JP2016125951A - 受発光装置及び濃度測定装置 - Google Patents

受発光装置及び濃度測定装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2016125951A
JP2016125951A JP2015001297A JP2015001297A JP2016125951A JP 2016125951 A JP2016125951 A JP 2016125951A JP 2015001297 A JP2015001297 A JP 2015001297A JP 2015001297 A JP2015001297 A JP 2015001297A JP 2016125951 A JP2016125951 A JP 2016125951A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light emitting
unit
sensor unit
light
sensor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015001297A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6487214B2 (ja
Inventor
克仁 中村
Katsuto Nakamura
克仁 中村
エジソン ゴメス カマルゴ
Gomes Camargo Edson
エジソン ゴメス カマルゴ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Kasei Electronics Co Ltd
Original Assignee
Asahi Kasei Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Kasei Electronics Co Ltd filed Critical Asahi Kasei Electronics Co Ltd
Priority to JP2015001297A priority Critical patent/JP6487214B2/ja
Publication of JP2016125951A publication Critical patent/JP2016125951A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6487214B2 publication Critical patent/JP6487214B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

【課題】発光部からセンサ部に至る間の空間状態の検知をより高精度に行うことを可能とした受発光装置及び濃度測定装置を提供する。【解決手段】第1基板21と、第2基板22と、第1発光部1及び第2発光部2に電力を供給し、第1センサ部11及び第2センサ部12からの出力信号を検出する受発光制御部30と、を備える。第1センサ部11は、第1発光部1から出力された光のうち、第1基板21の第2主面で反射した光が入射する位置に配置され、第2センサ部12は、第2発光部2から出力された光のうち、第2基板22の第2主面で反射した光が入射する位置に配置されている。受発光制御部30は、第1センサ部11と第2センサ部12との温度差が周囲温度によらず一定になるように、第1発光部1に供給する電力及び第2発光部2に供給する電力を制御する。【選択図】図1

