JP2016146351A - Organic light emitting display device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel and improved organic light emitting display device, capable of improving display quality by preventing a pixel defining film that surrounds an edge portion of a pixel electrode from falling down.SOLUTION: An organic light emitting display device includes: a flattening film covering a plurality of thin film transistors formed on a substrate; a plurality of via holes 220 each of which exposes any one of source and drain electrodes of each of the plurality of thin film transistors while penetrating through the flattening film; a plurality of pixel electrodes 230 electrically connected to the respective thin film transistors through the via holes; a pixel defining film 240 formed on the flattening film so as to cover each via hole and the edge of each pixel electrode; and an organic film which is interposed between the pixel electrode and a counter electrode to have a light emitting layer. Each via hole is formed to be farthest from the boundary between a pixel defining film and a light emitting portion 231 which is not covered by the pixel defining film of each pixel electrode which is adjacently disposed around each via hole.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、有機発光ディスプレイ装置に関する。   The present invention relates to an organic light emitting display device.

有機発光ディスプレイ装置は、画素電極と対向電極、及び前記二つの電極間に位置する発光層を備える有機膜を有する構造であるが、前記画素電極と対向電極とに電圧を印加することによって、電子と正孔とが発光層内で再結合して光を発光する自体発光型のディスプレイ装置である。   The organic light emitting display device has a structure including an organic film including a pixel electrode, a counter electrode, and a light emitting layer positioned between the two electrodes. By applying a voltage to the pixel electrode and the counter electrode, an electron is displayed. It is a self-luminous display device that emits light by recombination of holes and holes in the light emitting layer.

このような有機発光ディスプレイ装置は、CRT(Cathod Ray Tube)モニターやLCD(Liquid Crystal Display)に比べて、軽量薄型が可能であるだけでなく、広い視野角、速い応答速度及び少ない消費電力などの長所によって、次世代ディスプレイ装置として注目されている。   Such an organic light emitting display device is not only lighter and thinner than a CRT (Cathode Ray Tube) monitor or LCD (Liquid Crystal Display), but also has a wide viewing angle, fast response speed, and low power consumption. Due to its advantages, it is attracting attention as a next-generation display device.

また、有機発光ディスプレイ装置は、駆動方式によって、受動駆動(Passive Matrix:PM)方式と能動駆動(Active Matrix:AM)方式とに区分されるが、能動駆動方式の有機発光ディスプレイ装置の方が高解像度、高画質、低消費電力及び長寿命特性の向上に有利である。   In addition, the organic light emitting display device is divided into a passive drive (Passive Matrix: PM) method and an active drive (Active Matrix: AM) method, depending on the drive method, but the active drive type organic light emitting display device is more expensive. It is advantageous in improving resolution, high image quality, low power consumption and long life characteristics.

上記能動駆動方式の有機発光ディスプレイ装置は、基板上に備えられた薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor:TFT)と画素電極とがビアホールを通じて電気的に連結される。この時、画素定義膜(Pixel Define Layer:PDL)は、各画素電極のエッジを取り囲み、発光領域を定義する。   In the active driving type organic light emitting display device, a thin film transistor (TFT) provided on a substrate and a pixel electrode are electrically connected through a via hole. At this time, a pixel definition layer (PDL) surrounds the edge of each pixel electrode and defines a light emitting region.

特開2005−158708号公報JP 2005-158708 A

しかし、画素電極の近くに形成されたビアホールの段差によって、画素電極のエッジを取り囲む画素定義膜が陥没するという問題があった。   However, there is a problem that the pixel definition film surrounding the edge of the pixel electrode is depressed due to the step of the via hole formed near the pixel electrode.

そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、画素電極のエッジを取り囲む画素定義膜が陥没することを防止して、表示品質を向上させることが可能な、新規かつ改良された有機発光ディスプレイ装置を提供することにある。   Therefore, the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to prevent the pixel definition film surrounding the edge of the pixel electrode from being depressed and to improve display quality. It is an object of the present invention to provide a new and improved organic light emitting display device capable of satisfying the requirements.

上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、基板と、前記基板上に形成された複数の薄膜トランジスタと、前記複数の薄膜トランジスタを覆う平坦化膜と、前記平坦化膜を貫通しつつ前記複数の薄膜トランジスタのソース及びドレイン電極のうちいずれか一つを露出させる複数のビアホールと、前記平坦化膜上に形成され、前記ビアホールを通じて前記各薄膜トランジスタと電気的に連結された複数の画素電極と、前記各ビアホールと前記各画素電極のエッジとを覆うように、前記平坦化膜上に形成された画素定義膜と、前記画素電極と対向して配される対向電極と、前記画素電極と前記対向電極との間に介され、発光層を備える有機膜と、を備え、前記各ビアホールは、前記各ビアホールの周囲に隣接して配された各画素電極の前記画素定義膜によって覆われていない発光部の、前記画素定義膜との境界から最も遠く形成されたことを特徴とする有機発光ディスプレイ装置が提供される。   In order to solve the above problems, according to an aspect of the present invention, a substrate, a plurality of thin film transistors formed on the substrate, a planarization film covering the plurality of thin film transistors, and the planarization film are penetrated. A plurality of via holes exposing one of source and drain electrodes of the plurality of thin film transistors, and a plurality of pixel electrodes formed on the planarization film and electrically connected to the thin film transistors through the via holes. A pixel defining film formed on the planarizing film so as to cover each via hole and an edge of each pixel electrode; a counter electrode disposed opposite to the pixel electrode; and the pixel electrode; An organic film including a light emitting layer interposed between the counter electrodes, and each via hole is arranged adjacent to the periphery of each via hole. Wherein the light emitting portion that is not covered by the pixel defining layer, the organic light emitting display device, characterized in that is furthest it forms the boundary between the pixel defining layer is provided.

また、前記各ビアホールと、前記各ビアホールの周囲に隣接して配された前記各画素電極の発光部の境界との距離は、一定にしてもよい。   The distance between each via hole and the boundary of the light emitting portion of each pixel electrode arranged adjacent to the periphery of each via hole may be constant.

また、相互隣接したビアホールの間を連結した直線上には、前記発光部が配されていないようにしてもよい。   In addition, the light emitting unit may not be arranged on a straight line connecting between adjacent via holes.

