JP2016186974A - Ledモジュールおよびledモジュールの製造方法 - Google Patents

Ledモジュールおよびledモジュールの製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】大気に放出される光に出力ロスが生じるのを防止したLEDモジュールを提供する。【解決手段】パッケージ基板1に搭載されたLEDチップ2が封止樹脂3で封止されたLEDモジュールであって、封止樹脂3の表面は封止樹脂3よりも線膨張係数が小さい材質からなる薄膜7で覆われており、薄膜7の成膜工程の後にLEDモジュールを室温に戻すことにより、薄膜7の表面に凹凸面を備えることによってLEDチップ2からの光を多重反射する。【選択図】図1

Description

本発明は、光の取り出し効率を向上させたLEDモジュールおよびその製造方法に関するものである。
従来から、LEDチップを樹脂で封止したLEDモジュールが照明具として広く用いられている。LEDモジュールの一般的な構造は、図3に示す断面図のようにパッケージ基板1の電極5上にLEDチップ2を搭載し、そのLEDチップ2の電極とパッケージ基板1の電極5とをワイヤー6で電気的に接続するととともに、LEDチップ2の周囲に光を反射させるリフレクター4を配置し、リフレクター4の内周面、ワイヤー6、及びLEDチップ2並びにパッケージ基板の電極5に封止樹脂3を充填した構造となっている。
LEDチップ2で発光した光は、リフレクター4で反射する光や直進する光が封止樹脂3を通過し、ほぼ平坦な封止樹脂3表面から大気に放出される。そのときに図3に示すように大気と封止樹脂3の屈折率差から封止樹脂3表面で内部反射Bする光が多く、大気に放出される光Aの出力にロスが生じるという問題があった。
特開2009−147329号公報には、LEDモジュールの封止体での光の内部反射を低減して、大気に放出される光の出力にロスを低減するために封止樹脂の表面にテクスチャード加工するものが記載されている。
特許文献:特開2009−147329号公報
しかしながら、特許文献1には、具体的なテクスチャード加工の方法や大気との界面における材質といった形態が、具体的に示されておらず不明である。
本発明は、LEDモジュールにおいて大気に放出される光の出力ロスが生じるという問題を解決するための形態を具体化することを課題とする。
上記の課題を解決するために本発明は、LEDチップが封止樹脂で封止されたLEDモジュールであって、当該封止樹脂の表面が薄膜で覆われており、前記薄膜は前記封止樹脂よりも線膨張係数が小さい材質からなり、前記薄膜の表面には凹凸面を備えることによって前記LEDチップからの光が多重反射するように構成したことを特徴とするLEDモジュールを提供するものである。
この構成により、LEDチップが発光した光が封止樹脂表面にて内部反射する角度が多様化・複雑化するようになり(すなわち、多重反射するようになり)、大気に放出される光の確率が向上し、大気への光の出力ロスを低減して光の取り出し効率を向上させることができる。
また、前記薄膜は、加熱条件下で前記封止樹脂表面に成膜した後、室温に戻すことにより前記薄膜の表面に凹凸が形成された構成としてもよい。
この構成により、線膨張係数の大きい前記封止樹脂が加熱によって膨張した状態で前記封止樹脂表面に薄膜を成膜することにより、室温に戻る際に前記封止樹脂が収縮することにより前記薄膜が引っ張られることによって、比較的簡単に前記薄膜表面に微細な凹凸が形成できる。
また、前記薄膜は、無機物からなる酸化膜を含む構成にしてもよい。
この構成により、大気に放出される光の出力ロスを低減して光の取り出し効率を向上させることができるとともに、水分や空気が封止樹脂内に入り込んで電極が腐食することを防止することができる。
また、前記薄膜は、前記酸化膜と前記封止樹脂との間に無機物からなるバッファ膜を積層する構成としてもよい。
この構成により、前記酸化膜と前記封止樹脂との密着性が向上し、成膜時の温度を高温にしてもクラックが生じることなく、より多くの凹凸を形成することができる。
また、上記の課題を解決するために本発明は、パッケージ基板に搭載されたLEDチップを封止樹脂で封止する封止工程と、該封止工程の後に、加熱条件下で前記封止樹脂の表面に薄膜を成膜する成膜工程とを有し、該成膜工程の後に前記LEDモジュールを室温に戻すことにより前記薄膜の表面に凹凸を形成して、前記LEDチップからの光が多重反射するようにしたことを特徴とするLEDモジュールの製造方法を提供するものである。
この製造方法により製造したLEDモジュールは、LEDチップが発光した光が大気との界面において反射する角度が多様化・複雑化(すなわち、多重反射)して、大気に放出される光の出力ロスを低減して光の取り出し効率を向上させることができる。
上記のように、LEDチップが封止樹脂で封止されたLEDモジュールであって、当該封止樹脂の表面が薄膜で覆われており、前記薄膜は前記封止樹脂よりも線膨張係数が小さい材質からなり、前記薄膜の表面には凹凸面を備えることによって前記LEDチップからの光が多重反射するように構成したことを特徴とするLEDモジュールにより、LEDチップが発光した光が封止樹脂表面にて多重反射するようになり、大気に放出される光の出力ロスを低減して光の取り出し効率を向上させることができる。