Description

本発明は、受発光装置及び濃度測定装置に関する。
発光素子は照明用途だけでなく、特定波長の光を発光する発光素子を用いた光学的装置(紫外光を用いた殺菌装置、反射光を用いた測距装置)にも用いられている。
さらに、発光素子と受光素子と組み合わせ、発光素子と受光素子間の空間状態を検知する受発光装置(特定空間内の物体検知装置、赤外光を用いたガスセンサ(特許文献1参照)等)にも用いられている。
特表2001−503865号公報
発光素子は、使用環境や経時変化により、その発光特性が変化する。具体的には、発光素子の発光強度の変化や、発光波長の変化が挙げられる。上述した受光素子の出力に基づいて、発光素子と受光素子間の空間状態を検知するような受発光装置の場合、発光素子の発光特性が変化すると、受光素子の出力から正確に空間状態を検知することが出来なくなってしまう。
そこで、本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、発光部からセンサ部に至る間の空間状態の検知をより高精度に行うことを可能とした受発光装置及び濃度測定装置を提供することを目的とする。
本発明者は上記の課題を解決するために、鋭意検討した結果、以下に示す受発光装置を想到するに至った。
すなわち、本発明の一態様に係る受発光装置は、第1主面上に形成された第1発光部と第1センサ部とを有する第1基板と、第1主面上に形成された第2発光部と第2センサ部とを有する第2基板と、前記第1発光部及び前記第2発光部に電力を供給し、前記第1センサ部及び前記第2センサ部からの出力信号を検出する受発光制御部と、を備え、前記第1センサ部は、前記第1発光部から出力された光のうち、前記第1基板の第1主面と対向する第2主面で反射した光が入射する位置に配置され、前記第2センサ部は、前記第2発光部から出力された光のうち、前記第2基板の第1主面と対向する第2主面で反射した光が入射する位置に配置されており、前記受発光制御部は、前記第1センサ部と前記第2センサ部との温度差が周囲温度によらず一定になるように、前記第1発光部に供給する電力及び前記第2発光部に供給する電力のうち少なくとも一方を制御することを特徴とする。
また、本発明の一態様に係る濃度測定装置は、上記の受発光装置と、前記受発光装置の前記第1センサ部及び前記第2センサ部からの信号が入力され、前記受発光装置の前記第1発光部から前記第2センサ部までの光路中、及び/又は、前記第2発光部から前記第1センサ部までの光路中の物質の濃度を算出する濃度算出部と、を備えることを特徴とする。
本発明の一態様によれば、発光部からセンサ部に至る間の空間状態の検知をより高精度に行うことを可能とした受発光装置及び濃度測定装置を提供することができる。
本発明の第1実施形態に係る受発光装置100の構成例を示す概念図である。 本発明の第1実施形態に係る濃度測定装置200の構成例を示す概念図である。 本発明の第2実施形態に係る濃度測定装置300の構成例を示す概念図である。 本発明の第3実施形態に係る第1基板21と、第2基板22の各構成例を示す断面図である。 本発明の第1、第2参考例に係る濃度測定装置400の構成例を示す概念図である。
以下、本発明を実施するための形態(以下、本実施形態)について説明する。
<受発光装置>
本実施形態に係る受発光装置は、例えば、非分散型赤外線式の受発光装置である。この受発光装置は、第1主面上に形成された第1発光部と第1センサ部とを有する第1基板と、第1主面上に形成された第2発光部と第2センサ部とを有する第2基板と、第1発光部及び第2発光部に電力を供給し、第1センサ部及び第2センサ部からの出力信号を検出する受発光制御部と、を備える。第1センサ部は、第1発光部から出力された光のうち、第1基板の第1主面と対向する第2主面で反射した光が入射する位置に配置されている。第2センサ部は、第2発光部から出力された光のうち、第2基板の第1主面と対向する第2主面で反射した光が入射する位置に配置されている。そして、受発光制御部は、第1センサ部と第2センサ部との温度差が周囲温度によらず一定になるように、第1発光部に供給する電力及び第2発光部のうち少なくとも一方に供給する電力を制御する。
また、本発明の実施形態に係る受発光装置において、第1センサ部と第2センサ部は、同一の温度特性を有していてもよい。本実施形態において「同一の温度特性」とは、本発明の効果を妨げない程度に温度特性が概ね揃っている状態を意味する。具体的には、ガスを検出する用途の場合、被検出ガスが存在しない条件下において、受発光装置の一般的な使用温度範囲(例えば0℃から50℃の範囲)であるセンサ温度Txにおいて、第1センサ部の出力信号をS1、第2センサ部の出力信号をS2とした場合を想定する。この想定下で温度が1℃変化したとき、つまりセンサ温度がTx±1℃となったときに、第1センサ部の出力信号がa×S1へ、第2センサ部の出力信号がb×S2へと変化した場合、a/bが1℃あたり0.8以上1.2以下であることが好ましく、0.9以上1.1以下であることがより好ましく、0.99以上1.01以下であることがさらに好ましい。
第1センサ部の1℃あたりの出力変化係数aと、第2センサ部の1℃あたりの出力変化係数bの比(a/b[/℃])の最大値と最小値の比が0.8以上1.2以下であれば、第1発光部の発光特性が変化した場合でも、受発光装置の使用環境温度によらず、発光・受光の信号変動を第1センサ部の出力に基づいて補償することができ、第2センサ部による空間状態の検知を正確に行うことが可能になるため好ましい。また同様に、第2発光部の発光特性が変化した場合でも、受発光装置の環境温度によらず、発光・受光の信号変動を第2センサ部の出力に基づいて補償することができ、第1センサ部による空間状態の検知を正確に行うことが可能になるため好ましい。
具体的には、第1センサ部及び第2センサ部の各温度を0℃から50℃まで変化させときの第1センサ部及び第2センサ部の各出力変化係数(a及びb)を求める。そして
温度をΔT変化させたときの、a/b/ΔT比を計算する。これにより、上記の1℃あたりの出力の変化係数の比を確認することができる。
第1センサ部及び第2センサ部の1℃あたりの出力の変化係数比の最大値と最小値を上述の範囲にする方法としては、第1センサ部及び第2センサ部を同一の材料で同一の積層構造にする方法が挙げられる。同一の材料及び同一の積層構造とすることにより、第1センサ部及び第2センサ部の温度特性は理論上同一となる。
また、第1センサ部と第2センサ部の温度特性を同じにするには、同一の材料及び同一の積層構造であることに加え、第1センサ部の積層構造と第2センサ部の積層構造とが層毎に同時に製造される(すなわち、第1センサ部と第2センサ部とを同時に形成する)ことが好ましい。
また、同一基板上に、同一材料、同一工程で同時に第1センサ部と第2センサ部とを形成することによって、両センサ部の分光感度特性が同一になると共に、両センサ部の温度特性が同一となり、本発明の効果はより発揮される。ここで分光感度特性とは、各波長における感度を意味する。
