JP2016121915A - 欠陥検出装置、検査装置、洗浄装置、欠陥検出方法、および、欠陥検出プログラム - Google Patents
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Abstract
Description
特許文献1に記載の方法では、まず、正常サンプルと代表的な欠陥サンプルとに基づいて、被検査体の種類や欠陥の内容に応じた距離閾値を設定する。次に、被検査体の撮像画像中の欠陥候補のうち、距離が距離閾値未満の欠陥候補を結合し、この結合した欠陥候補(以下、「結合欠陥候補」と言う場合がある)の面積を求めるとともに、結合欠陥候補の種類を判定する。そして、結合欠陥候補の種類に応じて面積閾値を設定し、面積が面積閾値を超える場合に、被検査体を不良品であると判定し、面積閾値以下の場合に、良品であると判定する。
特許文献2に記載の方法では、検査画像に基づいて、微小欠陥の可能性が高い欠陥候補を抽出し、この欠陥候補が密集している状態を検出するために結合処理を行う。この結合処理では、抽出棒を用いて、輪郭間距離が所定値より短い欠陥候補を、1つの結合欠陥候補として結合する。そして、結合欠陥候補を構成する画素数に基づいて、当該結合欠陥候補を検査パターンの欠陥として検出する。
例えば、被検査体が液晶パネルのカバーガラスの場合、上述したような除去不可能な微小欠陥密集体を欠陥として検出するとき(以下、「微小欠陥密集体を欠陥として検出する」ことを、「微小欠陥密集体を検出する」と言う場合がある)の判定基準は、利用者に見えるか否かである。微小欠陥密集体の密集度が大きい(微小欠陥が密集している)場合、密集サイズが極めて小さくなければ利用者に見えるため、検出する必要がある。一方、欠陥密集体の密集度が小さい(微小欠陥が密集していない)場合、密集サイズが小さければ見えないため、検出する必要がないが、密集サイズが大きければ見えるため、検出する必要がある。
なお、被検査体の表面には、ごみや汚れあるいは水滴等の除去可能な付着物が付着している場合がある。このような付着物は、一般的に、ランダムに存在し、微小欠陥と比べて互いの距離が長い場合が多い。また、付着物は、品質的に問題ないため、欠陥として検出する必要がない。
例えば、可視領域VSに属し密集度が小さい微小欠陥密集体は、密集度が大きい場合と比べて微小欠陥間の距離が長い。このため、距離閾値を大きくして、欠陥候補を結合しやすくしなければ、結合欠陥候補のサイズがサイズ下限値以上になりにくく、結合欠陥候補を欠陥として検出しにくい。一方、可視領域VSに属し密集度が大きい微小欠陥密集体は、微小欠陥間の距離が短い。このため、距離閾値が小さくても、欠陥候補が結合して結合欠陥候補のサイズがサイズ下限値以上になりやすく、結合欠陥候補を欠陥として検出しやすい。
上述したように、付着物は一般的にランダムに存在するため、結合欠陥候補のサイズが大きくなりにくいと考えられる。また、検出対象は、密集度が小さくても、密集サイズが大きい微小欠陥密集体である。このため、サイズ下限値を大きくすることで、付着物の結合欠陥候補を欠陥として検出せずに、微小欠陥密集体の結合欠陥候補を欠陥として検出できる。
一方、密集度が大きい微小欠陥密集体を検出するために、距離閾値を小さくすると、結合欠陥候補のサイズが大きくなりにくい。このため、サイズ下限値を小さくすることで、密度が大きい微小欠陥密集体を検出できる。
しかしながら、このようにサイズ下限値および距離閾値を設定してしまうと、図1(C)に示すような検出領域AD0に含まれる結合欠陥候補が、欠陥として検出されてしまう。この検出領域AD0には、検出必要領域TGと同じくらいの大きさの検出不要領域NTを含むため、検出が不要な結合欠陥候補が欠陥として検出されてしまう可能性が高くなるおそれがある。特に、被検査体に付着物が付着しやすい環境で検査を行う場合には、不良品と判別される被検査体が多発してしまうおそれがある。
また、サイズ下限値は、結合欠陥候補の面積、外周全長、少なくとも一辺の長さ、直径等のうち少なくとも1つであってもよい。