また、前記平坦化膜の表面は、全体的に平坦に形成されてもよい。   The surface of the planarization film may be formed entirely flat.

また、前記ビアホール上に形成された前記画素定義膜の表面の高さは、前記発光部に形成された前記画素電極の表面の高さより低く形成されてもよい。   In addition, the height of the surface of the pixel definition film formed on the via hole may be lower than the height of the surface of the pixel electrode formed on the light emitting unit.

また、前記画素定義膜の厚さは、500Å以上5000Å以下であってもよい。   The pixel defining layer may have a thickness of 500 mm to 5000 mm.

また、前記発光部上に前記発光層が形成されてもよい。   The light emitting layer may be formed on the light emitting unit.

また、前記各画素電極の発光部は、規則的なパターンに形成されてもよい。   In addition, the light emitting portions of the pixel electrodes may be formed in a regular pattern.

また、前記画素電極は、反射電極であってもよい。   The pixel electrode may be a reflective electrode.

また、前記基板上にバッファ膜がさらに備えられてもよい。   In addition, a buffer film may be further provided on the substrate.

また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、基板と、前記基板の一面上に形成された複数の薄膜トランジスタと、前記複数の薄膜トランジスタを覆う平坦化膜と、前記平坦化膜を貫通しつつ前記複数の薄膜トランジスタのソース及びドレイン電極のうちいずれか一つを露出させる複数のビアホールと、前記平坦化膜上に形成され、前記ビアホールを通じて前記各薄膜トランジスタと電気的に連結され、相互垂直に交差する第1方向及び第2方向に沿ってパターニングされた複数の画素電極と、前記各ビアホールと前記各画素電極のエッジとを覆うように、前記平坦化膜上に形成された画素定義膜と、前記画素電極と対向して配される対向電極と、前記画素電極と前記対向電極との間に介され、発光層を備える有機膜と、を備え、前記各ビアホールは、前記各ビアホールの周囲に前記第1方向及び第2方向に沿って隣接して配された前記画素電極の画素定義膜によって覆われていない発光部の、前記画素定義膜との境界から最も遠く形成されたことを特徴とする有機発光ディスプレイ装置が提供される。   In order to solve the above problems, according to another aspect of the present invention, a substrate, a plurality of thin film transistors formed on one surface of the substrate, a planarization film covering the plurality of thin film transistors, and the planarization A plurality of via holes that expose one of source and drain electrodes of the plurality of thin film transistors while penetrating the passivation film, and are formed on the planarization film and electrically connected to the thin film transistors through the via holes. And formed on the planarization film so as to cover the plurality of pixel electrodes patterned along the first direction and the second direction intersecting perpendicularly to each other, and the via holes and the edges of the pixel electrodes. A pixel defining film, a counter electrode disposed opposite to the pixel electrode, and an organic film including a light emitting layer interposed between the pixel electrode and the counter electrode. In addition, each via hole is a pixel defining film of a light emitting part that is not covered by a pixel defining film of the pixel electrode arranged adjacent to each other along the first direction and the second direction around each via hole. An organic light emitting display device characterized in that the organic light emitting display device is formed farthest from the boundary between the two is provided.

また、前記各画素電極の発光部は、前記第1方向及び第2方向に沿って規則的なパターンに形成されてもよい。   The light emitting portions of the pixel electrodes may be formed in a regular pattern along the first direction and the second direction.

また、前記各ビアホールは、前記各ビアホールに前記第1方向に隣接した二つの発光部の間を通る直線と、前記第2方向に隣接した二つの発光部の間を通る直線とが交差する位置に形成されてもよい。   Each via hole has a position where a straight line passing between the two light emitting portions adjacent to each via hole in the first direction intersects with a straight line passing between the two light emitting portions adjacent in the second direction. May be formed.

また、前記各ビアホールは、前記各ビアホールに前記第1方向に隣接した二つの発光部を連結した直線の中心を通る直線と、前記第2方向に隣接した二つの発光部を連結した直線の中心が通る直線とが交差する位置に形成されてもよい。   In addition, each via hole includes a straight line passing through the center of a straight line connecting two light emitting units adjacent to each via hole in the first direction, and a straight line center connecting two light emitting units adjacent in the second direction. It may be formed at a position where a straight line passing through crosses.

また、前記各ビアホールと、前記各ビアホールの周囲に隣接して配された前記各画素電極の発光部の境界との距離は、一定であってもよい。   In addition, the distance between each via hole and the boundary of the light emitting portion of each pixel electrode arranged adjacent to the periphery of each via hole may be constant.

また、前記各ビアホールを前記ビアホールに隣接した前記第1方向に隣接したビアホールと連結した第1直線上、及び前記ビアホールの前記第2方向に隣接したビアホールを連結した第2直線上には、前記発光部が配されていないようにしてもよい。   In addition, on the first straight line connecting each via hole to the via hole adjacent to the first direction adjacent to the via hole and on the second straight line connecting the via hole adjacent to the second direction of the via hole, The light emitting unit may not be arranged.

また、前記平坦化膜の表面は、全体的に平坦に形成されてもよい。   The surface of the planarization film may be formed entirely flat.

また、前記ビアホール上に形成された前記画素定義膜の表面の高さは、前記発光部に形成された前記画素電極の表面の高さより低く形成されてもよい。   In addition, the height of the surface of the pixel definition film formed on the via hole may be lower than the height of the surface of the pixel electrode formed on the light emitting unit.

また、前記画素定義膜の厚さは、500Å以上5000Å以下であってもよい。   The pixel defining layer may have a thickness of 500 mm to 5000 mm.

また、前記発光部上に前記発光層が形成されてもよい。   The light emitting layer may be formed on the light emitting unit.

また、前記画素電極のビアホール連結部は、同じ形状のパターンを有してもよい。   In addition, the via hole connection portion of the pixel electrode may have a pattern having the same shape.

また、前記画素電極は、反射電極であってもよい。   The pixel electrode may be a reflective electrode.

また、前記基板上にバッファ膜がさらに備えられてもよい。   In addition, a buffer film may be further provided on the substrate.