また、本実施形態に係る受発光装置では、第1発光部及び第2発光部は、同一の材料及び同一の積層構造であってもよい。これにより、第1発光部及び第2発光部の温度特性を同じにすることができる。
また、本実施形態に係る受発光装置では、第1センサ部、第2センサ部、第1発光部及び第2発光部は、同一組成の化合物半導体積層部を有してもよい(すなわち、第1センサ部、第2センサ部、第1発光部及び第2発光部はそれぞれ化合物半導体積層部を有し、これら化合物半導体積層部の各層(膜)の組成は、第1センサ部、第2センサ部、第1発光部及び第2発光部間で互いに同一でもよい。)。これにより、第1センサ部、第2センサ部、第1発光部及び第2発光部は同じ温度特性を示すようになる。
また、本実施形態では、第1発光部から出力された光のうち、第1基板の第2主面から出射した光が第2センサ部に入射し、かつ、第2発光部から出力された光のうち、第2基板の第2主面から出射した光が第1センサ部に入射するように、第1基板及び第2基板が配置されていてもよい。
また、第1基板及び第2基板の少なくとも一方の第2主面上に、若しくは光路の途中に、光を選択するような光学フィルタ(例えば、バンドパスフィルタ)を設けることによって、第1センサ部及び第2センサ部の少なくとも一方に入射する光の波長帯を選択することが可能となる。光学フィルタは半値幅の狭い透過特性(数10nm〜数100nm)を実現できるため、特定の波長を選択することが容易にできる。
基板面積の利用効率の観点から、第1センサ部及び第2センサ部は同一構造の受光部をそれぞれ複数有し、かつ、第1センサ部が有する受光部の数と、第2センサ部が有する受光部の数とが同一であることが好ましい。
本実施形態に係る受発光装置では、第1センサ部から得られる信号として、第1発光部が発光した場合の信号IpREF_1及び、第2発光部が発光した場合の信号IpTRASM_2がある。第2センサ部から得られる信号として、第2発光部が発光した場合の信号IpREF_2 及び、第1発光部が発光した場合の信号IpTRASM_1がある。出力信号比(IpTRASM_1/IpREF_1)及び(IpTRASM_2/IpREF_2)に基づいて、発光部からセンサ部に至る間の空間状態の検知(例えば、空間に存在する被検出物質の濃度計算)を行う。
上述したように、本実施形態に係る受発光装置は、第1発光部及び第2発光部に電力を供給し、第1センサ部及び第2センサ部からの出力信号を検出する受発光制御部を備える。
この受発光制御部は、第1発光部を周波f1で、第2発光部を周波数f2(f1≠f2)で、同時又は交互に駆動してもよい。
また、この受発光制御部は、第1センサ部の温度と第2センサ部の温度に基づいて、第1センサ部と第2センサ部との温度差が周囲温度によらず一定になるように、第1発光部に供給する電力及び第2発光部に供給する電力のうち少なくとも一方を制御してもよい。この受発光制御部は、第1センサ部の抵抗値に基づいて該第1センサ部の温度を算出してもよく、第2センサ部の抵抗値に基づいて該第2センサ部の温度を算出してもよい。
また、この受発光制御部は、第1発光部から出力された光による第1センサ部の出力信号(IpREF_1)と、第2発光部から出力された光による第2センサ部の出力信号(IpREF_2)とに基づいて、第1センサ部と第2センサ部との温度差が周囲温度によらず一定になるように、第1発光部に供給する電力及び第2発光部に供給する電力のうち少なくとも一方を制御してもよい。
この受発光制御部は、第1発光部及び第2発光部に供給される電力の電流又は電圧について、パルスの幅、振幅、及びデューティ比からなる群より選択される少なくとも一つを制御してもよい。
<濃度測定装置>
本実施形態では、上記の受発光装置を用いて濃度測定装置を構成してもよい。例えば、本実施形態に係る濃度測定装置は、上記の受発光装置と、この受発光装置の第1センサ部及び第2センサ部からの信号が入力され、受発光装置の第1発光部から第2センサ部までの光路中、及び/又は、第2発光部から第1センサ部までの光路中の物質の濃度を算出する濃度算出部と、を備える。
<具体例>
次に、本実施形態のより具体的な態様(すなわち、具体例)として、第1〜第3実施形態について説明する。なお、以下に説明する各図において、同一の機能を有する部分には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
(1)第1実施形態
図1は、本発明の第1実施形態に係る受発光装置100の構成例を示す概念図である。図1に示すように、この受発光装置100は、第1発光部1と第1センサ部11とを第1主面上に有する第1基板21と、第2発光部2と第2センサ部12とを第1主面上に有する第2基板22と、受発光制御部30と、ガスセル40と、を備える。
この受発光装置100において、第1基板21と第2基板22は互いに同一の構造を有する。第1基板21は、第1発光部1から出力された光の一部が第1基板21中の光路を通過して第1センサ部11に届くように形成されている。同様に、第2基板22は、第2発光部2から出力された光の一部が第2基板22中の光路を通過して第2センサ部12に届くように形成されている。第1発光部及び第2発光部は、例えば、赤外線を発光する発光ダイオード(LED)を有する。また、第1センサ部及び第2センサ部は、例えば、赤外線を受光するフォトダイオード(PD)を有する。
また、この受発光装置100では、第1発光部1から出力された光の一部がガスセル40で反射して第2センサ部12に入射し、かつ、第2発光部2から出力された光の一部がガスセル40(又は、ガスセル内に配置された反射板)で反射して第1センサ部11に入射するように、第1基板と第2基板との位置関係が調整されている。
受発光制御部30は、第1センサ部と第2センサ部との温度差が周囲温度によらず一定になるように、第1発光部に供給する電力及び第2発光部に供給する電力を制御する。
図2は、本発明の第1実施形態に係る濃度測定装置200の構成例を示す概念図である。図2に示すように、この濃度測定装置200は、受発光装置100と、濃度算出部90とを備える。また、受発光装置100の受発光制御部30は、第1駆動部51と、第2駆動部52と第1信号処理部61と、第2信号処理部62と、制御回路70と、演算部80と、を有する。
第1駆動部51は、第1発光部1に電力を供給して第1発光部1を発光させる機能を有する。第2駆動部52は、第2発光部2に電力を供給して第2発光部を発光させる機能を有する。低消費電力化の観点から、第1駆動部51及び第2駆動部52は、パルス状の信号(電圧又は電流)を、第1発光部1及び第2発光部2にそれぞれ与えてもよい。
例えば、第1駆動部51は第1発光部1にパルス状の信号を与えて、第1発光部1を第1の周波数f1で発光させる(すなわち、駆動させる)。第2駆動部52は第2発光部2にパルス状の信号を与えて、第2発光部2を第2の周波数f2で発光させる(すなわち、駆動させる)。また、第1駆動部51による第1発光部1の駆動と、第2駆動部52による第2発光部2の駆動は、同時又は交互に行われる。第1の周波数f1と第2の周波数f2は、例えば異なる値である(f1≠f2)。
