JP2016142696A - 位置検出装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】製造上の誤差や経年劣化等を原因とする誤検出を防止し、回転体の特定位置を確実に検出することができる位置検出装置を提供すること。
【解決手段】位置検出装置20は、回転体21と、フォトインタラプタ22と、制御ユニット5と、から構成される。回転体21には、工程特定切欠き部50a〜hと、非透光部60と、基準切欠き部55と、比較非透光部61と、が配置される。基準切欠き部55は、周方向の長さが基準長さaに設定される。比較非透光部61は、周方向の長さが基準長さaよりも短い比較長さbに設定される。制御ユニット5は、フォトインタラプタ22が光を検出する受光時間及びフォトインタラプタ22が光を検出しない遮光時間を測定する。そして、受光時間に続いて測定される遮光時間が当該受光時間よりも短くなった位置に基づいて回転体21の原点位置を検出する。
【選択図】図2

Description

本発明は、回転体の特定位置を検出する位置検出装置に関する。
従来から、回転体に複数の切欠き部を形成し、フォトインタラプタ等の検出部によって透光状態を検出し、回転体の位置を特定する位置検出装置が知られている。この種の位置検出装置を開示するものとして、例えば特許文献1がある。特許文献1には、複数の切欠き部を回転体の回転方向に沿って設け、ONの検出時間と、このONに続くOFFの検出時間と、が一致したと判定されたときの位置を特定位置として検出する構成が開示されている。
特開2012−117873号公報
特許文献1に開示される位置検出装置は、固体差や使用条件によって回転数が変化するDCモータであっても、回転速度が一定であれば回転体の特定位置を検出することができる。しかしながら、ONの検出時間とOFFの検出時間が一致することを特定位置の検出条件に設定しているため、DCモータの回転速度が一定であっても、回転体の製造誤差等によって検出時間にずれが生じた場合、特定位置が検出されなくなったり、特定位置の誤検出が生じたりするおそれがあった。このような事態を防止する方法として、ONの検出時間とOFFの検出時間の一致判定に、ある程度の範囲をもたせることが考えられる。しかし、製造上の誤差は図面公差によって範囲を設定できるとしても、経年劣化やソフト処理上の誤差等を考慮して適切な範囲を設定することは非常に困難であった。このように、従来の位置検出装置には、誤検出を防止し、特定位置を正確に検出するという点で改善の余地があった。
本発明は、製造上の誤差や経年劣化等を原因とする誤検出を防止し、回転体の特定位置を確実に検出することができる位置検出装置を提供することを目的とする。
本発明は、回転体と、前記回転体の周方向に間隔をあけて配置される複数の透光部と、隣り合う2つの前記透光部の間に配置される複数の非透光部と、前記透光部を透過する光を検出する検出部と、前記回転体の位置を特定する位置特定部と、を備え、前記回転体の特定位置を検出する位置検出装置であって、複数の前記透光部は、周方向の長さが基準長さに設定された基準透光部を含み、複数の前記非透光部は、周方向の長さが前記基準長さと同一か前記基準長さよりも短い比較長さに設定された前記基準透光部に隣接する比較非透光部を含み、前記位置特定部は、前記検出部が光を検出する受光時間及び前記検出部が光を検出しない遮光時間を測定し、前記受光時間に続いて測定される前記遮光時間が前記受光時間と同じか前記受光時間よりも短くなった位置、又は、前記遮光時間に続いて測定される前記受光時間が前記遮光時間と同じか前記遮光時間よりも長くなった位置に基づいて前記回転体の特定位置を検出する位置検出装置に関する。
前記回転体は、隣接し合う一組の基準透光部と比較非透光部とを有することが好ましい。
前記基準長さは、前記比較長さに対して2倍以上であることが好ましい。
前記位置特定部は、前記検出部が光の検出状態となった時点において、前回の受光時間に対する前回の遮光時間の割合を算出し、算出された前記割合が予め設定される所定範囲にある場合に前記回転体が特定位置にあると判定することが好ましい。