以上説明したように本発明によれば、第一に、ビアホールの近くの薄い画素定義膜の厚みの崩れが発生しても、発光部の境界では、画素定義膜が元来の厚さを維持できる。第二に、発光領域の定義を正確にできる。第三に、レーザを利用した転写法や真空蒸着によって発光層のパターンを形成する時、表示品質を向上させうる。   As described above, according to the present invention, first, even when the thickness of the thin pixel defining film near the via hole collapses, the original thickness of the pixel defining film is maintained at the boundary of the light emitting portion. it can. Second, it is possible to accurately define the light emitting region. Third, display quality can be improved when the pattern of the light emitting layer is formed by a transfer method using a laser or vacuum deposition.

本発明の実施形態による有機発光ディスプレイ装置の概略的な断面図である。1 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention. 本発明の他の実施形態による有機発光ディスプレイ装置の概略的な断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting display device according to another embodiment of the present invention. 図1または図2に示すディスプレイ部の一部をさらに詳細に示す平面図である。It is a top view which shows a part of display part shown in FIG. 1 or FIG. 2 in detail. 図3のA−Aに沿って切り取った断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 3. 図4の画素電極上に有機膜と対向電極とが追加された断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view in which an organic film and a counter electrode are added on the pixel electrode of FIG. 4. 図3の画素電極の発光部とビアホールとの配置関係を概略的に示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing an arrangement relationship between light emitting portions and via holes of the pixel electrode of FIG. 3.

以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。   Exemplary embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. In addition, in this specification and drawing, about the component which has the substantially same function structure, duplication description is abbreviate | omitted by attaching | subjecting the same code | symbol.

図1は、本発明の望ましい一実施形態による有機発光ディスプレイ装置を概略的に示した断面図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view schematically illustrating an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention.

図1に示すように、本実施形態による有機発光ディスプレイ装置は、基板10上にディスプレイ部20が設けられる。   As shown in FIG. 1, in the organic light emitting display device according to the present embodiment, a display unit 20 is provided on a substrate 10.

また、基板10上には、ディスプレイ部20を密封する密封基板30が設けられる。   Further, a sealing substrate 30 for sealing the display unit 20 is provided on the substrate 10.

密封基板30は、ディスプレイ部20への外気及び水分の浸透を遮断する。   The sealing substrate 30 blocks the penetration of outside air and moisture into the display unit 20.

基板10と密封基板30は、各エッジが密封材40によって結合されて、基板10と密封基板30との間の空間25が密封される。空間25には、吸湿材や充填材が位置しうる。   The edges of the substrate 10 and the sealing substrate 30 are joined by the sealing material 40, and the space 25 between the substrate 10 and the sealing substrate 30 is sealed. A hygroscopic material and a filler can be located in the space 25.

また、密封基板30および密封材40の代わりに、図2に示すように、薄膜の密封フィルム50を有機発光ディスプレイ部20上に形成することで、ディスプレイ部20を外気から保護してもよい。かかる密封フィルム50は、例えば、酸化シリコンまたは窒化シリコンのような無機物からなる膜と、エポキシまたはポリイミドのような有機物からなる膜とが交互に成膜された構造を有する。なお、密封フィルム50の構造は、必ずしもこれに限定されず、透明な薄膜状の密封構造ならば、いかなるものでも適用可能である。   Further, instead of the sealing substrate 30 and the sealing material 40, the display unit 20 may be protected from the outside air by forming a thin film sealing film 50 on the organic light emitting display unit 20 as shown in FIG. The sealing film 50 has a structure in which, for example, a film made of an inorganic material such as silicon oxide or silicon nitride and a film made of an organic material such as epoxy or polyimide are alternately formed. The structure of the sealing film 50 is not necessarily limited to this, and any structure can be applied as long as it is a transparent thin-film sealing structure.

図3は、図1または図2のディスプレイ部20の一部をさらに詳細に示した平面図であり、図4は、図3のA−Aによる断面図であり、図5は、図4の画素電極230上に有機膜250と対向電極260とが追加された断面図であり、図6は、図3の画素電極230の発光部231とビアホール220との配置関係を概略的に示した断面図である。   3 is a plan view showing a part of the display unit 20 of FIG. 1 or 2 in more detail, FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 3, and FIG. FIG. 6 is a cross-sectional view in which an organic film 250 and a counter electrode 260 are added on the pixel electrode 230, and FIG. FIG.

図3ないし図6に示す本発明の実施形態によれば、基板10上には、複数の薄膜トランジスタTRが設けられ、前記薄膜トランジスタTRは、ビアホール220を通じて画素電極230に電気的に連結されている。   3 to 6, a plurality of thin film transistors TR are provided on the substrate 10, and the thin film transistors TR are electrically connected to the pixel electrodes 230 through the via holes 220.

基板10は、SiOを主成分とする透明材質のガラス材で形成されうる。もちろん、不透明材質も可能であり、プラスチック材のような他の材質で形成されることもできる。 Substrate 10 may be formed by of a transparent glass material mainly composed of SiO 2. Of course, an opaque material is also possible, and it can be formed of other materials such as a plastic material.

前記基板10の上面には、バッファ膜211が形成され、このバッファ膜211上に薄膜トランジスタTRが形成される。   A buffer film 211 is formed on the upper surface of the substrate 10, and a thin film transistor TR is formed on the buffer film 211.

バッファ膜211は、不純元素の浸透を防止し、表面を平坦化する役割を行うものであって、このような役割を行える多様な物質で形成されうる。一例として、前記バッファ膜211は、酸化シリコン、窒化シリコン、酸窒化シリコン、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化チタンまたは窒化チタンなどの無機物や、ポリイミド、ポリエステル、アクリルなどの有機物またはこれらの積層体で形成されうる。前記バッファ膜211は、必須構成要素ではなく、必要に応じては、備えられないこともある。   The buffer film 211 serves to prevent impure elements from penetrating and to flatten the surface, and may be formed of various materials capable of performing such a role. For example, the buffer film 211 is formed of an inorganic material such as silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, aluminum oxide, aluminum nitride, titanium oxide, or titanium nitride, an organic material such as polyimide, polyester, or acrylic, or a laminate thereof. Can be done. The buffer film 211 is not an essential component and may not be provided as necessary.

