JP2016114883A - リソグラフィー用ペリクルの作製方法 - Google Patents
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Abstract
Description
<実施例1>
実施例1では、最初に、寸法が152mm角で厚みが6.35mmの石英製マスクを準備した。このマスクの両面は、研磨処理が施されており、その表面の平坦度を測定したところ、0.25μmであった。また、この石英製マスクの表面に信越化学株式会社製の硬化性シリコーン組成物(X-70-220SP)を1%の濃度に調整した塗布液をスピンコート法により塗布した。このときの回転数は500rpm、回転時間は20秒であった。そして、このスピンコート後に石英製マスクを150℃、5分間加熱して硬化性シリコーン組成物を硬化させると共に、冷却後の石英製マスクの表面の平坦度を測定したところ、0.3μmであった。
実施例2では、実施例1と同様に、寸法が152mm角で厚みが6.35mmの石英製マスクを準備し、この表面に硬化性シリコーン組成物(X-70-220SP)を塗布して表面の平坦度を測定したところ、0.25μmであった。
比較例1では、実施例1と同様に、寸法が152mm角で厚みが6.35mm、平坦度が0.25μmの石英製マスクと、外形サイズ149mm×115mm×4.5mm、肉厚2mm、粘着剤・接着剤側の平坦度が15μmであるペリクルフレームを準備した。しかし、比較例1では、表面に硬化性シリコーン組成物を塗布した石英製マスクを準備せず、実施例1のような事前の測定を省略して、準備したペリクルフレームを用いてペリクル製品を作製した。
Claims (2)
- 一方の端面に平坦な粘着剤層が成型されたペリクルフレームで構成されるペリクルの作製方法であって、該ペリクルフレームを表面に硬化性シリコーン組成物が塗布されたマスクに前記粘着剤層を介して貼り付けた時の前記マスクの変形を事前に測定し、この時の該マスクの変形が許容の範囲であるペリクルフレームだけを選択してペリクルを作製することを特徴とするペリクルの作製方法。
- 前記マスクの変形の許容範囲は、0.1μm未満であることを特徴とする請求項1に記載のペリクルの作製方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023182186A1 (ja) * | 2022-03-23 | 2023-09-28 | 三井化学株式会社 | 粘着層付きペリクル枠の製造方法、保護フィルム付きペリクル枠、粘着層付きペリクル枠、ペリクル及びペリクル付きフォトマスク |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005352096A (ja) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルフレーム及びフォトリソグラフィー用ペリクル |
JP2007025366A (ja) * | 2005-07-19 | 2007-02-01 | Toshiba Corp | マスクの製造方法、マスク平坦度測定方法、ペリクル装着装置、及び半導体装置の製造方法 |
JP2009058956A (ja) * | 2007-08-29 | 2009-03-19 | Samsung Electronics Co Ltd | ペリクル付着装置及びそれを利用したペリクル付着方法 |
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JP2005352096A (ja) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルフレーム及びフォトリソグラフィー用ペリクル |
JP2007025366A (ja) * | 2005-07-19 | 2007-02-01 | Toshiba Corp | マスクの製造方法、マスク平坦度測定方法、ペリクル装着装置、及び半導体装置の製造方法 |
JP2009058956A (ja) * | 2007-08-29 | 2009-03-19 | Samsung Electronics Co Ltd | ペリクル付着装置及びそれを利用したペリクル付着方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023182186A1 (ja) * | 2022-03-23 | 2023-09-28 | 三井化学株式会社 | 粘着層付きペリクル枠の製造方法、保護フィルム付きペリクル枠、粘着層付きペリクル枠、ペリクル及びペリクル付きフォトマスク |
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