前記所定範囲は、前回の受光時間に対する前回の遮光時間の割合が100%未満であることが好ましい。
前記位置特定部は、前記検出部が光の非検出状態となった時点において、前回の遮光時間に対する前回の受光時間の割合を算出し、算出された前記割合が予め設定される所定範囲にある場合に前記回転体が特定位置にあると判定することが好ましい。
前記所定範囲は、前回の遮光時間に対する前回の受光時間の割合が100%超過であることが好ましい。
本発明の位置検出装置によれば、製造上の誤差や経年劣化等を原因とする誤検出を防止し、回転体の特定位置を確実に検出することができる。
本実施形態の位置検出装置が適用される硬水軟化装置の概略図である。 位置検出装置の回転体及びフォトインタラプタを示す図である。 回転体の基準切欠き部及び比較非透光部の拡大図である。 本実施形態の位置検出装置によって原点位置が検出される様子を示すタイムチャートである。
以下、本発明の位置検出装置の好ましい一実施形態について、図面を参照しながら説明する。本実施形態の位置検出装置20は、硬水軟化装置1のカムシャフト10の位置の特定に用いられるものである。
まず、硬水軟化装置1の全体構成について説明する。図1は、本実施形態の位置検出装置20が適用される硬水軟化装置1の概略図である。なお、本明細書における「ライン」とは、流路、経路、管路等の流体の流通が可能なラインの総称である。
図1に示すように、硬水軟化装置1は、圧力タンク2と、再生剤タンク3と、コントロールバルブ4と、駆動モータ30と、位置検出装置20と、制御ユニット5と、を備える。また、硬水軟化装置1のコントロールバルブ4には、原水ラインL10、処理水ラインL11、排水ラインL12、駆動水ラインL13、再生剤ラインL14が接続される。
圧力タンク2は、有底円筒状の中空容器であり、陽イオン交換樹脂ビーズからなるイオン交換樹脂床を収容する。圧力タンク2には、コントロールバルブ4に接続される外管13及び内管14が差し込まれる。外管13は、圧力タンク2の中央部まで延出し、中央通水口15が形成される。内管14は、外管13の中空部分に配置される。内管14は、圧力タンク2の下部まで延出し、その端部には下部通水口16が形成される。また、圧力タンク2の上部には、コントロールバルブ4に接続される上部通水口17が形成される。
再生剤タンク3は、圧力タンク2内のイオン交換樹脂床の再生剤を貯留する。再生剤タンク3は、再生剤ラインL14を介してコントロールバルブ4に接続されている。
コントロールバルブ4は、硬水軟化装置1の処理工程に応じて流路を切り替える複数のバルブ(図示省略)を有する流路制御弁である。このコントロールバルブ4によって、圧力タンク2の各通水口(中央通水口15、下部通水口16及び上部通水口17)と各ライン(原水ラインL10、処理水ラインL11、排水ラインL12、駆動水ラインL13及び再生剤ラインL14)の経路の接続及び解除が行われる。本実施形態では、硬水軟化装置1の工程として、例えば、通水工程、逆洗工程、再生工程(通液工程)、押出工程、急洗工程(リンス工程)、エア抜き工程、待機工程、補水工程等が順次行われる。
本実施形態のコントロールバルブ4は、カムシャフト10によって流路を切り替えるカム駆動式である。カムシャフト10は、回転軸11と、この回転軸11に固定される複数のカム12と、から構成される。このカムシャフト10のカム12によって前述のバルブの開閉が行われ、流路が切り替えられる。
駆動モータ30は、その駆動力をカムシャフト10の回転軸11に伝達する駆動装置である。本実施形態の駆動モータ30は、DCモータであり、減速ギア(図示省略)を介してその駆動力が回転軸11に伝達されるように構成される。駆動モータ30は、制御ユニット5に電気的に接続されており、制御ユニット5からの信号に基づいて駆動される。
位置検出装置20は、カムシャフト10の回転位置を検出するためのものである。本実施形態の位置検出装置20は、回転体21と、フォトインタラプタ22と、制御ユニット5と、から構成される。