第1信号処理部61は、第1センサ部11から出力される信号を得ると共に、得られた信号を演算部80又は濃度算出部90の出力する機能を有する。第2信号処理部62は、第2センサ部12から出力される信号を得ると共に、得られた信号を演算部80又は濃度算出部90の出力する機能を有する。
例えば、第1信号処理部61が得る信号として、第1発光部1が発光した場合の信号IpREF_1と、第2発光部2が発光した場合の信号IpTRASM_2とがある。また、第2信号処理部62が得る信号として、第2発光部2が発光した場合の信号IpREF_2と、第1の光源が発光した場合の信号IpTRASM_1とがある。
第1信号処理部61は、信号IpREF_1を演算部80に送信し、信号TRASM_2を濃度算出部90に送信する。また、第2信号処理部62は、信号IpREF_2を演算部80に送信し、信号TRASM_1を濃度算出部90に送信する。
第1信号処理部61及び第2信号処理部62は、例えばI/V変換アンプからなる。I/V変換アンプは、第1センサ部11と第2センサ部12とがフォトダイオードの構造を有する場合、その出力電流を電圧に変換することができるため、有効である。
演算部80は、第1信号処理部61から得られる信号と、第2信号処理部62から得られる信号とに基づいて、演算処理を実行する機能を有する。例えば、演算部80は、信号IpREF_1と信号IpREF_2との電圧差を算出する。
制御回路70は、演算部80による演算結果に関する情報を取得し、取得した情報に基づいて、第1駆動部51及び第2駆動部52をそれぞれ制御する機能を有する。例えば、制御回路70は、信号IpREF_1の電圧値と信号IpREF_2の電圧値とが周囲温度によらず等しくなるように、第1駆動部51から第1発光部1に供給される電力のデューティ比と、第2駆動部52から第2発光部2に供給される電力のデューティ比とをそれぞれ制御する。
一方、濃度算出部90は、受発光装置100の第1センサ部11及び第2センサ部12からの信号が入力され、受発光装置100の第1発光部1から第2センサ部12までの光路中、及び/又は、第2発光部2から第1センサ部11までの光路中の物質の濃度を算出する機能を有する。
例えば、濃度算出部90は、演算部80から信号IpREF_1及び信号IpREF_2を得るとともに、第1信号処理部61から信号IpTRASM_2を、第2信号処理部62から信号IpTRASM_1をそれぞれ得る。または、濃度算出部90は、第1信号処理部61から信号IpREF_1及び信号IpTRASM_2を得るとともに、第2信号処理部62から信号IpREF_2及び信号IpTRASM_1を得てもよい。そして、濃度算出部90は、出力信号比(IpTRASM_1/IpREF_1)及び(IpTRASM_2/IpREF_2)に基づいて、発光部からセンサ部に至る間の空間状態の検知(例えば、空間に存在する被検出物質の濃度計算)を行う。
この濃度測定装置200では、第1発光部1、第2発光部2、第1センサ部11及び第2センサ部12に対して、受発光制御部30が接続される。すなわち、第1発光部1の両端の接続端子に第1駆動部51が接続される。第2発光部2の両端の接続端子に第2駆動部52が接続される。第1センサ部11の両端の接続端子に第1信号処理部61が接続される。第2センサ部12の両端の接続端子に第2信号処理部62が接続される。これにより、ガスセル40内の光路空間の状態(特定のガスの有無や濃度、流体の特定成分の有無や濃度等)を検知することが可能になる。
受発光制御部30及びの濃度算出部90は、例えば、CPU(Central Processing Unit)、ROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)、内蔵タイマ等により構成されている。ROMに記憶されたプログラムをCPUが実行することにより、第1駆動部51、第2駆動部52、第1信号処理部61、第2信号処理部62、制御回路70及び演算部80と、濃度算出部90の各機能が実行される。
(2)第2実施形態
図3は、本発明の第2実施形態に係る濃度測定装置300の構成例を示す概念図である。図3に示すように、この濃度測定装置300は、受発光装置100と、濃度算出部90とを備える。この濃度測定装置300において、受発光装置100の受発光制御部30は、第1駆動部51と、第2駆動部52と、第1信号処理/抵抗測定部161と、第2信号処理/抵抗測定部162と、制御回路170と、演算部180と、を有する。
第1信号処理/抵抗測定部161は、図2に示した第1信号処理部61と同一の機能を有し、さらに、第1センサ部11の抵抗値を測定する機能を有する。第2信号処理/抵抗測定部162は、図2に示した第2信号処理部62と同一の機能を有し、さらに、第2センサ部12の抵抗値を測定する機能を有する。
例えば、第1信号処理/抵抗測定部161が得る信号として、第1発光部1が発光した場合の信号IpREF_1と、第2発光部2が発光した場合の信号IpTRASM_2とがある。また、第2信号処理/抵抗測定部162が得る信号として、第2発光部2が発光した場合の信号IpREF_2と、第1発光部1が発光した場合の信号IpTRASM_1とがある。
第1信号処理部161は、信号IpREF_1及びIpTRASM_2を濃度算出部90に送信する。また、第2信号処理/抵抗測定部162は、信号IpREF_2及び信号IpTRASM_1を濃度算出部90に送信する。
また、第1信号処理/抵抗測定部161は、第1センサ部11に予め設定した定電圧を印加して第1センサ部11に流れる電流値を計測し、第1センサ部11の抵抗値を測定する。そして、第1信号処理/抵抗測定部161は、測定した抵抗値に関する信号R_1を演算部180に送信する。また、第2信号処理/抵抗測定部162は、第2センサ部12に予め設定した定電圧を印加して第2センサ部12に流れる電流値を計測し、第2センサ部12の抵抗値を測定する。そして、第2信号処理/抵抗測定部162は、測定した抵抗値に関する信号R_2を演算部180に送信する。
この濃度測定装置300において、演算部180は、第1信号処理/抵抗測定部161から送信される信号R_1に基づいて、第1センサ部11の温度T1を算出する(すなわち、第1センサ部11の抵抗値を温度に換算する)。また、これと並行して、演算部180は、第2信号処理/抵抗測定部162から送信される抵抗値に関する信号R_2に基づいて、第2センサ部12の温度T2を算出する(すなわち、第2センサ部12の抵抗値を温度に換算する)。
なお、第1センサ部11及び第2センサ部12は、例えばフォトダイオードを有する。フォトダイオードの抵抗値と温度との間には相関がある。そこで、第2実施形態では、第1センサ部11と第2センサ部12の各々について、フォトダイオードの抵抗値と温度との相関を予め求めておく。そして、この相関を示すテーブル又は関数等を、受発光制御部30を構成するRAM等に格納しておく。演算部180は、第1信号処理/抵抗測定部161で測定された第1センサ部11の抵抗値を上記のテーブル又は関数等に当てはめることによって、第1センサ部11の温度T1を算出することができる。同様に、演算部180は、第2信号処理/抵抗測定部162で測定された第2センサ部12の抵抗値を上記のテーブル又は関数等に当てはめることによって、第2センサ部12の温度T2を算出することができる。
