L2との比(L1/L2)は、0.84<L1/L2<1.00の範囲にあることが好ましい。また、第1開口部17aにおける色光束の透過率と第2開口部17bにおける色光束の透過率との差をより小さくする観点では0.84<L1/L2<0.95の範囲にあることがより好ましい。また、画素Pの配置ピッチP1に対するBM比率は、7%以上16.67%以下であることが好ましい。
上記第1実施形態によれば、以下の効果が得られる。
(1)画素Pの所定の方向(X方向)における中央に位置するサブ画素SGの第1開口部17aの幅L1と、サブ画素SGに隣り合うサブ画素SBの第2開口部17bの幅L2との関係をL1<L2とする。これにより、画素Pごとに設けられたマイクロレンズMLに対して互いに異なる入射角度で入射し、波長が異なる色光束は、対応する第1開口部17a、第2開口部17bをそれぞれ透過し易くなる。所定の方向(X方向)においてサブ画素SGに隣り合うもう一つのサブ画素SRの第3開口部17cにおいてもL1<L3とすることで同様な効果が得られる。すなわち、このようなサブ画素SR,SG,SBの構成を有する液晶装置100を光変調装置として用いることで、カラーフィルターを用いずに明るいフルカラー表示が可能な投射型表示装置1000を実現できる。
(2)第1開口部17aの幅L1と第2開口部17bの幅L2との比(L1/L2)は、0.84<L1/L2<1.00の範囲にあることが好ましく、0.84<L1/L2<0.95の範囲にあることがより好ましい。また、画素Pの配置ピッチP1に対するBM比率は、7%以上16.67%以下であることが好ましい。これにより、波長が異なる色光束の利用効率を効果的に改善して、優れた光学特性を有する液晶装置100を実現することができる。なお、第1開口部17aの幅L1と第3開口部17cの幅L3との比(L1/L3)も同様に、0.84<L1/L3<1.00の範囲にあることが好ましく、0.84<L1/L2<0.95の範囲にあることがより好ましい。
(3)サブ画素SR,SG,SBにおいて、X方向における開口部間の遮光部17の幅は、同じ(L4)である。したがって、異なる波長の色光束同士が混じり合う混色が低減される。
(第2実施形態)
次に、第2実施形態の電気光学装置について、図11〜図14を参照して説明する。図11は第2実施形態の液晶装置における画素の構造を示す概略断面図、図12は光の波長とマイクロレンズの屈折率との関係を示すグラフ、図13はマイクロレンズアレイから開口部までの距離と開口部の透過率との関係を示すグラフ、図14は第2実施形態の画素におけるサブ画素の配置を示す平面図である。
第2実施形態の電気光学装置としての液晶装置200は、上記第1実施形態の液晶装置100に対して画素P(マイクロレンズML)に入射する色光束の入射のさせ方を異ならせ、これに対応してサブ画素SR,SG,SBの構成を異ならせたものである。したがって、液晶装置100と同じ構成には同じ符号を付して詳細な説明は省略する。
図11に示すように、本実施形態の電気光学装置としての液晶装置200は、素子基板10と対向基板20との間に挟持された液晶層50を有している。画素Pは、X方向において、中央に位置する第1サブ画素としてのサブ画素SBと、サブ画素SBに隣り合う第2サブ画素としてのサブ画素SGと、同じくサブ画素SBに隣り合う第3サブ画素としてのサブ画素SRとを有している。
素子基板10の基板本体11には、サブ画素SBに対応した第1開口部17aと、サブ画素SGに対応した第2開口部17bと、サブ画素SRに対応した第3開口部17cとが設けられている。第1開口部17a、第2開口部17b、第3開口部17cは、基板本体11上に設けられた配線層11a,13aからなる遮光部17によって構成されている。また、基板本体11の液晶層50側には、各サブ画素SG,SB,SRのそれぞれに対応して配置された透光性の画素電極15(15G,15B,15R)と、画素電極15を覆う配向膜18とが設けられている。
対向基板20には、基板本体21に形成された凹部21bをレンズ材料で埋めてなるマイクロレンズMLを有するマイクロレンズアレイ22と、パス層23と、対向電極25と、対向電極25を覆う配向膜26とが設けられている。
対向基板20において、マイクロレンズMLは画素Pごとに設けられており、入射面21a側から互いに異なる入射角度で波長が異なる色光束がマイクロレンズMLに入射する構成となっている。本実施形態では、波長が異なる色光束のうち、青色光束(B)は入射面21aの法線方向からマイクロレンズMLに入射する。赤色光束(R)及び緑色光束(G)は入射面21aの法線方向に対してそれぞれ異なる入射角度の斜め方向からマイクロレンズMLに入射する。このような色光束の入射のさせ方は、上記第1実施形態の投射型表示装置1000で説明した色分離素子1010におけるダイクロイックミラーの仕様と配置とを異ならせることで実現できる。つまり、本実施形態では、青色光束(B)が第1色光束であり、緑色光束(G)が第2色光束であり、赤色光束(R)が第3色光束である。
