JP2016138246A - 少なくとも一つの非極性ブロックと少なくとも一つの極性ブロックを含むブロックコポリマーの合成を制御する方法及び誘導自己組織化によるナノリソグラフィの用途における前記ブロックコポリマーの使用 - Google Patents
少なくとも一つの非極性ブロックと少なくとも一つの極性ブロックを含むブロックコポリマーの合成を制御する方法及び誘導自己組織化によるナノリソグラフィの用途における前記ブロックコポリマーの使用 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016138246A JP2016138246A JP2015243983A JP2015243983A JP2016138246A JP 2016138246 A JP2016138246 A JP 2016138246A JP 2015243983 A JP2015243983 A JP 2015243983A JP 2015243983 A JP2015243983 A JP 2015243983A JP 2016138246 A JP2016138246 A JP 2016138246A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- block
- polar
- block copolymer
- copolymer
- pmma
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F297/00—Macromolecular compounds obtained by successively polymerising different monomer systems using a catalyst of the ionic or coordination type without deactivating the intermediate polymer
- C08F297/02—Macromolecular compounds obtained by successively polymerising different monomer systems using a catalyst of the ionic or coordination type without deactivating the intermediate polymer using a catalyst of the anionic type
- C08F297/026—Macromolecular compounds obtained by successively polymerising different monomer systems using a catalyst of the ionic or coordination type without deactivating the intermediate polymer using a catalyst of the anionic type polymerising acrylic acid, methacrylic acid or derivatives thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D153/00—Coating compositions based on block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Coating compositions based on derivatives of such polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C2201/00—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems
- B81C2201/01—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems in or on a substrate
- B81C2201/0101—Shaping material; Structuring the bulk substrate or layers on the substrate; Film patterning
- B81C2201/0147—Film patterning
- B81C2201/0149—Forming nanoscale microstructures using auto-arranging or self-assembling material
Abstract
【解決手段】非プロトン性非極性溶媒中での半連続アニオン重合によって達成され、マクロ開始剤の形で最初の非極性ブロックを合成するステップと、それを非プロトン性非極性溶媒中でアルカリ金属アルコラートと混合させることによって、予め合成されたマクロ開始剤の溶液を調製するステップと、非プロトン性非極性溶媒中で極性モノマーの溶液を調製するステップと、マクロ開始剤及び極性モノマーの予め調製された2種の溶液を、重合反応器に接続されたマイクロミキサーの中に一定の流量比で注入するステップと、得られたコポリマーを取り出すステップと、を含む方法である。
【選択図】なし
Description
‐ マクロ開始剤の形で最初の非極性ブロックを合成するステップと、
‐ それを非プロトン性非極性溶媒中でアルカリ金属アルコラートと混合させることによって、予め合成された前記マクロ開始剤の溶液を調製するステップと、
‐ 非プロトン性非極性溶媒中で極性モノマーの溶液を調製するステップと、
‐ マクロ開始剤及び極性モノマーの予め調製された2種の溶液を、重合反応器に接続されたマイクロミキサーの中に、一定の流量比で注入するステップと、
‐ 得られたコポリマーを取り出すステップと、を含む方法が、
ナノドメインが、特に、形状、サイズ及び周期長の点で、制御された特性を有し、正確な仕様を満たす、PS−b−PMMAタイプの非極性−b−極性ブロックコポリマーを、再現性を上げて得ることを可能にし、その結果、ブロックコポリマーが、誘導自己組織化(DSA)によるナノリソグラフィの方法においてマスクとして工業的に使用されることができるということが、驚くべきことに、発見された。
使用される重合設備が、図1に概略的に示される。マクロ開始系の溶液が容器C1の中に調製され、モノマーの溶液が容器C2の中に調製される。容器C2からの流れが、交換器に送られ、最初の重合温度に調節される。その後、2つの流れが、欧州特許第0749987号に記載されているように、この例ではマイクロミキサーであるミキサーMに送られ、その後、通常の管形反応器である重合反応器Rに送られる。生成物は、容器C3の中に受け取られ、その後、容器C4へ移され、そこで沈殿させられる。
Mn=61.4kg/mol
Mw/Mn=1.09
重量比PS/PMMA=66.3/33.7
図2Aと図2Bは、それぞれ、−78℃においてTHF中で従来方法によって合成されたPS−b−PMMAブロックコポリマー及び−20℃においてトルエン中で制御された方法で合成されたPS−b−PMMAブロックコポリマーにおけるPSブロックの分子量を示す。−20℃におけるトルエン溶媒中での合成が、種々のブロックの合成のより良い制御及びそれ故にブロックコポリマーのより良い再現性をもたらし、その結果、この制御された合成が、そのようなコポリマーの合成をDSA用途におけるマスクとしての使用のために考慮することを可能にするということを証明するために、これらの2つの方法に従って、幾つかのコポリマーが合成された。
