JP2016177148A - 画像生成手段移動装置および画像投影装置 - Google Patents

Abstract

【課題】精度よく画像生成手段を所定の周期で往復移動させることができる画像生成手段移動装置および画像投影装置を提供する。
【解決手段】画像表示ユニットなどの画像生成手段移動装置は、プロジェクタなどの画像投影装置に設けられ、光源から照射される光を用いて画像を生成するＤＭＤなどの画像生成手段を保持し、移動可能に構成された可動ユニットなどの可動保持手段を有している。また、可動保持手段を移動させる駆動手段（コイルと磁石などで構成）と駆動手段を制御する移動制御部などの移動制御手段も有している。そして、画像投影装置の設置姿勢を検知する検知手段（本実施形態では、移動制御部１２などで構成）を備え、移動制御手段は、検知手段の検知結果に基づいて、可動保持手段の駆動条件を設定する。
【選択図】図２３

Description

本発明は、画像生成手段移動装置および画像投影装置に関するものである。

パソコンやデジタルカメラ等から送信される画像データに基づいて、光源から照射される光を用いて画像生成手段が画像を生成し、生成された画像を複数のレンズ等を含む光学系を通してスクリーン等に画像を投影する画像投影装置が知られている。画像生成手段としては、例えば液晶パネルやデジタルマイクロミラーデバイスＤＭＤ（Digital Micromirror Device）等が用いられている。

特許文献１には、投影光学系に偏芯させた２つの偏芯レンズを設け、２つの偏芯レンズを相対的に光軸と垂直な方向に往復移動させて投影面上の画像をシフトさせることで、投影画像を高解像度化する画像投影装置が提案されている。

本出願人は、特許文献１とは異なる手法で、投影面上の画像をシフトさせて、投影画像を高解像度化する画像投影装置を開発中である。具体的には、画像生成手段を移動させる画像生成手段移動装置を設け、画像生成手段を所定の周期で往復移動させて投影画像を高解像度化する手法である。画像投影装置は、床上や机上に設置する通常設置以外に、ユーザーのニーズ合わせて様々な姿勢で設置される。その結果、画像投影装置の設置姿勢により、重力の影響が互いに異なる。そのため、画像投影装置の設置姿勢によっては、重力の影響によって、精度よく画像生成手段を所定の周期で往復移動させることができない場合があるという課題があった。

上記課題を解決するために、本発明は、画像生成手段移動装置において、画像投影装置に設けられ、光源から照射される光を用いて画像を生成する画像生成手段を保持し、移動可能に構成された可動保持手段と、前記可動保持手段を移動させる駆動手段と、前記駆動手段を制御する移動制御手段と、前記画像投影装置の設置姿勢を検知する検知手段とを備え、前記移動制御手段は、前記検知手段の検知結果に基づいて、前記駆動手段の駆動条件を設定することを特徴とするものである。

本発明によれば、精度よく画像生成手段を所定の周期で往復移動させることができる。

実施形態における画像投影装置を例示する図である。 実施形態における画像投影装置の機能構成を例示するブロック図である。 実施形態における画像投影装置の光学エンジンを例示する斜視図である。 実施形態における照明光学系ユニットを例示する図である。 実施形態における投影光学系ユニットの内部構成を例示する図である。 実施形態における画像表示ユニットを例示する斜視図である。 実施形態における画像表示ユニットを例示する側面図である。 実施形態における固定ユニットを例示する斜視図である。 実施形態における固定ユニットを例示する分解斜視図である。 実施形態における固定ユニットによる可動プレートの支持構造について説明する図である。 実施形態における固定ユニットによる可動プレートの支持構造について説明する部分拡大図である。 実施形態におけるトップカバーを例示する底面図である。 実施形態における可動ユニットを例示する斜視図である。 実施形態における可動ユニットを例示する分解斜視図である。 実施形態における可動プレートを例示する斜視図である。 実施形態における可動プレートが外された可動ユニットを例示する斜視図である。 実施形態における可動ユニットのＤＭＤ保持構造について説明する図である。 実施形態における投影画像の高解像度化の一例について説明する図である。 実施形態における画像投影装置を天吊設置した状態を例示する図である。 実施形態における画像投影装置をポートレート設置した状態を例示する図である。 実施形態における画像投影装置を傾斜設置した状態を例示する図である。 実施形態における画像投影装置の設置姿勢と、そのときの可動ユニット５５の重力方向について説明する図である。 実施形態における画像投影装置の可動ユニット駆動条件設定フローの一例を示す図である。

以下、図面を参照して発明を実施するための形態について説明する。各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。

＜画像投影装置の構成＞
図１は、実施形態におけるプロジェクタ１を例示する図である。

プロジェクタ１は、画像投影装置の一例であり、出射窓３、外部Ｉ／Ｆ９を有し、投影画像を生成する光学エンジンが内部に設けられている。プロジェクタ１は、例えば外部Ｉ／Ｆ９に接続されるパソコンやデジタルカメラから画像データが送信されると、光学エンジンが送信された画像データに基づいて投影画像を生成し、図１に示されるように出射窓３からスクリーンＳに画像を投影する。

なお、以下に示す図面において、Ｘ１Ｘ２方向はプロジェクタ１の幅方向、Ｙ１Ｙ２方向はプロジェクタ１の奥行き方向、Ｚ１Ｚ２方向はプロジェクタ１の高さ方向である。また、以下では、プロジェクタ１の出射窓３側を上、出射窓３とは反対側を下として説明する場合がある。

図２は、実施形態におけるプロジェクタ１の機能構成を例示するブロック図である。

図２に示されるように、プロジェクタ１は、電源４、メインスイッチＳＷ５、操作部７、外部Ｉ／Ｆ９、システムコントロール部１０、ファン２０、光学エンジン１５を有する。

電源４は、商用電源に接続され、プロジェクタ１の内部回路用に電圧及び周波数を変換して、システムコントロール部１０、ファン２０、光学エンジン１５等に給電する。

メインスイッチＳＷ５は、ユーザによるプロジェクタ１のＯＮ／ＯＦＦ操作に用いられる。電源４が電源コード等を介して商用電源に接続された状態で、メインスイッチＳＷ５がＯＮに操作されると、電源４がプロジェクタ１の各部への給電を開始し、メインスイッチＳＷ５がＯＦＦに操作されると、電源４がプロジェクタ１の各部への給電を停止する。

操作部７は、ユーザによる各種操作を受け付けるボタン等であり、例えばプロジェクタ１の上面に設けられている。操作部７は、例えば投影画像の大きさ、色調、ピント調整等のユーザによる操作を受け付ける。操作部７が受け付けたユーザ操作は、システムコントロール部１０に送られる。

外部Ｉ／Ｆ９は、例えばパソコン、デジタルカメラ等に接続される接続端子を有し、接続された機器から送信される画像データをシステムコントロール部１０に出力する。

システムコントロール部１０は、画像制御部１１、移動制御部１２を有する。システムコントロール部１０は、例えばＣＰＵ，ＲＯＭ，ＲＡＭ等を含み、ＣＰＵがＲＡＭと協働してＲＯＭに記憶されているプログラムを実行することで、各部の機能が実現される。