本発明によれば、1つの撮像画像に対し、例えば、サイズ下限値が図1(C)に示すDS0より大きく、かつ、距離閾値がDL0より小さい複数の条件で検出処理を行うことで、従来の構成と比べて、当該複数の条件に基づく検出領域に含まれる検出不要領域NTの割合を小さくすることができる。その結果、検出不要な結合欠陥候補が欠陥として検出される可能性を従来の構成より低くすることができ、微小欠陥密集体を欠陥として適切に検出できる。
本発明によれば、複数の条件を、サイズ下限値とサイズ上限値とで規定される検出範囲が重複しないように設定するため、各条件で同じ欠陥が重複して検出されることを抑制でき、1つの欠陥が重複してカウントされることを抑制できる。
また、被検査体の表面や内部には、互いに異なる波長の光を反射しやすいタイプあるいは反射しにくいタイプの微小欠陥密集体が存在したり、一方向から入射する光の反射角度が互いに異なるタイプの微小欠陥密集体が存在したりする場合がある。
本発明によれば、光の照射条件が異なる複数の撮像画像のそれぞれに対して、複数の条件で処理を実施することにより、反射しやすい光の波長や光の反射角度等が異なる微小欠陥密集体を欠陥として適切に検出できる。
本発明の検査装置は、被検査体へ光を照射する照射部と、前記被検査体を撮像して撮像画像を生成する撮像部と、前記撮像部で生成された撮像画像に基づいて、前記被検査体の微小欠陥の密集体を欠陥として検出する上述の欠陥検出装置とを備えることを特徴とする。
本発明の洗浄装置は、被検査体を洗浄する洗浄部と、上述の検査装置とを備えることを特徴とする。
本発明の欠陥検出方法は、被検査体の微小欠陥の密集体を欠陥として検出する欠陥検出方法であって、前記被検査体の撮像画像を取得する撮像画像取得工程と、前記撮像画像を二値化した二値化画像に基づいて欠陥候補を抽出し、互いの距離が距離閾値以下の複数の欠陥候補を新しい欠陥候補として結合し、結合後のサイズがサイズ下限値を超える前記欠陥候補を前記被検査体の欠陥として検出する検出工程とを備え、前記検出工程は、1つの前記撮像画像に対し、前記距離閾値と前記サイズ下限値とが異なる複数の条件で処理を実施することを特徴とする。
本発明の欠陥検出プログラムは、上述の欠陥検出方法をコンピュータに実行させることを特徴とする。
本発明によれば、明視野画像と比べて高コントラストの暗視野画像を用いるため、高感度で欠陥を検出できる。
なお、本実施形態では、欠陥の検出条件として、二値化閾値、距離閾値、サイズ下限値が設定されている場合について説明する。また、ガラス板GLに欠陥が1つでもあれば、当該ガラス板GLを不良品として扱う場合について説明する。
まず、本発明の一実施形態に係る洗浄装置の構成について説明する。
図2に示すように、洗浄装置1は、被検査体としての透明板であるガラス板GLを複数のローラ21で搬送する搬送部2と、搬送部2で搬送されるガラス板GLを洗浄する洗浄部3と、洗浄部3で洗浄されたガラス板GLの水切りを行う水切り部4と、水切り部4で水切りが行われたガラス板GLの検査を行う検査装置5とを備える。
照射部51は、欠陥検出装置53により制御され、ガラス板GLに光を照射する。また、照射部51は、光の照射条件を変更可能に構成されている。照射条件としては、光の波長、明るさ、ガラス板GLへの光の入射角度等が例示できる。
撮像部52は、欠陥検出装置53により制御され、光が照射された被検査体を撮像して撮像画像を生成する。ここで、撮像部52は、照射部51とともに暗視野光学系を構成しており、撮像画像としての暗視野画像を生成する。そして、撮像部52は、生成した暗視野画像を欠陥検出装置53へ送信する。このような暗視野画像により、微小欠陥や付着物が白色で表され、それ以外の部分が黒色で表される。
なお、撮像部52は、照射部51とともに明視野光学系を構成し、明視野画像を生成して欠陥検出装置53へ送信してもよい。また、撮像部52は、ガラス板GLに対して、照射部51の反対側に設けられていてもよいし、照射部51と同じ側に設けられていてもよい。