回転体21は、カムシャフト10の回転軸11の端部に接続されており、カムシャフト10と一体的に回転するように構成される。次に、回転体21の詳細な構成について説明する。図2は、位置検出装置20の回転体21及びフォトインタラプタ22を示す図である。
図2に示すように、回転体21は、非透光性の材料によって円板状に形成される。本実施形態の回転体21は、フォトインタラプタ22の光を透過させる透光部として、工程特定切欠き部50a〜h及び基準切欠き部55を有する。
位置検出装置20における工程特定切欠き部50a〜hの機能について説明する。工程特定切欠き部50a〜hは、カムシャフト10の現在位置を特定するための透光部である。工程特定切欠き部50a〜hは、フォトインタラプタ22の検出位置を通過する時点のカムシャフト10の状態に対応するように回転体21に配置される。
本実施形態では、回転体21の回転方向(図3の矢印の向き)の順に、通水工程の位置に対応する工程特定切欠き部50a、補水工程の位置に対応する工程特定切欠き部50b、待機工程の位置に対応する工程特定切欠き部50c、エア抜き工程の位置に対応する工程特定切欠き部50d、急洗工程の位置に対応する工程特定切欠き部50e、押出工程に対応する工程特定切欠き部50f、再生工程の位置に対応する工程特定切欠き部50g、逆洗工程の位置に対応する工程特定切欠き部50hが配置されている。
基準切欠き部55は、カムシャフト10の現在位置を特定するための基準となる原点位置(特定位置)を検出するための基準透光部である。本実施形態の基準切欠き部55は、工程特定切欠き部50eと、工程特定切欠き部50fと、の間に配置されている。
上述の通り、回転体21は、非透光性の材料で形成されており、工程特定切欠き部50a〜h及び基準切欠き部55が形成されていない部分は、フォトインタラプタ22の光を遮光する非透光部60及び比較非透光部61として機能する。
非透光部60は、工程特定切欠き部50a〜hのそれぞれの間に位置する。非透光部60は、その何れも周方向の幅が工程特定切欠き部50a〜hの周方向の幅よりも広くなっている。また、基準切欠き部55と工程特定切欠き部50fの間の非透光部60においても、その幅が工程特定切欠き部50fよりも広くなっている。
比較非透光部61は、基準切欠き部55とともに原点位置を検出するための非透光部である。比較非透光部61は、基準切欠き部55と工程特定切欠き部50eの間に位置する。
次に、基準切欠き部55と比較非透光部61の関係について説明する。図3は、回転体21の基準切欠き部55及び比較非透光部61の拡大図である。
図3に示すように、基準切欠き部55の周方向の幅を基準長さaとし、比較非透光部61の周方向の長さを比較長さbとすると、基準長さaの方が比較長さbよりも長くなるように、回転体21が形成される。即ち、基準切欠き部55と工程特定切欠き部50eの間の幅(比較長さb)が、基準切欠き部55の幅(基準長さa)よりも狭くなるように、基準切欠き部55と工程特定切欠き部50eが配置されているのである。
本実施形態では、回転体21の回転中心を中心として、基準切欠き部55の周方向における一側の端面から他側の端面までの角度(基準長さaの範囲)が14度になるように設定されている。同様に、比較非透光部61は、周方向における一側の端部から他側の端部までの角度(比較長さbの範囲)が5度になるように設定されている。即ち、基準長さaは、比較長さbの2.8倍の長さになっている。
次に、フォトインタラプタ22について説明する。フォトインタラプタ22は、発光部及び受光部(何れも図示省略)を有し、発光部から発光された光を受光部で検出する検出部である。本実施形態のフォトインタラプタ22は、工程特定切欠き部50a〜h及び基準切欠き部55が配置される同一円周上で光の検出を行う。フォトインタラプタ22は、制御ユニット5に電気的に接続されており、制御ユニット5に対し、光を検出した場合にはON(受光)信号を送信し、光が検出されない場合にはOFF(遮光)信号を送信する。
