JP2016190201A - 分離膜構造体とその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、分離膜構造体100の斜視図である。図2は、図1のA−A断面図である。
第1及び第2シール30,40の構成について説明する。第1シール30と第2シール40は同じ構成であるため、以下においては第1シール30の構成について説明する。また、第1貫通孔11A周辺と第2貫通孔11B周辺における第1シール30の構成は同じであるため、以下においては第2貫通孔11B周辺における第1シール30の構成について説明する。
次に、分離膜構造体100の製造方法について説明する。図4は、分離膜構造体100の製造方法を説明するための模式図である。
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
以下のようにして、サンプルNo.1,2に係る分離膜構造体を作製した。
まず、サンプルNo.1,2と同じ支持体を準備した。
以下のようにして、サンプルNo.3,4,9〜16,21の分離膜の厚みを測定した。ここでは、厚み差が最も大きくなりやすい最外周に位置する分離膜(以下、「最外周分離膜」という。)と中央に位置する分離膜(以下、「中央分離膜」という。)の厚みを測定して比較した。
サンプルNo.1〜21それぞれについて、最外周に位置する1つの貫通孔の中心軸に沿って支持体を切断し、シールの延在部の厚み及び深さ(図3参照)を測定した。
分離膜の欠陥量を調べるために、セルの真空度を測定した。
10 多孔質支持体
11 貫通孔
11A 第1貫通孔
11B 第2貫通孔
20 分離膜
20A 第1分離膜
20B 第2分離膜
30 第1シール
31 本体部
32 延在部
40 第2シール
Claims (11)
- 第1端面と第2端面にそれぞれ連なる複数の貫通孔を有する多孔質支持体と、
前記複数の貫通孔の内表面に形成される複数の分離膜と、
を備え、
前記複数の貫通孔は、前記多孔質支持体の中心軸から所定距離内に位置する第1貫通孔と、前記中心軸から前記所定距離外に位置する第2貫通孔とを含み、
前記複数の分離膜は、前記第1貫通孔の内表面に形成される第1分離膜と、前記第2貫通孔の内表面に形成される第2分離膜とを含み、
前記第1分離膜の平均厚みに対する前記第2分離膜の平均厚みの厚み比は37.5以下である、
分離膜構造体。 - 前記厚み比は、0.30以上3.31以下である、
請求項1に記載の分離膜構造体。 - 前記第2分離膜の平均厚みは、1μm以上10μm以下である、
請求項1又は2に記載の分離膜構造体。 - 前記第1端面を覆う本体部と、前記第1端面の平面視において前記第2貫通孔の内側に位置する延在部とを有するシールを備え、
前記第2貫通孔の中心軸を中心とする径方向における前記延在部の平均厚みは、30μmより小さい、
請求項1乃至3のいずれかに記載の分離膜構造体。 - 前記第1端面を覆う本体部と、前記第1端面の平面視において前記第2貫通孔の内側に位置する延在部とを有するシールを備え、
前記第2貫通孔の中心軸に平行な軸方向における前記延在部の平均深さは、1000μmより大きい、
請求項1乃至3のいずれかに記載の分離膜構造体。 - 第1端面と第2端面にそれぞれ連なる複数の貫通孔を有する多孔質支持体を形成する支持体形成工程と、
前記複数の貫通孔それぞれの内表面に粘度4.0×10-4Pa・s以上の分離膜形成用溶液を付着させる付着工程と、
前記複数の貫通孔に通風して前記分離膜形成用溶液を乾燥させる乾燥工程と、
を備え、
前記乾燥工程は、
前記複数の貫通孔のうち前記多孔質支持体の中心軸から所定距離内に位置する第1貫通孔に比べて、前記中心軸から前記所定距離外に位置する第2貫通孔における風速を速くする第1乾燥工程と、
前記第1乾燥工程に比べて前記第1貫通孔における風速を速くする第2乾燥工程と、
を含む、
分離膜構造体の製造方法。 - 前記第1乾燥工程において、供給する風速を2m/秒より速く30m/秒より遅くする、
請求項6に記載の分離膜構造体の製造方法。 - 前記第1乾燥工程において、前記複数の貫通孔のうち前記中心軸から前記所定距離内の貫通孔の開口をマスクで覆うことによって、前記複数の貫通孔の全開口面積の50%以上を塞ぐ、
請求項6又は7に記載の分離膜構造体の製造方法。 - 前記第1乾燥工程において、前記複数の貫通孔のうち前記中心軸から前記所定距離内の貫通孔の開口をマスクで覆うことによって、前記複数の貫通孔の全開口面積の70%以上を塞ぐ、
請求項6又は7に記載の分離膜構造体の製造方法。 - 前記支持体形成工程と前記付着工程の間において、前記第1端面を覆う本体部と、前記第1端面の平面視において前記第2貫通孔の内側に位置する延在部とを有するシールを形成するシール形成工程を備え、
前記シール形成工程において、前記第2貫通孔の中心軸を中心とする径方向における前記延在部の平均厚みを30μmより小さくする、
請求項6乃至9のいずれかに記載の分離膜構造体の製造方法。 - 前記支持体形成工程と前記付着工程の間において、前記第1端面を覆う本体部と、前記第1端面の平面視において前記第2貫通孔の内側に位置する延在部とを有するシールを形成するシール形成工程を備え、
前記シール形成工程において、前記第2貫通孔の中心軸に平行な軸方向における前記延在部の平均深さを1000μmより大きくする、
請求項6乃至10のいずれかに記載の分離膜構造体の製造方法。
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WO2012128217A1 (ja) * | 2011-03-22 | 2012-09-27 | 日本碍子株式会社 | ハニカム形状セラミック製分離膜構造体 |
WO2014156294A1 (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-02 | 日本碍子株式会社 | 構造体 |
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