JP2016153963A - タッチパネル - Google Patents

Abstract

【課題】タッチパネルを製造する際の製造コスト低減を図る。
【解決手段】液晶パネル用の透明基板に設けられたタッチパネル１０は、第１不可視化層１１と、透明電極４と、第２不可視化層１２とを備える。第１不可視化層１１は第１膜１１ａおよび第２膜１１ｂを有し、第２不可視化層１２は第１膜１２ａおよび第２膜１２ｂを有し、このうち第１不可視化層１１の第１膜１１ａおよび第２膜１１ｂと、第２不可視化層１２の第１膜１２ａおよび第２膜１２ｂはいずれも有機膜からなる。
【選択図】図１

Description

本発明は、タッチパネルに係り、とりわけ不可視化層（ＩＭ層（Ｉｎｄｅｘ Ｍａｔｃｈｉｎｇ層）ともいう）を有するタッチパネルに関する。

近年、スマートフォン、タブレットＰＣ（パーソナルコンピュータ）など各種表示装置において、表示パネルと組み合わせて使用されるタッチパネルが急速に普及してきている。

タッチパネルは、透明基板と、透明基板上に設けられた第１透明電極および第２透明電極を有する透明電極とを備えている。また第１透明電極および第２透明電極は、透明基板側からみた場合、互いに交差する線状を呈するため、第１透明電極および第２透明電極を隠すため不可視化層（ＩＭ層）を設けることがある。

特開２０１２−８１６６３号公報 特開２００９−５３８９３号公報

上述のように、タッチパネルの透明基板には、線状に現われる第１透明電極および第２透明電極からなる透明電極を隠すため、ＩＭ層が設けられているが、一般にこのＩＭ層は無機膜からなり、スパッタリングにより形成される。

しかしながら、ＩＭ層をスパッタリングにより形成する場合、製造コストが増加している。

本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、有機膜からなる不可視化層をもつタッチパネルを提供することを目的とする。

本発明は、液晶パネル用の透明基板に設けられたタッチパネルにおいて、前記透明基板上に設けられた第１不可視化視層と、前記第１不可視化層上に設けられた透明電極と、
前記透明電極上に設けられた第２不可視化層とを備え、前記第１不可視化層および前記第２不可視化層のうち少なくとも一方は有機膜を有することを特徴とするタッチパネルである。

本発明は、前記第１不可視化層は前記透明電極側に配置された無機膜と、前記透明電極と反対側に配置された有機膜とを有する多層構造をもつことを特徴とするタッチパネルである。

本発明は、前記第２不可視化層は前記透明電極側に配置された有機膜と、前記透明電極と反対側に配置された無機膜とを有する多層構造をもつことを特徴とするタッチパネルである。

本発明は、前記第１不可視化層は有機膜を有するとともに無機膜を含まず、前記第２不可視化層は無機膜を有するとともに有機膜を含まないことを特徴とするタッチパネルである。

本発明は、前記第１不可視化層は無機膜を有するとともに有機膜を含まず、前記第２不可視化層は有機膜を有するとともに無機膜を含まないことを特徴とするタッチパネルである。

本発明は、前記第１不可視化層は有機膜を有するとともに無機膜を含まず、前記第２不可視化層は有機膜を有するとともに無機膜を含まないことを特徴とするタッチパネルである。

本発明によれば、第１不可視化層および第２不可視化層のうち少なくとも一方は、有機膜をもつため、製造コストの低減を図ることがきる。

図１は本発明によるタッチパネルを示す断面図。 図２（ａ）はタッチパネルを示す平面図、図２（ｂ）はその拡大図。 図３はタッチパネル付液晶表示装置を示す断面図。 図４（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）はＩＭ層の形成工程を示す図。 図５はタッチパネルの変形例を示す断面図。 図６（ａ）（ｂ）（ｃ）は透明電極の形成工程を示す図。 図７はタッチパネルの変形例を示す断面図。 図８はタッチパネルの変形例を示す断面図。 図９はタッチパネルの変形例を示す断面図。 図１０はタッチパネルの変形例を示す断面図。 図１１はタッチパネルの変形例を示す断面図。 図１２はタッチパネルの変形例を示す断面図。

＜本発明の実施の形態＞
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。なお、図面は概念図であり、説明上の都合に応じて適宜、構成要素の縮尺関係、縦横比等は誇張されていることがある。