また、パッケージ基板に搭載されたLEDチップを封止樹脂で封止する封止工程と、該封止工程の後に、加熱条件下で前記封止樹脂の表面に薄膜を成膜する成膜工程とを有し、該成膜工程の後に前記LEDモジュールを室温に戻すことにより前記薄膜の表面に凹凸を形成して、前記LEDチップからの光が多重反射するようにしたことを特徴とするLEDモジュールの製造方法により、LEDチップが発光した光が封止樹脂表面にて多重反射するようになり、大気に放出される光の出力ロスを低減して光の取り出し効率を向上させることができる。
本発明の実施例におけるLEDモジュールの断面と光の放射を説明する図。 本発明の薄膜表面に形成された凹凸を示す写真。 従来のLEDモジュールの断面と光の放射を説明する図。
(LEDモジュール)
図1を用いて、本発明の実施例1におけるLEDモジュールの構成を説明する。図1はLEDモジュールの断面を示している。パッケージ基板1の電極5上にLEDチップ2が搭載され、そのLEDチップ2の電極とパッケージ基板の電極5とがワイヤー6で電気的に接続されている。また、LEDチップ2の周囲には、セラミック等からなるリフレクター4が配置されてLEDチップ2が発光した光の一部が反射して大気に向かうことにより、より多くの光がLEDモジュールから放出されるようにされている。
なお、実施例1においては、LEDチップ2の電極とパッケージ基板1の電極5とをワイヤー6で接続しているが、必ずしもこれに限定されるものではなく、LEDチップ2をパッケージ基板1の電極5にフリップチップボンディングして、ワイヤー6を用いることなく電気的に接続したものでもよい。
リフレクター4、LEDチップ2、パッケージ基板1に囲まれた空間には、シリコーン樹脂からなる封止樹脂3が充填されて大気から封止されている。また、封止樹脂3と大気との境界は薄膜7で覆われており、凹凸面を備えている。
薄膜7は、無機物からなる酸化膜として構成されている。また薄膜7は、線膨張係数が封止樹脂3より小さい材質からなっている。より具体的には、薄膜7の線膨張係数は1〜10ppm/℃、封止樹脂3の線膨張係数は100〜500ppm/℃であることが好ましい。
薄膜7の厚さは、1μm程度であってよいが、これ以上の厚さであってもこれ以下の厚さであってもよい。
また、薄膜7の屈折率は封止樹脂3と同等、又は大気と封止樹脂3の間の値をもつ材質が好ましい。
薄膜7は、実施例1においてはSiO2を用いて形成しているが、必ずしもこれに限定されるものではなく、線膨張係数が封止樹脂3より小さい他の無機物からなる酸化膜でよい。例えば、Al2O3を用いて形成してもよい。
封止樹脂3より線膨張係数が小さい材質で薄膜7を加熱下で成膜することにより、膨張していた封止樹脂3が室温に戻る際の収縮に引っ張られて薄膜7にしわができるため、比較的簡単に薄膜7の表面に高さが1〜200μm程度の凹凸を形成することができる。
なお、無機物とは、有機物を除く物質であり、具体的には炭素骨格を持たない物質であり、線膨張係数が小さい。つまり無機物には、合成/天然樹脂及び炭素骨格(炭化水素骨格を含む)を有するその他化合物は含まれない。
特に、無機物からなる酸化膜は結合力が強く、バリア性が高い。また、結合力が高いためクラックが入りにくい。つまり、無機物からなる酸化膜として表面に凹凸を有する薄膜7を成膜することにより、大気に放出される光の出力ロスを低減して、光の取り出し効率を向上させることができるとともに、水分や空気が封止樹脂内に入り込んで電極が腐食することを防止することができる。
LEDチップ2から発光した光は封止樹脂3内を通過して、又はリフレクターで反射して、薄膜7の凹凸面に達する。薄膜7の凹凸面で光は多様な方向に複雑に反射を繰り返す(すなわち多重反射する)ことにより、内部反射Bが抑制されてより大気に放射される光Aが多くなるので、光の取り出し効率を向上させることができる。
(製造方法)
次に、本発明のLEDモジュールの製造方法について説明する。図1のようにリフレクター4を備えたパッケージ基板1の電極5上にLEDチップ2が搭載され、LEDチップの電極と基板の電極とがワイヤー6で電気的に接続されたモジュールの空間に封止樹脂3が充填されたLEDモジュールに対して、プラズマCVD装置により封止樹脂3の表面に薄膜7を成膜する。
その際、LEDモジュールが加熱されることにより封止樹脂3が膨張する。その膨張した封止樹脂3の表面に線膨張係数が封止樹脂3より小さい材質であるSiO2からなる無機物の酸化膜を成膜して薄膜7とする。そしてプラズマCVD装置からLEDモジュールを取り出して室温に戻す際に、線膨張係数の大きい封止樹脂3が収縮することにより、成膜されているSiO2からなる無機物の酸化膜もこれに引っ張られて収縮するが、SiO2は線膨張係数が封止樹脂3より小さいため行き場を失ったSiO2がしわになることによって微細な凹凸が形成される。
SiO2がしわになって、凹凸が形成された状態を図2に示す。SiO2の場合は、40℃〜130℃に加熱された状態で成膜した後、室温に戻すと図2のような凹凸面(しわ)を形成することができる。