一方、図3ないし図6には、画素電極230に電気的に連結される駆動用薄膜トランジスタTRが一つのみ表示されているが、これは、説明の便宜のためであり、基板10上に、スイッチング用薄膜トランジスタとキャパシタとをさらに設けてもよい。また、前記薄膜トランジスタとキャパシタとに連結されるスキャンライン、データライン及び駆動ラインなどの各種の配線がさらに含まれうる。   Meanwhile, in FIG. 3 to FIG. 6, only one driving thin film transistor TR electrically connected to the pixel electrode 230 is displayed, but this is for convenience of explanation. A switching thin film transistor and a capacitor may be further provided. In addition, various wirings such as a scan line, a data line, and a driving line connected to the thin film transistor and the capacitor may be further included.

半導体活性層212は、非晶質シリコン(Amorphous silicon)またはポリシリコンのような無機材半導体を使用できるが、必ずしもこれに限定されず、有機半導体、酸化物半導体も使われうる。半導体活性層212は、ソース領域及びドレイン領域212b,212cと、これらの間のチャンネル領域212aとを有する。   The semiconductor active layer 212 may be made of an inorganic semiconductor such as amorphous silicon or polysilicon, but is not limited thereto, and an organic semiconductor or an oxide semiconductor can also be used. The semiconductor active layer 212 includes source and drain regions 212b and 212c, and a channel region 212a between them.

半導体活性層212を覆うように、ゲート絶縁膜213がバッファ膜211上に形成され、ゲート絶縁膜213上にゲート電極214が形成される。   A gate insulating film 213 is formed on the buffer film 211 so as to cover the semiconductor active layer 212, and a gate electrode 214 is formed on the gate insulating film 213.

ゲート電極214を覆うようにゲート絶縁膜213上に層間絶縁膜215が形成され、この層間絶縁膜215上にソース電極216とドレイン電極217とが形成され、それぞれ半導体活性層212のソース領域及びドレイン領域212b,212cとコンタクトホールを通じてコンタクトされる。   An interlayer insulating film 215 is formed on the gate insulating film 213 so as to cover the gate electrode 214, and a source electrode 216 and a drain electrode 217 are formed on the interlayer insulating film 215. The source region and the drain of the semiconductor active layer 212, respectively. The regions 212b and 212c are contacted through contact holes.

前述した薄膜トランジスタTRの構造は、図3ないし図6に示された構造に限定されず、多様な形態の薄膜トランジスタが適用可能である。例えば、前記薄膜トランジスタTRは、トップゲート構造で形成されたものであるが、ゲート電極214が半導体活性層212の下部に配されたボトムゲート構造でも形成されうる。もちろん、それ以外にも適用可能なすべての薄膜トランジスタの構造が適用されうる。   The structure of the thin film transistor TR described above is not limited to the structure shown in FIGS. 3 to 6, and various types of thin film transistors can be applied. For example, the thin film transistor TR is formed with a top gate structure, but may be formed with a bottom gate structure in which the gate electrode 214 is disposed under the semiconductor active layer 212. Of course, all other thin film transistor structures that can be applied can be applied.

このような薄膜トランジスタTRを覆うように平坦化膜218が形成される。   A planarization film 218 is formed so as to cover the thin film transistor TR.

平坦化膜218は、複数の薄膜トランジスタTRが備えられた基板10の段差を減らすためのものであるが、上面が平坦化した単一または複数層の絶縁膜となりうる。このような平坦化膜218として、ポリイミド、ポリアミド、アクリル樹脂、ベンゾシクロブテン及びフェノール樹脂からなる群から選択される一つ以上の物質を使用できる。   The planarization film 218 is for reducing the level difference of the substrate 10 provided with a plurality of thin film transistors TR, but can be a single or a plurality of layers of insulating films whose upper surfaces are planarized. As the planarizing film 218, one or more substances selected from the group consisting of polyimide, polyamide, acrylic resin, benzocyclobutene, and phenol resin can be used.

一方、図3〜図6には示されていないが、ソース電極216及びドレイン電極217上には、パッシベーション膜がさらに備えられうる。   Meanwhile, although not shown in FIGS. 3 to 6, a passivation film may be further provided on the source electrode 216 and the drain electrode 217.

前記平坦化膜218を貫通して、薄膜トランジスタTRのドレイン電極217を露出させるようにビアホール220が形成される。このビアホール220を通じて、平坦化膜218上に所定パターンで形成された画素電極230と薄膜トランジスタTRとが電気的に連結される。もちろん、前記図面には、画素電極230が薄膜トランジスタTRのドレイン電極217と連結されると示されているが、これは例示であり、画素電極230は、ビアホール220を通じてソース電極216と電気的に連結されうる。   A via hole 220 is formed through the planarization film 218 to expose the drain electrode 217 of the thin film transistor TR. Through the via hole 220, the pixel electrode 230 formed in a predetermined pattern on the planarizing film 218 and the thin film transistor TR are electrically connected. Of course, the drawing shows that the pixel electrode 230 is connected to the drain electrode 217 of the thin film transistor TR, but this is an example, and the pixel electrode 230 is electrically connected to the source electrode 216 through the via hole 220. Can be done.

画素電極230は、画素定義膜(Pixel Define Layer:PDL)240によって覆われていない発光部231と、そのエッジが画素定義膜240によって覆われた画素定義膜形成部232a,232bとに区分される。   The pixel electrode 230 is divided into a light emitting part 231 that is not covered by a pixel definition layer (PDL) 240 and pixel definition film forming parts 232 a and 232 b whose edges are covered by the pixel definition film 240. .

画素定義膜形成部232a,232bは、発光部231とビアホール220とを連結するビアホール連結部232bと、画素電極230の残りのエッジ領域232aとに区分されうる。図3に示したように、本実施形態によるビアホール連結部232bは、同じ形状のパターンを有すると示されているが、本発明は、これに限定されない。   The pixel definition film forming portions 232a and 232b may be divided into a via hole connecting portion 232b that connects the light emitting portion 231 and the via hole 220, and a remaining edge region 232a of the pixel electrode 230. As shown in FIG. 3, the via hole connection part 232 b according to the present embodiment is shown to have the same pattern, but the present invention is not limited to this.

平坦化膜218上には、前記のように、ビアホール220と電気的に連結された各画素電極230のエッジを覆うように、画素定義膜240が形成される。   As described above, the pixel definition film 240 is formed on the planarization film 218 so as to cover the edge of each pixel electrode 230 electrically connected to the via hole 220.