記憶部56に記憶されるデータは、照射部51で撮像された暗視野画像、暗視野画像の二値化画像、ガラス板GLへの光の照射条件、制御部57における欠陥の検出条件や検出結果等である。欠陥の検出条件としては、二値化閾値、距離閾値、サイズ下限値が例示できる。なお、光の照射条件や欠陥の検出条件は、操作部54の操作により作業者が変更可能であってもよい。
撮像画像取得部572は、撮像部52を制御して、ガラス板GLの暗視野画像を取得する。そして、撮像画像取得部572は、暗視野画像を記憶部56に記憶させる。
検出部573は、ガラス板GLの暗視野画像を記憶部56から取得して、この暗視野画像を二値化閾値に基づき二値化した二値化画像を生成する。また、検出部573は、二値化画像から微小欠陥を表す欠陥候補を抽出する。さらに、検出部573は、互いの距離が距離閾値以下の複数の欠陥候補を、結合欠陥候補として結合する。そして、検出部573は、結合欠陥候補のサイズがサイズ下限値を超える結合欠陥候補を欠陥として検出する。
また、検出部573は、1つの暗視野画像に対し、上述した一連の検出処理を、距離閾値とサイズ下限値と二値化閾値とが異なる複数の条件で実施する。そして、検出部573は、検出結果を記憶部56に記憶させる。
次に、洗浄装置1の作用について説明する。
なお、以下において、ガラス板GLが検査装置5に搬送されるまでの処理は従来の洗浄装置と同じなので、説明を省略する。
また、検出部573が、表1に示すような第1〜第3条件、および、表2に示すような条件に基づいて、二値化画像を生成する処理、欠陥候補を抽出する処理、複数の欠陥候補を結合する処理、および、結合後の欠陥候補を欠陥として検出する処理を行う場合を例示して説明する。
一方、ステップS3において、全照射条件による照射が終了したと照射条件設定部571が判断した場合、撮像画像取得部572は、記憶部56から1つの暗視野画像を取得する(ステップS5:撮像画像取得工程)。そして、検出部573は、上記表1および表2に基づく処理を行う。
結合対象領域の搬送方向の長さ=
(搬送方向の距離閾値DLT×2)+欠陥候補の搬送方向の長さ…(1)
結合対象領域の幅方向の長さ=
(幅方向の距離閾値DLW×2)+欠陥候補の幅方向の長さ…(2)
次に、図5(D)に示すように、結合欠陥候補CF4を中心とした結合対象領域EA2内に、他の欠陥候補が存在しているか否かを判断し、欠陥候補CF3が存在しているため、図5(E)に示すように、結合欠陥候補CF4と欠陥候補CF3とを結合して、新しい欠陥候補CF5(結合欠陥候補CF5と言う場合がある)を生成する。以後、結合処理が行えなくなるまで上述の処理を繰り返す。なお、図5(A)〜(E)に示すような場合、結合欠陥候補CF5を中心にした結合対象領域EA3内に、他の欠陥候補が存在しないため、結合欠陥候補CF5が欠陥候補CF1を基準とした最終的な結合欠陥候補となる。
そして、検出部573は、結合処理の対象となっていない欠陥候補が無くなるまで、結合処理を実施する。
具体的には、検出部573は、図6(A)に示すような結合欠陥候補CF6に対し欠陥検出処理を行う場合、面積がサイズ下限値以下であるが、搬送方向の長さおよび幅方向の長さがそれぞれサイズ下限値を超えているため、ガラス板GLの欠陥として検出する。同様にして、図6(B),(C)に示す結合欠陥候補CF7,CF8は、面積がサイズ下限値以下であり、かつ、搬送方向の長さおよび幅方向の長さのうち一方がサイズ下限値以下なので、欠陥として検出されない。また、図6(D)に示す結合欠陥候補CF9は、幅方向の長さがサイズ下限値以下であるが、面積がサイズ下限値を超えているため、欠陥として検出される。
一方、ステップS10において、全検査条件による処理が終了したと検出部573が判断した場合、撮像画像取得部572は、1つのガラス板GLに関する全暗視野画像の処理が終了したか否かを判断する(ステップS12)。このステップS12において、撮像画像取得部572は、全暗視野画像の処理が終了していないと判断した場合、記憶部56から他の暗視野画像を取得する(ステップS13)。そして、検出部573は、当該他の暗視野画像に対してステップS6以降の処理を行う。