SiO2の場合、加熱温度が130℃より高くなると、室温に戻る際に薄膜7にクラックが生じる。また、40℃より加熱温度が低いと凹凸が形成されない。
また、SiO2からなる無機物の酸化膜である薄膜7を成膜するために、プラズマCVDを用いたが、必ずしもこれに限定されるものではなく、スパッタ装置や蒸着装置等、加熱下で成膜するものであれば用いることができる。
また、無機物の酸化膜はSiO2に限定されず、シリコーン樹脂からなる封止樹脂3よりも線膨張係数の小さいAl2O3によっても同じ製造方法により、薄膜7表面に同様に凹凸(しわ)を形成することができる。
(LEDモジュール)
本発明の実施例2におけるLEDモジュールは、薄膜7が積層構造となっている点で実施例1と異なっている。すなわち、封止樹脂3の表面に無機物からなる絶縁膜であるバッファ層が形成され、さらにその表面に無機物からなる酸化膜が形成されている。つまり無機物からなる酸化膜と封止樹脂3との間に無機物からなる絶縁膜であるバッファ層が積層されている。
バッファ層とは、上記酸化膜よりもバリア性は低い代わりに密着性が上記酸化膜よりも高い膜であり、封止樹脂3より線膨張係数の小さい材質からなる無機物である。具体的にバッファ層は、H、C及びSiを含むシリコン系膜であってよい。より具体的には、SiCN膜でよいが、これに必ずしも限定するものではなく、SiN膜、SiON膜であってもよい。
無機物からなるバッファ層を封止樹脂3と無機物からなる酸化膜との間に積層することによって、封止樹脂3との密着性を向上させることができる。封止樹脂3との密着性を向上させることによって、クラックが発生することなく薄膜7に凹凸を形成することができる成膜時の加熱温度を130℃より高くできる。
また、実施例2においてもLEDチップ2から発光した光は封止樹脂3内を通過して、又はリフレクターで反射して、薄膜7の凹凸面に達する。薄膜7の凹凸面で光は多様な方向に複雑に反射を繰り返す(すなわち多重反射する)ことにより、内部反射Bが抑制されてより大気に放射される光Aが多くなるので、光の取り出し効率を向上させることができる。
実施例2においても、薄膜7のうち無機物からなる酸化膜はSiO2を用いて形成している。しかしながら必ずしもこれに限定されるものではなく、線膨張係数が封止樹脂3より小さい他の無機物からなる酸化膜でよい。例えば、Al2O3を用いて形成してもよい。
また実施例2では、バッファ層と酸化膜を1層ずつ積層しているが、それに限らず複数層ずつ交互に積層したものでもよい。これにより密着性を維持しながらバリア性を高いものとすることができる。
(製造方法)
リフレクター4を備えたパッケージ基板1の電極5上にLEDチップ2が搭載され、LEDチップの電極と基板の電極5とがワイヤー6で電気的に接続されたモジュールの空間に封止樹脂3が充填されたLEDモジュールに対して、プラズマCVD装置により、まず封止樹脂3の表面に無機物からなる絶縁層であるバッファ層を成膜する。バッファ層は、SiCNとすることができる。このバッファ層を形成することにより、シリコーン樹脂からなる封止樹脂3との密着性を向上させることができる。
次に、バッファ層の表面にSiO2からなる無機物の酸化膜を同じプラズマCVD装置内で成膜する、そして、SiCNからなるバッファ層及びSiO2からなる酸化膜によって薄膜7が構成される。
プラズマCVD装置からLEDモジュールを取り出して室温に戻す際に、線膨張係数の大きいシリコーン樹脂からなる封止樹脂3が収縮することにより、成膜されているSiO2からなる無機物の酸化膜及びSiCNからなるバッファ層もこれに引っ張られて収縮するが、SiO2及びSiCNは線膨張係数がシリコーン樹脂からなる封止樹脂3より小さいため行き場を失ったSiO2及びSiCNがしわになることによって凹凸が形成される。
これにより、LEDチップ2から発光した光は封止樹脂3内を通過して、又はリフレクターで反射して、薄膜7の凹凸面に達する。薄膜7の凹凸面で光は多様な方向に複雑に反射を繰り返す(すなわち多重反射する)ことにより、内部反射Bが抑制されてより大気に放射される光Aが多くなるので、光の取り出し効率を向上させることができる。
なお、実施例2においても、LEDチップ2の電極とパッケージ基板1の電極5とをワイヤー6で接続しているが、必ずしもこれに限定されるものではなく、LEDチップ2をパッケージ基板1の電極5にフリップチップボンディングして、ワイヤー6を用いることなく電気的に接続したものでもよい。
また、実施例2においても、薄膜7の成膜に用いる装置はプラズマCVDに限定されるものではなく、スパッタ装置や蒸着装置等、加熱下で成膜するものであれば、用いることができる。
また、無機物の酸化膜はSiO2に限定されず、Al2O3によっても同じ製造方法により薄膜7表面に凹凸(しわ)を形成することができる。
本発明は、LEDモジュールおよびLEDモジュールの製造方法に広く適用することができる。
1 パッケージ基板
2 LEDチップ
3 封止樹脂
4 リフレクター
5 電極
6 ワイヤー
7 薄膜
A 大気に放出される光
B 内部反射