このような画素定義膜240は、画素電極230のエッジを所定の厚さで覆いつつ画素を定義する役割を行う。また、画素電極230の端部と後述する対向電極260との距離を増やすことによって、画素電極230の端部でのアークの発生を防止する役割を行うこともある。   The pixel definition film 240 serves to define a pixel while covering the edge of the pixel electrode 230 with a predetermined thickness. In addition, by increasing the distance between the end of the pixel electrode 230 and a counter electrode 260 described later, the arc may be prevented from being generated at the end of the pixel electrode 230.

画素電極230上には、有機膜250と対向電極260とが順次に形成される。   An organic film 250 and a counter electrode 260 are sequentially formed on the pixel electrode 230.

前記有機膜250は、低分子または高分子有機膜が使われうる。低分子有機膜を使用する場合、ホール注入層(HIL:Hole Injection Layer)、ホール輸送層(HTL:Hole Transport Layer)、発光層(EML:Emission Layer)、電子輸送層(ETL:Electron Transport Layer)、電子注入層(EIL:Electron Injection Layer)が単一あるいは複合の構造で積層されて形成され、使用可能な有機材料も、銅フタロシアニン(CuPc)、N,N−ジ(ナフタレン−1−イル)−N,N'−ジフェニル−ベンジジン(NPB)、トリス−8−ヒドロキシキノリンアルミニウム(Alq3)をはじめとして、多様に適用可能である。   The organic layer 250 may be a low molecular or high molecular organic layer. When a low molecular organic film is used, a hole injection layer (HIL), a hole transport layer (HTL), an emission layer (EML), an electron transport layer (ETL) are used. An electron injection layer (EIL: Electron Injection Layer) is formed by laminating a single or composite structure, and usable organic materials include copper phthalocyanine (CuPc), N, N-di (naphthalen-1-yl). Various applications are possible including -N, N'-diphenyl-benzidine (NPB) and tris-8-hydroxyquinoline aluminum (Alq3).

一方、高分子有機膜を使用する場合、発光層を中心に画素電極230の方向にホール輸送層(HTL)のみが含まれうる。ホール輸送層(HTL)は、ポリエチレンジヒドロキシチオフェン(PEDOT:Poly−(2,4)−Ethylene−Dihydroxythiophene)や、ポリアニリン(PANI)を使用できる。   On the other hand, when the polymer organic film is used, only the hole transport layer (HTL) may be included in the direction of the pixel electrode 230 around the light emitting layer. For the hole transport layer (HTL), polyethylenedihydroxythiophene (PEDOT: Poly- (2,4) -Ethylene-Dihydroxythiophene) or polyaniline (PANI) can be used.

この時、前記発光層は、赤、緑、青色の画素ごとに独立して形成され、ホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層、及び電子注入層は、共通層であって、赤、緑、青色の画素に共通に適用されうる。   At this time, the light emitting layer is formed independently for each of red, green, and blue pixels, and the hole injection layer, the hole transport layer, the electron transport layer, and the electron injection layer are common layers, and the red, green, It can be commonly applied to blue pixels.

一方、図5では、発光層を備える有機膜250が画素電極230の開口上にのみ形成されたと示されているが、これは、一例であり、これらの共通層は、対向電極260のように、全体画素領域を覆うように形成されうる。このような発光層を備える有機膜250は、真空蒸着法、インクジェットプリンティング法、スピンコーティング法、レーザを利用した転写法(LITI:Laser Induced Thermal Imaging)の方法で通常のカラーパターンを形成できる。   On the other hand, FIG. 5 shows that the organic film 250 including the light emitting layer is formed only on the opening of the pixel electrode 230, but this is an example, and these common layers are like the counter electrode 260. , And can be formed to cover the entire pixel area. The organic film 250 including such a light emitting layer can form a normal color pattern by a vacuum deposition method, an ink jet printing method, a spin coating method, or a laser induced thermal imaging (LITI) method.

特に、ドナーフィルムに形成された発光材料をレーザ転写法(LITI)で画素電極230上にパターンを転写する場合、発光部231を取り囲む画素定義膜240の厚さが厚ければ、画素定義膜240と発光部231との境界に形成される高い段差によって、発光部231の境界で発光材料の転写が円滑になされない。   In particular, when a light-emitting material formed on a donor film is transferred onto the pixel electrode 230 by a laser transfer method (LITI), if the pixel-defining film 240 surrounding the light-emitting portion 231 is thick, the pixel-defining film 240 The light emitting material is not smoothly transferred at the boundary between the light emitting portions 231 due to the high step formed at the boundary between the light emitting portions 231 and the light emitting portions 231.

一方、前述したレーザ転写法によって発光層を形成する場合ではなくても、画素定義膜240の厚さが厚ければ、最近の趨勢である薄型のディスプレイの製作が難しい。前記のような多様な事情によって、画素定義膜240の厚さは、可能な限り薄く形成することが望ましい。   On the other hand, even if the light emitting layer is not formed by the laser transfer method described above, if the pixel defining film 240 is thick, it is difficult to manufacture a thin display which is a recent trend. Due to various circumstances as described above, it is desirable to form the pixel defining layer 240 as thin as possible.

画素定義膜240の厚さを薄く形成する時、もし、ビアホール220が画素電極230のエッジ、言い換えれば、画素電極230の発光部231の境界に過度に近く形成されれば、ビアホール220のために前記画素電極230上に形成された画素定義膜240が求められる厚さを維持できず、ビアホール220側に崩れてしまう現象が発生する。そのようになれば、画素電極230の発光部231の境界が不明確になり、画素の全体的な平坦度が低下する。その結果、前述したレーザを利用した転写法や真空蒸着によって発光層パターンを形成する場合、発光層パターンの境界が崩れて、結果的に、表示品質が低下するという問題が発生する。   When the pixel defining layer 240 is formed to be thin, if the via hole 220 is formed too close to the edge of the pixel electrode 230, in other words, the boundary of the light emitting portion 231 of the pixel electrode 230, The pixel definition layer 240 formed on the pixel electrode 230 cannot maintain the required thickness, and the phenomenon of collapse to the via hole 220 occurs. If so, the boundary of the light emitting portion 231 of the pixel electrode 230 becomes unclear, and the overall flatness of the pixel is lowered. As a result, when the light emitting layer pattern is formed by the above-described transfer method using laser or vacuum deposition, the boundary of the light emitting layer pattern is broken, resulting in a problem that display quality is deteriorated.