Claims (10)
- 少なくとも一つの非極性ブロックと少なくとも一つの極性ブロックを含む少なくとも2つのブロックを含むブロックコポリマーの合成を制御する方法であって、前記方法は、詳細には、ブロック間の比率及び各ブロックの分子量を制御することを可能にし、前記コポリマーは、誘導自己組織化(DSA)によるナノリソグラフィの方法においてマスクとして使用されることを意図されたブロックコポリマーであり、前記制御は、非プロトン性非極性溶媒中での半連続アニオン重合によって達成され、
マクロ開始剤の形で最初の非極性ブロックを合成するステップと、
非プロトン性非極性溶媒中でアルカリ金属アルコラートと混合させることによって、予め合成された前記マクロ開始剤の溶液を調製するステップと、
非プロトン性非極性溶媒中で極性モノマーの溶液を調製するステップと、
マクロ開始剤及び極性モノマーの予め調製された2種の溶液を、重合反応器に接続されたマイクロミキサーの中に一定の流量比で注入するステップと、
得られたコポリマーを取り出すステップと、
を含む方法。 - コポリマーの構成モノマーが、スチレンモノマー又は(メタ)アクリルモノマー又はビニルピリジンモノマーから選択され、より詳細には、スチレン及びメタクリル酸メチルであることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 重合開始剤が、n−ブチルリチウムであることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 単一の重合溶媒が、トルエン又はエチルベンゼンであることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- アルカリ金属アルコラートが、リチウムメトキシエタノラートであること、及びリチウムメトキシエタノラート/非極性マクロ開始剤のモル比が、1〜10であり、好ましくは、6に等しいことを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- マイクロミキサーからの混合物の中の非極性マクロ開始剤の濃度が、95〜5、好ましくは、95〜50、更に好ましくは、85〜50であり、極性モノマーの濃度が、5〜95、好ましくは、5〜50、更に好ましくは、15〜50であることを特徴とする、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。
- ブロックコポリマーが、PS−b−PMMAコポリマーであり、最初の非極性ブロックが、PS−ジフェニルエチルリチウム(PS−DPEL)のマクロ開始剤の形であること、及び前記PS−DPELのマクロ開始剤の調製ステップにおいて、1当量より多いジフェニルエチレン(DPE)が、1当量のポリスチリルリチウムに対して用いられることを特徴とする、請求項1から6のいずれか一項に記載の方法。
- 得られたPS−b−PMMAブロックコポリマーの精製の追加ステップが、得られた前記ブロックコポリマーを含有するメタノールの溶液を、シクロヘキサン/ヘプタンの体積比80/20の混合物を含有する溶液の中へ滴下により沈殿させ、その後、浮遊物の除去と濾過により精製されたブロックコポリマーを回収することによって、実施されることを特徴とする、請求項7に記載の方法。
- 誘導自己組織化(DSA)によるナノリソグラフィの方法においてマスクとして使用されることを意図された、少なくとも一つの非極性ブロックと少なくとも一つの極性ブロックを含む少なくとも2つのブロックを含むブロックコポリマーであって、前記ブロックコポリマーが、請求項1から8のいずれか一項に記載の制御方法によって制御される方法で合成されるPS−b−PMMAブロックコポリマーであり、PS/PMMAの重量比が35/65〜60/40である場合に、薄層の形状であり、PS/PMMAの重量比が64/36〜75/25である場合に、円柱の形状であるナノドメインを有する、ブロックコポリマー。
- 少なくとも一つの非極性ブロックと少なくとも一つの極性ブロックを含む少なくとも2つのブロックを含むブロックコポリマーの膜の、誘導自己組織化(DSA)によるナノリソグラフィの方法におけるマスクとしての使用であって、前記ブロックコポリマーの膜が、請求項1から8のいずれか一項に記載の制御方法によって制御される方法で合成される、使用。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR1462556 | 2014-12-16 | ||
FR1462556A FR3029921B1 (fr) | 2014-12-16 | 2014-12-16 | Procede de controle de la synthese d'un copolymere a blocs contenant au moins un bloc apolaire et au moins un bloc polaire et utilisation d'un tel copolymere a blocs dans des applications de nano-lithographie par auto-assemblage direct. |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016138246A true JP2016138246A (ja) | 2016-08-04 |
Family
ID=52779786
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015243983A Pending JP2016138246A (ja) | 2014-12-16 | 2015-12-15 | 少なくとも一つの非極性ブロックと少なくとも一つの極性ブロックを含むブロックコポリマーの合成を制御する方法及び誘導自己組織化によるナノリソグラフィの用途における前記ブロックコポリマーの使用 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10023677B2 (ja) |
EP (1) | EP3034533B1 (ja) |
JP (1) | JP2016138246A (ja) |
KR (1) | KR101781700B1 (ja) |
CN (1) | CN107108824B (ja) |
FR (1) | FR3029921B1 (ja) |
SG (1) | SG11201704680VA (ja) |
TW (1) | TWI629234B (ja) |
WO (1) | WO2016097574A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB201804010D0 (en) * | 2018-03-13 | 2018-04-25 | Univ Kyoto | Structured nanoporous materials, manufacture of structured nanoporous materials and applications of structured nanoporous materials |
EP3587113B1 (en) * | 2018-06-21 | 2023-01-04 | Agfa Offset Bv | A lithographic printing plate precursor |