Claims (5)

  1. LEDチップが封止樹脂で封止されたLEDモジュールであって、当該封止樹脂の表面が薄膜で覆われており、前記薄膜は前記封止樹脂よりも線膨張係数が小さい材質からなり、前記薄膜の表面には凹凸面を備えることによって前記LEDチップからの光が多重反射するように構成したことを特徴とするLEDモジュール。
  2. 前記薄膜は、加熱条件下で前記封止樹脂表面に成膜した後、室温に戻すことにより前記薄膜の表面に凹凸が形成された構成であることを特徴とする請求項1に記載のLEDモジュール。
  3. 前記薄膜は、無機物からなる酸化膜を含む構成であることを特徴とする請求項1又は2に記載のLEDモジュール。
  4. 前記薄膜は、前記酸化膜と前記封止樹脂との間に無機物からなるバッファ膜を積層した構成であることを特徴とする請求項3に記載のLEDモジュール。
  5. パッケージ基板に搭載されたLEDチップを封止樹脂で封止する封止工程と、該封止工程の後に、加熱条件下で前記封止樹脂の表面に薄膜を成膜する成膜工程とを有し、該成膜工程の後に前記LEDモジュールを室温に戻すことにより前記薄膜の表面に凹凸を形成して、前記LEDチップからの光が多重反射するようにしたことを特徴とするLEDモジュールの製造方法。