前記のような問題を解決するために、本実施形態による有機発光ディスプレイ装置によれば、ビアホール220は、前記ビアホール220の周囲に隣接して配された各画素電極230の発光部231の境界から最も遠く形成される。   In order to solve the above-described problem, according to the organic light emitting display device according to the present embodiment, the via hole 220 extends from the boundary of the light emitting portion 231 of each pixel electrode 230 disposed adjacent to the periphery of the via hole 220. Formed farthest.

図6は、図3で画素定義膜240と、前記画素定義膜240で取り囲まれた画素定義膜形成部232a,232bとの図示を省略し、画素電極230の発光部231−1,231−2,231−3,...とビアホール220との配置関係を概略的に示した平面図である。   6 does not show the pixel definition film 240 and the pixel definition film forming portions 232a and 232b surrounded by the pixel definition film 240 in FIG. 3, and the light emitting portions 231-1 and 231-2 of the pixel electrode 230 are omitted. , 231-3,. . . FIG. 6 is a plan view schematically showing the arrangement relationship between the via hole 220 and the via hole 220.

図3及び図6を参照すれば、各ビアホール220は、前記ビアホール220の周囲に隣接して配された各画素電極230の発光部231−1,231−2,231−3,...から最も遠く形成される。   Referring to FIGS. 3 and 6, each via hole 220 includes light emitting portions 231-1, 231-2, 231-3,... Of each pixel electrode 230 disposed adjacent to the periphery of the via hole 220. . . Formed farthest from.

具体的に、各画素電極230の発光部231パターンが第1方向(x方向)、及び前記第1方向(x方向)に垂直に交差する第2方向(y方向)に沿って規則的に配列された場合、各ビアホール220は、前記各ビアホール220の周囲に前記第1方向(x方向)に沿って隣接して配された二つの発光部231−1,231−2、及び前記ビアホール220の周囲に前記第2方向(y方向)に沿って隣接して配された二つの発光部231−1,231−3の境界から最も遠く形成される。   Specifically, the light emitting unit 231 pattern of each pixel electrode 230 is regularly arranged along a first direction (x direction) and a second direction (y direction) perpendicular to the first direction (x direction). In this case, each via hole 220 includes two light emitting units 231-1 and 231-2 disposed adjacent to each other along the first direction (x direction) around each via hole 220, and the via hole 220. It is formed farthest from the boundary between the two light emitting units 231-1 and 231-3 arranged adjacent to each other along the second direction (y direction).

詳細には、図6に示したように、各ビアホール220は、前記各ビアホール220の周囲に前記第1方向(x方向)に沿って隣接して配された二つの発光部231−1,231−2の間を通る直線l1と、前記ビアホール220の周囲に前記第2方向(y方向)に沿って隣接して配された二つの発光部231−1,231−3の間を通る直線l2とが交差する位置に形成されうる。   Specifically, as illustrated in FIG. 6, each via hole 220 includes two light emitting units 231-1 and 231 disposed adjacent to each other along the first direction (x direction) around each via hole 220. −2 and a straight line l2 passing between the two light emitting units 231-1 and 231-3 arranged adjacent to each other along the second direction (y direction) around the via hole 220. Can be formed at a position where and intersect.

さらに詳細には、前記図6に示したように、前記直線l1,l2は、それぞれビアホール220の周囲に前記第1方向(x方向)に沿って隣接して配された二つの発光部231−1,231−2を連結した直線の中心を通る直線l1、及び前記第2方向(y方向)に沿って隣接して配された二つの発光部231−1,231−3を連結した直線の中心を通る直線l2と説明されうる。   More specifically, as shown in FIG. 6, the straight lines 11 and 12 are two light emitting units 231-1 arranged adjacent to each other around the via hole 220 along the first direction (x direction). A straight line l1 passing through the center of a straight line connecting 1,231-2 and a straight line connecting two light emitting units 231-1 and 231-3 arranged adjacent to each other in the second direction (y direction). It can be described as a straight line l2 passing through the center.

また、図3及び図4を参照すれば、各ビアホール220と、前記各ビアホール220の周囲に隣接して配された各画素電極230の発光部231の境界との距離dは、一定に形成され、その距離dは、各ビアホール220が隣接した発光部231の境界から最大限離隔されるように設計されたということが分かる。   3 and 4, the distance d between each via hole 220 and the boundary of the light emitting portion 231 of each pixel electrode 230 disposed adjacent to the periphery of each via hole 220 is formed constant. It can be seen that the distance d is designed such that each via hole 220 is separated as much as possible from the boundary between the adjacent light emitting portions 231.

一方、図3及び図6に示したように、本実施形態による有機発光ディスプレイ装置は、各ビアホール220と、前記ビアホール220に第1方向(x方向)に隣接したビアホール220とを連結した直線B1−B1、及び第2方向(y方向)に隣接したビアホール220の間を連結した直線B2−B2上には、画素電極230の発光部231が配されないということが分かる。これは、各ビアホール220は、隣接した発光部231から最大限遠く離隔されるように設計するためである。   Meanwhile, as shown in FIGS. 3 and 6, the organic light emitting display device according to the present embodiment includes a straight line B <b> 1 connecting each via hole 220 and the via hole 220 adjacent to the via hole 220 in the first direction (x direction). It can be seen that the light emitting portion 231 of the pixel electrode 230 is not disposed on the straight line B2-B2 connecting the −B1 and the via hole 220 adjacent in the second direction (y direction). This is because each via hole 220 is designed to be separated from the adjacent light emitting unit 231 as far as possible.

したがって、本実施形態による有機発光ディスプレイ装置によれば、ビアホール220の近くの薄い画素定義膜240の厚さが崩れる場合が発生しても、発光部231の境界では、画素定義膜240が元来の厚さを維持しているため、発光領域の定義を正確にできる。その結果、前述したレーザを利用した転写法や真空蒸着によって発光層パターンを形成する場合、発光層パターンの境界が明確に維持され、画素の全体的な平坦度が維持されるため、表示品質が向上する。   Therefore, according to the organic light emitting display device according to the present embodiment, even if the thin pixel definition film 240 near the via hole 220 collapses, the pixel definition film 240 is originally formed at the boundary of the light emitting unit 231. Therefore, the light emitting region can be defined accurately. As a result, when the light emitting layer pattern is formed by the above-described transfer method using laser or vacuum deposition, the boundary of the light emitting layer pattern is clearly maintained and the overall flatness of the pixel is maintained, so that the display quality is improved. improves.