画像制御部１１は、画像制御手段の一例であり、外部Ｉ／Ｆ９から入力される画像データに基づいて光学エンジン１５の画像表示ユニット５０に設けられているデジタルマイクロミラーデバイスＤＭＤ（Digital Micromirror Device（以下、単に「ＤＭＤ」という））５５１を制御し、スクリーンＳに投影する画像を生成する。

移動制御部１２は、移動制御手段の一例であり、画像表示ユニット５０において移動可能に設けられている可動ユニット５５を移動させ、可動ユニット５５に設けられているＤＭＤ５５１の位置を制御する。

ファン２０は、システムコントロール部１０に制御されて回転し、光学エンジン１５の光源３０を冷却する。

光学エンジン１５は、光源３０、照明光学系ユニット４０、画像表示ユニット５０、投影光学系ユニット６０を有し、システムコントロール部１０に制御されてスクリーンＳに画像を投影する。

光源３０は、例えば水銀高圧ランプ、キセノンランプ、ＬＥＤ等であり、システムコントロール部１０により制御され、照明光学系ユニット４０に光を照射する。

照明光学系ユニット４０は、例えばカラーホイール、ライトトンネル、リレーレンズ等を有し、光源３０から照射された光を画像表示ユニット５０に設けられているＤＭＤ５５１に導く。

画像表示ユニット５０は、固定支持されている固定ユニット５１、固定ユニット５１に対して移動可能に設けられている可動ユニット５５を有する。可動ユニット５５は、ＤＭＤ５５１を有し、システムコントロール部１０の移動制御部１２によって固定ユニット５１に対する位置が制御される。ＤＭＤ５５１は、画像生成手段の一例であり、システムコントロール部１０の画像制御部１１により制御され、照明光学系ユニット４０によって導かれた光を変調して投影画像を生成する。

投影光学系ユニット６０は、例えば複数の投影レンズ、ミラー等を有し、画像表示ユニット５０のＤＭＤ５５１によって生成される画像を拡大してスクリーンＳに投影する。

＜光学エンジンの構成＞
次に、プロジェクタ１の光学エンジン１５の各部の構成について説明する。

図３は、実施形態における光学エンジン１５を例示する斜視図である。光学エンジン１５は、図３に示されるように、光源３０、照明光学系ユニット４０、画像表示ユニット５０、投影光学系ユニット６０を有し、プロジェクタ１の内部に設けられている。

光源３０は、照明光学系ユニット４０の側面に設けられ、Ｘ２方向に光を照射する。照明光学系ユニット４０は、光源３０から照射された光を、下部に設けられている画像表示ユニット５０に導く。画像表示ユニット５０は、照明光学系ユニット４０によって導かれた光を用いて投影画像を生成する。投影光学系ユニット６０は、照明光学系ユニット４０の上部に設けられ、画像表示ユニット５０によって生成された投影画像をプロジェクタ１の外部に投影する。

なお、本実施形態に係る光学エンジン１５は、光源３０から照射される光を用いて上方に画像を投影するように構成されているが、水平方向に画像を投影するような構成であってもよい。

［照明光学系ユニット］
図４は、実施形態における照明光学系ユニット４０を例示する図である。

図４に示されるように、照明光学系ユニット４０は、カラーホイール４０１、ライトトンネル４０２、リレーレンズ４０３，４０４、シリンダミラー４０５、凹面ミラー４０６を有する。

カラーホイール４０１は、例えば周方向の異なる部分にＲ（レッド）、Ｇ（グリーン）、Ｂ（ブルー）の各色のフィルタが設けられている円盤である。カラーホイール４０１は、高速回転することで、光源３０から照射される光を、ＲＧＢ各色に時分割する。

ライトトンネル４０２は、例えば板ガラス等の貼り合わせによって四角筒状に形成されている。ライトトンネル４０２は、カラーホイール４０１を透過したＲＧＢ各色の光を、内面で多重反射することで輝度分布を均一化してリレーレンズ４０３，４０４に導く。

リレーレンズ４０３，４０４は、ライトトンネル４０２から出射された光の軸上色収差を補正しつつ集光する。

シリンダミラー４０５及び凹面ミラー４０６は、リレーレンズ４０３，４０４から出射された光を、画像表示ユニット５０に設けられているＤＭＤ５５１に反射する。ＤＭＤ５５１は、凹面ミラー４０６からの反射光を変調して投影画像を生成する。

［投影光学系ユニット］
図５は、実施形態における投影光学系ユニット６０の内部構成を例示する図である。

図５に示されるように、投影光学系ユニット６０は、投影レンズ６０１、折り返しミラー６０２、曲面ミラー６０３がケースの内部に設けられている。

投影レンズ６０１は、複数のレンズを有し、画像表示ユニット５０のＤＭＤ５５１によって生成された投影画像を、折り返しミラー６０２に結像させる。折り返しミラー６０２及び曲面ミラー６０３は、結像された投影画像を拡大するように反射して、プロジェクタ１の外部のスクリーンＳ等に投影する。

［画像表示ユニット］
図６は、実施形態における画像表示ユニット５０を例示する斜視図である。また、図７は、実施形態における画像表示ユニット５０を例示する側面図である。

図６及び図７に示されるように、画像表示ユニット５０は、固定支持されている固定ユニット５１、固定ユニット５１に対して移動可能に設けられている可動ユニット５５を有する。

固定ユニット５１は、第１固定板としてのトッププレート５１１、第２固定板としてのベースプレート５１２を有する。固定ユニット５１は、トッププレート５１１とベースプレート５１２とが所定の間隙を介して平行に設けられており、照明光学系ユニット４０の下部に固定される。

可動ユニット５５は、ＤＭＤ５５１、第１可動板としての可動プレート５５２、第２可動板としての結合プレート５５３、ヒートシンク５５４を有し、固定ユニット５１に移動可能に支持されている。

可動プレート５５２は、固定ユニット５１のトッププレート５１１とベースプレート５１２との間に設けられ、固定ユニット５１によってトッププレート５１１及びベースプレート５１２と平行且つ表面に平行な方向に移動可能に支持されている。

結合プレート５５３は、固定ユニット５１のベースプレート５１２を間に挟んで可動プレート５５２に固定されている。結合プレート５５３は、上面側にＤＭＤ５５１が固定して設けられ、下面側にヒートシンク５５４が固定されている。結合プレート５５３は、可動プレート５５２に固定されることで、可動プレート５５２、ＤＭＤ５５１、及びヒートシンク５５４と共に固定ユニット５１に移動可能に支持されている。