制御ユニット5は、CPU、メモリ等から構成されるコンピュータであり、硬水軟化装置1の各処理を制御する。本実施形態の制御ユニット5は、位置検出装置20によってカムシャフト10の現在位置を特定しながらカムシャフト10を処理工程に応じた位置に回転させて、コントロールバルブ4内の流路を切り替える。
カムシャフト10の現在位置の検出は、工程特定切欠き部50a〜hを通過したときのフォトインタラプタ22の検出信号(ON信号及びOFF信号)と、硬水軟化装置1の起動時や再起動時等に設定される原点位置と、に基づいて判定される。
次に、本実施形態の位置検出装置20による原点位置の設定について説明する。図4は、本実施形態の位置検出装置20によって原点位置が検出される様子を示すタイムチャートである。
本実施形態では、回転体21の原点位置が、比較非透光部61の工程特定切欠き部50e側の端部に設定される。制御ユニット5は、この比較非透光部61の端部(エッジ部分)を検出することで、回転体21の原点位置がフォトインタラプタ22の検出位置にあるか否かを判定する。
制御ユニット5は、硬水軟化装置1の起動や再起動等のトリガを検出すると、原点を特定する処理を開始する。制御ユニット5は、駆動モータ30を制御して回転体21を等速度で回転させるとともに、フォトインタラプタ22の検出信号を監視する。図4に示すように、フォトインタラプタ22は、工程特定切欠き部50a〜h及び基準切欠き部55がフォトインタラプタ22の検出位置を通過するときはON信号(受光状態)となり、非透光部60及び比較非透光部61がフォトインタラプタ22の検出位置を通過するときはOFF信号(遮光状態)となる。
制御ユニット5は、フォトインタラプタ22の検出信号に基づいて受光時間と遮光時間を測定する。受光時間は、OFF信号からON信号になったときから再びOFF信号になるときまでの時間である。遮光時間は、ON信号からOFF信号になったときから再びON信号になるときまでの時間である。
制御ユニット5は、受光時間に対して連続して測定される遮光時間の割合を常時監視し、その割合が予め設定される所定範囲内になった位置を原点位置と判定する。本実施形態では、所定範囲は100%未満に設定されており、遮光時間がその直前に測定された受光時間よりも短くなることが原点位置の検出条件となっている。なお、所定範囲は、ノイズや製造上の誤差等を考慮し、その設定を適宜変更することができる。例えば、所定範囲を5%以上100%以下として設定することも可能である。
非透光部60は、工程特定切欠き部50a〜hよりも周方向に幅広に形成されている。そのため、工程特定切欠き部50a〜hを通過している間の受光時間よりも、この受光時間に続く非透光部60を通過している間の遮光時間の方が長くなる。即ち、工程特定切欠き部50a〜hに隣接する非透光部60を通過した時点では、受光時間に対する遮光時間の割合が100%を超える(例えば、400%)。従って、上述の所定範囲に入らず、制御ユニット5によって原点位置と判定されない。
一方、図4に示すように、回転体21の原点位置として設定される比較非透光部61がフォトインタラプタ22の検出位置を通過する場合、受光時間に連続して測定される遮光時間は、当該受光時間よりも短くなる。即ち、基準切欠き部55の受光時間に対する比較非透光部61の遮光時間の割合は100%未満となる(例えば、36%)。従って、原点位置と判定される上述の所定範囲に含まれることになり、制御ユニット5によって回転体21の原点位置が特定される。
制御ユニット5は、フォトインタラプタ22の検出値に基づいて原点位置を特定すると駆動モータ30を停止し、回転体21の回転を止める。これにより、原点位置の特定及び原点位置の設定が完了し、制御ユニット5は、次の処理に移行する。上述のように、硬水軟化装置1による軟化処理が開始されると、設定された原点位置及び工程特定切欠き部50a〜hにおけるフォトインタラプタ22の検出値に基づいてカムシャフト10の現在位置を特定しながら、コントロールバルブ4の流路の切り替えを行う。このように、本実施形態の位置検出装置20は、原点位置の検出と、カムシャフト10の処理を特定するための検出と、が1つのフォトインタラプタ22によって行われており、原点位置の検出のためにフォトインタラプタを別途用意する必要がなく、部品点数の削減も実現されている。