一方、ステップS12において、全暗視野画像の処理が終了したと撮像画像取得部572が判断した場合、制御部57は、処理を終了する。
第1条件では、第2,第3条件と比べて、二値化閾値が小さい値に設定され、距離閾値およびサイズ下限値が大きい値に設定されているため、暗く密集度が小さいがサイズが大きい微小欠陥密集体が欠陥として検出される。また、第3条件では、第1,第2条件と比べて、二値化閾値が大きい値に設定され、距離閾値およびサイズ下限値が小さい値に設定されているため、明るくサイズが小さいが密集度が大きい微小欠陥密集体が欠陥として検出される。なお、第2条件では、第1条件と第3条件との間の態様の微小欠陥密集体が欠陥として検出される。
しかし、本実施形態では、欠陥が1つでもあるガラス板GLを不良品として扱うため、各条件で同じ位置の欠陥が重複して検出され、複数の欠陥としてカウントされたとしても、良品、不良品の判別に与える影響はなく、特に問題ない。
上述したように、上記実施形態では、以下のような作用効果を奏することができる。
(1)欠陥検出装置53は、撮像画像の二値化画像に基づき欠陥候補を抽出し、互いの距離が距離閾値以下の複数の欠陥候補を結合欠陥候補として結合し、結合後のサイズがサイズ下限値を超える結合欠陥候補をガラス板GLの欠陥として検出する。そして、欠陥検出装置53は、上記検出処理を、1つの前記撮像画像に対し、第1〜第3条件で行うとともに、当該第1〜第3条件で同じ位置の欠陥を検出した場合、1つの欠陥として検出する。
このため、図7に示すように、第1〜第3検出領域AD1〜AD3のみに含まれる結合欠陥候補を欠陥として検出でき、図1(C)に示す従来の構成と比べて、検出不要な検出不要領域NTの結合欠陥候補が欠陥として検出される可能性を低くすることができ、微小欠陥密集体を欠陥として適切に検出できる。
このため、第1条件では、暗く密集度が小さいがサイズが大きい微小欠陥密集体を欠陥として検出し、第2条件では、第1条件と比べて明るくサイズが小さいが密集度が大きい微小欠陥密集体を欠陥として検出できる。
このため、例えば、光の波長が異なる条件に設定すれば、互いに異なる波長の光を反射しやすいタイプや反射しにくいタイプの微小欠陥密集体が存在する場合でも、これらほぼ全タイプの微小欠陥密集体を欠陥として適切に検出できる。また、光の明るさや入射角度が異なる条件に設定すれば、一方向から入射する光の反射角度が互いに異なるタイプの微小欠陥密集体が存在する場合でも、ほぼ全タイプの微小欠陥密集体を欠陥として適切に検出できる。
このように、明視野画像と比べて高コントラストの暗視野画像を用いるため、高感度で欠陥を検出できる。
なお、本発明は上記実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々の改良ならびに設計の変更などが可能である。
第1〜第3条件で、距離閾値について、幅方向の距離閾値のみを異なる値に設定したが、搬送方向の距離閾値のみを異なる値に設定してもよいし、両方の距離閾値を異なる値に設定してもよい。サイズ下限値についても、同様に、第1〜第3条件で、搬送方向長さ、幅方向長さおよび面積のうち、少なくともいずれか1つのサイズ下限値を異なる値に設定してもよい。
距離閾値は、搬送方向または幅方向のみ設定されていてもよいし、サイズ下限値は、搬送方向長さ、幅方向長さおよび面積のうち、少なくとも1つが設定されていてもよい。
表1に示すような検出条件は、2つ設定されていてもよいし、4つ以上設定されていてもよい。
照射部51を光の照射条件を変更可能に構成せずに、1つの照射条件で撮像された1つの暗視野画像に基づき欠陥検出処理を行ってもよい。
複数の照射条件に基づく撮像画像を生成してから、各撮像画像に対して各検査条件に基づく処理を行うようにしたが、1つの照射条件に基づく撮像画像を生成するごとに、各検査条件に基づく処理を行ってもよい。