制御回路170は、第1センサ部11の温度T1と第2センサ部12の温度T2とが周囲温度によらず等しくなるように、第1駆動部51及び第2駆動部52をそれぞれ制御する。例えば、制御回路170は、第1センサ部11の温度T1と第2センサ部12の温度T2とが周囲温度によらず等しくなるように、第1駆動部51から第1発光部1に供給される電力のデューティ比と、第2駆動部52から第2発光部2に供給される電力のデューティ比とをそれぞれ制御する。
第1実施形態と同様、この第2実施形態においても、受発光制御部30及び濃度算出部90は、例えば、CPU、ROM、RAM、内蔵タイマ等により構成されている。ROMに記憶されたプログラムをCPUが実行することにより、第1駆動部51、第2駆動部52、第1信号処理/抵抗測定部161、第2信号処理/抵抗測定部162、制御回路170及び演算部180と、濃度算出部90の各機能が実行される。
(3)第3実施形態
次に、本発明の第3実施形態として、第1発光部1及び第1センサ部11を有する第1基板と、第2発光部2及び第2センサ部12を有する第2基板の各構成例について説明する。
図4は、本発明の第3実施形態に係る第1基板21と、第2基板22の各構成例を示す断面図である。図4に示すように、第1発光部1は、例えば、第1基板21の第1主面211上に形成された第1導電型(例えば、N型)の半導体層201と、半導体層201上に形成された第2導電型(例えば、P型)の半導体層202及び電極203と、半導体層202上に形成された電極204とを有する。
また、第2発光部2は、例えば、第2基板22の第1主面221上に形成された第1導電型の半導体層201´と、半導体層201´上に形成された第2導電型の半導体層202´及び電極203´と、半導体層202´上に形成された電極204´とを有する。
第1センサ部11は、例えば、第1基板21の第1主面211上に形成された第1導電型の半導体層311と、半導体層311上に形成された第2導電型の半導体層312及び電極313と、半導体層312上に形成された電極314とを有する。第2センサ部12は、例えば、第2基板22の第1主面221上に形成された第1導電型の半導体層311´と、半導体層311´上に形成された第2導電型の半導体層312´及び電極313´と、半導体層312´上に形成された電極314´とを有する。
ここで、第1導電型の半導体層201、311、201´、311´は、例えば同一の材料からなり、同一の膜厚を有する。また、第2導電型の半導体層202、312、202´、312´は、例えば同一の材料からなり、同一の膜厚を有する。つまり、第1発光部1、第2発光部2、第1センサ部11、第2センサ部12は同じ膜組成の化合物半導体(すなわち、同一組成の化合物半導体積層部)を有する。また、図4に示すように、第1発光部1と第2発光部2は同一構造(すなわち、形状と大きさが同じ)である。第1センサ部11と第2センサ部12も同一構造である。
なお、第1導電型の半導体層201、311、201´、311´と、第2導電型の半導体層202、312、202´、312´の間にそれぞれ真正半導体層(いわゆるi型半導体層)を挿入し、PIN接合を形成してもよい。
この第3実施形態では、第1導電型の各半導体層201、311、201´、311´及び第2導電型の各半導体層202、312、202´、312´として、材料及び膜厚がそれぞれ同様のものを採用することにより、第1発光部1、第2発光部2、第1センサ部11、第2センサ部12が同じ温度特性を示すようになる。
また、第1発光部1、第2発光部2、第1センサ部11、第2センサ部12が同じ温度特性を示すことから、第1発光部1及び第2発光部2に同じ大きさの電力を供給することにより、第1発光部1及び第2発光部2を同じ温度に発熱させることが容易となる。これにより、周囲温度によらず、第1センサ部11と第2センサ部12との温度差を一定にする(例えば、温度差をゼロにする)ことが容易となる。
<実施形態の効果>
本実施形態は、以下の効果を奏する。
(1)第1発光部1から出力された光の一部は、ガスの有無や濃度等に依存しない環境である第1基板21中の光路を通過して第1センサ部(第1発光部からみて、モニタリング用のセンサ部)11に入射する。このため、使用環境の変化や経年劣化で第1発光部1の発光特性が変化した場合でも、第1センサ部11から出力される信号に基づいて第1発光部1の発光特性の変化をモニタリングすることができ、第1発光部1の動作を制御したり、第2センサ部(第1発光部からみて、状態検知用のセンサ部)12の出力を補償したりすることができる。これにより、第2センサ部12による空間状態の検知を正確に行うことが可能になる。
(2)また、第2発光部2から出力された光についても同様である。すなわち、第2発光部2から出力された光の一部は、ガスの有無や濃度等に依存しない環境である第2基板22中の光路を通過して第2センサ部(第2発光部2からみて、モニタリング用のセンサ部)12に入射する。このため、使用環境の変化や経年劣化で第2発光部2の発光特性が変化した場合でも、第2センサ部12から出力される信号に基づいて第2発光部2の発光特性の変化をモニタリングすることができ、第2発光部2の動作を制御したり、第1センサ部(第2発光部2からみて、状態検知用のセンサ部)11の出力を補償したりすることができる。これにより、第1センサ部11による空間状態の検知を正確に行うことが可能になる。
(3)また、第1発光部1や第2発光部2に電力を供給する際に発生する熱によって第1センサ部11と第2センサ部12との間に温度差が生じる場合や、その温度差が周囲温度等により変化しようとする場合を想定する。このような場合、受発光制御部30は、第1センサ部11と第2センサ部12との温度差が周囲温度によらず一定になるように、第1発光部1に供給する電力及び第2発光部2に供給する電力をそれぞれ制御する。
これにより、発光部から状態検知用のセンサ部に至る間の空間状態(すなわち、第1発光部1から第2センサ部12に至る間の空間状態と、第2発光部2から第1センサ部11に至る間の空間状態)の検知を、周囲温度の影響によらず、より高精度に行うことを可能とした受発光装置及び濃度測定装置を実現することができる。
<変形例>
(1)上記の第1実施形態では、信号IpREF_1の電圧値と信号IpREF_2の電圧値とが周囲温度によらず等しくなるように、制御回路70は、第1駆動部51から第1発光部1に供給される電力のデューティ比と、第2駆動部52から第2発光部2に供給される電力のデューティ比とをそれぞれ制御する場合について説明した。
また、上記の第2実施形態では、第1センサ部11の温度T1と第2センサ部12の温度T2とが周囲温度によらず等しくなるように、制御回路170は、第1駆動部51から第1発光部1に供給される電力のデューティ比と、第2駆動部52から第2発光部2に供給される電力のデューティ比とをそれぞれ制御する場合について説明した。