以下、本発明によるタッチパネル１０について図１乃至図３により説明する。

図２（ａ）（ｂ）に示すように、タッチパネル１０は表示用領域Ａ１と、不透明領域Ａ２とを有し、不透明領域Ａ２には可視情報８が設けられている。

このようなタッチパネル１０は、後述する液晶パネル２０に設置されるオンセルタイプのタッチパネルとなっている。図１に示すように、タッチパネル１０は、液晶パネル用の支持基板（透明基板）１上に設けられた第１不可視化層（第１ＩＭ層）１１と、第１ＩＭ層１１上に設けられた透明電極４と、透明電極４上に設けられた第２不可視化層（第２ＩＭ層）１２とを備えている。

このうち、透明電極４は表示用領域Ａ１に設けられており、第１透明電極４ａと第２透明電極４ｂとを有している。

図２（ａ）（ｂ）に示すように、透明基板１上において、第１透明電極４ａは横方向に並んでおり、第２透明電極４ｂは縦方向（上下方向）に並んでおり、第１透明電極４ａと第２透明電極４ｂとが交差する部分に、第１透明電極４ａと第２透明電極４ｂとの間に介在された絶縁層が配置されている。

さらに透明基板１上の不透明領域Ａ２には配線６が設けられ、この配線６は透明電極６ａにより覆われている。また第１透明電極４ａおよび第２透明電極４ｂは表示用領域Ａ１から不透明領域Ａ２まで延びて不透明領域Ａ２上において配線６に接続されている。

また、上述のように表示用領域Ａ１において、透明電極４を挟んで第１ＩＭ層１１と第２ＩＭ層１２が設けられ、これら第１ＩＭ層１１と第２ＩＭ層１２は、表示用領域Ａ１から不透明領域Ａ２まで延びて、タッチパネル１０全体を覆っている。但し、図２（ａ）に示すように、第１ＩＭ層１１と第２ＩＭ層１２は、配線６が集まる端子領域６Ａ部分で開口し、開口部１３を形成している。

この第１ＩＭ層１１および第２ＩＭ層１２は、タッチパネル１０を観客者が観察した場合、第１透明電極４ａと第２透明電極４ｂとの間の境界を埋めて、第１透明電極４ａと第２透明電極４ｂとの間の境界が外方に現われることを防止するよう機能する。このように、第１透明電極４ａと第２透明電極４ｂとの境界が外方に現われないため、第１透明電極４ａと第２透明電極４ｂが線状に外方に現われることはない。

このような構成からなるタッチパネル１０は液晶パネル２０に設置されるオンセルタイプのタッチパネルとなっており、図３に示すように液晶パネル用の透明基板１上に設置される。

図３に示すように、液晶パネル用の透明基板１、２３間に液晶２２が設けられ、液晶パネル用の透明基板１、２３と、この透明基板１、２３間に設けられた液晶２２とにより液晶パネル２０が構成されている。

またタッチパネル１０上には偏光板２７を介してカバーレンズ３０が配置され、このカバーレンズ３０は透明接着剤３１により偏光板２７およびタッチパネル１０に取付けられている。

さらに液晶パネル２０には、偏光板２５を介してバックライトユニット２６が設けられている。

そしてこれらタッチパネル１０、液晶パネル２０、偏光板２５、２７、バックライトユニット２６およびカバーレンズ３０とによって、タッチパネル付き液晶表示装置４０が構成される。

次にタッチパネルの各構成部材について説明する。

＜表示用領域Ａ１と不透明領域Ａ２＞
上述のようにタッチパネル１０は、中央に表示用領域Ａ１を有し、表示用領域Ａ１の外周部に、可視光を遮蔽する不透明領域Ａ２を有する。

表示用領域Ａ１は、タッチパネル１０を通して、タッチパネル１０内部に設けられた表示パネルの表示内容を表示できる領域である。不透明領域Ａ２は、表示パネルが外周部に有する配線、コネクタなどを隠したり、或いは、遮光層２上に設けられた配線６などを隠したりする為の領域である。また、不透明領域Ａ２は、それが表現する色、適宜設けるロゴやマークなどの可視情報８によって加飾部にもなる領域である。

