JP2016213411A5 - - Google Patents
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Description
（実験例１）
ＰＳＬ（ポリスチレン・ラテックス）標準粒子（粒径０．１２μｍ）を塗布したウエハから検出される散乱光強度のメジアン値、換算後のＰＳＬ標準粒子サイズの経時変化を測定した。測定は、いずれも同じパーティクルカウンター装置を用いて行った。結果を図４（ａ）、（ｂ）に示す。ここで、図４（ａ）は散乱光強度のメジアン値の経時変化を示し、図４（ｂ）は、換算後のＰＳＬ標準粒子サイズの経時変化を示している。
ＰＳＬ（ポリスチレン・ラテックス）標準粒子（粒径０．１２μｍ）を塗布したウエハから検出される散乱光強度のメジアン値、換算後のＰＳＬ標準粒子サイズの経時変化を測定した。測定は、いずれも同じパーティクルカウンター装置を用いて行った。結果を図４（ａ）、（ｂ）に示す。ここで、図４（ａ）は散乱光強度のメジアン値の経時変化を示し、図４（ｂ）は、換算後のＰＳＬ標準粒子サイズの経時変化を示している。
図４（ａ）からわかるように、ひとつのサイズのＰＳＬ標準粒子から発生する散乱光強度のメジアン値は時間が経つにつれて下がってくる。図４（ｃ）からわかるように、同時にヘイズ値も下がってくる。しかしながら、換算後のＰＳＬ標準粒子サイズについては、図４（ｂ）に示すように、散乱光強度が下がってきても、その変化がある一定値を超えた場合に、換算後のＰＳＬ標準粒子サイズが変わらないように換算値を変更するため、換算後のＰＳＬ標準粒子サイズの経時変化は比較的少なくなっている。
（実施例２）
２台の散乱光を用いたパーティクルカウンター装置（以下、「装置Ａ」、「装置Ｂ」と称する）のそれぞれにおいて、粒径０．１２μｍのＰＳＬ標準粒子を塗布したウエハ（標準サンプル）から発生する散乱光強度のメジアン値を求めた。装置Ｂでの散乱光強度のメジアン値は、装置Ａの散乱光強度のメジアン値の１．２０倍となった。この時、装置Ｂで測定したヘイズ値の補正値を０．８３倍とすることで、パーティクルカウンター装置間の変動を相殺したヘイズ値を求めることができた。
２台の散乱光を用いたパーティクルカウンター装置（以下、「装置Ａ」、「装置Ｂ」と称する）のそれぞれにおいて、粒径０．１２μｍのＰＳＬ標準粒子を塗布したウエハ（標準サンプル）から発生する散乱光強度のメジアン値を求めた。装置Ｂでの散乱光強度のメジアン値は、装置Ａの散乱光強度のメジアン値の１．２０倍となった。この時、装置Ｂで測定したヘイズ値の補正値を０．８３倍とすることで、パーティクルカウンター装置間の変動を相殺したヘイズ値を求めることができた。
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