ＤＭＤ５５１は、結合プレート５５３の可動プレート５５２側の面に設けられ、可動プレート５５２及び結合プレート５５３と共に移動可能に設けられている。ＤＭＤ５５１は、可動式の複数のマイクロミラーが格子状に配列された画像生成面を有する。ＤＭＤ５５１の各マイクロミラーは、鏡面がねじれ軸周りに傾動可能に設けられており、システムコントロール部１０の画像制御部１１から送信される画像信号に基づいてＯＮ／ＯＦＦ駆動される。

マイクロミラーは、例えば「ＯＮ」の場合には、光源３０からの光を投影光学系ユニット６０に反射するように傾斜角度が制御される。また、マイクロミラーは、例えば「ＯＦＦ」の場合には、光源３０からの光をＯＦＦ光板に向けて反射する方向に傾斜角度が制御される。

このように、ＤＭＤ５５１は、画像制御部１１から送信される画像信号によって各マイクロミラーの傾斜角度が制御され、光源３０から照射されて照明光学系ユニット４０を通った光を変調して投影画像を生成する。

ヒートシンク５５４は、放熱手段の一例であり、少なくとも一部分がＤＭＤ５５１に当接するように設けられている。ヒートシンク５５４は、移動可能に支持される結合プレート５５３にＤＭＤ５５１と共に設けられることで、ＤＭＤ５５１に当接して効率的に冷却することが可能になっている。このような構成により、本実施形態に係るプロジェクタ１では、ヒートシンク５５４がＤＭＤ５５１の温度上昇を抑制し、ＤＭＤ５５１の温度上昇による動作不良や故障等といった不具合の発生が低減されている。

（固定ユニット）
図８は、実施形態における固定ユニット５１を例示する斜視図である。また、図９は、実施形態における固定ユニット５１を例示する分解斜視図である。

図８及び図９に示されるように、固定ユニット５１は、トッププレート５１１、ベースプレート５１２を有する。

トッププレート５１１及びベースプレート５１２は、平板状部材から形成され、それぞれ可動ユニット５５のＤＭＤ５５１に対応する位置に中央孔５１３，５１４が設けられている。また、トッププレート５１１及びベースプレート５１２は、複数の支柱５１５によって、所定の間隙を介して平行に設けられている。

支柱５１５は、図９に示されるように、上端部がトッププレート５１１に形成されている支柱孔５１６に圧入され、雄ねじ溝が形成されている下端部がベースプレート５１２に形成されている支柱孔５１７に挿入される。支柱５１５は、トッププレート５１１とベースプレート５１２との間に一定の間隔を形成し、トッププレート５１１とベースプレート５１２とを平行に支持する。

また、トッププレート５１１及びベースプレート５１２には、支持球体５２１を回転可能に保持する支持孔５２２，５２６がそれぞれ複数形成されている。

トッププレート５１１の支持孔５２２には、内周面に雌ねじ溝を有する円筒状の保持部材５２３が挿入される。保持部材５２３は、支持球体５２１を回転可能に保持し、位置調整ねじ５２４が上から挿入される。ベースプレート５１２の支持孔５２６は、下端側が蓋部材５２７によって塞がれ、支持球体５２１を回転可能に保持する。

トッププレート５１１及びベースプレート５１２の支持孔５２２，５２６に回転可能に保持される支持球体５２１は、それぞれトッププレート５１１とベースプレート５１２との間に設けられる可動プレート５５２に当接し、可動プレート５５２を移動可能に支持する。

図１０は、実施形態における固定ユニット５１による可動プレート５５２の支持構造を説明するための図である。また、図１１は、図１０に示されるＡ部分の概略構成を例示する部分拡大図である。

図１０及び図１１に示されるように、トッププレート５１１では、支持孔５２２に挿入される保持部材５２３によって支持球体５２１が回転可能に保持されている。また、ベースプレート５１２では、下端側が蓋部材５２７によって塞がれている支持孔５２６によって支持球体５２１が回転可能に保持されている。

各支持球体５２１は、支持孔５２２，５２６から少なくとも一部分が突出するように保持され、トッププレート５１１とベースプレート５１２との間に設けられる可動プレート５５２に当接して支持する。可動プレート５５２は、回転可能に設けられている複数の支持球体５２１により、トッププレート５１１及びベースプレート５１２と平行且つ表面に平行な方向に移動可能に両面から支持される。

また、トッププレート５１１側に設けられている支持球体５２１は、可動プレート５５２とは反対側で当接する位置調整ねじ５２４の位置に応じて、保持部材５２３の下端からの突出量が変化する。例えば、位置調整ねじ５２４がＺ１方向に変位すると、支持球体５２１の突出量が減り、トッププレート５１１と可動プレート５５２との間隔が小さくなる。また、例えば、位置調整ねじ５２４がＺ２方向に変位すると、支持球体５２１の突出量が増え、トッププレート５１１と可動プレート５５２との間隔が大きくなる。

このように、位置調整ねじ５２４を用いて支持球体５２１の突出量を変化させることで、トッププレート５１１と可動プレート５５２との間隔を適宜調整できる。

また、図８及び図９に示されるように、トッププレート５１１のベースプレート５１２側の面には、磁石５３１，５３２，５３３，５３４が設けられている。

図１２は、実施形態におけるトッププレート５１１を例示する底面図である。図１２に示されるように、トッププレート５１１のベースプレート５１２側の面には、磁石５３１，５３２，５３３，５３４が設けられている。

磁石５３１，５３２，５３３，５３４は、トッププレート５１１の中央孔５１３を囲むように４箇所に設けられている。磁石５３１，５３２，５３３，５３４は、それぞれ長手方向が平行になるように配置された直方体状の２つの磁石で構成され、それぞれ可動プレート５５２に及ぶ磁界を形成する。

磁石５３１，５３２，５３３，５３４は、それぞれ可動プレート５５２の上面に各磁石５３１，５３２，５３３，５３４に対向して設けられているコイルとで、可動プレート５５２を移動させる移動手段を構成する。

なお、上記した固定ユニット５１に設けられる支柱５１５、支持球体５２１の数や位置等は、可動プレート５５２を移動可能に支持できればよく、本実施形態に例示される構成に限られるものではない。

（可動ユニット）
図１３は、実施形態における可動ユニット５５を例示する斜視図である。また、図１４は、実施形態における可動ユニット５５を例示する分解斜視図である。

図１３及び図１４に示されるように、可動ユニット５５は、ＤＭＤ５５１、可動プレート５５２、結合プレート５５３、ヒートシンク５５４、保持部材５５５、ＤＭＤ基板５５７を有し、固定ユニット５１に対して移動可能に支持されている。

可動プレート５５２は、上記したように、固定ユニット５１のトッププレート５１１とベースプレート５１２との間に設けられ、複数の支持球体５２１により表面に平行な方向に移動可能に支持される。

図１５は、実施形態における可動プレート５５２を例示する斜視図である。

図１５に示されるように、可動プレート５５２は、平板状の部材から形成され、ＤＭＤ基板５５７に設けられるＤＭＤ５５１に対応する位置に中央孔５７０を有し、中央孔５７０の周囲にコイル５８１，５８２，５８３，５８４が設けられている。