＜透明基板１＞
液晶パネル用の透明基板１は、少なくとも可視光線に対して透明で、タッチパネル１０の表面を支持し得る機械強度を有するものであれば、特に制限はなく、代表的には、例えばソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス、アルミノケイ酸ガラスなどのガラス板を用いることができる。とくに、ガラス板として、化学強化ガラスはフロートガラスに比べて機械的強度に優れ、その分薄くできる点で好ましい。

化学強化ガラスは、典型的には、ガラスの表面近傍について、ナトリウムをカリウムに代えるなどイオン種を一部交換することで、化学的な方法によって機械的物性を強化したガラスである。

透明基板１には、樹脂を用いることも可能である。例えば、樹脂としては、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂などを用いることができる。透明基板１に樹脂を用いることで、軽量にできる上、可僥性を持たせることも可能となる。

透明基板１には、ガラスと樹脂との積層体を用いることもできる。透明基板１にガラスと樹脂との積層体を用いることで、ガラスの特性と樹脂の特性の両方を持たせることもできる。

＜透明電極４＞
透明電極４は、上述のように、互いに絶縁されて形成される第１透明電極４ａ及び第２透明電極４ｂから構成される（図２（ａ）（ｂ）参照）。

第１透明電極４ａ、第２透明電極４ｂは、本実施形態においては同じ材料で形成してある。よって、本明細書において、これらを纏めて言うときは、単に「透明電極４」とも呼ぶ。

本実施形態では、タッチパネルの位置検知用の透明電極４として、第１透明電極４ａと、第２透明電極４ｂとを、ともに同一の面上に形成するタッチパネル構造を採用している。すなわち、第１透明電極４ａ及び第２透明電極４ｂは、透明基板１の同一の面上に形成される。

第１透明電極４ａ及び第２透明電極４ｂのパターンは、投影型静電容量方式では各種パターンが知られており、特に限定はない。典型的には、複数の第１透明電極４ａが、第１の方向（図２（ａ）の横方向）に延びて、この第１の方向に交差する方向、通常は直交する方向を第２の方向（図２（ｂ）の縦方向）として、第２透明電極４ｂが第２の方向に延びたパターンとなっている。

第１透明電極４ａと第２透明電極４ｂとの交差部分は、互いに絶縁層によって絶縁されている。絶縁層は、少なくとも第１透明電極４ａと第２透明電極４ｂとの交差部分に必要となる。

第１透明電極４ａと第２透明電極４ｂとのうち一方の電極のみ、具体的には第１透明電極４ａのみ、他方の電極との交差部分が欠損したパターンで同一の面に同時に形成した後、交差部分のみ絶縁層を形成し、この後、絶縁層を跨いで、欠損部分を電気的に接続する接続部を設ける。そしてこの接続部が透明電極４ａの一部となる。

図２（ａ）（ｂ）において、前記交差部分は、透明基板１に近い側の透明電極４が、第１透明電極４ａであるので、第１透明電極４ａが形成され後の交差部分に対して絶縁層が形成され、交差部分を跨いで接続部が形成されて第２透明電極４ｂが完成する。

そして、第１透明電極４ａ及び第２透明電極４ｂからなる透明電極４は、中央の表示用領域Ａ１から不透明領域Ａ２まで延びて配線６に電気的に接続されている。

透明電極４としては、公知の材料及び形成法を採用することができる。

本実施形態においては、透明電極４には、層自体が透明である透明導電体膜が用いられる。透明導電体膜からなる透明電極４としては、例えば、ＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ；インジウム錫酸化物）、ＩｎＺｎＯ（ＩｎｄｉｕｍＺｉｎｃＯｘｉｄｅ；インジウム亜鉛酸化物）、ＡｌＺｎＯ（ＡｌｕｍｉｎｕｍＺｉｎｃＯｘｉｄｅ；アルミニウム亜鉛酸化物）、ＩｎＧａＺｎＯ（ＩｎｄｉｕｍＧａｒｉｕｍＺｉｎｃＯｘｉｄｅ；インジウムガリウム亜鉛酸化物）等の透明導電体膜をパターン形成したものを用いることができる。

＜配線６＞
配線６としては、公知の材料及び形成法を採用することができる。例えば、配線６には、銀、金、銅、クロム、プラチナ、アルミニウム、パラジウム、モリブデンなどの金属（含むその合金）などを用いることができる。配線６は、例えば、銀、パラジウム及び銅からなる銀合金（ＡＰＣとも言う）の金属層としてスパッタ法により製膜後、フォトリソグラフィ法及びエッチング法によりパターン形成することができる。