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Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003234509A (ja) * 2002-02-08 2003-08-22 Citizen Electronics Co Ltd 発光ダイオード
JP2005191514A (ja) * 2003-10-31 2005-07-14 Toyoda Gosei Co Ltd 発光素子および発光装置
US20060189013A1 (en) * 2005-02-24 2006-08-24 3M Innovative Properties Company Method of making LED encapsulant with undulating surface
JP2009070892A (ja) * 2007-09-11 2009-04-02 Citizen Holdings Co Ltd Led光源
JP2009229507A (ja) * 2008-03-19 2009-10-08 Hitachi Chem Co Ltd 封止フィルム
JP2011018704A (ja) * 2009-07-07 2011-01-27 Toyoda Gosei Co Ltd Ledチップを囲繞する封止部材の表面に微細凹凸を形成する方法、及びこの方法を含むledランプの製造方法
JP2011129790A (ja) * 2009-12-19 2011-06-30 Toyoda Gosei Co Ltd Led発光装置の製造方法
JP2014082404A (ja) * 2012-10-18 2014-05-08 Citizen Electronics Co Ltd 発光装置
JP2014135322A (ja) * 2013-01-08 2014-07-24 Sharp Corp 発光装置及び照明器具
JP2014160742A (ja) * 2013-02-19 2014-09-04 Sharp Corp 発光装置
JP2015002298A (ja) * 2013-06-17 2015-01-05 ヘンケルジャパン株式会社 発光装置、その製造のための封止フィルム積層体、および発光装置の製造方法
JP2015043363A (ja) * 2013-08-26 2015-03-05 豊田合成株式会社 Ledランプの製造方法及び封止樹脂に対する凹凸付与装置

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6728601B2 (en) * 2001-07-19 2004-04-27 International Business Machines Corporation Multiple host power control system and method
JP2003298115A (ja) * 2002-04-05 2003-10-17 Citizen Electronics Co Ltd 発光ダイオード
US20050126697A1 (en) * 2003-12-11 2005-06-16 International Business Machines Corporation Photochemically and thermally curable adhesive formulations
TW200614548A (en) * 2004-07-09 2006-05-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd Light-emitting device
JP5705396B2 (ja) * 2005-01-24 2015-04-22 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 発光素子封止用シリコーン組成物及び発光装置
US7720654B2 (en) * 2005-10-15 2010-05-18 Micron Technology, Inc. Generation and manipulation of realistic signals for circuit and system verification
US20100155749A1 (en) * 2007-03-19 2010-06-24 Nanosys, Inc. Light-emitting diode (led) devices comprising nanocrystals
US9431589B2 (en) 2007-12-14 2016-08-30 Cree, Inc. Textured encapsulant surface in LED packages
US20100209670A1 (en) 2009-02-17 2010-08-19 Nitto Denko Corporation Sheet for photosemiconductor encapsulation
JP5177693B2 (ja) 2009-05-20 2013-04-03 日東電工株式会社 光半導体封止用シート
KR20130114642A (ko) * 2010-09-30 2013-10-17 미쯔비시 레이온 가부시끼가이샤 미세 요철 구조를 표면에 갖는 몰드, 미세 요철 구조를 표면에 갖는 물품의 제조 방법, 물품의 용도, 홍채색을 발현하는 적층체 및 면발광체
US10420361B2 (en) * 2010-12-07 2019-09-24 O2C Galactic, Llc Citrus press drinking vessel
CA2834426A1 (en) * 2011-04-27 2012-11-01 Jx Nippon Oil & Energy Corporation Light extraction transparent substrate for organic el element, and organic el element using the same

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003234509A (ja) * 2002-02-08 2003-08-22 Citizen Electronics Co Ltd 発光ダイオード
JP2005191514A (ja) * 2003-10-31 2005-07-14 Toyoda Gosei Co Ltd 発光素子および発光装置
US20060189013A1 (en) * 2005-02-24 2006-08-24 3M Innovative Properties Company Method of making LED encapsulant with undulating surface
JP2009070892A (ja) * 2007-09-11 2009-04-02 Citizen Holdings Co Ltd Led光源
JP2009229507A (ja) * 2008-03-19 2009-10-08 Hitachi Chem Co Ltd 封止フィルム
JP2011018704A (ja) * 2009-07-07 2011-01-27 Toyoda Gosei Co Ltd Ledチップを囲繞する封止部材の表面に微細凹凸を形成する方法、及びこの方法を含むledランプの製造方法
JP2011129790A (ja) * 2009-12-19 2011-06-30 Toyoda Gosei Co Ltd Led発光装置の製造方法
JP2014082404A (ja) * 2012-10-18 2014-05-08 Citizen Electronics Co Ltd 発光装置
JP2014135322A (ja) * 2013-01-08 2014-07-24 Sharp Corp 発光装置及び照明器具
JP2014160742A (ja) * 2013-02-19 2014-09-04 Sharp Corp 発光装置
JP2015002298A (ja) * 2013-06-17 2015-01-05 ヘンケルジャパン株式会社 発光装置、その製造のための封止フィルム積層体、および発光装置の製造方法
JP2015043363A (ja) * 2013-08-26 2015-03-05 豊田合成株式会社 Ledランプの製造方法及び封止樹脂に対する凹凸付与装置

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