コイル５８１，５８２，５８３，５８４は、それぞれＺ１Ｚ２方向に平行な軸を中心として電線が巻き回されることで形成され、可動プレート５５２のトッププレート５１１側の面に形成されている凹部に設けられてカバーで覆われている。コイル５８１，５８２，５８３，５８４は、それぞれトッププレート５１１の磁石５３１，５３２，５３３，５３４とで、可動プレート５５２を移動させる移動手段を構成する。

トッププレート５１１の磁石５３１，５３２，５３３，５３４と、可動プレート５５２のコイル５８１，５８２，５８３，５８４とは、可動ユニット５５が固定ユニット５１に支持された状態で、それぞれ対向する位置に設けられている。コイル５８１，５８２，５８３，５８４に電流が流されると、磁石５３１，５３２，５３３，５３４によって形成される磁界により、可動プレート５５２を移動させる駆動力となるローレンツ力が発生する。

可動プレート５５２は、磁石５３１，５３２，５３３，５３４とコイル５８１，５８２，５８３，５８４との間で発生する駆動力としてのローレンツ力を受けて、固定ユニット５１に対して、ＸＹ平面において直線的又は回転するように変位する。

各コイル５８１，５８２，５８３，５８４に流される電流の大きさ及び向きは、システムコントロール部１０の移動制御部１２によって制御される。移動制御部１２は、各コイル５８１，５８２，５８３，５８４に流す電流の大きさ及び向きによって、可動プレート５５２の移動（回転）方向、移動量や回転角度等を制御する。

本実施形態では、第１駆動手段として、コイル５８１及び磁石５３１と、コイル５８４及び磁石５３４とが、Ｘ１Ｘ２方向に対向して設けられている。コイル５８１及びコイル５８４に電流が流されると、図１５に示されるようにＸ１方向又はＸ２のローレンツ力が発生する。可動プレート５５２は、コイル５８１及び磁石５３１と、コイル５８４及び磁石５３４とにおいて発生するローレンツ力により、Ｘ１方向又はＸ２方向に移動する。

また、本実施形態では、第２駆動手段として、コイル５８２及び磁石５３２と、コイル５８３及び磁石５３３とが、Ｘ１Ｘ２方向に並んで設けられ、磁石５３２及び磁石５３３は、磁石５３１及び磁石５３４とは長手方向が直交するように配置されている。このような構成において、コイル５８２及びコイル５８３に電流が流されると、図１５に示されるようにＹ１方向又はＹ２方向のローレンツ力が発生する。

可動プレート５５２は、コイル５８２及び磁石５３２と、コイル５８３及び磁石５３３とにおいて発生するローレンツ力により、Ｙ１方向又はＹ２方向に移動する。また、可動プレート５５２は、コイル５８２及び磁石５３２と、コイル５８３及び磁石５３３とで反対方向に発生するローレンツ力により、ＸＹ平面において回転するように変位する。

例えば、コイル５８２及び磁石５３２においてＹ１方向のローレンツ力が発生し、コイル５８３及び磁石５３３においてＹ２方向のローレンツ力が発生するように電流が流されると、可動プレート５５２は、上面視で時計回り方向に回転するように変位する。また、コイル５８２及び磁石５３２においてＹ２方向のローレンツ力が発生し、コイル５８３及び磁石５３３においてＹ１方向のローレンツ力が発生するように電流が流されると、可動プレート５５２は、上面視で反時計回り方向に回転するように変位する。

また、可動プレート５５２には、固定ユニット５１の支柱５１５に対応する位置に、可動範囲制限孔５７１が設けられている。可動範囲制限孔５７１は、固定ユニット５１の支柱５１５が挿入され、例えば振動や何らかの異常等により可動プレート５５２が大きく移動した時に支柱５１５に接触することで、可動プレート５５２の可動範囲を制限する。

以上で説明したように、本実施形態では、システムコントロール部１０の移動制御部１２が、コイル５８１，５８２，５８３，５８４に流す電流の大きさや向きを制御することで、可動範囲内で可動プレート５５２を任意の位置に移動させることができる。

なお、移動手段としての磁石５３１，５３２，５３３，５３４及びコイル５８１，５８２，５８３，５８４の数、位置等は、可動プレート５５２を任意の位置に移動させることが可能であれば、本実施形態とは異なる構成であってもよい。例えば、移動手段としての磁石は、トッププレート５１１の上面に設けられてもよく、ベースプレート５１２の何れかの面に設けられてもよい。また、例えば、磁石が可動プレート５５２に設けられ、コイルがトッププレート５１１又はベースプレート５１２に設けられてもよい。

また、可動範囲制限孔５７１の数、位置及び形状等は、本実施形態に例示される構成に限られない。例えば、可動範囲制限孔５７１は一つであってもよく、複数であってもよい。また、可動範囲制限孔５７１の形状は、例えば長方形や円形等、本実施形態とは異なる形状であってもよい。

固定ユニット５１によって移動可能に支持される可動プレート５５２の下面側（ベースプレート５１２側）には、図１３に示されるように、結合プレート５５３が固定されている。結合プレート５５３は、平板状部材から形成され、ＤＭＤ５５１に対応する位置に中央孔を有し、周囲に設けられている折り曲げ部分が３本のねじ５９１によって可動プレート５５２の下面に固定されている。

図１６は、可動プレート５５２が外された可動ユニット５５を例示する斜視図である。

図１６に示されるように、結合プレート５５３には、上面側にＤＭＤ５５１、下面側にヒートシンク５５４が設けられている。結合プレート５５３は、可動プレート５５２に固定されることで、ＤＭＤ５５１、ヒートシンク５５４と共に、可動プレート５５２に伴って固定ユニット５１に対して移動可能に設けられている。

ＤＭＤ５５１は、ＤＭＤ基板５５７に設けられており、ＤＭＤ基板５５７が保持部材５５５と結合プレート５５３との間で挟み込まれることで、結合プレート５５３に固定されている。保持部材５５５、ＤＭＤ基板５５７、結合プレート５５３、ヒートシンク５５４は、図１４及び図１６に示されるように、固定部材としての段付ねじ５６０及び押圧手段としてのばね５６１によって重ねて固定されている。

図１７は、実施形態における可動ユニット５５のＤＭＤ保持構造について説明する図である。図１７は、可動ユニット５５の側面図であり、可動プレート５５２及び結合プレート５５３は図示が省略されている。

図１７に示されるように、ヒートシンク５５４は、結合プレート５５３に固定された状態で、ＤＭＤ基板５５７に設けられている貫通孔からＤＭＤ５５１の下面に当接する突出部５５４ａを有する。なお、ヒートシンク５５４の突出部５５４ａは、ＤＭＤ基板５５７の下面であって、ＤＭＤ５５１に対応する位置に当接するように設けられてもよい。