しかしながら、第1、第2実施形態において、制御回路70、170は、第1駆動部51から第1発光部1に供給される電力及び第2駆動部52から第2発光部2に供給される電力のうち、一方のデューティ比を制御し、他方のデューティ比は制御しなくてもよい。このような場合であっても、第1センサ部11と第2センサ部12との温度差を周囲温度によらず一定にすることが可能である。
(2)また、本発明において、第1発光部及び第2発光部が発光する光は、赤外線に限定されない。第1発光部及び第2発光部が発光する光は、例えば紫外線でもよい。同様に、第1センサ部及び第2センサ部が受光する光は、赤外線に限定されない。第1センサ部及び第2センサ部が受光する光は、例えば紫外線でもよい。このような構成であっても、上述した実施形態の効果(1)〜(3)を奏する。
<参考例>
なお、発光素子の発光特性の変化を低減する方法の一例として、以下の受発光装置(参考例)が想定される。
すなわち、参考例に係る受発光装置は、発光素子と、この発光素子から出力された光が入射するようにそれぞれ配置された第1センサ部および第2センサ部を備える。また、第1主面と該第1主面と対向する第2主面とを有し、該第1主面上に発光素子と第1センサ部とが設けられた第1基板と、第1主面と該第1主面と対向する第2主面とを有し、該第1主面上に第2センサ部が設けられた第2基板と、をさらに備える。第1センサ部の配置位置は、第1基板の第1主面であって、発光素子から出力された光のうちの該第1基板の第2主面で反射した光が入射する位置に設定されている。
この参考例に係る受発光装置では、第1発光部に電力を供給する際に発生する熱によって第1センサ部のみが加熱されることで、第1センサ部と第2センサ部に温度差が生じてしまう。この温度差が周囲温度によって変化することも相まって、受光素子の出力から正確に空間状態を検知することが困難となる場合が考えられる。
次に、本発明の実施例と、参考例とについて説明する。
(1)第1実施例
図1に示した受発光装置100を用意した。また、受発光装置100の受発光制御部30として、図2に示した受発光制御部30を用意した。
第1実施例では、図2に示した受発光制御部30において、第1駆動部51により、第1発光部1を周波数230Hzで発光させ、第1センサ部11から信号IpREF_1を、第2センサ部12から信号IpTRASM_1をそれぞれ得た。また、同時に第2駆動部52により、第2発光部2を周波数260Hzで発光させ、第1センサ部11から信号IpTRASM_2を、第2センサ部12から信号IpREF_2をそれぞれ得た。
第1実施例では、演算部80及び制御回路70を用いて、周囲温度によらず、信号IpREF_1と信号IpREF_2が等しくなるように、第1発光部1及び第2発光部2に供給される電力のデューティ比を制御した。その結果、第1センサ部11と第2センサ部12の温度差は、周囲温度0〜50℃において、0.02±0.07℃であった。この温度差は、出力信号比(IpTRASM_1/IpREF_1)に基づくCO濃度算出値において、14〜25ppmの誤差に相当する。
(2)第2実施例
第2実施例では、第1実施例に対し、図3に示したように受発光制御部30の機能部を変更した。
第2実施例では、図3に示した受発光制御部30において、第1駆動部51により、第1発光部1を周波数230Hzで発光させ、第1センサ部11から信号IpREF_1を、第2センサ部12から信号IpTRASM_1をそれぞれ得た。また、同時に第2駆動部52により、第2発光部2を周波数260Hzで発光させ、第1センサ部11から信号IpTRASM_2を、第2センサ部12から信号IpREF_2をそれぞれ得た。加えて、第1センサ部11との抵抗値と第2センサ部12の抵抗値とをそれぞれ測定した。
第2実施例では、演算部80及び制御回路70を用いて、第1センサ部11と第2センサ部12の各抵抗値をそれぞれ温度に換算し、周囲温度によらず、第1センサ部11と第2センサ部12の各温度が互いに等しくなるように、第1発光部1及び第2発光部2に供給される電力のデューティ比をそれぞれ制御した。その結果、第1センサ部11と第2センサ部12の温度差は、周囲温度0〜50℃において、0.02±0.03℃であった。この温度差は、出力信号比(IpTRASM_1/IpREF_1)に基づくCO濃度算出値において、3〜14ppmの誤差に相当する。
(3)第1参考例
第1参考例及び後述の第2参考例では、第1実施例及び第2実施例に対し、図5に示すように受発光制御部230を備える濃度測定装置400を用意した。この濃度測定装置400の受発光制御部230には、図2に示した受発光制御部30の演算部80及び制御回路70に相当する機能はない。つまり、第1参考例及び第2参考例では、実施例1、2のように「第1センサ部11と第2センサ部12との温度差が周囲温度によらず一定になるように、第1発光部1に供給する電力及び第2発光部2に供給する電力を制御する」機能はない。
参考例1では、図5に示すように、受発光制御部230は制御回路270を有する。この制御回路270の制御下で、第1駆動部51により、第1発光部1を周波数230Hzで発光させ、第2発光部2は発光させなかった。その結果、第1センサ部11と第2センサ部12の温度差は、周囲温度0〜50℃において、1.71±0.76℃であった。この温度差は、出力信号比(IpTRASM_1/IpREF_1)に基づくCO濃度算出値において、300〜700ppmの誤差に相当する。
(4)第2参考例
第2参考例では、図5に示す受発光制御部230を用いて、第1駆動部51により、第1発光部1を周波数230Hzで発光させ、同時に第2駆動部52により、第2発光部2を周波数260Hzで発光させた。その結果、第1センサ部11と第2センサ部12の温度差は、周囲温度0〜50℃において、0.10±0.20℃であった。この温度差は、出力信号比(IpTRASM_1/IpREF_1)に基づくCO濃度算出値において、28〜84ppmの誤差に相当する。
<その他>
本発明は、以上に記載した実施形態やその変形例、実施例に限定されるものではない。当業者の知識に基づいて実施形態やその変形例、実施例に設計の変更等を加えてもよく、また、実施形態やその変形例、実施例を任意に組み合わせてもよく、そのような変更等を加えた態様も本発明の技術的範囲に含まれる。
1 第1発光部
2 第2発光部
11 第1センサ部
12 第2センサ部
21 第1基板
22 第2基板
30 受発光制御部
40 ガスセル
51 第1駆動部
52 第2駆動部
61 第1信号処理部
62 第2信号処理部
70、170 制御回路
80、180 演算部
90 濃度算出部
161 第1信号処理/抵抗測定部
162 第2信号処理/抵抗測定部
201、311、201´、311´ 第1導電型の半導体層
202、312、202´、312´ 第2導電型の半導体層
203、204、313、314、203´、204´、313´、314´ 電極
211 第1主面
212 第2主面