配線６には、モリブデン（Ｍｏ）／アルミニウム（Ａ１）／モリブデン（Ｍｏ）と３層積層構造の導電性層（ＭＡＭと呼ばれている）を用いることもできる。

本実施形態においては、配線６は、銀、パラジウム及び銅からなる銀合金（ＡＰＣとも言う）によって、金属層としてフォトリソグラフィ法及びエッチング法を利用して形成されている。

本発明においては、配線６の形成法としては、特に制限はなく、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法などの印刷法によって形成してもよい。

＜第１ＩＭ層１１＞
第１ＩＭ層（Ｉｎｄｅｘ Ｍａｔｃｈｉｎｇ層）１１は、透明電極４側に配置された第１膜１１ａと、透明電極４と反射側に配置された第２膜１１ｂとを有する多層構造をもつ。このような第１ＩＭ層は、表示用領域Ａ１にパターン形成された透明電極４に対して、そのパターンを見えにくく不可視化層として機能する。

また第１ＩＭ層１１は表示用領域Ａ１に配置された第１透明電極４ａおよび第２透明電極４ｂからなる透明電極４を覆うとともに、不透明領域Ａ２まで延びて配置された配線６も覆っている。

上述のように、第１ＩＭ層１１は不可視化層として形成される。第１ＩＭ層１１が有する不可視化層としての不可視化機能とは、タッチパネル１０を観察したときに、表示用領域Ａ１にパターン形成される透明電極４のパターンを肉眼で見えにくくする機能のことを言う。

本発明において、「不可視化」とは、透明電極４のパターンを肉眼で完全に見えなくすることはもちろん、これ以外に、透明電極４のパターンが見えるが、不可視化層を設けなかった場合に比べて見えにくくなることも含む。

次に第１ＩＭ層１１を構成する第１膜１１ａと第２膜１１ｂの材料について述べる。
第１膜１１ａおよび第２膜１１ｂは、いずれも同一の材料をもつ有機膜からなる。具体的には、現像性樹脂と、反応性モノマーと、光重合開始剤と、屈折率調整微粒子と、溶剤とを任意に組み合わせたＩＭ層形成インクを準備し、このＩＭ層形成インクを透明基剤１上に塗布して乾燥させて形成される。

上述したＩＭ層形成インクのうち、屈折率調整微粒子としては、酸化チタン、ジルコニア等を用いることができる。

このような第１ＩＭ層１１の第１膜１１ａおよび第２膜１１ｂの作製工程について図４（ａ）〜（ｄ）により述べる。

ここでは、第１ＩＭ層１１の第２膜１１ｂの作製工程について述べるが、第１膜１１ａの作製工程も第２膜１１ｂの作製工程と同一である。

図４（ａ）に示すように、上述したＩＭ層形成用インク１１Ａを準備し、このＩＭ層形成インク１１Ａを透明基板１上に塗布して乾燥させる。

次に透明基板１上にＩＭ層形成インク１１Ａに対して遮光膜５ａを有するフォトマスク５を介してＵＶ光を照射する(図４（ｂ）参照）。このときＩＭ層形成インク１１Ａのうち、ＵＶ光が照射した部分が硬化し、ＵＶ光が照射されない部分は未硬化部分となる。

次に透明基板１上のＩＭ層形成インク１１Ａ上に現像液を供給し（図４（ｃ）参照）、このようにして透明基板１上にパターンニングされた第２膜１１ｂを形成することができる。このように、透明基板１上において第２膜１１ｂをパターンニングすることにより、配線６の端子領域６Ａに対応する開口部１３を形成することができる。

なお、第１ＩＭ層１１が第１膜１１ａと第２膜１１ｂとを有する多層構造からなる例を示したが、これに限らず第１ＩＭ層１１を有機膜の単層で構成してもよい。

＜第２ＩＭ層＞
第２ＩＭ層１２は、透明電極４を挟んで第１ＩＭ層１１と反対側に配置されており、第１ＩＭ層１１と同様透明電極４のパターンを肉眼で見えにくくする不可視化層として機能する。