以上説明した本実施形態の位置検出装置20によれば、以下のような効果を奏する。
本実施形態の位置検出装置20は、回転体21と、フォトインタラプタ22と、制御ユニット5と、から構成される。回転体21には、工程特定切欠き部50a〜hと、非透光部60と、基準切欠き部55と、比較非透光部61と、が配置される。基準切欠き部55は、周方向の長さが基準長さaに設定される。比較非透光部61は、周方向の長さが基準長さaよりも短い比較長さbに設定される。制御ユニット5は、フォトインタラプタ22が光を検出する受光時間及びフォトインタラプタ22が光を検出しない遮光時間を測定する。そして、受光時間に続いて測定される遮光時間が受光時間よりも短くなった位置に基づいて回転体21の原点位置を検出する。
これにより、複数の工程特定切欠き部50a〜hと非透光部60が連続する回転体21であっても、受光時間に続いて測定される遮光時間が受光時間よりも短くなるのは、基準切欠き部55に隣接する比較非透光部61が通過したときだけなので、誤検出を効果的に防止しつつ、回転体21の原点位置(特定位置)を確実に特定できる。
回転体21は、隣接し合う一組の基準切欠き部55と比較非透光部61とを有する。これにより、回転体21の特定位置である原点位置を確実に特定することができる。
回転体21は、基準長さaが比較長さbに対して2倍以上になるように構成される。これにより、基準長さaが比較長さbに対して2倍以上とその長さが十分に確保されているので、回転体21の設計誤差や回転速度のブレが生じても、それらの誤差要因に影響されることなく、原点位置にある否かを正確に判定することができる。
制御ユニット5は、フォトインタラプタ22が光の検出状態となった時点において、前回の受光時間に対する前回の遮光時間の割合を算出し、算出された割合が予め設定される所定範囲にある場合に回転体21が原点位置にあると判定する。
これにより、比較非透光部61の端部に基づいて原点位置を一層正確に判定することができる。また、装置構成に応じて所定範囲をソフトウェア上で適宜設定することで、回転体21の設計変更を行うことなく、誤検出をより効果的に防止できる。更に、比較非透光部61の端部が、フォトインタラプタ22の検出位置を通過した時点で原点位置と判別できるので、比較非透光部61の端部が検出位置に達した時点でカムシャフト10の回転を停止させる等の制御も可能となる。
所定範囲は、前回の受光時間に対する前回の遮光時間の割合が100%未満に設定される。これにより、制御ユニット5による原点位置の判定を一層正確に行うことができる。
なお、上記実施形態の位置検出装置20では、受光時間に連続する遮光時間が、直前に測定された受光時間よりも短くなった時点の位置を原点位置と判定する構成であるが、この構成に限定されるわけではない。例えば、上記実施形態の回転体21の基準切欠き部55と比較非透光部61の位置を入れ替える又は回転体21の回転方向を反対にした場合でも、制御ユニット5が以下のように原点位置の判定を行うことで回転体21の原点位置を特定することができる。即ち、制御ユニット5が、遮光時間に連続する受光時間が、直前に測定された遮光時間よりも長くなった時点の位置に基づいて原点位置を判定するのである。この場合、制御ユニット5は、フォトインタラプタ22が光の非検出状態となった時点において、前回の遮光時間に対する前回の受光時間の割合を算出し、算出された割合が予め設定される所定範囲にある場合に回転体21が原点位置にあると判定する。そして、所定範囲は、前回の遮光時間に対する前回の受光時間の割合が100%超過であるように設定されることが好ましい。