Claims (12)

  1. 第1主面上に形成された第1発光部と第1センサ部とを有する第1基板と、
    第1主面上に形成された第2発光部と第2センサ部とを有する第2基板と、
    前記第1発光部及び前記第2発光部に電力を供給し、前記第1センサ部及び前記第2センサ部からの出力信号を検出する受発光制御部と、を備え、
    前記第1センサ部は、前記第1発光部から出力された光のうち、前記第1基板の第1主面と対向する第2主面で反射した光が入射する位置に配置され、
    前記第2センサ部は、前記第2発光部から出力された光のうち、前記第2基板の第1主面と対向する第2主面で反射した光が入射する位置に配置されており、
    前記受発光制御部は、
    前記第1センサ部と前記第2センサ部との温度差が周囲温度によらず一定になるように、前記第1発光部に供給する電力及び前記第2発光部に供給する電力のうち少なくとも一方を制御する受発光装置。
  2. 前記受発光制御部は、
    前記第1センサ部の温度と前記第2センサ部の温度とに基づいて、前記第1センサ部と前記第2センサ部との温度差が周囲温度によらず一定になるように、前記第1発光部に供給する電力及び前記第2発光部に供給する電力のうち少なくとも一方を制御する請求項1に記載の受発光装置。
  3. 前記受発光制御部は、
    前記第1発光部から出力された光による前記第1センサ部の出力信号と、前記第2発光部から出力された光による前記第2センサ部の出力信号とに基づいて、前記第1センサ部と前記第2センサ部との温度差が周囲温度によらず一定になるように、前記第1発光部に供給する電力及び前記第2発光部に供給する電力のうち少なくとも一方を制御する請求項1に記載の受発光装置。
  4. 前記受発光制御部は、
    前記第1センサ部の抵抗値に基づいて該第1センサ部の温度を算出し、
    前記第2センサ部の抵抗値に基づいて該第2センサ部の温度を算出する請求項1から請求項3の何れか一項に記載の受発光装置。
  5. 前記受発光制御部は、
    前記第1発光部及び前記第2発光部に供給される電力の電流又は電圧について、パルスの幅、振幅、及びデューティ比からなる群より選択される少なくとも一つを制御する請求項1から請求項4の何れか一項に記載の受発光装置。
  6. 前記受発光制御部は、
    前記第1発光部を周波数f1で、前記第2発光部を周波数f2(f1≠f2)で、同時又は交互に駆動する請求項1から請求項5の何れか一項に記載の受発光装置。
  7. 前記第1発光部から出力された光のうち、前記第1基板の第2主面から出射した光が前記第2センサ部に入射し、かつ、前記第2発光部から出力された光のうち、前記第2基板の第2主面から出射した光が前記第1センサ部に入射するように、前記第1基板及び前記第2基板が配置されている請求項1から請求項6の何れか一項に記載の受発光装置。
  8. 前記第1センサ部及び前記第2センサ部は、同一の温度特性を有する請求項1から請求項7の何れか一項に記載の受発光装置。
  9. 前記第1センサ部、前記第2センサ部、前記第1発光部及び前記第2発光部は、同一組成の化合物半導体積層部を有する請求項1から請求項8の何れか一項に記載の受発光装置。
  10. 前記第1センサ部及び前記第2センサ部は同一構造である請求項1から請求項9の何れか一項に記載の受発光装置。
  11. 前記第1発光部及び前記第2発光部は同一構造である請求項1から請求項10の何れか一項に記載の受発光装置。
  12. 請求項1から請求項11の何れか一項に記載の受発光装置と、
    前記受発光装置の前記第1センサ部及び前記第2センサ部からの信号が入力され、前記受発光装置の前記第1発光部から前記第2センサ部までの光路中、及び/又は、前記第2発光部から前記第1センサ部までの光路中の物質の濃度を算出する濃度算出部と、を備える濃度測定装置。
JP2015001297A 2015-01-07 2015-01-07 受発光装置及び濃度測定装置 Active JP6487214B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015001297A JP6487214B2 (ja) 2015-01-07 2015-01-07 受発光装置及び濃度測定装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015001297A JP6487214B2 (ja) 2015-01-07 2015-01-07 受発光装置及び濃度測定装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016125951A true JP2016125951A (ja) 2016-07-11
JP6487214B2 JP6487214B2 (ja) 2019-03-20

