JP2016146416A - 基板処理方法および基板処理システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】加速度センサーを搭載した測定用基板SWを基板載置部から搬送ロボット30に受け渡し、そのときに測定用基板SWに作用する加速度を加速度センサーが測定することによって受け渡し時の測定用基板SWの挙動を検知する。測定用基板SWに作用する加速度を加速度センサー12で測定して測定用基板SWの挙動を検知しているため、作業者による目視では見逃すような軽微な基板受け渡し動作の異常までをも確実に検出することができる。その結果、異常の程度が増大して受け渡し時に基板が割れる等の重大な障害が発生する前に、異常の原因を排除して重大な障害の発生を未然に防止することができる。
【選択図】図5
Description
図1は、本発明に係る基板処理方法において使用する測定用基板SWを示す平面図である。なお、図1および以降の各図においては、理解容易のため、必要に応じて各部の寸法や数を誇張または簡略化して描いている。
次に、本発明の第2実施形態について説明する。図11は、第2実施形態の測定用基板SWおよび把持チャックを示す図である。第1実施形態では、測定用基板SWの表面中心部に1個の加速度測定モジュール10を搭載していたのに対して、第2実施形態においては、測定用基板SWの表面の異なる位置に2個の加速度測定モジュール10を搭載している。第1実施形態と同様に、加速度測定モジュール10を除く測定用基板SW自体は、一般的なシリコンの半導体ウェハーと同様の形状(円形)および質量を有するものであり、通常のシリコン半導体ウェハーをそのまま転用しても良い。また、各加速度測定モジュール10の構成も第1実施形態と同じである(図2参照)。
次に、本発明の第3実施形態について説明する。図12は、第3実施形態のリフト機構を示す図である。第3実施形態においても、第2実施形態と同様に、測定用基板SWの表面の異なる位置に2個の加速度測定モジュール10を搭載している。第1実施形態では受け渡し時における測定用基板SWの摺動を伴う直線移動の挙動を検知し、第2実施形態では測定用基板SWの二次元平面内での挙動を検知していたが、第3実施形態においては測定用基板SWの三次元空間内での挙動を検知する。より具体的には、2個の加速度測定モジュール10を搭載した測定用基板SWを搬送ロボットからリフト機構に渡すときの測定用基板SWの挙動を検知する。
以上、本発明の実施の形態について説明したが、この発明はその趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、第1実施形態では測定用基板SWの表面中心部に1個の加速度測定モジュール10を搭載し、第2実施形態では測定用基板SWの表面の異なる位置に2個の加速度測定モジュール10を搭載していたが、これらに限定されるものではなく、測定用基板SWに3個以上の加速度測定モジュール10を搭載するようにしても良い。
12 加速度センサー
20 基板載置部
30 搬送ロボット
40 制御部
41 原因推定部
42 表示部
50 把持チャック
60 リフト機構
SW 測定用基板
Claims (11)
- 基板の受け渡し時に当該基板の挙動を検知する基板処理方法であって、
加速度センサーを備えた測定用基板を第1の保持部から第2の保持部に受け渡す受渡工程と、
前記第2の保持部に前記測定用基板を渡したときに、前記測定用基板に作用する加速度を前記加速度センサーが測定することによって前記測定用基板の挙動を検知する検知工程と、
を備えることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項1記載の基板処理方法において、
前記測定用基板に前記加速度センサーを複数設けることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項1または請求項2記載の基板処理方法において、
前記加速度センサーの測定結果に基づいて前記測定用基板の挙動に異常が検出されたときに、前記加速度センサーによって取得された加速度の経時変化を示す波形より前記異常の原因を推定する原因推定工程をさらに備えることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項1から請求項3のいずれかに記載の基板処理方法において、
前記加速度センサーによって取得された加速度の経時変化を示す波形を表示する表示工程さらに備えることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項1から請求項4のいずれかに記載の基板処理方法において、
前記検知工程では、前記受渡工程にて前記測定用基板の摺動移動をともなうときの前記測定用基板の挙動を検知することを特徴とする基板処理方法。 - 請求項1から請求項4のいずれかに記載の基板処理方法において、
前記検知工程では、前記受渡工程にて前記測定用基板を複数のチャックピンにて把持するときの前記測定用基板の挙動を検知することを特徴とする基板処理方法。 - 請求項1から請求項4のいずれかに記載の基板処理方法において、
前記検知工程では、前記受渡工程にて前記測定用基板の昇降移動をともなうときの前記測定用基板の挙動を検知することを特徴とする基板処理方法。 - 基板の受け渡し時に当該基板の挙動を検知する基板処理システムであって、
加速度センサーを備えた測定用基板と、
前記測定用基板を保持する第1の保持部と、
前記第1の保持部から前記測定用基板を受け取って保持する第2の保持部と、
前記第1の保持部から前記第2の保持部に前記測定用基板を渡したときに、前記測定用基板に作用する加速度を前記加速度センサーによって測定して得た測定結果に基づいて前記測定用基板の挙動を検知する検知手段と、
を備えることを特徴とする基板処理システム。 - 請求項8記載の基板処理システムにおいて、
前記測定用基板に前記加速度センサーを複数設けることを特徴とする基板処理システム。 - 請求項8または請求項9記載の基板処理システムにおいて、
前記加速度センサーの測定結果に基づいて前記測定用基板の挙動に異常が検出されたときに、前記加速度センサーによって取得された加速度の経時変化を示す波形より前記異常の原因を推定する原因推定手段をさらに備えることを特徴とする基板処理システム。 - 請求項8から請求項10のいずれかに記載の基板処理システムにおいて、
前記加速度センサーによって取得された加速度の経時変化を示す波形を表示する表示手段さらに備えることを特徴とする基板処理システム。
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