一方、本実施形態による有機発光ディスプレイ装置は、画素定義膜240の厚さが薄く形成される。一例として、本実施形態の画素定義膜240の厚さは、500Å以上5000Å以下であることが望ましい。画素定義膜240の厚さが500Åより薄い場合には、厚さが過度に薄くて、画素が定義し難く、厚さが5000Åより厚い場合には、画素定義膜240と発光部231との境界で形成される段差によって、レーザ熱転写法によって発光層の転写を円滑にできないためである。   Meanwhile, in the organic light emitting display device according to the present embodiment, the pixel defining layer 240 is formed to be thin. As an example, the thickness of the pixel defining film 240 of the present embodiment is desirably 500 mm or more and 5000 mm or less. When the thickness of the pixel definition film 240 is less than 500 mm, the thickness is excessively thin and it is difficult to define the pixel. When the thickness is greater than 5000 mm, the boundary between the pixel definition film 240 and the light emitting unit 231. This is because the transfer of the light emitting layer cannot be smoothly performed by the laser thermal transfer method due to the step formed by the above.

図4を参照すれば、画素定義膜240の厚さが薄いため、基板10の底面からビアホール220の上部に形成された画素定義膜240までの高さh2が、基板10の底面から発光部231に形成された画素電極230の表面までの高さh1より低いということが分かる。厚さが薄い画素定義膜240がビアホール220に形成された段差を十分に埋め込めないためである。しかし、本実施形態では、ビアホール220が画素電極230の発光部231の境界から十分に遠く離れているため、ビアホール220の上部に形成された画素定義膜240は、厚さが崩れるが、ビアホール220から所定間隔d離隔された発光部231境界の画素定義膜240の厚さは、そのまま維持されるということが分かる。   Referring to FIG. 4, since the pixel definition film 240 is thin, the height h <b> 2 from the bottom surface of the substrate 10 to the pixel definition film 240 formed on the via hole 220 is from the bottom surface of the substrate 10 to the light emitting unit 231. It can be seen that the height to the surface of the pixel electrode 230 formed in (1) is lower than h1. This is because the pixel defining film 240 having a small thickness cannot sufficiently fill the step formed in the via hole 220. However, in the present embodiment, since the via hole 220 is sufficiently far from the boundary of the light emitting portion 231 of the pixel electrode 230, the pixel defining film 240 formed on the via hole 220 has a reduced thickness. It can be seen that the thickness of the pixel definition film 240 at the boundary of the light emitting portion 231 that is separated from the light emitting portion 231 by the predetermined distance d is maintained as it is.

一方、本実施形態による有機発光ディスプレイ装置で、画素電極230は、アノード電極の機能を行い、対向電極260は、カソード電極の機能を行える。もちろん、これらの画素電極230と対向電極260との極性は、相互逆になってもよい。   Meanwhile, in the organic light emitting display device according to the present embodiment, the pixel electrode 230 may function as an anode electrode, and the counter electrode 260 may function as a cathode electrode. Of course, the polarities of the pixel electrode 230 and the counter electrode 260 may be reversed.

本発明の一実施形態によれば、前記画素電極230は、反射電極となってもよく、前記対向電極260は、透明電極となってもよい。したがって、前記ディスプレイ部20は、対向電極260の方向に画像を具現する前面発光型となる。   According to an embodiment of the present invention, the pixel electrode 230 may be a reflective electrode, and the counter electrode 260 may be a transparent electrode. Accordingly, the display unit 20 is a front-emitting type that realizes an image in the direction of the counter electrode 260.

このために、前記画素電極230は、Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr、Li、Ca及びこれらの化合物で形成された反射膜と、仕事関数の高いITO(Indium
Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、ZnO、またはInで備えられうる。そして、前記対向電極260は、仕事関数の小さい金属、すなわち、Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr、Li、Ca、またはこれらの合金で形成されうる。
For this reason, the pixel electrode 230 includes a reflective film formed of Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, Li, Ca and their compounds, and ITO having a high work function. (Indium
Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), ZnO, or In 2 O 3 . The counter electrode 260 may be formed of a metal having a small work function, that is, Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, Li, Ca, or an alloy thereof.

しかし、本発明は、これに限定されず、前記画素電極230は、透明電極で備えられうる。この場合、前述した画素電極230は、反射膜なしに仕事関数の高いITO、IZO、ZnO、またはInで備えられれば十分である。 However, the present invention is not limited thereto, and the pixel electrode 230 may be a transparent electrode. In this case, it is sufficient that the pixel electrode 230 described above is made of ITO, IZO, ZnO, or In 2 O 3 having a high work function without a reflective film.

一方、前記図面に示された構成要素は、説明の便宜上拡大または縮小して表示されうるので、図面に示された構成要素のサイズや形状に本発明が拘束されず、当業者ならば、これから多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるということが分かるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決定されねばならない。   On the other hand, since the components shown in the drawings can be enlarged or reduced for convenience of explanation, the present invention is not restricted by the size and shape of the components shown in the drawings. It will be appreciated that various modifications and other equivalent embodiments are possible. Therefore, the true technical protection scope of the present invention must be determined by the technical idea of the claims.

本発明は、ディスプレイ関連の技術分野に適用可能である。   The present invention is applicable to display related technical fields.

10 基板
20 ディスプレイ部
30 密封基板
40 密封材
50 密封フィルム
TR 薄膜トランジスタ
211 バッファ膜
212 半導体活性層
212a チャンネル領域
212b,212c ソース/ドレイン領域
213 ゲート絶縁膜
214 ゲート電極
215 層間絶縁膜
216 ソース電極
217 ドレイン電極
218 平坦化膜
220 ビアホール
230 画素電極
231 発光部
232a,232b 画素定義膜形成部
240 画素定義膜
250 有機膜
260 対向電極


DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Substrate 20 Display part 30 Sealing substrate 40 Sealing material 50 Sealing film TR Thin film transistor 211 Buffer film 212 Semiconductor active layer 212a Channel region 212b, 212c Source / drain region 213 Gate insulating film 214 Gate electrode 215 Interlayer insulating film 216 Source electrode 217 Drain electrode 218 Planarization film 220 Via hole 230 Pixel electrode 231 Light emitting part 232a, 232b Pixel definition film forming part 240 Pixel definition film 250 Organic film 260 Counter electrode