FR3096369B1 (fr) * | 2019-05-24 | 2022-01-14 | Arkema France | Procédé de polymérisation d’une composition en présence de copolymère à blocs |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05507506A (ja) * | 1989-06-05 | 1993-10-28 | エルフ アトケム ソシエテ アノニム | アクリルモノマーのイオン重合方法および重合開始系 |
JPH06206952A (ja) * | 1992-11-27 | 1994-07-26 | Elf Atochem Sa | 耐熱性に優れた共役ジエンとメチルメタクリレートとの熱可塑性弾性ブロック共重合体の製造方法 |
JP2003258296A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-09-12 | Toshiba Corp | 発光素子およびその製造方法 |
JP2010180353A (ja) * | 2009-02-06 | 2010-08-19 | Kyoto Univ | ブロック共重合体の製造方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5629393A (en) * | 1989-06-05 | 1997-05-13 | Elf Atochem S.A. | Initiating process and system for the anionic polymerization of acrylic monomers |
FR2679237B1 (fr) | 1991-07-19 | 1994-07-22 | Atochem | Systeme d'amorcage pour la polymerisation anionique de monomeres (meth) acryliques. |
US5514753A (en) * | 1993-06-30 | 1996-05-07 | Bridgestone Corporation | Process for preparing a block copolymer |
FR2735480B1 (fr) * | 1995-06-15 | 1997-07-18 | Atochem Elf Sa | Procede de polymerisation anionique en continu d'au moins un monomere (meth)acrylique pour l'obtention de polymeres a haut taux de solide |
US7279527B2 (en) | 2005-04-22 | 2007-10-09 | Bridgestone Corporation | Method of converting anionic living end to protected free radical living end and applications thereof |
US8394483B2 (en) * | 2007-01-24 | 2013-03-12 | Micron Technology, Inc. | Two-dimensional arrays of holes with sub-lithographic diameters formed by block copolymer self-assembly |
CN101070367B (zh) * | 2007-05-25 | 2012-03-07 | 北京化工大学 | 一种非极性溶剂中制备含聚乙烯基吡啶的嵌段共聚物方法 |
CN103087279B (zh) * | 2013-01-24 | 2014-07-23 | 大连理工大学 | 一种含有极性苯乙烯嵌段的热塑弹性体及其制备方法 |
FR3008986B1 (fr) * | 2013-07-25 | 2016-12-30 | Arkema France | Procede de controle de la periode caracterisant la morphologie obtenue a partir d'un melange de copolymere a blocs et de (co) polymeres de l'un des blocs |
EP2829567B1 (en) * | 2013-07-25 | 2017-03-15 | Arkema France | Process for controlling the period characterizing the morphology obtained from a blend of block copolymers and of (co) polymers of one of the blocks |
FR3014877B1 (fr) * | 2013-12-17 | 2017-03-31 | Arkema France | Procede de nanostructuration d'un film de copolymere a blocs a partir d'un copolymere a blocs non structure a base de styrene et de methacrylate de methyle, et film de copolymere a blocs nanostructure |
JP6390427B2 (ja) | 2014-01-07 | 2018-09-19 | Jsr株式会社 | パターン形成方法 |
FR3022249B1 (fr) * | 2014-06-11 | 2018-01-19 | Arkema France | Procede de controle de la periode d'un film de copolymere a blocs nanostructue a base de styrene et de methacrylate de methyle, et film de copolymere a blocs nanostructure |
-
2014
- 2014-12-16 FR FR1462556A patent/FR3029921B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2015
- 2015-12-14 TW TW104141931A patent/TWI629234B/zh active
- 2015-12-15 CN CN201580068369.9A patent/CN107108824B/zh active Active
- 2015-12-15 WO PCT/FR2015/053501 patent/WO2016097574A1/fr active Application Filing
- 2015-12-15 EP EP15200181.4A patent/EP3034533B1/en active Active
- 2015-12-15 SG SG11201704680VA patent/SG11201704680VA/en unknown
- 2015-12-15 JP JP2015243983A patent/JP2016138246A/ja active Pending
- 2015-12-16 KR KR1020150180371A patent/KR101781700B1/ko active IP Right Grant