Family

ID=56359891

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015001297A Active JP6487214B2 (ja) 2015-01-07 2015-01-07 受発光装置及び濃度測定装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6487214B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022123574A1 (en) * 2020-12-09 2022-06-16 Innohale Therapeutics Ltd. System and method for measuring component concentration

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09196847A (ja) * 1996-01-23 1997-07-31 Yamatake Honeywell Co Ltd 赤外線ガス分析計
JP2004340806A (ja) * 2003-05-16 2004-12-02 Nippon Soken Inc 粒子濃度検出方法
JP2007248337A (ja) * 2006-03-17 2007-09-27 Ntn Corp 潤滑剤劣化検出装置
US20090268204A1 (en) * 2008-04-24 2009-10-29 Bah Holdings Llc Optical absorption gas analyser
JP2011059134A (ja) * 2004-11-04 2011-03-24 Applied Biosystems Llc 熱補償型発光ダイオードを備える、光学走査システム

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09196847A (ja) * 1996-01-23 1997-07-31 Yamatake Honeywell Co Ltd 赤外線ガス分析計
JP2004340806A (ja) * 2003-05-16 2004-12-02 Nippon Soken Inc 粒子濃度検出方法
JP2011059134A (ja) * 2004-11-04 2011-03-24 Applied Biosystems Llc 熱補償型発光ダイオードを備える、光学走査システム
JP2007248337A (ja) * 2006-03-17 2007-09-27 Ntn Corp 潤滑剤劣化検出装置
US20090268204A1 (en) * 2008-04-24 2009-10-29 Bah Holdings Llc Optical absorption gas analyser

Also Published As

Publication number Publication date
JP6487214B2 (ja) 2019-03-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA2853962C (en) Temperature calibration methods and apparatus for optical absorption gas sensors, and optical absorption gas sensors thereby calibrated
US8618737B2 (en) LED assembly, LED fixture, control method and software program
JP5784731B2 (ja) 変調周波数検出技術を用いたled制御
JP2008229239A5 (ja)
JP2013501258A5 (ja)
WO2015045411A1 (ja) ガスセンサ
US9909988B2 (en) Light intensity detector and detection method
JP5749932B2 (ja) Led型照明設備における一貫性のある色校正
ES2384883T3 (es) Sistema de control de punto de color
JP2020534529A5 (ja)
US20050230608A1 (en) Optical encoder and electronic equipment having same
JP6487214B2 (ja) 受発光装置及び濃度測定装置
JP6208513B2 (ja) 受発光装置
US9983059B2 (en) Device and method for wavelength variation of at least one light source for derivative spectroscopy
CN115291071B (zh) 基于锁相放大器的led阵列光热一体检测装置及方法
US9121727B2 (en) Low-energy-consumption temperature compensation for a detection system
JP5297034B2 (ja) 光測定装置
JP5985909B2 (ja) ガスセンサ
KR20230110792A (ko) 펄스 전류에 의해 여기되는 순간 흡수 분광기
Kvasnicka et al. LED calibration systems for CALICE hadron calorimeter
JP2013202031A (ja) 細胞培養液の液面高さの測定方法および測定装置
CN112558093A (zh) 光学接近传感器及对应的操作方法
JPH0933209A (ja) 端部位置検出装置
JP2017203722A (ja) 光源装置
RU2503952C1 (ru) Устройство обнаружения пылеотложения на печатных платах радиоэлектронной аппаратуры

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20171012

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180814

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180925

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20181114

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190212

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190221

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6487214

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150