このような第２ＩＭ層１２は透明電極４側に配置された第１膜１２ａと、透明電極４と反対側に配置された第２膜１２ｂとを有する多層構造をもつ。

第１膜１２ａおよび第２膜１２ｂは、いずれも同一の有機膜からなり、具体的には、第２ＩＭ層１２の第１膜１２ａおよび第２膜１２ｂは第１ＩＭ層１１の第１膜１１ａおよび第２膜１１ｂと同一材料をもつ有機膜からなる。

なお、第２ＩＭ層１２が第１膜１２ａと第２膜１２ｂとを有する多層構造からなる例を示したが、これに限らず第２ＩＭ層を有機膜の単層で形成してもよい。

以上のように本実施の形態によれば、第１ＩＭ層１１はいずれも有機膜からなる第１膜１１ａと第２膜１１ｂとを有し、第２ＩＭ層１２もいずれも有機膜からなる第１膜１２ａと第２膜１２ｂとを有するため、第１ＩＭ層１１および第２ＩＭ層１２を製造するため高価なスパッタリングを用いて無機膜を形成する必要がない。このためタッチパネル１０の製造コストの低減を図ることができる。

＜本発明の変形例＞
次に本発明の変形例について、図５および図６により説明する。

図５および図６に示す変形例は、第１ＩＭ層１１が透明電極４側に配置された第１膜１１ａと、透明電極４と反対側に配置された第２膜１１ｂとを有する多層構造をもつとともに、第２ＩＭ層１２が透明電極４側に配置された第１膜１２ａと、透明電極４と反対側に配置された第２膜１１ｂとを有する多層構造をもっており、このうち第１ＩＭ層１１の第１膜１１ａが無機膜からなる点が異なるのみであり、他の構成は図１乃至図４に示す実施の形態と略同一である。

図５および図６に示す変形例において、図１乃至図４に示す実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

図５および図６に示す変形例において、第１ＩＭ層１１の第２膜１１ｂおよび第２ＩＭ層１２の第１膜１２ａおよび第２膜１２ｂは、いずれも有機膜からなる。

また第１ＩＭ層１１の第１膜１１ａを構成する無機膜としては、金属化合物を含む膜を形成することができる。金属ではなく、金属化合物を用いることで、不可視化層としての電気絶縁性及び透明性も容易に確保することができる。金属化合物としては、例えば、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物などを挙げることができる。或いは、無機物層の無機物としては、非金属化合物でもよい。

こうした、無機膜を構成する無機材料としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、五酸化ニオブ（Ｎｂ２０５）、酸化ジルコニウム、などを用いることができる。これらは、単独で或いは２種以上の混合層として形成することができる。これらの金属化合物の屈折率は、例えば、酸窒化ケイ素は１．５〜２．０、窒化ケイ素は１．８〜２．１、五酸化ニオブは２．３、酸化ジルコニウムは２．１である。

なかでも、五酸化ニオブは、電気絶縁性、透明性、皮膜強度、成膜適性などが優れている点で好ましい無機材料の一種である。

第１ＩＭ層１１の第１膜１１ａとなる無機膜は、公知の薄膜形成法、例えば、蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などの物理的乃至は化学的な気相成長法などで形成することができる。

以上のように第１ＩＭ層１１の第１膜１１ａを無機膜から形成し、第１ＩＭ層１１の第２膜１１ｂ、第２ＩＭ層１２の第１膜１２ａおよび第２膜１２ｂを有機膜から形成することにより、第１ＩＭ層１１および第２ＩＭ層１２をすべて無機膜から形成する場合に比べて、タッチパネル１０の製造コストの低減を図ることができる。

また、第１ＩＭ層１１の第１膜１１ａを無機膜から形成することにより、透明電極４を形成する際のエッチング耐性を向上させることができる。

すなわち図６（ａ）〜（ｃ）に示すように、透明電極４は、レジストを用いたエッチングにより形成される。具体的には、図６（ａ）に示すように、透明電極１上に第１膜１１ａと第２膜１１ｂとを有する第１ＩＭ層１１が形成され、この第１ＩＭ層１１上に透明電極４となるＩＴＯ４Ａが設けられる。

次に図６（ｂ）に示すようにＩＴＯ４Ａ上にレジストパターン８か形成される。その後ＩＴＯ４Ａがレジストパターン８を介してエッチング液を供給することによりエッチングされ、このようにしてＩＴＯ４Ａから透明電極４が形成される（図６（ｃ）参照）。