青色光束(B)は、素子基板10においてサブ画素SBの第1開口部17a内に焦点を結ぶようにマイクロレンズMLにより集光される。緑色光束(G)は、素子基板10においてサブ画素SGの第2開口部17b内に焦点を結ぶようにマイクロレンズMLにより集光される。同じく、赤色光束(R)は、素子基板10においてサブ画素SRの第3開口部17c内に焦点を結ぶようにマイクロレンズMLにより集光される。
一方で、マイクロレンズMLの屈折率は、マイクロレンズMLを透過する光の波長に依存する。図12に示すように、本実施形態のマイクロレンズMLにおいて、可視光波長領域における屈折率は、代表波長λ2が例えば532nmの緑色光束(G)においておよそ1.72の値を示すが、代表波長λ1が532nmよりも短い例えば445nmである青色光束(B)の屈折率は、緑色光束(G)に比べて大きくなる。また、代表波長λ3が532nmよりも長い例えば640nmである赤色光束(R)の屈折率は、緑色光束(G)に比べて小さくなる。また、したがって、マイクロレンズMLによって集光された各色光束の焦点距離は、色光束の波長によってわずかではあるが異なっている。このようなマイクロレンズMLの光学的な特性は波長分散と呼ばれている。
上記第1実施形態で説明した光学的なシミュレーションの条件では、図13に示すように、マイクロレンズアレイ(MLA)22から開口部までの距離がおよそ23μmのときに、第1開口部17aにおける青色光束(B)の透過率と、第2開口部17bにおける赤色光束(R)の透過率とが同じとなる。また、マイクロレンズアレイ22から開口部までの距離が23μmよりも短い13μm〜21μmでは、波長が短い青色光束(B)の透過率の方が赤色光束(R)の透過率よりも高くなる。また、マイクロレンズアレイ22から開口部までの距離が23μmよりも長い25μm〜27μmでは、波長が長い赤色光束(R)の透過率の方が青色光束(B)の透過率よりも高くなる。なお、マイクロレンズアレイ22から開口部までの距離は、マイクロレンズアレイ22とパス層23との境界から開口部を構成する配線層13aまでの距離である(図6(a)参照)。
表示における明るさを改善するために、マイクロレンズMLに入射する色光束の利用効率を上げる1つの方法として、マイクロレンズMLの集光能力を上げることが考えられる。マイクロレンズMLの集光能力を上げると、マイクロレンズMLによって集光された各色光束の焦点距離が短くなる。したがって、マイクロレンズアレイ22から開口部までの距離を短くする必要が生ずる。そうすると、開口部に入射する色光束の角度も大きくなることから、対向基板20の入射面21aの法線方向に対して斜め方向から入射する色光束は、開口部間の遮光部17によって遮光され易くなる。
そこで、本実施形態では、画素PのマイクロレンズMLに入射する色光束の波長に応じて、画素Pにおけるサブ画素SG,SB,SRの配置を決めると共に、サブ画素SG,SB,SRのそれぞれにおける開口部の所定の方向(X方向)における幅を決めた。具体的には、図14に示すように、画素Pにおいて所定の方向(X方向)の中央に波長が最も短い青色光束(B)が入射するサブ画素SBを配置した。そして、青色光束(B)よりも波長が長い緑色光束(G)及び赤色光束(R)が入射するサブ画素SG及びサブ画素SRをサブ画素SBに対して隣り合うように配置した。
加えて、サブ画素SBの第1開口部17aのX方向における幅をL1とし、サブ画素SGの第2開口部17bのX方向における幅をL2とし、サブ画素SRの第3開口部17cのX方向における幅をL3とすると、L1<L2<L3の関係を満たすように、遮光部17において第1開口部17a、第2開口部17b、第3開口部17cを形成した。なお、Y方向における第1開口部17a、第2開口部17b、第3開口部17cのそれぞれの幅(長さ)は、同一である。
X方向において、第1開口部17aと第2開口部17bとの間の遮光部17の幅をL4とし、第1開口部17aと第3開口部17cとの間の遮光部の幅をL5とし、X方向に隣り合う画素P間の第2開口部17bと第3開口部17cとの間の遮光部の幅をL6とすると、L4=L5>L6の関係を満たすように遮光部17を形成した。
なお、色光束のうち波長が最も短い青色光束(B)を画素Pの中央に位置するサブ画素SBに入射させるようにすれば、L1<L2=L3であってもよい。このときには、X方向における開口部間の遮光部17の幅を、L4=L5=L6とすることも可能である。
上記第2実施形態によれば、以下の効果が得られる。