- 2015-12-16 US US14/971,661 patent/US10023677B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05507506A (ja) * | 1989-06-05 | 1993-10-28 | エルフ アトケム ソシエテ アノニム | アクリルモノマーのイオン重合方法および重合開始系 |
JPH06206952A (ja) * | 1992-11-27 | 1994-07-26 | Elf Atochem Sa | 耐熱性に優れた共役ジエンとメチルメタクリレートとの熱可塑性弾性ブロック共重合体の製造方法 |
JP2003258296A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-09-12 | Toshiba Corp | 発光素子およびその製造方法 |
JP2010180353A (ja) * | 2009-02-06 | 2010-08-19 | Kyoto Univ | ブロック共重合体の製造方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
基礎高分子科学, JPN6017030569, 1 July 2006 (2006-07-01), JP, pages 182 - 183, ISSN: 0003898728 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR3029921B1 (fr) | 2018-06-29 |
CN107108824A (zh) | 2017-08-29 |
EP3034533A1 (en) | 2016-06-22 |
US20160168305A1 (en) | 2016-06-16 |
CN107108824B (zh) | 2020-05-12 |
TW201634380A (zh) | 2016-10-01 |
US10023677B2 (en) | 2018-07-17 |
WO2016097574A1 (fr) | 2016-06-23 |
EP3034533B1 (en) | 2019-10-16 |
FR3029921A1 (fr) | 2016-06-17 |
TWI629234B (zh) | 2018-07-11 |
KR20160073339A (ko) | 2016-06-24 |
SG11201704680VA (en) | 2017-07-28 |
KR101781700B1 (ko) | 2017-09-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6404353B2 (ja) | ブロックコポリマーの自己組織化によりナノメートル構造体の作製を可能にする方法 | |
US10011675B2 (en) | Process for the nanostructuring of a block copolymer film using a nonstructured block copolymer based on styrene and on methyl methacrylate, and nanostructured block copolymer film | |
CN104231192A (zh) | 聚(环己基乙烯)-聚丙烯酸酯嵌段共聚物,其制造方法及包括其的制品 | |
KR101922353B1 (ko) | 스티렌 및 메틸 메타크릴레이트로 제조된 나노구조화 블록 공중합체 필름의 간격 조절 방법, 및 나노구조화 블록 공중합체 필름 | |
TW201619295A (zh) | 製造嵌段共聚物之方法及自其製得之物件 | |
JP2016138246A (ja) | 少なくとも一つの非極性ブロックと少なくとも一つの極性ブロックを含むブロックコポリマーの合成を制御する方法及び誘導自己組織化によるナノリソグラフィの用途における前記ブロックコポリマーの使用 | |
JP6377749B2 (ja) | ブロックコポリマーの自己組織化によりナノメートル構造体の作製を可能にする方法 | |
EP3736302B1 (en) | Block copolymer comprising photo-sensitive group | |
Chan‐Seng et al. | Block copolymer preparation by atom transfer radical polymerization under emulsion conditions using a nanoprecipitation technique | |
KR102063054B1 (ko) | 광 감응기를 포함하는 블록 공중합체 | |
KR20180072730A (ko) | 2블록 공중합체의 자가-어셈블리에 의한 나노계측 구조의 제작 방법 | |
TWI596058B (zh) | 控制基材之表面能量的方法 | |
JP2023094332A (ja) | 両親媒性重合体水溶液の製造方法 | |
Zhang et al. | Synthesis of Block Terpolymer PS-PDMAEMA-PMMA via ATRP and its Self-Assembly in Selective Solvents | |
KR20180109926A (ko) | 자기 조직화용 고분자 재료, 자기 조직화막, 자기 조직화막의 제조 방법, 패턴 및 패턴의 형성 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151216 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161109 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170110 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170302 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170822 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20171120 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20180122 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180221 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20180410 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180808 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20180817 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20181019 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20190823 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191018 |