この透明電極４の形成過程において、ＩＴＯ４Ａがエッチングされるが、第１ＩＭ層１１のうちＩＴＯ４Ａに面した側に無機膜からなる第１膜１１ａが存在しているため、エッチング中に第１ＩＭ層１１の第１膜１１ａがエッチング液により腐食することを未然に防ぐことができる。

次に本発明の他の変形例について、図７により説明する。
図７に示す変形例は第１ＩＭ層１１が透明電極４側に配置された第１膜１１ａと透明電極４と反対側に配置された第２膜１１ｂとを有する多層構造をもつとともに、第２ＩＭ層１２が透明電極４側に配置された第１膜１２ａと透明電極４側に反対側に配置された第２膜１２ｂとを有する多層構造をもっており、このうち第２ＩＭ層１２の第２膜１２ｂが無機膜からなる点が異なるのみであり、他の構成は図１乃至図４に示す実施の形態と略同一である。

図７に示す変形例において、図１乃至図４に示す実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

図７に示す変形例において、第２ＩＭ層１２のうち最外面となる第２膜１２ｂを無機膜から形成したので、タッチパネルの最外面の硬度を高めることができる。

次に本発明の他の変形例について、図８により説明する。
図８に示す変形例は第１ＩＭ層１１が透明電極４側に配置された第１膜１１ａと透明電極４と反対側に配置された第２膜１１ｂとを有する多層構造をもつとともに、第２ＩＭ層１２が透明電極４側に配置された第１膜１２ａと透明電極４側に反対側に配置された第２膜１２ｂとを有する多層構造をもっており、このうち第１ＩＭ層１１の第１膜１１ａおよび第２膜１１ｂが無機膜からなる点が異なるのみであり、他の構成は図１乃至図４に示す実施の形態と略同一である。

図８に示す変形例において、図１乃至図４に示す実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

図８に示す変形例において、第１ＩＭ層１１の第１膜１１ａおよび第２膜１１ｂをいずれも無機膜から形成したので、透明電極４を形成する際のエッチング耐性を向上させることができる。

次に本発明の他の変形例について、図９により説明する。
図９に示す変形例は第１ＩＭ層１１が透明電極４側に配置された第１膜１１ａと透明電極４と反対側に配置された第２膜１１ｂとを有する多層構造をもつとともに、第２ＩＭ層１２が透明電極４側に配置された第１膜１２ａと透明電極４側に反対側に配置された第２膜１２ｂとを有する多層構造をもっており、このうち第１ＩＭ層１１の第１膜１１ａおよび第２ＩＭ層１２の第２膜１２ｂが無機膜からなり、第１ＩＭ層１１の第２膜１１ｂおよび第２ＩＭ層１２の第１膜１２ａが有機膜からなる点が異なるのみであり、他の構成は図１乃至図４に示す実施の形態と略同一である。

図９に示す変形例において、図１乃至図４に示す実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

図９に示す変形例において、第２ＩＭ層１２のうち最外面となる第２膜１２ｂを無機膜から形成したので、タッチパネルの最外面の硬度を高めることができる。また第１ＩＭ層１１のうち透明電極４側の第１膜１１ａを無機膜から形成したので、透明電極４を形成する際のエッチング耐性を向上させることができる。

次に本発明の他の変形例について、図１０により説明する。
図１０に示す変形例は第１ＩＭ層１１が透明電極４側に配置された第１膜１１ａと透明電極４と反対側に配置された第２膜１１ｂとを有する多層構造をもつとともに、第２ＩＭ層１２が透明電極４側に配置された第１膜１２ａと透明電極４側に反対側に配置された第２膜１２ｂとを有する多層構造をもっており、このうち第２ＩＭ層１２の第１膜１２ａおよび第２膜１２ｂが無機膜からなる点が異なるのみであり、他の構成は図１乃至図４に示す実施の形態と略同一である。