Claims (12)

基板と、
前記基板の一面上に形成された複数の薄膜トランジスタと、
前記複数の薄膜トランジスタを覆う平坦化膜と、
前記平坦化膜を貫通しつつ、前記複数の薄膜トランジスタのソース及びドレイン電極のうちいずれか一つを露出させる複数のビアホールと、
前記平坦化膜上に形成され、前記ビアホールを通じて前記各薄膜トランジスタと電気的に連結され、相互垂直に交差する第1方向及び第2方向に沿ってパターニングされた複数の画素電極と、
前記各ビアホールと前記各画素電極のエッジとを覆うように、前記平坦化膜上に単一層に形成された画素定義膜と、
前記画素電極と対向して配される対向電極と、
前記画素電極と前記対向電極との間に介されて発光層を備える有機膜と、を備え、
前記画素定義膜の厚さは前記有機膜の厚さより厚く、
前記有機膜は前記画素定義膜の上面の一部に重畳され、
前記ビアホールは、前記ソース及びドレイン電極のうち当該ビアホールに対応する前記発光層から外側の方の電極を露出させ、
前記各ビアホールは、前記各ビアホールの周囲に、前記第1方向及び第2方向に沿って隣接して配された前記画素電極の画素定義膜によって覆われていない発光部の、前記画素定義膜との境界間の中心を通る直線が交差する位置に規則的に形成されたことを特徴とする有機発光ディスプレイ装置。
A substrate,
A plurality of thin film transistors formed on one surface of the substrate;
A planarization film covering the plurality of thin film transistors;
A plurality of via holes exposing one of the source and drain electrodes of the plurality of thin film transistors while penetrating the planarization film;
A plurality of pixel electrodes formed on the planarization layer, electrically connected to the thin film transistors through the via holes, and patterned along a first direction and a second direction intersecting each other vertically;
A pixel definition film formed in a single layer on the planarization film so as to cover each via hole and the edge of each pixel electrode;
A counter electrode disposed to face the pixel electrode;
An organic film including a light emitting layer interposed between the pixel electrode and the counter electrode,
The pixel defining layer is thicker than the organic layer,
The organic film is superimposed on a part of the upper surface of the pixel definition film,
The via hole exposes the outer electrode from the light emitting layer corresponding to the via hole of the source and drain electrodes,
Each via hole includes the pixel defining film of the light emitting unit that is not covered by the pixel defining film of the pixel electrode arranged adjacent to each other along the first direction and the second direction around each via hole. An organic light-emitting display device, wherein the organic light-emitting display device is regularly formed at positions where straight lines passing through the center between the boundaries of the two intersect.
前記各画素電極の発光部は、前記第1方向及び第2方向に沿って規則的なパターンで形成されたことを特徴とする請求項1に記載の有機発光ディスプレイ装置。   The organic light emitting display device according to claim 1, wherein the light emitting part of each pixel electrode is formed in a regular pattern along the first direction and the second direction. 前記各ビアホールは、前記各ビアホールに、前記第1方向に隣接した二つの発光部を連結した直線の中心を通る直線と、前記第2方向に隣接した二つの発光部を連結した直線の中心を通る直線とが交差する位置に形成されたことを特徴とする請求項1または2に記載の有機発光ディスプレイ装置。   Each via hole has a straight line passing through the center of a straight line connecting two light emitting units adjacent in the first direction to the via hole, and a straight line connecting two light emitting units adjacent in the second direction. The organic light emitting display device according to claim 1, wherein the organic light emitting display device is formed at a position where a straight line passing therethrough intersects. 前記各ビアホールと、前記各ビアホールの周囲に隣接して配された前記各画素電極の発光部の境界との距離は、一定であることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の有機発光ディスプレイ装置。   The distance between each via hole and the boundary of the light emitting portion of each pixel electrode arranged adjacent to the periphery of each via hole is constant. The organic light-emitting display device as described. 前記各ビアホールを、前記ビアホールに隣接した前記第1方向に隣接したビアホールと連結した第1直線、及び前記ビアホールの前記第2方向に隣接したビアホールとを連結した第2直線上には、前記発光部が配されていないことを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の有機発光ディスプレイ装置。   On the first straight line connecting each via hole to the via hole adjacent to the first direction adjacent to the via hole, and to the second straight line connecting the via hole adjacent to the second direction of the via hole, the light emission is performed. The organic light-emitting display device according to claim 1, wherein no part is arranged. 前記平坦化膜の表面は、全体的に平坦に形成されることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の有機発光ディスプレイ装置。   6. The organic light emitting display device according to claim 1, wherein a surface of the planarizing film is entirely flat. 前記ビアホール上に形成された前記画素定義膜の表面の高さは、前記発光部に形成された前記画素電極の表面の高さより低く形成されたことを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の有機発光ディスプレイ装置。   The height of the surface of the pixel definition film formed on the via hole is formed lower than the height of the surface of the pixel electrode formed on the light emitting part. 2. The organic light emitting display device according to item 1. 前記画素定義膜の厚さは、500Å以上5000Å以下であることを特徴とする請求項1から7のいずれか1項に記載の有機発光ディスプレイ装置。   8. The organic light emitting display device according to claim 1, wherein the pixel defining film has a thickness of 500 to 5000 mm. 9. 前記発光部上に前記発光層が形成されることを特徴とする請求項1から8のいずれか1項に記載の有機発光ディスプレイ装置。   The organic light emitting display device according to claim 1, wherein the light emitting layer is formed on the light emitting unit. 前記画素電極のビアホール連結部は、同じ形状のパターンを有することを特徴とする請求項1から9のいずれか1項に記載の有機発光ディスプレイ装置。   10. The organic light emitting display device according to claim 1, wherein the via hole connection portion of the pixel electrode has a pattern having the same shape. 11. 前記画素電極は、反射電極であることを特徴とする請求項1から10のいずれか1項に記載の有機発光ディスプレイ装置。   The organic light emitting display device according to claim 1, wherein the pixel electrode is a reflective electrode. 前記基板上にバッファ膜がさらに備えられたことを特徴とする請求項1から11のいずれか1項に記載の有機発光ディスプレイ装置。
The organic light emitting display device according to claim 1, further comprising a buffer film on the substrate.
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