また、ＤＭＤ５５１の冷却効果を高めるために、ヒートシンク５５４の突出部５５４ａとＤＭＤ５５１との間に弾性変形可能な伝熱シートが設けられてもよい。伝熱シートによりヒートシンク５５４の突出部５５４ａとＤＭＤ５５１との間の熱伝導性が向上し、ヒートシンク５５４によるＤＭＤ５５１の冷却効果が向上する。

上記したように、保持部材５５５、ＤＭＤ基板５５７、ヒートシンク５５４は、段付きねじ５６０及びばね５６１によって重ねて固定されている。段付きねじ５６０が締められると、ばね５６１がＺ１Ｚ２方向に圧縮され、図１７に示されるＺ１方向の力Ｆ１がばね５６１から生じる。ばね５６１から生じる力Ｆ１により、ヒートシンク５５４はＺ１方向に力Ｆ２でＤＭＤ５５１に押圧されることとなる。

本実施形態では、段付きねじ５６０及びばね５６１は４箇所に設けられており、ヒートシンク５５４にかかる力Ｆ２は、４つのばね５６１に生じる力Ｆ１を合成したものに等しい。また、ヒートシンク５５４からの力Ｆ２は、ＤＭＤ５５１が設けられているＤＭＤ基板５５７を保持する保持部材５５５に作用する。この結果、保持部材５５５には、ヒートシンク５５４からの力Ｆ２に相当するＺ２方向の反力Ｆ３が生じ、保持部材５５５と結合プレート５５３との間でＤＭＤ基板５５７を保持できるようになる。

段付きねじ５６０及びばね５６１には、保持部材５５５に生じる力Ｆ３からＺ２方向の力Ｆ４が作用する。ばね５６１は、４箇所に設けられているため、それぞれに作用する力Ｆ４は、保持部材５５５に生じる力Ｆ３の４分の１に相当し、力Ｆ１と釣り合うこととなる。

また、保持部材５５５は、図１７において矢印Ｂで示されるように撓むことが可能な部材で板ばね状に形成されている。保持部材５５５は、ヒートシンク５５４の突出部５５４ａに押圧されて撓み、ヒートシンク５５４をＺ２方向に押し返す力が生じることで、ＤＭＤ５５１とヒートシンク５５４との接触をより強固に保つことができる。

可動ユニット５５は、以上で説明したように、可動プレート５５２と、ＤＭＤ５５１及びヒートシンク５５４を有する結合プレート５５３とが、固定ユニット５１によって移動可能に支持されている。可動ユニット５５の位置は、システムコントロール部１０の移動制御部１２によって制御される。また、可動ユニット５５には、ＤＭＤ５５１に当接するヒートシンク５５４が設けられており、ＤＭＤ５５１の温度上昇に起因する動作不良や故障といった不具合の発生が防止されている。

＜画像投影＞
上記したように、本実施形態に係るプロジェクタ１において、投影画像を生成するＤＭＤ５５１は、可動ユニット５５に設けられており、システムコントロール部１０の移動制御部１２によって可動ユニット５５と共に位置が制御される。

移動制御部１２は、例えば、画像投影時にフレームレートに対応する所定の周期で、ＤＭＤ５５１の複数のマイクロミラーの配列間隔未満の距離だけ離れた複数の位置の間を高速移動するように可動ユニット５５の位置を制御する。このとき、画像制御部１１は、それぞれの位置に応じてシフトした投影画像を生成するようにＤＭＤ５５１に画像信号を送信する。

例えば、移動制御部１２は、Ｘ１Ｘ２方向及びＹ１Ｙ２方向にＤＭＤ５５１のマイクロミラーの配列間隔未満の距離だけ離れた位置Ｐ１と位置Ｐ２との間で、ＤＭＤ５５１を所定の周期で往復移動させる。このとき、画像制御部１１が、それぞれの位置に応じてシフトした投影画像を生成するようにＤＭＤ５５１を制御することで、投影画像の解像度を、ＤＭＤ５５１の解像度の約２倍にすることが可能になる。また、ＤＭＤ５５１の移動位置を増やすことで、投影画像の解像度をＤＭＤ５５１の２倍以上にすることもできる。

このように、移動制御部１２が可動ユニット５５と共にＤＭＤ５５１を所定の周期で移動させ、画像制御部１１がＤＭＤ５５１に位置に応じた投影画像を生成させることで、ＤＭＤ５５１の解像度以上の画像を投影することが可能になる。

また、本実施形態に係るプロジェクタ１では、移動制御部１２がＤＭＤ５５１を可動ユニット５５と共に回転するように制御することで、投影画像を縮小させることなく回転させることができる。例えばＤＭＤ５５１等の画像生成手段が固定されているプロジェクタでは、投影画像を縮小させなければ、投影画像の縦横比を維持しながら回転させることはできない。これに対して、本実施形態に係るプロジェクタ１では、ＤＭＤ５５１を回転させることができるため、投影画像を縮小させることなく回転させて傾き等の調整を行うことが可能になっている。

以上で説明したように、本実施形態に係るプロジェクタ１では、ＤＭＤ５５１が移動可能に構成されることで、投影画像の高解像度化が可能になっている。また、ＤＭＤ５５１を冷却するヒートシンク５５４が、ＤＭＤ５５１と共に可動ユニット５５に搭載されていることで、ＤＭＤ５５１に当接してより効率的に冷却することが可能になり、ＤＭＤ５５１の温度上昇が抑制されている。したがって、プロジェクタ１では、ＤＭＤ５５１の温度上昇に起因して発生する動作不良や故障といった不具合が低減される。

ここで、投影画像の高解像度化の一例について説明する。
図１８（ａ）は、ＤＭＤ５５１を移動させなかった場合の投影画像の拡大図であり、図１８（ｂ）は、Ｘ１Ｘ２方向及びＹ１Ｙ２方向にＤＭＤ５５１のマイクロミラーの配列間隔の１／２の距離、所定の周期で往復移動させた場合の投影画像の拡大図である。なお、図１８は、斜め４５°の線画像の拡大図である。

図１８（ａ）に示すように、ＤＭＤ５５１を移動させなかった場合、斜め４５°の線は、マイクロミラーの配列間隔の段差の線となる。一方、図１８（ｂ）に示すように、ＤＭＤ５５１を、Ｘ１Ｘ２方向及びＹ１Ｙ２方向にＤＭＤ５５１のマイクロミラーの配列間隔ａの１／２ａの距離、所定の周期で往復移動させた場合、斜め４５°の線は、マイクロミラーの配列間隔ａの１／２ａの段差の線となる。これにより、ＤＭＤ５５１を移動させなかった場合に比べて、投影画像の解像度を２倍にすることができる。