図１０に示す変形例において、図１乃至図４に示す実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

図１０に示す変形例において、第２ＩＭ層１２の第１膜１２ａおよび第２膜１２ｂを無機膜から形成したので、タッチパネルの最外面の硬度をより高めることができる。

次に本発明の他の変形例について、図１１により説明する。
図１１に示す変形例は第１ＩＭ層１１が透明電極４側に配置された第１膜１１ａと透明電極４と反対側に配置された第２膜１１ｂとを有する多層構造をもつとともに、第２ＩＭ層１２が透明電極４側に配置された第１膜１２ａと透明電極４側に反対側に配置された第２膜１２ｂとを有する多層構造をもっており、このうち第２ＩＭ層１２の第１膜１２ａおよび第２膜１２ｂおよび第１ＩＭ層１１の第１膜１１ａが無機膜からなり、第１ＩＭ層１１の第２膜１１ｂが有機膜からなる点が異なるのみであり、他の構成は図１乃至図４に示す実施の形態と略同一である。

図１１に示す変形例において、図１乃至図４に示す実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

図１１に示す変形例において、第２ＩＭ層１２の第１膜第１２ａおよび第２膜１２ｂを無機膜から形成したので、タッチパネルの最外面の硬度を高めることができる。また第１ＩＭ層１１のうち透明電極４側の第１膜１１ａを無機膜から形成したので、透明電極４を形成する際のエッチング耐性を向上させることができる。

次に本発明の他の変形例について、図１２により説明する。
図１２に示す変形例は第１ＩＭ層１１が透明電極４側に配置された第１膜１１ａと透明電極４と反対側に配置された第２膜１１ｂとを有する多層構造をもつとともに、第２ＩＭ層１２が透明電極４側に配置された第１膜１２ａと透明電極４側に反対側に配置された第２膜１２ｂとを有する多層構造をもっており、このうち第１ＩＭ層１１の第１膜１１ａおよび第２膜１１ｂ、および第２ＩＭ層１２の第２膜１２ｂが無機膜からなり、第２ＩＭ層１２の第１膜１２ａが有機膜からなる点が異なるのみであり、他の構成は図１乃至図４に示す実施の形態と略同一である。

図１２に示す変形例において、図１乃至図４に示す実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

図１２に示す変形例において、第２ＩＭ層１２のうち最外面となる第２膜１２ｂを無機膜から形成したので、タッチパネルの最外面の硬度を高めることができる。また第１ＩＭ層１１の第１膜１１ａおよび第２膜１１ｂを無機膜から形成したので、透明電極４を形成する際のエッチング耐性を向上させることができる。

１ 透明基板
４ 透明電極
４ａ 第１透明電極
４ｂ 第２透明電極
６ 配線
８ 可視情報
１０ タッチパネル
１１ 第１ＩＭ層
１１ａ 第１膜
１１ｂ 第２膜
１２ 第２ＩＭ層
１２ａ 第１膜
１２ｂ 第２膜
２０ 液晶パネル
２５ 偏光板
２６ バックライトユニット
２７ 偏光板
３０ カバーレンズ
４０ タッチパネル付液晶表示装置
Ａ１ 表示用領域
Ａ２ 不透明領域

Claims (6)

1. 液晶パネル用の透明基板に設けられたタッチパネルにおいて、
   前記透明基板上に設けられた第１不可視化視層と、
   前記第１不可視化層上に設けられた透明電極と、
   前記透明電極上に設けられた第２不可視化層とを備え、
   前記第１不可視化層および前記第２不可視化層のうち少なくとも一方は有機膜を有することを特徴とするタッチパネル。
2. 前記第１不可視化層は前記透明電極側に配置された無機膜と、前記透明電極と反対側に配置された有機膜とを有する多層構造をもつことを特徴とする請求項１記載のタッチパネル。
3. 前記第２不可視化層は前記透明電極側に配置された有機膜と、前記透明電極と反対側に配置された無機膜とを有する多層構造をもつことを特徴とする請求項１乃至２記載のタッチパネル。
4. 前記第１不可視化層は有機膜を有するとともに無機膜を含まず、
   前記第２不可視化層は無機膜を有するとともに有機膜を含まないことを特徴とする請求項１記載のタッチパネル。
5. 前記第１不可視化層は無機膜を有するとともに有機膜を含まず、
   前記第２不可視化層は有機膜を有するとともに無機膜を含まないことを特徴とする請求項１記載のタッチパネル。
6. 前記第１不可視化層は有機膜を有するとともに無機膜を含まず、
   前記第２不可視化層は有機膜を有するとともに無機膜を含まないことを特徴とする請求項１記載のタッチパネル。

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