複数の照射条件で撮像された各撮像画像に対して、異なる検出条件に基づく欠陥検出処理を行ってもよい。例えば、第1照明条件で得られた暗視野画像に対して、第1〜第3条件に基づく欠陥検出処理を実施し、第1照明条件とは異なる第2照明条件で得られた暗視野画像に対して、第1〜第3条件とは異なる第4〜第6条件に基づく欠陥検出処理を行ってもよい。
例えば、図7に示すような場合、第1,第2,第3重複領域AL1,AL2,AL3では、各条件で同じ欠陥が重複して検出される可能性があるため、同じ位置の欠陥を1つの欠陥としてカウントしてもよい。
また、例えば、検出部573が、サイズ下限値を超えかつサイズ上限値以下の結合欠陥候補をガラス板GLの欠陥として検出し、かつ、各検出条件を、サイズ下限値とサイズ上限値とで規定される検出範囲が重複しないように設定してもよい。このような構成にすれば、図8に示すように、第1,第2,第3条件に対応する第1,第2,第3検出領域AD11,AD12,AD13が重複しないため、各条件で同じ欠陥が重複して検出されることを抑制でき、1つの欠陥が重複してカウントされることを抑制できる。例えば、図7に示す第3重複領域AL3に属し、明るく密集度が大きくサイズも大きい微小欠陥密集体を、第1条件では欠陥として検出せずに、第3条件のみで1つの欠陥として検出することができる。
被検査体は、ガラス板GLに限らず、樹脂や金属あるいは木材等で構成された板状、ブロック状、中空箱状のものであってもよいし、透明でなくてもよい。また、被検査体は、特許文献1,2に記載のような回路基板や感光体ドラムであってもよい。
5…検査装置
51…照射部
52…撮像部
53…欠陥検出装置
571…照射条件設定部
572…撮像画像取得部
573…検出部
GL…ガラス(透明板、被検査体)
Claims (12)
- 被検査体の微小欠陥の密集体を欠陥として検出する欠陥検出装置であって、
前記被検査体の撮像画像を取得する撮像画像取得部と、
前記撮像画像を二値化した二値化画像に基づいて欠陥候補を抽出し、互いの距離が距離閾値以下の複数の欠陥候補を新しい欠陥候補として結合し、結合後のサイズがサイズ下限値を超える前記欠陥候補を前記被検査体の欠陥として検出する検出部とを備え、
前記検出部は、1つの前記撮像画像に対し、前記距離閾値と前記サイズ下限値とが異なる複数の条件で処理を実施することを特徴とする欠陥検出装置。 - 請求項1に記載の欠陥検出装置において、
前記検出部は、前記距離閾値と前記サイズ下限値と、前記二値化画像を生成するための二値化閾値とが異なる複数の条件で処理を実施し、
前記複数の条件は、
第1条件と、
前記二値化閾値が前記第1条件より大きく、かつ、前記距離閾値および前記サイズ下限値が前記第1条件より小さい第2条件とを含むことを特徴とする欠陥検出装置。 - 請求項1または請求項2に記載の欠陥検出装置において、
前記検出部は、結合後のサイズがサイズ下限値を超えかつサイズ上限値以下の前記欠陥候補を前記被検査体の欠陥として検出し、
前記複数の条件は、前記サイズ下限値と前記サイズ上限値とで規定される検出範囲が重複しないように設定されていることを特徴とする欠陥検出装置。 - 請求項1または請求項2に記載の欠陥検出装置において、
前記検出部は、前記複数の条件で同じ位置の欠陥を検出した場合、前記同じ位置の欠陥を1つの欠陥としてカウントすることを特徴とする欠陥検出装置。 - 請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の欠陥検出装置において、
照射部を制御して、前記被検査体への光の照射条件を変更する照射条件設定部を備え、
前記撮像画像取得部は、前記被検査体に対する光の照射条件が異なる複数の撮像画像を取得し、
前記検出部は、前記複数の撮像画像のそれぞれに対し、前記複数の条件で処理を実施することを特徴とする欠陥検出装置。 - 被検査体を撮像して撮像画像を生成する撮像部と、
前記撮像部で生成された撮像画像に基づいて、前記被検査体の微小欠陥の密集体を欠陥として検出する請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の欠陥検出装置とを備えることを特徴とする検査装置。 - 被検査体へ光を照射する照射部と、