プロジェクタ１は、先の図１に示したように、出射窓３が上向きとなる床上や机上に設置する通常設置以外の姿勢で設置されることがある。例えば、図１９に示すように、天井などに吊り下げられた姿勢で設置（以下「天吊設置」と言う）されたり、図２０に示すように、装置の側面が下向きとなるような姿勢で設置（以下、ポートレート設置という）される場合がある。このポートレート設置とすることにより、通常設置において横長（短辺が上下方向、長辺が水平方向）の投影画像を、縦長（短辺が水平方向、長辺が上下方向）にすることができる。また、ユーザーによっては、図２１に示すように、プロジェクタ１を、スクリーンＳの面の垂直方向に対して所定角度傾けた姿勢で設置（以下、前後傾斜設置という）する場合もある。

図２２は、プロジェクタの設置姿勢と、そのときの可動ユニット５５の重力方向について説明する図である。

図２２（ａ）に示すように、通常設置のときは、可動ユニット５５の重力方向は、Ｚ２方向であり、可動ユニット５５の重力は、固定ユニット５１から離れる方向に働く。図２２（ｂ）に示すように、天吊設置のときは、可動ユニット５５の重力方向が、Ｚ１方向となり、可動ユニット５５の重力は、固定ユニット５１に近づく方向に働く。また、図２２（ｃ）に示すように、先の図２０に示すポートレート設置の場合、可動ユニット５５の重力方向が、Ｘ１方向となる。一方、プロジェクタ１のＸ２方向側（投影光学系ユニット６０配置側）の側面を下向きにしたポートレート設置のときは、図２２（ｄ）に示すように、可動ユニット５５の重力方向が、Ｘ２方向となる。このように、ポートレート設置のとき、可動ユニットの重力方向が、プロジェクタ１の幅方向（Ｘ１，Ｘ２方向）となる。

また、先の図２１に示した前後傾斜設置の場合は、傾斜角度に応じた可動ユニット重力が、プロジェクタの奥行き方向（Ｙ１，Ｙ２方向）に働く。具体的に説明すると、可動ユニット５５の荷重をｇ、傾斜角度をθとすると、ｇＳＩＮθが、傾斜角度に応じた可動ユニットの重力としてプロジェクタの奥行き方向（Ｙ１，Ｙ２方向）に働くことになる。

このように、プロジェクタ１の設置姿勢により、プロジェクタに対する可動ユニット５５の重力の方向が互いに異なり、その結果、プロジェクタ１の設置姿勢により、ＤＭＤ５５１の移動制御において、可動ユニット５５の重力の影響が互いに異なってくる。

例えば、図２２（ｃ）示す状態のとき、通常設置と同じ駆動条件で可動ユニット５５をＸ１方向に移動させると、可動ユニット５５の重力の影響で、所定の移動距離で止まらず、オーバシュートしてしまうおそれがある。また、可動ユニット５５をＸ２方向に移動させる場合は、可動ユニット５５の重力に抗して可動ユニット５５を上昇させる必要があり、通常設置時の駆動条件では、可動ユニット５５を持ち上げることができないおそれがある。その結果、ＤＭＤ５５１の位置を精度よく位置制御できず、色ずれが生じるなど、投影画像の品質が著しく劣化するおそれがある。

また、先の図２１に示した前後傾斜設置の場合は、可動ユニット５５をプロジェクタの奥行き方向（Ｙ１，Ｙ２方向）の移動において、重力の影響を受けて、奥行き方向において、ＤＭＤ５５１の位置を精度よく位置制御できない。

また、天吊設置においては、可動ユニット５５は、固定ユニット５１へ近づく方向に重力が働くため、コイル５８１，５８２，５８３，５８４と磁石との距離が、通常設置のときに比べて近づく場合がある。その結果、通常設置時の駆動条件でＤＭＤ５１１の移動制御を行った場合、ＤＭＤ５５１の位置を精度よく位置制御できないおそれがある。

そこで、本実施形態においては、プロジェクタ１の設置姿勢に応じて、可動ユニット５５を移動させる駆動条件を設定した。

図２３は、駆動条件設定フローの一例を示す図である。
移動制御手段たる移動制御部１２（図２参照）は、プロジェクタ１がどのような設置姿勢で設置されているかを検知する。
本実施形態のプロジェクタでは、ユーザーが操作部やパソコンの操作により「天吊モード」や「ポートレートモード」など、設置姿勢に対応した投影モードが設定ができるようになっている。天吊設置の場合は、通常設置のときと同じ投影設定であると、上下反転した投影画像が投影されてしまう。また、ポートレート設置の場合は、通常設置のときと同じ投影設定であると、９０°回転した投影画像が投影されてしまう。そのため、天吊設置した場合や、ポートレート設置した場合は、ユーザーが操作部やパソコンの操作により「天吊モード」や「ポートレートモード」など、設置姿勢に対応した投影モードに設定にするのである。「天吊モード」に設定された場合、先の図２に示した画像制御部１１は、入力された画像データについて、上下反転する処理を行う。また、「ポートレートモード」に設定された場合は、先の図２に示した画像制御部１１は、入力された画像データについて、９０°回転する処理や、横長画像を縦長画像に変換する処理などを行う。

移動制御部１２は、投影モードの設定を検知して、投影モードが「天吊モード」の場合（Ｓ１のＹｅｓ）、可動ユニット５５の駆動条件として、天吊駆動条件を選択する。

また、投影モードが「ポートレートモード」の場合（Ｓ２のＹｅｓ）、可動ユニット５５の駆動条件として、ポートレート駆動条件を選択する（Ｓ７）。

また、先の図２に示すように、プロジェクタ１は、加速度センサ１３を備えており、プロジェクタ１の傾斜角度を検知できるようになっている。移動制御部１２は、この加速度センサ１３の検知結果に基づいて、プロジェクタ１が傾斜設置されているか否かをチェックして、傾斜設置されている場合（Ｓ３のＹｅｓ）は、傾斜角度に応じた駆動条件を選択する（Ｓ８）。

移動制御部１２は、「天吊モード」や「ポートレートモード」などが設定されておらず、また、加速度センサ１３が傾斜角度を検知していない場合（Ｓ１のＮｏ、Ｓ２のＮｏ、Ｓ３のＮｏ）は、通常設置に対応した通常駆動条件を選択する（Ｓ４）。

そして、移動制御部１２は、選択した駆動条件に基づいて、コイル５８１，５８２，５８３，５８４に流す電流を制御する（Ｓ５）。

各駆動条件は、システムコントロール部１０の不揮発性メモリにそれぞれ記憶されており、予め実験により求められた最適な駆動条件が記憶されている。例えば、ポートレート駆動条件の場合は、ポートレート設置で実験を行って、良好な投影画像が得られたときの駆動条件である。具体的には、電流を切り替えるタイミングや、電流値が各設置姿勢に応じて最適化された条件となっている。

ポートレート設置の場合のポートレート駆動条件の一例としては、次のような駆動条件とすることが考えられる。可動ユニット５５を下降させる場合は、通常設置の駆動条件に対して、下降方向から上昇方向に駆動力を切り替えるタイミングを速くしたり、電流値を小さくして駆動力たるローレンツ力を小さくしたりする。また、可動ユニット５５を上昇させる場合は、通常設置の駆動条件に対して、電流値を大きくして、駆動力たるローレンツ力を大きくしたりする。