液晶装置200は、異なる波長の色光束のうち、波長が最も短い青色光束(B)が対向基板20の入射面21aの法線方向からマイクロレンズMLに入射し、青色光束(B)よりも波長が長い緑色光束(G)及び赤色光束(R)が入射面21aの法線方向に対して斜め方向からマイクロレンズMLに入射するように構成されている。また、マイクロレンズMLによって集光された色光束が入射するサブ画素SG,SB,SRにおける開口部のX方向における幅と開口部間の遮光部17の幅とがそれぞれ入射する色光束の波長に応じて最適化されている。したがって、上記第1実施形態に比べてマイクロレンズMLによって集光された青色光束(B)の集光範囲を小さくできるので、上記第1実施形態に比べて第1開口部17aの幅L1を小さくしても、第1開口部17aにおける青色光束(B)の透過率を確保できる。また、上記第1実施形態に比べて第1開口部17aの幅L1を小さくした分、第2開口部17bの幅L2及び第3開口部17cの幅L3を大きくすることができるため、上記第1実施形態に比べて、第2開口部17b及び第3開口部17cの透過率を改善することができる。このような液晶装置200を光変調装置として用いれば、カラーフィルターを用いずに、より明るいフルカラー表示が可能な投射型表示装置1000を実現できる。
本発明は、上記した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲および明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置及び該電気光学装置を適用する電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。
(変形例1)光変調装置として機能する電気光学装置は、液晶装置であることに限定されない。例えば、透過型のMEMS(Micro Electro Mechanical System)ディスプレイであっても本発明を適用することができる。
(変形例2)上記第1実施形態の液晶装置100が適用される電子機器は、投射型表示装置1000に限定されない。例えば、HUD(ヘッドアップディスプレイ)やHMD(ヘッドマウントディスプレイ)の光変調装置として好適に用いることができる。なお、上記第2実施形態の液晶装置200も同様である。
11…透光性の基板としての基板本体、17…遮光部、17a…第1開口部、17b…第2開口部、17c…第3開口部、100…液晶装置、1000…電子機器としての投射型表示装置、1002…光源、1010…色分離素子、P…画素、ML…マイクロレンズ、SR,SG,SB…サブ画素。

Claims (7)

  1. 光源からの発光が互いに波長が異なる第1色光束、第2色光束、第3色光束に分離され、前記第1色光束が入射する第1サブ画素と、所定の方向において前記第1サブ画素に隣り合い、前記第2色光束が入射する第2サブ画素と、前記第3色光束が入射する第3サブ画素とを含む画素を備えた電気光学装置であって、
    前記画素ごとに設けられ、前記第1色光束、前記第2色光束、前記第3色光束のそれぞれが異なる入射角度で入射する集光素子と、
    前記第1サブ画素に対応する第1開口部と、前記第2サブ画素に対応する第2開口部と、前記第3サブ画素に対応する第3開口部と、をそれぞれ区分する遮光部と、を備え、
    前記所定の方向における、前記第1開口部の幅をL1とし、前記第2開口部または前記第3開口部の幅をL2とするとき、L1<L2の関係を満たすことを特徴とする電気光学装置。
  2. 前記所定の方向における、前記第1開口部と前記第2開口部との間の前記遮光部の幅と、前記第1開口部と前記第3開口部との間の前記遮光部の幅とが同じであることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
  3. 0.84<L1/L2<1.00の関係を満たすことを特徴とする請求項1または2に記載の電気光学装置。
  4. 前記所定の方向における前記遮光部の幅は、前記所定の方向における前記画素の配置ピッチの7%以上16.67%以下であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の電気光学装置。
  5. 前記第1色光束の波長は、前記第2色光束及び前記第3色光束の波長よりも短いことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の電気光学装置。
  6. 前記第1色光束の波長をλ1とし、前記第2色光束の波長をλ2とし、前記第3色光束の波長をλ3とするとき、λ1<λ2<λ3の関係を満たし、
    前記所定の方向における、前記第1開口部の幅をL1とし、前記第2開口部の幅をL2とし、前記第3開口部の幅をL3とするとき、L1<L2<L3の関係を満たすことを特徴とする請求項5に記載の電気光学装置。
  7. 光源と、
    前記光源からの発光を互いに波長が異なる第1色光束、第2色光束、第3色光束に分離する色分離素子と、
    請求項1乃至6のいずれか一項に記載の電気光学装置と、を備えたことを特徴とする電子機器。
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