以上、本発明の位置検出装置20の好ましい一実施形態について説明したが、本発明は、上述の実施形態に制限されるものではなく、適宜変更が可能である。例えば、回転体21が備える基準切欠き部55の基準長さa及び比較非透光部61の比較長さbは、上記実施形態の割合に限定されず、適宜変更できる。例えば、基準長さaと比較長さbを等しい長さにすることもできる。
上記実施形態では、工程特定切欠き部50a〜h及び基準切欠き部55は、いずれも切欠き部として形成されているが、この構成に限定されない。透光部及び基準透光部として、透光性のある材料を回転体21に配置する構成とすることもできる。
上記実施形態では、回転体21には、基準透光部としての基準切欠き部55及び比較非透光部61が1組配置される構成であるが、この構成に限定されない。例えば、基準透光部と比較非透光部の組合せを複数配置し、複数の基準点に基づいて回転体の特定位置を検出する構成とすることができる。また、原点位置の検出だけではなく、上記実施形態の処理工程の検出にも適用してもよい。
上記実施形態では、回転体21が円板上に構成されているが、この構成に限定されない。例えば、回転体を一側の端部が開放された筒状に形成し、筒状の側面に透光部としての工程特定切欠き部及び基準切欠き部を形成する構成としてもよい。また、回転体を扇形状とすることも可能である。このように、回転体の構成は、事情に応じて適宜変更することができる。
上記実施形態では、硬水軟化装置1に適用される位置検出装置20を例示したが、本発明の位置検出装置は、回転体の位置を特定する種々の装置に適用することができる。
5 制御ユニット(位置特定部)
20 位置検出装置
21 回転体
22 フォトインタラプタ(検出部)
50a〜h 工程特定切欠き部(複数の透光部)
55 基準切欠き部(基準透光部)
60 非透光部
61 比較非透光部
a 基準長さ
b 比較長さ

Claims (7)

  1. 回転体と、
    前記回転体の周方向に間隔をあけて配置される複数の透光部と、
    隣り合う2つの前記透光部の間に配置される複数の非透光部と、
    前記透光部を透過する光を検出する検出部と、
    前記回転体の位置を特定する位置特定部と、を備え、前記回転体の特定位置を検出する位置検出装置であって、
    複数の前記透光部は、周方向の長さが基準長さに設定された基準透光部を含み、
    複数の前記非透光部は、周方向の長さが前記基準長さと同一か前記基準長さよりも短い比較長さに設定された前記基準透光部に隣接する比較非透光部を含み、
    前記位置特定部は、前記検出部が光を検出する受光時間及び前記検出部が光を検出しない遮光時間を測定し、
    前記受光時間に続いて測定される前記遮光時間が前記受光時間と同じか前記受光時間よりも短くなった位置、又は、前記遮光時間に続いて測定される前記受光時間が前記遮光時間と同じか前記遮光時間よりも長くなった位置に基づいて前記回転体の特定位置を検出する位置検出装置。
  2. 前記回転体は、隣接し合う一組の基準透光部と比較非透光部とを有する請求項1に記載の位置検出装置。
  3. 前記基準長さは、前記比較長さに対して2倍以上である請求項1又は2に記載の位置検出装置。
  4. 前記位置特定部は、前記検出部が光の検出状態となった時点において、前回の受光時間に対する前回の遮光時間の割合を算出し、算出された前記割合が予め設定される所定範囲にある場合に前記回転体が特定位置にあると判定する請求項1〜3のいずれかに記載の位置検出装置。
  5. 前記所定範囲は、前回の受光時間に対する前回の遮光時間の割合が100%未満である請求項4に記載の位置検出装置。
  6. 前記位置特定部は、前記検出部が光の非検出状態となった時点において、前回の遮光時間に対する前回の受光時間の割合を算出し、算出された前記割合が予め設定される所定範囲にある場合に前記回転体が特定位置にあると判定する請求項1〜3のいずれかに記載の位置検出装置。
  7. 前記所定範囲は、前回の遮光時間に対する前回の受光時間の割合が100%超過である請求項6に記載の位置検出装置。
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