また、ポートレート駆動条件において、重力方向と直交する方向のＹ１，Ｙ２方向の駆動条件も、通常設置の駆動条件と異ならせてもよい。これは、通常設置とポートレート設置とで、同じ重力方向に対して直交する方向の移動であっても重力の影響が異なる。例えば、支持球体５２１と支持孔５２２，５２６との摩擦力などが、重力の影響により異なってくるおそれがある。このような摩擦力の差は、僅かであり、そのため駆動への影響も僅かである。しかし、上述したように、投影画像を高解像度化するために、可動ユニット５５たる可動保持手段は、微小の範囲を高速度で往復移動するため、このような僅かな差による僅かな駆動への影響でも大きく画像に影響するおそれがある。よって、ポートレート設置において、重力方向と直交する方向のＹ１，Ｙ２方向の駆動条件も、通常設置の駆動条件と異ならせことで、Ｙ１，Ｙ２方向の移動も精度よく行うことができる。

また、傾斜設置のときの駆動条件は、各傾斜角度に応じた最適な駆動条件を不揮発性メモリに記憶しておいても良いし、計算により各傾斜角度に応じた最適な駆動条件を算出してもよい。

天吊設置においては、通常設置と同様、可動ユニット５５の移動は、いずれの方向でも水平移動である。しかし、天吊設置と通常設置とで、重力の影響が互いに異なる。すなわち、上述したように、天吊設置は、通常設置とは逆に、可動ユニット５５は、固定ユニット５１へ近づく方向に重力が働く。そのため、コイル５８１，５８２，５８３，５８４と磁石との距離が、通常設置のときに比べて近づき、通常設置の駆動条件では、駆動力が大きくなってしまう場合がある。また、天吊設置と通常設置とで支持球体５２１と支持孔５２２，５２６との摩擦力なども、重力の影響により異なってくるおそれがある。これらの違いは、僅かであり、駆動の影響が僅かでも、ミクロンオーダで高速で可動ユニット５５を往復移動するため、この僅かな違いが投影画像に影響を及ぼすおそれがある。よって、天吊設置において、駆動条件を、通常設置の駆動条件とは、別に設定することで、精度よく可動ユニット５５を移動させることができる。

また、加速度センサの検知結果に基づいて、天吊設置、ポートレート設置を検知してもよい。

以上に説明したものは一例であり、以下の態様毎に特有の効果を奏する。
（態様１）
画像表示ユニット５０などの画像生成手段移動装置は、プロジェクタ１などの画像投影装置に設けられ、光源３０から照射される光を用いて画像を生成するＤＭＤ５５１などの画像生成手段を保持し、移動可能に構成された可動ユニット５５などの可動保持手段と、可動保持手段を移動させる駆動手段（コイルと磁石などで構成）と駆動手段を制御する移動制御部１２などの移動制御手段と、画像投影装置の設置姿勢を検知する検知手段（本実施形態では、移動制御部１２などで構成）とを備え、移動制御手段は、検知手段の検知結果に基づいて、可動保持手段の駆動条件を設定する。
これによれば、実施形態で説明したように、画像投影装置の設置姿勢に基づいて、駆動手段の駆動条件を設定することで、画像投影装置の設置姿勢による重力の影響を考慮した最適な駆動条件で駆動手段を制御することが可能となる。
例えば、画像生成手段を保持した可動保持手段の往復移動が上下方向となる姿勢で画像投影装置を設置した場合、可動保持手段を下降させる場合は、重力の影響で、所定位置よりもオーバーして可動保持手段が移動してしまう場合がある。よって、この場合は、可動保持手段の往復移動が水平方向となる姿勢で画像投影装置を設置した場合に比べて、例えば、下降から上昇に切り替えるタイミングを速めたり、駆動力を弱めたりした駆動条件に設定する。また、可動保持手段を上昇させる場合は、重力の影響で、所定のタイミングまでに規定の位置まで可動保持手段を上昇させることができない場合がある。よってこの場合は、可動保持手段の往復移動が水平方向となる姿勢で画像投影装置を設置した場合に比べて、駆動力が強くなる駆動条件に設定する。
このように、画像投影装置の設置姿勢による重力の影響を考慮した駆動条件で駆動手段を制御することで、画像投影装置の設置姿勢によらず、画像生成手段を精度よく所定の周期で往復移動させることができ、画像投影装置の設置姿勢によらずに、投影画像の高解像度化を図ることができる。

（態様２）
（態様１）において、移動制御部１２などの移動制御手段は、検知手段が画像投影装置が天井に吊り下げて設置された状態を検知したとき、駆動手段の駆動条件を、天吊駆動条件などの天井吊り下げ設置に対応する駆動条件に設定する。
実施形態で説明したように、天井に吊り下げた天吊設置の場合、可動ユニット５５に設けたコイルが、固定ユニットに設けた磁石に近づく方向に可動ユニット５５の重力が働き、机上や床上に設置される通常設置の場合とは、逆方向に重力が働く。そのため、重力の影響で、通常設置と天吊設置とでコイルと磁石との距離が互いに異なる場合がある。また、天吊設置と通常設置とで重力の影響が異なることで、例えば、支持球体５２１と支持孔５２２，５２６との摩擦力なども異なってくる。このような摩擦力差や、磁石とコイルとの隙間の差は、僅かであり、駆動への影響も僅かである。しかし、上述したように、投影画像を高解像度化するために、可動ユニット５５たる可動保持手段は、微小の範囲を高速度で往復移動するため、このような僅かな差による僅かな駆動への影響も投影画像に影響するおそれがある。
よって、（態様２）のように、天吊設置のとき、駆動手段の駆動条件を、天吊設置に対応する天吊駆動条件に設定することで、天吊設置でも、精度のよく画像生成手段を所定の周期で往復移動することができ、投影画像の高解像度化を図ることができる。

（態様３）
（態様１）または（態様２）において、移動制御部１２などの移動制御手段は、検知手段が、画像投影装置の側面を下向きにして設置された状態を検知したとき、駆動手段の駆動条件を、側面下向き設置に対応する駆動条件に設定する。
実施形態で説明したように、画像投影装置の側面を下向きにして設置するポートレート設置の場合、可動ユニット５５などの可動保持手段のＸ１Ｘ２方向の移動が、上下方向となる。この場合、可動保持手段を下降する方向に移動させた場合、可動保持手段の重力の影響で、所定の位置よりも下方へ移動するおそれがある。また、可動保持手段を上昇させる場合は、可動保持手段の重力の影響で、可動保持手段が持ち上がらず、可動保持手段を移動させることができなかったり、所定のタイミングまで、可動保持手段を規定の位置に到達させることができなかったりするおそれがある。
よって、（態様３）のように、ポートレート設置のとき、駆動手段の駆動条件を、ポートレート駆動条件などの側面下向き設置に対応する駆動条件に設定することで、ポートレート設置のときに最適な駆動条件で、可動保持手段を動かすことができる。これにより、ポートレート設置でも、精度のよく画像生成手段を所定の周期で往復移動することができ、投影画像の高解像度化を図ることができる。