前記被検査体を撮像して撮像画像を生成する撮像部と、
前記撮像部で生成された撮像画像に基づいて、前記被検査体の微小欠陥の密集体を欠陥として検出する請求項5に記載の欠陥検出装置とを備えることを特徴とする検査装置。 - 請求項6または請求項7に記載の検査装置において、
前記撮像部は、前記撮像画像として暗視野画像を生成し、
前記欠陥検出装置は、前記暗視野画像に基づいて、前記被検査体の微小欠陥の密集体を欠陥として検出することを特徴とする検査装置。 - 被検査体を洗浄する洗浄部と、
請求項6から請求項8のいずれか一項に記載の検査装置とを備えることを特徴とする洗浄装置。 - 被検査体の微小欠陥の密集体を欠陥として検出する欠陥検出方法であって、
前記被検査体の撮像画像を取得する撮像画像取得工程と、
前記撮像画像を二値化した二値化画像に基づいて欠陥候補を抽出し、互いの距離が距離閾値以下の複数の欠陥候補を新しい欠陥候補として結合し、結合後のサイズがサイズ下限値を超える前記欠陥候補を前記被検査体の欠陥として検出する検出工程とを備え、
前記検出工程は、1つの前記撮像画像に対し、前記距離閾値と前記サイズ下限値とが異なる複数の条件で処理を実施することを特徴とする欠陥検出方法。 - 請求項10に記載の欠陥検出方法において、
前記被検査体は、透明板であり、
前記微小欠陥は、酸化金属であることを特徴とする欠陥検出方法。 - 請求項10または請求項11に記載の欠陥検出方法をコンピュータに実行させることを特徴とする欠陥検出プログラム。
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JP2014261080A Active JP6500432B2 (ja) | 2014-12-24 | 2014-12-24 | 欠陥検出装置、検査装置、洗浄装置、欠陥検出方法、および、欠陥検出プログラム |
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JP (1) | JP6500432B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11211674A (ja) * | 1998-01-22 | 1999-08-06 | Kawasaki Steel Corp | 表面疵検査方法および装置 |
US20060115143A1 (en) * | 2004-11-29 | 2006-06-01 | Ditza Auerbach | Method for filtering nuisance defects |
JP2011047724A (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-10 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査装置およびその方法 |
-
2014
- 2014-12-24 JP JP2014261080A patent/JP6500432B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11211674A (ja) * | 1998-01-22 | 1999-08-06 | Kawasaki Steel Corp | 表面疵検査方法および装置 |
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JP2011047724A (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-10 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査装置およびその方法 |
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