（態様４）
（態様１）乃至（態様３）いずれかにおいて、移動制御部１２などの移動制御手段は、検知手段が、画像投影装置が水平面に対して傾けて設置された状態を検知したとき、駆動手段の駆動条件を、画像投影装置の傾斜角度に対応する駆動条件に設定する。
実施形態で説明したように、画像投影装置が水平面に対して傾けて設置されるこことで、可動ユニット５５などの可動保持手段の重力の影響を受けて、通常設置のときと同じ駆動条件では、精度よく可動保持手段を所定の周期で往復移動させることができない。
よって、傾斜設置のとき、駆動手段の駆動条件を、傾斜角度に対応する駆動条件に設定することで、プロジェクタ１などの画像投影装置が傾斜設置された場合でも、精度のよく画像生成手段を所定の周期で往復移動することができ、投影画像の高解像度化を図ることができる。

（態様５）
（態様４）において、加速度センサ１３などの角度センサを備え、検知手段は、角度センサの検知結果に基づいて、前記検知手段は、画像投影装置の設置姿勢を検知する。
これによれば、簡単な構成で、画像投影装置の設置姿勢を検知することができる。

（態様６）
画像投影装置において、（態様１）乃至（態様５）いずれかの画像生成手段可動装置を備えた。
これによれば、ＤＭＤ５５１などの画像生成手段の解像度よりも高い解像度の投影画像を投影することができる。

（態様７）
（態様６）において、ＤＭＤ５５１などの画像生成手段は、光源３０から照射された光を画像信号に基づいて変調する複数のマイクロミラーが配列されたデジタルマイクロミラーデバイスであり、移動制御部１２などの移動制御手段は、画像生成手段を、所定の周期で複数のマイクロミラーの配列間隔未満の距離を移動させるように可動保持手段を制御するものであり、画像生成手段の位置に応じた画像信号を生成する画像制御部１１などの画像制御手段を備える。
これによれば、実施形態で説明したように、ＤＭＤ５５１などの画像生成手段の解像度よりも高い解像度の投影画像を投影することができる。

（態様８）
（態様６）または（態様７）において、ユーザーが前記画像投影装置の設置姿勢に応じた投影モードを設定する操作部７などの投影設定手段を有し、検知手段は、ユーザーが投影設定手段で設定した投影モードにより画像投影装置の設置姿勢を検知する。
これによれば、実施形態で説明したように、操作部７などの投影設定手段により画像制御部１１で入力画像データを上下反転する天吊モードや、入力画像データを９０°回転させるポートレートモードなどの投影モードを備えている。検知手段は、ユーザーが投影設定手段で設定した投影モードにより画像投影装置の設置姿勢を検知することにより、簡単に、画像投影装置の設置姿勢を検知することができる。

１ プロジェクタ（画像投影装置）
７ 操作部（投影設定手段）
１０ システムコントロール部
１１ 画像制御部（画像制御手段）
１２ 移動制御部（移動制御手段）
１３ 加速度センサ（角度センサ）
３０ 光源
４０ 照明光学系ユニット
５０ 画像表示ユニット（画像生成手段移動装置）
５５ 可動ユニット（可動保持手段）
６０ 投影光学系ユニット
５１１ トッププレート（第１固定板）
５１２ ベースプレート（第２固定板）
５１５ 支柱
５２１ 支持球体
５２２，５２６ 支持孔
５２４ 位置調整ねじ
５３１，５３２，５３３，５３４ 磁石（駆動手段）
５８１，５８２，５８３，５８４ コイル（駆動手段）
５５１ ＤＭＤ（画像生成手段）
５５２ 可動プレート（第１可動板）
５５３ 結合プレート（第２可動板）
５５４ ヒートシンク（放熱手段）
５６０ 段付きねじ（固定手段）
５６１ ばね（押圧手段）
５７１ 可動範囲制限孔

特開２００５−８４５８１号公報

Claims (8)

1. 画像投影装置に設けられ、光源から照射される光を用いて画像を生成する画像生成手段を保持し、移動可能に構成された可動保持手段と、
   前記可動保持手段を移動させる駆動手段と、
   前記駆動手段を制御する移動制御手段と、
   前記画像投影装置の設置姿勢を検知する検知手段とを備え、
   前記移動制御手段は、前記検知手段の検知結果に基づいて、前記駆動手段の駆動条件を設定することを特徴とする画像生成手段移動装置。
2. 請求項１に記載の画像生成手段移動装置において、
   前記移動制御手段は、前記検知手段が前記画像投影装置が天井に吊り下げて設置された状態を検知したとき、前記駆動手段の駆動条件を、天井吊り下げ設置に対応する駆動条件に設定することを特徴とする画像生成手段移動装置。
3. 請求項１または２に記載の画像生成手段移動装置において、
   前記移動制御手段は、前記検知手段が、前記画像投影装置の側面を下向きにして設置された状態を検知したとき、前記駆動手段の駆動条件を、側面下向き設置に対応する駆動条件に設定することを特徴とする画像生成手段移動装置。
4. 請求項１乃至３いずれかに記載の画像生成手段移動装置において、
   前記移動制御手段は、前記検知手段が、前記画像投影装置が水平面に対して傾けて設置された状態を検知したとき、前記駆動手段の駆動条件を、前記画像投影装置の傾斜角度に対応する駆動条件に設定することを特徴とする画像生成手段移動装置。
5. 請求項１乃至４いずれかに記載の画像生成手段移動装置において、
   角度センサを備え、
   前記検知手段は、前記角度センサの検知結果に基づいて、前記画像投影装置の設置姿勢を検知することを特徴とする画像生成手段移動装置。
6. 請求項１乃至５いずれかに記載の画像生成手段移動装置を備えたことを特徴とする画像投影装置。
7. 請求項６に記載の画像投影装置において、
   前記画像生成手段は、前記光源から照射された光を画像信号に基づいて変調する複数のマイクロミラーが配列されたデジタルマイクロミラーデバイスであり、
   前記移動制御手段は、前記画像生成手段を、所定の周期で前記複数のマイクロミラーの配列間隔未満の距離を移動させるように前記駆動手段を制御するものであり、
   前記画像生成手段の位置に応じた画像信号を生成する画像制御手段を備えることを特徴とする画像投影装置。
8. 請求項６または７に記載の画像投影装置において、
   ユーザーが前記画像投影装置の設置姿勢に応じた投影モードを設定する投影設定手段を有し、
   前記検知手段は、ユーザーが投影設定手段で設定した投影モードにより前記画像投影装置の設置姿勢を検知することを特徴とする画像投影装置。

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